JPH02150901A - 無駄時間ｎ次遅れ補償制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 〔従来の技術〕 従来より、石油プラントや化学プラント等においては、
複雑な配管類や反応槽等の温度や圧力あるいは流量とい
った状態量を常時最適に制御する必要がある。このため
に、適宜状態量をモニタして目標値との比較に基づいて
調整を行うフィードバンク弐のプロセス制御が利用され
ている。

このようなプロセス制御では、外乱や変動等に対する応
答の迅速性に加え、動作の安定性が要求されるほか、調
整操作が容易であることや所望状態への円滑な移行とい
った種々の条件を満たすことが求められる。

しかし、複雑な４−動を示すプロセスの制御においては
、系に含まれる一次遅れあるいは二次以上の高次遅れと
いったプロセス遅れ要素を考慮する必要があり、特に入
力に対する応答に時間差を生しる無駄時間要素を含むも
のでは制御ｐ系の設定が難しいものとなる。

このため、プロセス制？３１系にはサンプル値制御ある
いは予測制御などが実用化されている他、各種の補償回
路が採用されており、なかでもスミス無駄時間制御と呼
ばれる方法では！！代駄時間要素に対する処理を簡単に
できる。

すなわち、一般のプロセス制御系は、第１６図に示すよ
うに、目標値ＳＰに基づいてプＩ」セスｌに操作変数ｈ
ｖを出力するコントローラ２と、このコントローラ２の
入力端にプロセスｌから出力される制？ＩＩｌ変数Ｐｖ
をフィードバンクする主フィー１゛バンクループ３とを
備え、差分５ｐ−ｐｖが０となるように操作変数台νを
調整して制御変数Ｐνを目標値ｓｐに−Ｔ＆させている
。また、補償回路としζ、コントローラ２の出力を入力
にフィードバンクする補償ループ４およびプロセス補償
モデル５を配宣し、プロセス補償モデル５をプロセスｌ
に応して設定することで操作変数ＭＶを調整している。

ここで、プロセスｌの伝達関数が無駄時間要素ｅ−口を
含むＧｐｅ−口で表され、コントローラ２の伝達関数が
Ｇｃで表されるとき、プロセス補償モデル５の伝達関数
をＧｐ（ｌ　ｅ　−”）　と設定することにより、第１
６図の制御系はプロセス補償モデル５のＧｐ　ｅ　−”
　部分により主ループ３が消去されて第１７図のように
等価変換でき、さらに、プロセス１およびプロセス補償
モデル５のｃｐをまとめて第１８図のように等価変換で
きる。

こうして導かれた第１８図の制御系においては、無駄時
間要素ｅ−Ｌｇ　は残った補償ループ４の外に置かれる
ため、コントローラ２は無駄時間を除いたプロセスｌの
ｃｐ部分をフィードハック制御すればよい。従って、ス
ミスの方法は、良好な制御性が得られるとともに、コン
トローラ２等の設定も節ｉ１１にでき、無駄時間要素に
対する処理として好適である。

〔発明が解決しようとする課題〕

ごのようなスミスの方法は、無駄時間補償制御としてプ
ラント内の分散型システムにも標串アルゴリスムとして
用意されているが、実際の通用にあたっては各種の問題
があった。

ずなわら、実際のプロセスにおいては、無駄時間要素だ
けの系は少なく、−次ないし二次以上の高次遅れ要素を
も含んでいるのがせ通である。このため、スミスの方法
を通用した場合でも、ｎ次遅れに基づくプロセス遅れが
発生し、実際にプロセスと一敗した制御操作を行うこと
は難しい。

また、制御系の同定が難しく、条件の変化により制御性
がむしろ悪化することがあるとともに、ｎ次遅れに基づ
いて複雑化する操作性を制御評価に加えることができな
いため、操作変数の過剰調整（オーバーシュート）等が
発生しやすい、このため、スミスの方法による制御系で
は不安定となることがあり、無駄時間の顕著な系では通
用が困難であった。

本発明の目的は、無駄時間要素および高次遅れ要素を同
時に補償してプロセス遅れを解消できる無駄時間ｎ次遅
れ補償制御方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、無駄時間およびｎ次遅れに起因する制御系の
問題点を解決するために、等価変換により無駄時間要素
およびｎ次遅れ要素を制御ループの外に出せるようにコ
ントローラの補償ループを設定するものである。

