JPH0214199Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、処理液によつてウエハの表面処理を
行う装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来のこの種の装置は、材質が処理液に侵され
ない陶磁器またはテフロン樹脂（登録商標名）な
どの処理槽内において、同じ材質のラツクが複数
枚のウエハを液面に対し垂直に直立する状態に保
持して行う構造のものであつた。

〔考案が解決しようとする問題点〕

従来の装置は、上記のような構造のために、数
枚のウエハの表面処理を行う場合でも、処理槽内
には直立するウエハが完全に浸るレベルまでの処
理液が必要であつた。

また、ウエハの表面処理を均一にするためにサ
ーキユレータなどを用いて処理液を循環させる必
要があつた。

本考案は、従来の装置の上記のような問題点に
鑑みてなされたもので、処理するウエハの枚数に
応じて、処理液の量を減らすこともでき、またラ
ツクを動かして処理液に環流を発生させることが
できるウエハの表面処理装置を提供することにあ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

円筒形状の処理槽と、この処理槽内においてウ
エハを処理液面に対してわずかに傾斜保持するラ
ツクとで構成し、かつ、処理槽内においてラツク
を上下動させて処理槽内の処理液に環流を発生さ
せることができる構成とした。

〔実施例〕

以下、本考案の一実施例を図によつて説明す
る。

第１図ａは本考案に係る処理槽１の一例を示す
正面図、第１図ｂは第１図ａの平面図を示す。第
２図ａは本考案に係るラツク２の一例を示す正面
図、第２図ｂは第２図ａの平面図、第２図ｃは第
２図ａの側面図を示す。

本実施例は無色透明なテフロン樹脂（登録商標
名）で製作されているものとし、形状の理解を容
易にするために、前面に現れない主要部の形状を
破線で示す。図において、２１は把手、２２は半
円形状の上部平板部、２３は同じ形状の下部平板
部、上部平板部２２にはラツク２の処理槽１内へ
の挿入部の制限をする突出部２４が設けられてい
る。

この突出部２４はラツクを横向きに置く場合、
転がりを阻止する脚となる。

上部平板部２２と下部平板部２３の間の２つの
対称な形状の架台部２５ａ，２５ｂにウエハを処
理液面に対してわずかに傾斜保持する溝２６が配
設している。

これらの溝２６にウエハを納めると、ウエハの
外周部が溝２６の底部（第２図ｂの破線ｇで示す
部分）に内接して、定間隔に配列し傾斜保持され
る。

ラツクの径（上部又は下部平板部２２，２３の
径）は、処理槽１内を上下動出来得るとともにウ
エハは容易に挿入し得る寸法で設計制作されてい
る。

ウエハをラツク２の架台部２５ａ，２５ｂの各
溝２６に納め、処理槽１内に挿入し、ウエハの表
面を処理槽１内の処理液に浸して処理する。

把手２１を摘んで、ラツク２を処理槽１内で上
下動作で、ラツク２が上昇するときは第３図ａの
示す方向に、ラツク２が下降するときは第３図ｂ
に示す方向に処理液の環流が発生し、ウエハの表
面に処理液が均一に処理される。

数枚のウエハの処理の場合は、ウエハを架台部
２５ａ，２５ｂの下部の溝２６内に挿入すれば処
理槽の処理液量を節減して作業を行うことができ
る。

〔考案の効果〕

本考案によれば前記の如く、少い枚数のウエハ
を処理する場合でも、少量の処理液で表面処理作
業ができ、処理液の節減ができるとともに、サー
キユレータを用いずに、処理液に環流を発生さ
せ、均一な表面処理作業を行えるという効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ，ｂはこの考案に係る処理槽の一例を
示す正面図、平面図、第２図ａ，ｂ，ｃはこの考
案に係るラツクの一例を示す正面図、平面図、側
面図、第３図ａ，ｂはこの考案に係る処理槽内の
処理液に発生する環流の方向を示す説明図であ
る。 １……処理槽、２……ラツク、２１……把手、
２２……上部平板部、２３……下部平板部、２４
……突出部、２５ａ，２５ｂ……架台部、２６…
…溝。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 処理液によつてウエハの表面処理を行う装置
   で、円筒形状の処理槽と、該処理槽内においてウ
   エハを処理液面に対して傾斜保持するラツクとか
   らなり、処理槽内においてラツクを上下動して該
   処理槽内の処理液に環流を発生させることができ
   るようにしたことを特徴とするウエハの表面処理
   装置。