JPH0215101A - 超微粒子およびその製造方法 - Google Patents
超微粒子およびその製造方法Info
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Landscapes
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
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- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、超微粒子とその製造方法およびその製造方法
に関するものである。
に関するものである。
従来の技術
従来の超微粒子の製造方法は、一般に金属や金属酸化物
を真空中で蒸発固化させる方法か用いられている。
を真空中で蒸発固化させる方法か用いられている。
発明が解決しようとした課題
しかしながら、この方法では製造か容易である反面、Ｍ
ｇ１ Ａ１等空気に活性な金属超微粒子を製造する場合
、空気と触れると自然に発火したりして酸化反応が進み
、危険であると共に保存性が悪いという厄介な問題かあ
った。
ｇ１ Ａ１等空気に活性な金属超微粒子を製造する場合
、空気と触れると自然に発火したりして酸化反応が進み
、危険であると共に保存性が悪いという厄介な問題かあ
った。
従来法の欠点に鑑み、本発明の目的は、超微粒子表面に
界面活性剤を単分子状に１層化学結合することにより空
気中で使用しても安定で品質の劣化しない超微粒子を製
造する方法を提供ことにある。
界面活性剤を単分子状に１層化学結合することにより空
気中で使用しても安定で品質の劣化しない超微粒子を製
造する方法を提供ことにある。
課題を解決するための手段
本発明は、超微粒子表面に保護膜として直接シラン界面
活性剤を単分子状に１層化学吸着させることにより超微
粒子を酸素や水に対して安定化させるものである。
活性剤を単分子状に１層化学吸着させることにより超微
粒子を酸素や水に対して安定化させるものである。
作用
即ち、本発明の方法を用いれば、外側に疎水性基を並べ
た状態の単分子膜を超微粒子表面に直接１層形成できる
ので超微粒子本来の特性を損なうことなく安定化させる
作用がある。
た状態の単分子膜を超微粒子表面に直接１層形成できる
ので超微粒子本来の特性を損なうことなく安定化させる
作用がある。
実施例
以下、実施例を第１〜２図を用いて説明する。
例えば、金属（金属酸化物でも良い）を真空中で蒸発固
化させる方法で第１図に示すような、大きさが数ミクロ
ン程度の超微粒子１ （Ｆ ｅＮ Ｎ １ｌｌＣ０１
Ｗ１ ＯＮ ＣｕＮ Ａ １、Ｍｇ１ ′Ｆｉ１
・・・・・・等あるいはそれらの金属酸化物の超微粒子
）を作成した後、空気中に取り出すことなく、Ｎ２ガス
等の不活性ガス雰囲気中で直接表面に化学吸着法により
全面シラン界面活性剤を吸着反応させて、シラン界面活
性剤よりなる単分子の保護膜２を形成する。例えば、シ
ラン界面活性剤として直鎖状の／Ｘイドロカーボン鎖を
持つＣＮ３−（ＣＮ２）ｎ−ＳｉＣｌ３（ｎ：整数。１
０〜２５程度が最も扱いやすい）等を用い、２Ｘ１０−
３〜５ Ｘ １０−２Ｍｏｌ／ｌ程度の濃度で溶かした
８０％ｎ−ヘキサン、１２％四塩化炭素、８％クロロホ
ルム溶液を調整し、前記超微粒子を浸漬する。このとき
、金属超微粒子は通常時間の経過と共に表面にナチュラ
ルオキサイドが形成されるので、表面には一〇Ｈ基が含
まれている。
化させる方法で第１図に示すような、大きさが数ミクロ
ン程度の超微粒子１ （Ｆ ｅＮ Ｎ １ｌｌＣ０１
Ｗ１ ＯＮ ＣｕＮ Ａ １、Ｍｇ１ ′Ｆｉ１
・・・・・・等あるいはそれらの金属酸化物の超微粒子
）を作成した後、空気中に取り出すことなく、Ｎ２ガス
等の不活性ガス雰囲気中で直接表面に化学吸着法により
全面シラン界面活性剤を吸着反応させて、シラン界面活
性剤よりなる単分子の保護膜２を形成する。例えば、シ
ラン界面活性剤として直鎖状の／Ｘイドロカーボン鎖を
持つＣＮ３−（ＣＮ２）ｎ−ＳｉＣｌ３（ｎ：整数。１
０〜２５程度が最も扱いやすい）等を用い、２Ｘ１０−
３〜５ Ｘ １０−２Ｍｏｌ／ｌ程度の濃度で溶かした
８０％ｎ−ヘキサン、１２％四塩化炭素、８％クロロホ
ルム溶液を調整し、前記超微粒子を浸漬する。このとき
、金属超微粒子は通常時間の経過と共に表面にナチュラ
ルオキサイドが形成されるので、表面には一〇Ｈ基が含
まれている。
従って、−８ｉＣ１ａ基と−ＯＨが脱塩酸反応してシラ
ン界面活性剤による単分子吸着膜３が超微粒子表面に１
層（２０〜３０人の厚み）形成される。
ン界面活性剤による単分子吸着膜３が超微粒子表面に１
層（２０〜３０人の厚み）形成される。
（第２図）即ち、表面が単分子膜で覆われた空気等酸素
を含む雰囲気中で極めて安定な超微粒子を製造できる。
を含む雰囲気中で極めて安定な超微粒子を製造できる。
なお、化学吸着用の材料としては、−ＯＨ基にを含んで
いれば、実施例で示したシラン系界面活性剤に限定され
るものではない。また、直鎖状のハイドロカーボン鎖の
一部にＦ（フッ素）を含むシラン界面活性剤、例えばＣ
Ｆ３−（ＣＮ２）ｎ−８ｉＣ１ａ（。：整数。１０〜２
５程度が最も扱いやすい）、またはＣＦ ３−（ｃ Ｆ
２）ＩＩ（ＣＮ２）ｎ−８ｉ Ｃ１３（ＴＩＮ。：整
数）等を用いればさらに発水性を向上でき、より安定な
超微粒子を製造できる。なお、超微粒子がＡｌ２Ｏ３、
やＦｅ２Ｏ３、Ｆｅ５ｏ４等の金属酸化物の場合は、当
然空気により酸化されると言うことはないが、表面が酸