ここで、本発明に至る技術的ＩＩ拠について説明する。

−ａ的なプロセス１１１ｉ償制御は、第１図に示すよう
なブロック構成で表される。図において、５＋１は目標
値、ＩＩはプロセス１から出力される制御変数、Ｇｐは
プロセスｌの伝達関数、門νは二】ントローラ２から出
力される操作変数、Ｇｃはコントローラ２の伝達関数、
Ｇｍはプロセス補償モデル５の伝達関数、ＳＰ゛　　は
主ループ３で返されるＰｖでＳＰを滅した値、ｓｐ”　
は補償ループ４で返される値をＳＰ゛　から戚したコン
トローラ２の入力である。このような制御系においては
、 ＨシーＧｃ−５Ｐ′・・・（１） ＳＰ”　　＝ＳＰ’　　−Ｇ＋ｓ　　−ＭＶより、 ＭＶ＝Ｇｃ　（Ｓｌ”　　−Ｇｍ−ＭＶ）＝Ｇｃ−５Ｐ
’　　−Ｇｃ　・Ｇ［ＭＶ（１＋Ｇｃ−Ｇｍ）　ＭＶ＝
Ｇｃ−５Ｐｃ ・　（２） と表せるから、第１図の制御系は第２回のように等価変
換できる。さらに、 Ｐν＝ｃｐ−Ｍｖ　　　　　　　　　　・・・（４）ｓ
ｐ’　　　−５ｐ−ｐｖ ・　（６） Ｇｃ−Ｇｐ ここで、Ｇｍ＝　１−Ｇｐとおくと、 １　＋Ｇｃ−Ｇｃ−Ｇｐ＋Ｇｃ−Ｇｐ ｒ 従って、Ｇｍが１−Ｇｐとなるように設定することによ
り、第２図の制御系は第３図のように等価変換でき、あ
たかも無駄時間、時定数によるｎ次位相遅れ、ゲイン等
のプロセス遅れがないような制御が可能となる。

具体的な例として、無駄時間要素Ｌｅ＝ｅ−”ｎ次遅れ
要素１／Ｔｅ　＝　１／　（１＋Ｔ＋ｓ）　（１＋Ｔｘ
ｓ）　−（１＋Ｔ−５）およびゲインＫを含む制御系に
ついて説明する。

第４図に示す制御系においては、プロセスの伝ｃ ｅ に　Ｇｃ　　　　　　　　　Ｌｅ Ｇｃ ｅ 従って、第４図の制ｉ２１系は第５図のように等価変換
でき、無駄時間要素Ｌｅ、　ｎ次遅れ要素Ｔｅ、ゲイン
Ｋを制御ループの外に出すことができる。

一方、プロセス補償モデルの伝達関数Ｇｍを変更ｅ してＧｍ＝Ｋ（１）と設定すると、第６図↑８ のような制御系となる。この制御系では、式（７）従っ
て、第６図の制御系は第７図のように等価変換でき、無
駄時間要素Ｌｅおよびｎ次遅れ要素Ｔｅを制ｊＢループ
の外に出すとともに、ゲインＫを制御ループの内に残し
、通常のＰＩＤ制御（比例積分微分制御）のＰ動作によ
り調整を行うことができる。

本発明は、以上のような技術的根拠に基づいてなされた
ものであり、無駄時間要素Ｌｅ＝ｅ−１ｓおよびｎ次遅
れ要素ｌ／↑ｅ　”　１／　（１＋Ｔ＋Ｓ）　（１＋Ｔ
ｚＳ）　”・（１＋Ｔ−３）ｅ を制御するために、前記プロセスに操作変数ＭＶを出力
するコントローラを有する制御系の制御方法であって、
前記プロセスから出力される制御変数　　（１＋Ｔ＋Ｓ
）　（１＋Ｔ、Ｓ）・・・（１＋ＴｎＳ）と設定される
ものであＰＶと目標値ｓｐとの差分５ｐ−ｐνを計算し
、この差分　　る。

ｅ を減算した値をコントローラの入力とすることにより無
駄時間ｎ次遅れ補償制御方法を構成したものである。

ここで、定数に、に２としては、に１×に２−にとなる
ような値が採用でき、に１＝１．に、＝Ｋ　とした場ｅ 記第４図のようなゲインを含む無駄時間ｎ次遅れ補償制
御となる。また、Ｋ、−に、に、＝１とした場ｅ 合、ＳＰ”　＝　ＳＰ’　−Ｋ　（１−−）ＭＶ　とな
ッテ、前ｅ 記第６図のようなゲインを除く無駄時間ｎ次遅れ補償料
ｊ１となる。

