JPH02149769U - - Google Patents

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JPH02149769U
JPH02149769U JP5756989U JP5756989U JPH02149769U JP H02149769 U JPH02149769 U JP H02149769U JP 5756989 U JP5756989 U JP 5756989U JP 5756989 U JP5756989 U JP 5756989U JP H02149769 U JPH02149769 U JP H02149769U
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JP
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susceptor
epitaxial growth
type epitaxial
nozzle
belgear
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図および第２図はこの考案の実施例である
ベルジヤ型エピタキシヤル成長装置の構造を表す
図であり、第１図は装置全体の縦断面図、第２図
は同装置に用いられるサセプタの配置関係などを
示す平面図である。第３図および第４図は従来の
ベルジヤ型エピタキシヤル成長装置の構造を表す
図であり、第３図は装置全体の縦断面図、第４図
はその装置に用いられるサセプタの平面図である
。 １……石英製ベルジヤ、２……原料ガス導入管
、２ａ……ノズル、３，３ａ，３ｂ，３ｃ……サ
セプタ、４……ヒータ、５……支持管、６……ウ
エハ、７……モータ、８……太陽歯車、９ａ，９
ｂ……遊星歯車、１０ａ，１０ｂ……回転中心軸
、１１……フランジ部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 原料ガスを噴出させるノズルを中心として、ウ
    エハを載置したサセプタを回転させるベルジヤ型
    エピタキシヤル成長装置において、 それぞれウエハを載置する複数のサセプタと、
    これら複数のサセプタを軸支し、自転させるとと
    もに、各サセプタをノズルを中心として公転させ
    るサセプタ回転駆動機構を設けたことを特徴とす
    るベルジヤ型エピタキシヤル成長装置。
JP5756989U 1989-05-18 1989-05-18 Pending JPH02149769U (ja)

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