化物であるため、同様の方法でいずれも表面が単分子膜
で覆われた超微粒子を製造できることは明らかであろう
。
いれば、実施例で示したシラン系界面活性剤に限定され
るものではない。また、直鎖状のハイドロカーボン鎖の
一部にＦ（フッ素）を含むシラン界面活性剤、例えばＣ
Ｆ３−（ＣＮ２）ｎ−８ｉＣ１ａ（。：整数。１０〜２
５程度が最も扱いやすい）、またはＣＦ ３−（ｃ Ｆ
２）ＩＩ（ＣＮ２）ｎ−８ｉ Ｃ１３（ＴＩＮ。：整
数）等を用いればさらに発水性を向上でき、より安定な
超微粒子を製造できる。なお、超微粒子がＡｌ２Ｏ３、
やＦｅ２Ｏ３、Ｆｅ５ｏ４等の金属酸化物の場合は、当
然空気により酸化されると言うことはないが、表面が酸
化物であるため、同様の方法でいずれも表面が単分子膜
で覆われた超微粒子を製造できることは明らかであろう
。
発明の効果
以上述べてきた方法により作られた超微粒子は、金属や
金属酸化物の超微粒子表面に単分子状の有機薄膜が直接
化学結合した状態で高密度でピンホール無く形成されて
いるため、たとえ酸素や水分を含んだ雰囲気中で使用し
ても微粒子が発火することがない。また、有機薄膜が直
接超微粒子表面に化学結合し、かつ均一な厚みで非常に
薄く形成されているため超微粒子本来の特性を損なうこ
ともない。
金属酸化物の超微粒子表面に単分子状の有機薄膜が直接
化学結合した状態で高密度でピンホール無く形成されて
いるため、たとえ酸素や水分を含んだ雰囲気中で使用し
ても微粒子が発火することがない。また、有機薄膜が直
接超微粒子表面に化学結合し、かつ均一な厚みで非常に
薄く形成されているため超微粒子本来の特性を損なうこ
ともない。
第１図〜第２図は本発明の詳細な説明するための超微粒
子断面図を示し、第１図は概念図、第２図は吸着単分子
膜の形成された超微粒子で第１図に示したＯ印Ａ部を分
子レベルまで拡大した図である。 １・・・・・・超微粒子、２・・・・・・単分子膜保護
膜、３・・・・・・単分子吸着膜。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第 図 第 図 羊扮謬裸謙雇 １超頭Ｊ
子断面図を示し、第１図は概念図、第２図は吸着単分子
膜の形成された超微粒子で第１図に示したＯ印Ａ部を分
子レベルまで拡大した図である。 １・・・・・・超微粒子、２・・・・・・単分子膜保護
膜、３・・・・・・単分子吸着膜。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第 図 第 図 羊扮謬裸謙雇 １超頭Ｊ
Claims (5)
- （１）シラン系界面活性剤よりなる単分子吸着膜で表面
が覆われていることを特徴とした超微粒子。 - （２）シラン系界面活性剤が直鎖状のハイドロカーボン
鎖を含んでいることを特徴とした特許請求の範囲第１項
記載の超微粒子。 - （３）シラン系界面活性剤と超微粒子表面が互いに化学
結合していることを特徴とした特許請求の範囲第１項記
載の超微粒子。 - （４）不活性ガス中で製造された超微粒子を空気に触れ
させることなく非水系の有機溶媒中で超微粒子表面にシ
ラン系界面活性剤を化学吸着させ、前記超微粒子表面に
直接前記活性剤のシリコンと超微粒子表面を化学結合さ
せて単分子を１層形成する工程を含むことを特徴とした
超微粒子の製造方法。 - （５）シラン界面活性 剤として、ＣＨ＿３−（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３
（ｎ：整数）で表される化学物質または、ＣＦ＿３−（
ＣＨ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：整数）、またはＣ
Ｆ＿３−（ＣＦ＿２）＿ｍ（ＣＨ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ
＿３（ｍ、ｎ：整数）で表される化学物質を用いること
を特徴とした特許請求の範囲第４項記載の超微粒子の製
造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63166130A JPH0791565B2 (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 超微粒子およびその製造方法 |
| US07/781,673 US5209976A (en) | 1988-07-04 | 1991-10-24 | Structure having a surface covered with a monomolecular film |
| US08/021,910 US5445886A (en) | 1988-07-04 | 1993-02-24 | Structure having a surface covered with a monomolecular film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63166130A JPH0791565B2 (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 超微粒子およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0215101A true JPH0215101A (ja) | 1990-01-18 |