なお、ｎ次遅れ要素Ｔｅの次数は任意であり、次ならば
１／↑ｅ＝１／（１＋Ｔ＋Ｓ）　、二次ならばｌ／Ｔｅ
　＝　１／（１＋Ｔｌ５）　（１＋ＴｚＳ）、さらに高
次の場合にはｌ／Ｔｅ　＝　ｌ／〔作用〕 このような本発明においては、プロセスの無駄時間要素
だけでなくｎ次遅れ要素に対するｈＲ（’７１を行うこ
とで、等価変換により各要素を制御ループの外に出せる
ようにして、各々に起因する力頃駄時間および一次ない
しより高次のｎ次遅れといったプロセス遅れのない制御
を可能とする。このため、無駄時間およびｎ次遅れを含
む実プロセスにおいても、プロセスと一致した制御動作
を行うことが可能となり、制御性が改善される。また、
ｎ次遅れに伴う位相変化を回避できるため、操作性を向
上できるとともに、操作変数の過剰調整をなくして制御
系の安定性が確保され、これにより前記１］的が達成さ
れる。

〔実施例］ 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

第８図には油脂類の精製システム１０が示されており、
このシステムｌＯＯ制ｆｆｆｊには本発明の無駄時間ｎ
次遅れ補償制御方法を適用した制御系が採用されている
。

精製システムｌＯは精製用の蒸留塔１１を中心に構成さ
れている。

蒸留塔１１の中間上部の段差部分には原液供給管２１が
接続され、蒸留塔ｌｌ内には分離抽出する所定成分を含
む原液が供給されている。原液供給管２１の中間には当
該位置の流！　ｐ　ｚを検出する流量検出器２２および
流量りを調整する流！１ｊＪｉｌ整弁２３が配置されて
おり、流量調整弁２３の開度ｖ２は流量検出器２２から
の流量Ｆ２に基づいて調整されている。

蒸留塔１１の底部には塔底液回収管３１が接続され、蒸
留塔１１内の蒸留液は塔底部分から順次回収される。塔
底液回収管３１には流量調整弁３２が配置され、その開
度は蒸留塔１１の中間下部に配置された液面検出器３３
が検出する液面位置に応じて調節され、蒸留塔１１内の
液面は常時略一定に維持されている。

また、塔底液回収管３１には熱交換器３４が配置され、
この熱交換器３４には原液供給管２１が経由されており
、塔底液回収管３１を通る塔底液の熱量により原液は予
備加熱されている。

一方、塔底液回収管３１の蒸留塔１１　（！ｊｌｌ端部
にはリボイラ管３５が接続され、塔底液の一部を蒸留塔
ｌｌ内に還流させている。リボイラ管３５の中間にはリ
ボイラ３６が配置され、このリボイラ３６には加熱用配
管３７から高温の熱媒が供給されており、リボイラ管３
５を通って還流される蒸留液はリボイラ３６で加熱され
、これにより蒸留塔１１内の蒸留液の加熱が行われる。

蒸留塔１１の頂部には藤気回収管４１が接続され、蒸留
塔ｌｌ内の蒸留液から蒸発した塔頂ガスが凝縮器４２に
移送される。凝縮器４２の上部には気相成分回収管４３
が接続され、凝縮器４２内でも凝縮しない気相成分が回
収される。また、凝縮器４２の下部には液相成分回収管
４４が接続され、凝縮器４２内で凝縮した液相成分が回
収される。液相成分回収管４４には流量調整弁４５が配
置され、その開度は凝縮器４２に配置された液面検出器
４６が検出する液面位置に応じてｉＡ節され、凝縮器４
２内の液面は常時略−定に維持されている。

一方、液相成分回収管４４の中間には、精製効率を向上
するために、液相成分回収管４４番ご回収されだ液相成
分の一部を蒸留塔１１内の頂部近傍に還流させて再蒸発
させるリフラックス管４７が設けられている。また、液
相成分回収管４４には回収された液＋ｎ成分の精製純度
Ｃ４を検出する純度検出器４Ｂが配置されている。

ここで、液相成分の精製純度Ｃ４は、蒸気回収管４１に
より蒸留塔ｌｌ内から回収される塔頂ガスの回収温度１
１４に影響されるが、この回収温度Ｈ４はリフラックス
管４７から還流される液相成分の流ＩＦＳにより変化す
る。このため、精製純度Ｃ４および回収温度１１４に応
じて還流流！ｐｓを制御するリフラックス制御系５０が
設けられている。

