JPH0213978Y2 - - Google Patents
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- JPH0213978Y2 JPH0213978Y2 JP1980141571U JP14157180U JPH0213978Y2 JP H0213978 Y2 JPH0213978 Y2 JP H0213978Y2 JP 1980141571 U JP1980141571 U JP 1980141571U JP 14157180 U JP14157180 U JP 14157180U JP H0213978 Y2 JPH0213978 Y2 JP H0213978Y2
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、臨床化学自動分析装置における反応
測定管の洗浄装置に関するものである。
測定管の洗浄装置に関するものである。
臨床化学自動分析装置では、反応測定管に注入
した検体(血清)の光学測定を行なつた後に、反
応測定管を洗浄しこの反応測定管は再度検体の測
定に供されるが、この反応測定管の洗浄手段には
従来から種々の方式があり、例えば、反応測定管
を洗浄過程で転倒させ、下方から洗浄液を吹き付
けて洗浄し、その後に乾燥させる方式のもの、又
は複数の反応測定管を支持する反応管カセツトを
洗浄過程で水平移動させ、洗浄液の注入、撹拌洗
浄および排出を数回繰り返して行なつた後に乾燥
させる方式のもの等が知られている。
した検体(血清)の光学測定を行なつた後に、反
応測定管を洗浄しこの反応測定管は再度検体の測
定に供されるが、この反応測定管の洗浄手段には
従来から種々の方式があり、例えば、反応測定管
を洗浄過程で転倒させ、下方から洗浄液を吹き付
けて洗浄し、その後に乾燥させる方式のもの、又
は複数の反応測定管を支持する反応管カセツトを
洗浄過程で水平移動させ、洗浄液の注入、撹拌洗
浄および排出を数回繰り返して行なつた後に乾燥
させる方式のもの等が知られている。
このうち、上記前者の方式のものにあつては、
反応測定管内に試薬や洗浄液等が付着したまま乾
燥する虞れは少ないが、後者の場合には反応管カ
セツトで支持した状態で洗浄液の注入、撹拌及び
排出を繰り返しつつ洗浄するものであるから、例
えば、洗浄液の排出装置の不備で洗浄液の排出が
不完全となり、洗浄液が反応測定管の底に溜つた
状態で次の段階における洗浄液の注入が行われた
ような場合には予じめ決まつた量の洗浄液が注入
されると洗浄液が反応測定管から溢れ出る虞れが
あつたり、又は洗浄液の注入制御の不備等によつ
て、洗浄液が所定量よりも多く注入された場合に
も反応測定管から溢れ出る虞れがあつた。このよ
うな場合、溢れ出た洗浄液は反応測定管の外壁面
を伝つて下方に流れ出し、一部は反応測定管の外
壁面に付着して島状の絞が生じて光の透過に影響
し、それ以後の反応測定精度を低下させる原因と
なつていたり、また溢れ出た残りの洗浄液は、反
応管カセツトの底面に付着し、該反応管カセツト
が水平方向にスライド移動する際に底面に抵抗を
生じてスムーズに移動しない等種々の問題があつ
た。
反応測定管内に試薬や洗浄液等が付着したまま乾
燥する虞れは少ないが、後者の場合には反応管カ
セツトで支持した状態で洗浄液の注入、撹拌及び
排出を繰り返しつつ洗浄するものであるから、例
えば、洗浄液の排出装置の不備で洗浄液の排出が
不完全となり、洗浄液が反応測定管の底に溜つた
状態で次の段階における洗浄液の注入が行われた
ような場合には予じめ決まつた量の洗浄液が注入
されると洗浄液が反応測定管から溢れ出る虞れが
あつたり、又は洗浄液の注入制御の不備等によつ
て、洗浄液が所定量よりも多く注入された場合に
も反応測定管から溢れ出る虞れがあつた。このよ
うな場合、溢れ出た洗浄液は反応測定管の外壁面
を伝つて下方に流れ出し、一部は反応測定管の外
壁面に付着して島状の絞が生じて光の透過に影響
し、それ以後の反応測定精度を低下させる原因と
なつていたり、また溢れ出た残りの洗浄液は、反
応管カセツトの底面に付着し、該反応管カセツト
が水平方向にスライド移動する際に底面に抵抗を
生じてスムーズに移動しない等種々の問題があつ
た。
