JPH02148822A - 半導体露光装置用エンバイロメンタルチャンバー - Google Patents

半導体露光装置用エンバイロメンタルチャンバー

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Publication number
JPH02148822A
JPH02148822A JP63302561A JP30256188A JPH02148822A JP H02148822 A JPH02148822 A JP H02148822A JP 63302561 A JP63302561 A JP 63302561A JP 30256188 A JP30256188 A JP 30256188A JP H02148822 A JPH02148822 A JP H02148822A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
environmental chamber
chamber
malfunction
exposure device
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63302561A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Naganami
純一 長南
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamagata Ltd filed Critical NEC Yamagata Ltd
Priority to JP63302561A priority Critical patent/JPH02148822A/ja
Publication of JPH02148822A publication Critical patent/JPH02148822A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造及び液晶パネル製造等の露光装置に
おいて、装置の環境温度・湿度を一定に保ち、露光装置
の性能を長期的に高精度に、かつ。
安定に維持するために使用されるエンバイロメンタルチ
ャンバーに関する。
〔従来の技術〕
従来、この種のエンバイロメンタルチャンバーは第4図
に示すようにクーラー5.ヒーター4゜ファン3 、 
HEPAフィルター2.温湿度センサ−6゜異常検出回
路部12.運転制御部10.無停電電源8゜電源9等に
より構成されていた。1は露光装置。
7は吸気孔である。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のエンバイロメンタルチャンバーは第5図
に示すように異常検出回路部12が働くと、すぐ、にエ
ンバイロメンタルチャンバーの運転を停止するようにな
っているので、停電や瞬時停電により異常検出回路部1
2が誤動作した場合でも、運転を停止してしまい、エン
バイロメンタルチャンバー内の余熱や装置の発生する余
熱で内部の温度が上昇し、露光装置1の光学性能が変化
し、元に戻らなくなることによって著しく性能が悪化す
るという欠点がある。
また、通常これらの露光装置は数十台というかなり多く
の台数を使用するため、異常発生時、全台数に短時間で
適切な処置を行うことが不可能であり、生産ラインの受
けるダメージは大きいものとなる。
本発明の目的は前記課題を解決したエンバイロメンタル
チャンバーを提供することにある。
〔発明の従来技術に対する相違点〕
上述した従来のエンバイロメンタルチャンバーに対し、
本発明は異常検出機能の他に、異常発生モードの分析、
装置の運転状況と装置への供給電源の正常・異常の判断
及び異常発生モードが継続しているか否かを判断する等
の制御機能を有するという相違点を有する。
さらに、異常がキャンセルされた場合、自動的にチャン
バーの運転がスタートされる自動運転スタート機能を有
するという相違点を有する。
〔課題を解決するための手段〕
前記目的を達成するため、本発明は半導体露光装置の性
能を長期的に高精度に、かつ、安定に保つために使用さ
れるエンバイロメンタルチャンバーにおいて、動作異常
の発生時にその異常を分析し、適切な復帰処置を行う制
御回路を含むものである。
〔実施例〕
以下1本発明の実施例を図により説明する。
(実施例1) 第1図は本発明の実施例1を示す構成図である。
図において、1は露光装置であり、露光装置1を外装す
るチャンバー18には)IEPAフィルター2が設けら
れ、フィルター2と吸気孔7との間にはファン3.ヒー
ター4.クーラー5が設置されている。。
本発明のエンバイロメンタルチャンバーは、異常検知信
号分析回路部13と、異常信号キャンセル回路部14と
、チャンバーの総合制御部11と、クーラー5.ヒータ
ー4.ファン3の運転制御部10゜電′g9.無停電電
源8.温湿度センサー6とを備えている。
異常検知信号分析回路部13と異常信号キャンセル回路
部14により、異常信号の発生が瞬間的かあるいは継続
的かを分析し、自動的に異常信号をリセットし、再度発
生するかを認識する機能を有し、すぐには運転を停止し
ないようになっている。またこの機能には異常信号が継
続して発生した場合は、装置の異常と児なし、運転を停
止するシーケンスも含まれている。
一連の動作シーケンスの一実施例を第3図に示し、説明
する。通常の運転状態において、何らかの異常信号が発