リフラックス制ｉｌｌ系５０は、リフラックス管４７の
中間に還流流量Ｐ、を調整する流１ｊＩｉＡ整弁５１お
よび還流流量Ｆ、を検出する流量検出器５２を備えてい
る。

また、蒸気回収管４】の蒸留塔１１側端には回収温度１
１４を検出する温度検出器５３が配置されている。さら
に、温度検出器４Ｂにはりフラックス制御系５４が接続
され、この制御器６４の出力は温度検出器５３を経て流
量検出器５２および流量調整弁５１に接続されている。

このようなりフラックス制御系５０においては、純度検
出器４Ｂで検出される精製純度Ｃ４に対してリフラック
ス制御器５４で所定の補償および制ｉｌＮ演算が行われ
、得られた値と温度検出器５３で検出される回収温度Ｈ
４との差に応じて最適還流流量が算出され、この値、！
：流量検出器５２で検出される実還流流量Ｆ３との比較
に基づいて流量調整弁５１の開度ν、が調整され、これ
によりリフラックスが最適状態に制御されている。

一方、回収温度１１４は蒸留塔１１内の蒸留液の温度■
１によっても変化する。この蒸留温度１１．は、リボイ
ラ３６による加熱によって変化するとともに、原液供給
管２１から供給される原液の流１ｐｉによっても変化す
る。ここで、リボイラ３６による加熱は、加熱用配管３
７からリボイラ３６に供給される熱媒の流ｆｆ１ｐｓの
加減により調整される。このため、原ン１’ａ　Ｉ　Ｆ
　ｇおよび蒸留温度１１＋に応じて熱媒流Ｉ　Ｆ　＊を
制御するリボイラ制御系７０が設けられている。

リボイラ制御系７０は、蒸留塔１１のリボイラ管３５近
傍に蒸留温度Ｉ１．を検出する温度検出器７１を備え、
加熱用配管３７の中間に熱媒流量Ｆ、を調整する流量調
整弁７２を備えている。また、原液流量Ｆ２を検出する
流量検出器２２の出力は、フィードフォ・ワード要素７
３、無駄時間−次遅れ補償制御部７４、ハイローリミツ
タフ５を介して温度検出器７１に接続され、さらに温度
検出器７１の出力は流量調整弁７２に接続されている。

このようなリボイラ制御系７０においては、流量検　出
品２２で検出される原液流量ｐ、に対して所定の補償お
よび制御演算が行われ、得られた値と温度検出器７１で
検出される蒸留温度１１１との差に応じて最適熱媒流輩
が算出され、この値に基づいて流量ＩＩｌ整弁７２の開
度ν３が調整され、これによりリボイラ３６による加熱
が最適状態に制ｔｎされている。

このようなリボイラ制御系７０においては、原液供給に
加えて前述のリフラックスによっても蒸留塔１１内の温
度が変化し、リボイラ３６による加熱制御においては無
駄時間および一次遅れを補償する必要がある。このため
に、無駄時間−次遅れ補償制御部７４において、本発明
の無駄時間ｎ次遅れ補償料ｊｎ方法に基づくプロセス遅
れの補償を行っている。

第９図に示すように、無駄時間−次遅れ補償制御部７４
は、原液流１　ｐ　！を所定処理するフィードフォワー
ド７３の出力を目標値ｓｐとし、この目標値ｓｐに基づ
いてハイローリミツタフ５に操作変数ＭＶを出力するコ
ントローラ２を備え、その伝達関数はＧｃである。また
、ハイローリミツタフ５からリボイラ３６、蒸留塔１１
からリフラックス制ｉ２Ｍ系６ｏの流量調整弁５３に至
る経路をプロセスｌとし、流量検出器５２の出力Ｆ、を
制御ｌ　ＩＩ数Ｐｖとしてコントローラ２の入力側にフ
ィードバックさせる主ループｌが形成されている。