| JPH0791565B2 JPH0791565B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=15825590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63166130A Expired - Lifetime JPH0791565B2 (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | 超微粒子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791565B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0497204A2 (en) * | 1991-01-28 | 1992-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Medical member and method of manufacturing the same |
| US5372888A (en) * | 1991-02-06 | 1994-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same |
| CN1054780C (zh) * | 1994-10-20 | 2000-07-26 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 | 金属表面活性剂相转移制包覆式超细粉体的方法 |
| JP2006161128A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ニッケルスラリー及びその製造方法並びに該ニッケルスラリーを用いたニッケルペースト又はニッケルインキ |
| WO2008123181A1 (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-16 | Kazufumi Ogawa | シリコン微粒子とその製造方法およびそれらを用いた太陽電池とその製造方法 |
| JP7121173B1 (ja) * | 2021-07-19 | 2022-08-17 | 大陽日酸株式会社 | 複合銅ナノ粒子及び複合銅ナノ粒子の製造方法 |
Citations (2)
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| JPS5532206A (en) * | 1978-08-23 | 1980-03-06 | Tdk Corp | Memory unit |
| JPS60145301A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-07-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 磁性粉末の表面処理方法 |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP63166130A patent/JPH0791565B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5532206A (en) * | 1978-08-23 | 1980-03-06 | Tdk Corp | Memory unit |
| JPS60145301A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-07-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 磁性粉末の表面処理方法 |
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| CN1054780C (zh) * | 1994-10-20 | 2000-07-26 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 | 金属表面活性剂相转移制包覆式超细粉体的方法 |
| JP2006161128A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ニッケルスラリー及びその製造方法並びに該ニッケルスラリーを用いたニッケルペースト又はニッケルインキ |
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| JP2008255143A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-23 | Kagawa Univ | シリコン微粒子とその製造方法およびそれらを用いた太陽電池とその製造方法 |
| JP7121173B1 (ja) * | 2021-07-19 | 2022-08-17 | 大陽日酸株式会社 | 複合銅ナノ粒子及び複合銅ナノ粒子の製造方法 |
| WO2023002884A1 (ja) * | 2021-07-19 | 2023-01-26 | 大陽日酸株式会社 | 複合銅ナノ粒子及び複合銅ナノ粒子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0791565B2 (ja) | 1995-10-04 |
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Legal Events
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