本考案は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、反応測定管の洗浄
時に、洗浄液の注入が一定以上に達した場合を検
知し、その際に洗浄液の注入を自動的に停止する
ようにした洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
り、その目的とするところは、反応測定管の洗浄
時に、洗浄液の注入が一定以上に達した場合を検
知し、その際に洗浄液の注入を自動的に停止する
ようにした洗浄装置を提供しようとするものであ
る。
以下添付図面に基づいて本考案を詳細に説明す
る。
る。
第1図に示すように、この考案が適用される臨
床化学自動分析装置Rは、1検体をオートマルチ
ピペツト装置3により、反応管カセツト2に支持
された複数本の反応測定管1に定量分配した後、
この反応管カセツト2を順次所定の経路に沿つて
間欠的に移動させ、この移動の間に各反応測定管
1に試薬を注入して第1光学測定装置4で予備比
色測定を行ない、次いで第2試薬等を注入して撹
拌した後に第2光学測定装置5で本比色測定を行
ない、その後上記各反応管カセツト2は洗浄部6
において洗浄され、次の測定に送られる。
床化学自動分析装置Rは、1検体をオートマルチ
ピペツト装置3により、反応管カセツト2に支持
された複数本の反応測定管1に定量分配した後、
この反応管カセツト2を順次所定の経路に沿つて
間欠的に移動させ、この移動の間に各反応測定管
1に試薬を注入して第1光学測定装置4で予備比
色測定を行ない、次いで第2試薬等を注入して撹
拌した後に第2光学測定装置5で本比色測定を行
ない、その後上記各反応管カセツト2は洗浄部6
において洗浄され、次の測定に送られる。
この洗浄部6には、第2図に示すように、夫々
導電部材からなる洗浄吐出管8及び撹拌軸9を有
する洗浄装置7と、排出管10とを交互に複数列
並設した洗浄ユニツト11が設けられ、これらは
一体的に上下動可能となるように支持軸12に支
持されている。そして反応測定管1は反応管カセ
ツト2に支持されて水平移動する間において、洗
浄装置7と排出管10とが交互に挿入され、洗浄
と排水とを繰り返しながらきれいに洗浄される。
導電部材からなる洗浄吐出管8及び撹拌軸9を有
する洗浄装置7と、排出管10とを交互に複数列
並設した洗浄ユニツト11が設けられ、これらは
一体的に上下動可能となるように支持軸12に支
持されている。そして反応測定管1は反応管カセ
ツト2に支持されて水平移動する間において、洗
浄装置7と排出管10とが交互に挿入され、洗浄
と排水とを繰り返しながらきれいに洗浄される。
上記洗浄吐出管8は、支持軸12にその上部が
固定されており、また同様にベアリング13によ
つて回転可能に支持軸12に支持されている撹拌
軸9と共に、その先端は互いに近接して垂下して
いる。撹拌軸9の先端部には撹拌板14が取付け
られており、この撹拌板14の取付位置は、洗浄
時において反応測定管1に洗浄液が注入された場
合に、洗浄液の回転力が最大となるように洗浄液
の略中心にくるような位置に調整され、また洗浄
吐出管8の先端部は洗浄液の液面よりやや上方に
位置するように調整しておく。尚、15は撹拌軸
9に回転を伝える平歯車である。
固定されており、また同様にベアリング13によ
つて回転可能に支持軸12に支持されている撹拌
軸9と共に、その先端は互いに近接して垂下して
いる。撹拌軸9の先端部には撹拌板14が取付け
られており、この撹拌板14の取付位置は、洗浄
時において反応測定管1に洗浄液が注入された場
合に、洗浄液の回転力が最大となるように洗浄液
の略中心にくるような位置に調整され、また洗浄
吐出管8の先端部は洗浄液の液面よりやや上方に
位置するように調整しておく。尚、15は撹拌軸
9に回転を伝える平歯車である。
排出管10は、保持枠16を介して支持軸12
に支持されており、圧縮バネ17によつて弾性的
に上下動し、反応測定管1内への挿入時には、そ
の底部にチツプ18が当接して洗浄し終わつた後
の洗浄液を吸引排出する。
に支持されており、圧縮バネ17によつて弾性的
に上下動し、反応測定管1内への挿入時には、そ
の底部にチツプ18が当接して洗浄し終わつた後