このコントローラ２には、その出力を入力にフィードバ
ックする補償ループ４が設けられ、このループ４におけ
るプロセス補償モデル５の伝達間されており、コントロ
ーラ２の人力ＳＰユは、ｓｐ”＝ＳＰ−ＰＶ−Ｇｍ−Ｍ
Ｖと表される。コこテ、しはプロセスｌの無駄時間、ｅ
−Ｌｓ　は無駄時間要素、Ｔはプロセスｌの時定数、ｌ
／　（１＋ＴＳ）は−次遅れ要素、Ｋはプロセスｌのゲ
インである。これらの無駄時間し、時定数Ｔおよびゲイ
ンには、原液供給、熱媒供給によるリボイラ、リフラッ
クス等に起因する蒸留塔１１内の温度変化のプロセス遅
れにより与えられるものである。

第１θ図に示すように、この無駄時間−次遅れ補償制御
部７４においては、等価変換によって無駄時間要素ｅ−
Ｌｓおよび一次遅れ要素１／（１＋ＴＳ）をコントロー
ラ２を含むループの外に出すことができ、プロセス遅れ
を設定することによって、あたかも無駄時間し、時定数
↑による一次位相遅れ等のプロセス遅れがないように制
御できる。また、ゲインには比例帯によって調整可能で
あり、コントローラ２の設定等が極めて容易である。

第１１図に示すように、具体的な無駄時間−次遅れ補償
制御部７４はマ・イクロコンピュータ上に展開される機
能モジュールとして実現されている。すなわち、コント
ローラ２に対応する調整ユニット２への入力側には減算
器３Ａが配置され、この滅初器３Ａは目標値ＳＰおよび
プロセスｌからの制御変数Ｐｖを受けて差分ｓｐ’　＝
　５ｐ−ｐｖを計算し、調整ユニット２八に送る。また
、調整ユニット２＾には無駄時間ユニッ）４Ａおよび一
次遅れユニット４Ｂが接続され、それぞれには湿作変数
Ｈνが送られる。無駄時間ユニッ）４ＡではＭＶ　ｅ　
−”　が計算され、−次遅れユニッ）４ＢではＭＶ／（
１＋Ｔｓ）が計算され、各々の値はそれぞれ演算器４Ｃ
に送られる。ここで、演算器４Ｃには定数設定ユニット
４Ｄが接続され、このユニット４Ｄで設定されたプロセ
スゲインには演算器４Ｃに送られる。演算器４Ｃは、こ
れらユニット４Ａ、　４８．４Ｃからの値に基づいて補
償ループ４の伝達関数でシへ２八に出力する。調整ユニ
ット２Ａはｓｐ’＝　ｓｐ″Ｇ腸に基づいて操作変数Ｍ
Ｖを決定し、ノ＼イローリミンク７５に出力する。以上
により無駄時間−次遅れ補償制御部７４が実現される。

なお、調整ユニット２Ａは演算器４Ｃからの入力を適宜
キャンセルするように設定されており、プロセスｌの条
件設定変更等の過渡的状態における不安定動作や不必要
な補償データの出力を禁止されζいる。

また、補償ループ４の伝達関数の設定にあたっにより（
第１２図参照）、プロセス遅れ補償を不完全にして、出
力変化による補償分の立ち上がりの微分要素を緩やかに
することができる。

このような本実施例によれば、リボイラ制御系７０の制
御にあたり、無駄時間−次遅れ補償制御部７４によって
無駄時間要素ｅ−Ｌｓだけでなく一次遅れ要素に対する
補償を行うことができ、特に、等価変換により各要素を
制御ループの外に出し、あたかも無駄時間しおよび時定
数Ｔによるプロセス遅れがないように制御を行うことが
できる。

このため、プロセスｌに対して実際の挙動に一致した制
御動作を行うことができ、制御性が改博される。また、
−次遅れに伴う位■１変化を回避できるため、操作性を
向上できるとともに、繰作変数ＭＶの過剰調整をなくし
てリボイラ制御系７０の安定性を確保できる。

これらの点について、本実施例の具体的な実験結果に基
づいて説明する。実験にあたってのプロセスｌの特性は
第１表に示すような値である。

第１表 このようなプロセスｌに対して、本発明に基づく無駄時
間−次遅れ補償制御方法を採用した本実線側における操
作変数ｎνと制御変数ｐｖとの応答状態を計測した結果
、第１３図に示すように、操作変数ＭＶおよび制御変数
Ｐνともに大きく振れることなく制御を行うことができ
た。

これに対し、第１の比較例として、従来より多用される
ノルマルＰＩＩ制御をリボイラ制御系７０に採用した場
合、第１４図に示すように、無駄時間要素の影響により
制御系の安定性は完全に失われ、制御不能となる。