生した場合、まずその信号が瞬間的か継続的かを異常検
知信号分析回路部13のタイマー等により、任意の時間
だけサンプリングを行い判断する。次に、この異常信号
が瞬間的であると判断されたときは、異常信号キャンセ
ル回路部14により異常検出回路部12のリセットを行
わせ。
再度異常信号が発生するかを確認し、再発しない場合は
異常検出回路部12での誤検出と見なし、運転を続行す
る。また異常信号が継続的に発生している場合はその信
号がどの部分からのものであるかを分析し、クーラー関
係等のすぐにリセットを行っても復帰できない信号のと
きは任意のウェイト時間経過後、リセット動作するよう
になっている。次に、異常信号が継続的に発生している
と判断される場合は、この実施例では1回だけであるが
、任意の回数だけリセット動作を行わせ、回復可能な異
常かを認識し、運転の停止又は続行を行うことができる
ようになっている。
(実施例2) 第2図は本発明の実施例2を示す構成図である。
この実施例では停電・瞬時停電検出回路部15を追加し
、前述の異常検知信号分析回路部13及び異常信号キャ
ンセル回路部14と組合せて、さらに自動運転スタート
回路部16をチャンバーの総合制御部11に連結するこ
とにより、異常発生時及び停電・瞬時停電発生時でも異
常信号をリセットするとともに、復電後装置の異常信号
を再確認後、自動的に運転を再開することが可能となる
という利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明はエンバイロメンタルチャン
バーの異常検出回路の誤検出や、停電・瞬時停電による
誤動作が発生しても異常内容を分析し、適切なリセット
動作と運転動作を自動で行うことにより、上述の原因に
よりエンバイロメンタルチャンバーが停止することを防
ぐことができる効果があり、露光装置の安定稼動に大き
く貢献する。
また、落雷の多発する地域においては、瞬時停電の発生
が多く、特に露光装置においてはほとんどの場合、瞬時
停電の発生によりエンバイロメンタルチャンバーが停止
し、装置の立上げ調整に膨大な費用と時間を費やし、生
産にも支障をきたしている。このような問題も本発明の
エンバイロメンタルチャンバーであれば、完全自動で運
転の再スタートが可能であり、露光装置の受けるダメー
ジを最低限にくい止めることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1を示す構成図、第2図は本発
明の実施例2を示す構成図、第3図は本発明の実施例1
における異常検知時のフローチャート、第4図は従来の
エンバイロメンタルチャンバーを示す構成図、第5図は
従来の異常検知時のフローチャートである。 1・・・露光装置      2・・・1(EPAフィ
ルター3・・・ファン       4・・・ヒーター
5・・・クーラー      6・・・温湿度センサ−
7・・・吸気孔       8・・・無停電電源9・
・電源 10・・・クーラー、ヒーター、ファンの運転制御部1
1・・・チャンバーの総合制御部 12・・・異常検出回路部 13・・・異常検知信号分析回路部 14・・・、異常信号キャンセル回路部15・・・停電
・瞬時停電検出回路部 I6・・・自動運転スタート回路部 実用新案登録出願人  山形日本電気株式会社第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体露光装置の性能を長期的に高精度に、かつ
    、安定に保つために使用されるエンバイロメンタルチャ
    ンバーにおいて、動作異常の発生時にその異常を分析し
    、適切な復帰処置を行う制御回路を含むことを特徴とす
    る半導体露光装置用エンバイロメンタルチャンバー。
JP63302561A 1988-11-30 1988-11-30 半導体露光装置用エンバイロメンタルチャンバー Pending JPH02148822A (ja)

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ID=17910458

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JP63302561A Pending JPH02148822A (ja) 1988-11-30 1988-11-30 半導体露光装置用エンバイロメンタルチャンバー

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002054464A1 (fr) * 2000-12-28 2002-07-11 Nikon Corporation Construction a liaison gpib et son utilisation
JP2021057485A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 株式会社ピーエムティー 半導体製造装置及び湿度制御方法

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US6903799B2 (en) 2000-12-28 2005-06-07 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
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