の洗浄液を吸引排出する。
またこの排出管10と前記撹拌軸9との間に
は、やや撹拌軸9寄りの支持軸12に下方に伸び
る支柱19が取付けられ、この支柱19の先端に
はオーバーフロー検出用の電極20が設けられて
いる。またこの電極20の端部には撹拌軸9に近
接して棒状の検出部21が上下移動可能に取付け
られており、この検出部21の先端は、洗浄吐出
管8の先端と略同一高さに調整されている。この
検出部21は白金又はステンレス等の耐触性の導
電材からなり、長期間の使用に耐え得るものであ
る。また電極20と支持軸12からは導電線22
が夫々信号処理部23まで延設され、検出部21
及び洗浄吐出管8が電極の各端子となり、洗浄液
を通じて通電した場合と、通電しない場合との間
における抵抗値変化量によつて異なる電気信号を
発生し、これを処理部23で処理するものであ
る。
は、やや撹拌軸9寄りの支持軸12に下方に伸び
る支柱19が取付けられ、この支柱19の先端に
はオーバーフロー検出用の電極20が設けられて
いる。またこの電極20の端部には撹拌軸9に近
接して棒状の検出部21が上下移動可能に取付け
られており、この検出部21の先端は、洗浄吐出
管8の先端と略同一高さに調整されている。この
検出部21は白金又はステンレス等の耐触性の導
電材からなり、長期間の使用に耐え得るものであ
る。また電極20と支持軸12からは導電線22
が夫々信号処理部23まで延設され、検出部21
及び洗浄吐出管8が電極の各端子となり、洗浄液
を通じて通電した場合と、通電しない場合との間
における抵抗値変化量によつて異なる電気信号を
発生し、これを処理部23で処理するものであ
る。
尚、支柱19は絶縁性のものであり電極20と
支持軸12との間は絶縁されている。また、洗浄
液は一般に蒸留水が使用されるが、多少の不純物
が含まれているので通電可能となる。また洗浄吐
出管8は支持軸12に固定されているために、導
電線22の一方を支持軸12に接続することによ
つて、複数列並設された洗浄吐出管8の共通端子
とすることができる。更に撹拌軸9は洗浄吐出管
8及び検出部21と接近して設けられ、また撹拌
時には回転して洗浄吐出管8及び検出部21に接
触して通電する虞れがあるので撹拌軸9を絶縁物
等で覆うことが望ましい。尚、オーバーフロー時
に検出部21と通電する他の導電部材として上記
実施例では洗浄吐出管8を例にとり説明したが、
この考案では撹拌軸9であつてもよい。
支持軸12との間は絶縁されている。また、洗浄
液は一般に蒸留水が使用されるが、多少の不純物
が含まれているので通電可能となる。また洗浄吐
出管8は支持軸12に固定されているために、導
電線22の一方を支持軸12に接続することによ
つて、複数列並設された洗浄吐出管8の共通端子
とすることができる。更に撹拌軸9は洗浄吐出管
8及び検出部21と接近して設けられ、また撹拌
時には回転して洗浄吐出管8及び検出部21に接
触して通電する虞れがあるので撹拌軸9を絶縁物
等で覆うことが望ましい。尚、オーバーフロー時
に検出部21と通電する他の導電部材として上記
実施例では洗浄吐出管8を例にとり説明したが、
この考案では撹拌軸9であつてもよい。
このように構成された洗浄ユニツト11によつ
て反応測定管1を洗浄する場合について説明する
と、先ず、洗浄部6で順次水平移動する反応管カ
セツト2の動きに合わせて洗浄ユニツト11は上
下方向に動く、洗浄時においては、第2図に示す
ように洗浄ユニツト11が下がり、反応測定管1
内には、排出管10と洗浄装置7とが交互に挿入
される。このとき、洗浄吐出管8から注入される
洗浄液の量はモータ(図示せず)の回転数によつ
て制御されており、反応測定管1内には所定量が
注入される。このように所定量が注入された場合
は、その液面に検出部21が触れないが、例え
ば、モータの制御不備等によりモータが設定回転
数以上回転したような場合には、洗浄液が所定量
より多量に供給されて検出部21が液面に触れ
る。またモータの制御が正常であつても1ステツ
プ前の洗浄での排出管10の排液吸上が不十分で
ある場合には、反応測定管1内に洗浄液が残留し
た状態で次のステツプの洗浄に送られて洗浄液が
注入されるので洗浄液は所定量より多く供給され