また、第２の比較例として、スミスの方法による無駄時
間補償制御をリボイラ制御系７０に採用した場合、第１
５図に示すように、操作変数ＭＶが３０％もオーバーシ
ュートした。このような場合、蒸留等１１内が加熱過剰
となって、特に頂部からの回収温度１１４が高すぎる状
態が生じ、所期の精製純度を維持できなくなる。

従って、前記第１および第２の比較例のような従来の制
御方法に対して、°本発明の無駄時間ｎ次遅れ補償制御
方法の優秀性が解かる。

なお、前記実施例においては、無駄時間−次遅れ補償制
御としたが、遅れ要素は一次１／（１＋ＴＳ）に限らず
、二次１／（１＋Ｔ、Ｓ）　（１＋Ｔ、Ｓ）ないし０次
１／（１＋ＴＳ）　（１＋Ｔｚｓ）・・・（１＋Ｔ、ｌ
Ｓ）と設定してもよい。

また、前記実施例では、プロセス補償モデル５変換によ
り無駄時間要素Ｌｅおよびｎ次遅れ要素Ｔｅを制御ルー
プの外に出すとともに、ゲインにを補償ループ４の内に
残すようにしたが、ゲインにの配置は適宜変更できる。

すなわち、プロセス補償ここで定数をに、＝に、に２−
１　とすることで前記実施例の設定となり、に、＝１．
Ｌ＝Ｋ　とすればプロセスなり、等価変換した場合には
ゲインＫをも補１賞ループ４の外に出すこともでき、実
施するプロセスｌに応じて適宜な設定を行うことが望ま
しい。

〔発明の効果〕

以上に説明したように、本発明の無駄時間ｎ次遅れ補償
制御方法によれば、等価変換により無駄時間要素および
ｎ次遅れ要素が制御ループの外に出るようにできるため
、無駄時間要素および高次遅れ要素を同時に補償してプ
ロセス遅れを解消でき、制御系の応答性を高めで操作性
を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第７図は本発明の技術的根拠を示すもので
あり、第１図はプロセス制御系のブロック図、第２図は
前記第１図の等価変換を示すブロック図、第３図は前記
第２図のＧｍ　＝　１−Ｇｐと設定した際の等価変換を
示すブロック図、第４図は本発明の設定例を示すブロッ
ク図、第５図は前記第４図の等価変換を示すブロック図
、第６図は本発明の設定例を示すブロック図、第７図は
前記第６図の等価変換を示すブロック図、第８図ないし
第１５図は本発明の一実施例を示すものであり、第８図
は全体構成図、第９図は制御系のブロック図、第１θ図
は前記第９図の等価変換を示すブロック図、第１１図は
前記第９図の制御系の具体的な構成を示すブロック図、
第１２図は変形例を示すブロック図、第１３図は実験結
果を示すグラフ、第１４図および第１５図はそれぞれ比
較例についての前記第１３図相当のグラフ、第１６図な
いし第１８図は従来例を示すものであり、第１６図はプ
ロセス制御系のブロック図、第１７図は前記第１６図の
等価変換を示すブロック図、第１８図は前記第１７図の
等価変換を示すブロック図である。 ｌ・・・プロセス、２・・・コントローラ、３・・・主
フイードバツクループ、４・・・補償ループ、５・・・
プロセス補償モデル、７０・・・無駄時間および一次遅
れを含むリボイラ制御系、７４・・・無駄時間−次遅れ
補償制御部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）　無駄時間要素Ｌｅ＝ｅ＾−１＾ｓおよびｎ次遅
   れ要素１／Ｔｅ＝１／（１＋Ｔ＿１Ｓ）（１＋Ｔ＿２Ｓ
   ）・・・（１＋Ｔ＿ｎＳ）を含む伝関数が（ＫＬｅ）／
   Ｔｅで表わされるプロセスを制御するために、前記プロ
   セスに操作変数ＭＶを出力するコントローラを有する制
   御系の制御方法であって、前記プロセスから出力される
   制御変数ＰＶと目標値ＳＰとの差分ＳＰ−ＰＶを計算し
   、この差分ＳＰ−ＰＶからＫ＿１（１−（Ｋ＿２Ｌｅ）
   ／Ｔｅ）ＭＶ（Ｋ＿１、Ｋ＿２は定数）を減算した値を
   コントローラの入力とすることを特徴とする無駄時間ｎ
   次遅れ補償制御方法。