ることとなる。このような場合に注入された洗浄
液の液面が検出部21及び洗浄吐出管8の夫々先
端部に接すると、検出部21と洗浄吐出管8との
間は洗浄液を通じて通電され、通電前後の抵抗値
変化量によつて検知信号を発生し、これを電気信
号として信号処理部23に送り、モータの回転を
ストツプする。これによつて洗浄液の供給は停止
されるため、反応測定管1から洗浄液が溢れ出る
ことはない。また洗浄ユニツト11が上方に移動
するとともにモータはリセツトされる。
て反応測定管1を洗浄する場合について説明する
と、先ず、洗浄部6で順次水平移動する反応管カ
セツト2の動きに合わせて洗浄ユニツト11は上
下方向に動く、洗浄時においては、第2図に示す
ように洗浄ユニツト11が下がり、反応測定管1
内には、排出管10と洗浄装置7とが交互に挿入
される。このとき、洗浄吐出管8から注入される
洗浄液の量はモータ(図示せず)の回転数によつ
て制御されており、反応測定管1内には所定量が
注入される。このように所定量が注入された場合
は、その液面に検出部21が触れないが、例え
ば、モータの制御不備等によりモータが設定回転
数以上回転したような場合には、洗浄液が所定量
より多量に供給されて検出部21が液面に触れ
る。またモータの制御が正常であつても1ステツ
プ前の洗浄での排出管10の排液吸上が不十分で
ある場合には、反応測定管1内に洗浄液が残留し
た状態で次のステツプの洗浄に送られて洗浄液が
注入されるので洗浄液は所定量より多く供給され
ることとなる。このような場合に注入された洗浄
液の液面が検出部21及び洗浄吐出管8の夫々先
端部に接すると、検出部21と洗浄吐出管8との
間は洗浄液を通じて通電され、通電前後の抵抗値
変化量によつて検知信号を発生し、これを電気信
号として信号処理部23に送り、モータの回転を
ストツプする。これによつて洗浄液の供給は停止
されるため、反応測定管1から洗浄液が溢れ出る
ことはない。また洗浄ユニツト11が上方に移動
するとともにモータはリセツトされる。
尚、同一箇所から度々検知されるような場合
は、該場所のモータの制御又は排出管の不備等が
原因しているものと思われるので分析装置全体の
作動を停止して調べることが望ましい。
は、該場所のモータの制御又は排出管の不備等が
原因しているものと思われるので分析装置全体の
作動を停止して調べることが望ましい。
この洗浄装置は、上記の実施例の様に、洗浄吐
出管と排出管とを別個に設けた場合に限定される
ものではなく、例えば、洗浄吐出管と排出管とを
一体化したような洗浄装置にも適用できるもので
ある。
出管と排出管とを別個に設けた場合に限定される
ものではなく、例えば、洗浄吐出管と排出管とを
一体化したような洗浄装置にも適用できるもので
ある。
以上説明したように本考案による洗浄装置によ
れば、洗浄時に、洗浄液が所定量より多く供給さ
れた場合を検知し、この検知信号によつて洗浄液
の供給を停止するようにしたから、反応測定管か
ら洗浄液が溢れ出るようなことはなく、反応測定
管の洗浄をより効果的に行なうことができるとと
もに光学測定精度の均一保持も図ることができ
る。
れば、洗浄時に、洗浄液が所定量より多く供給さ
れた場合を検知し、この検知信号によつて洗浄液
の供給を停止するようにしたから、反応測定管か
ら洗浄液が溢れ出るようなことはなく、反応測定
管の洗浄をより効果的に行なうことができるとと
もに光学測定精度の均一保持も図ることができ
る。
第1図は本考案を利用した臨床化学自動分析装
置の主要部を示す説明図、第2図は洗浄ユニツト
の一部切欠断面図である。 1……反応測定管、7……洗浄装置、8……洗
浄吐出管、9……撹拌軸、21……検出部。
置の主要部を示す説明図、第2図は洗浄ユニツト
の一部切欠断面図である。 1……反応測定管、7……洗浄装置、8……洗
浄吐出管、9……撹拌軸、21……検出部。
Claims (1)
- 洗浄吐出管と撹拌軸とを有し、洗浄吐出管から
反応測定管内に供給された洗浄液を撹拌軸で回転
することによつて反応測定管を洗浄するようにし
た臨床化学自動分析装置における反応測定管洗浄
装置において、洗浄吐出管又は撹拌軸を導電材で
形成し、洗浄吐出管の下端近傍位置に導電材より
なる検出部を配設して、該検出部と洗浄吐出管又
は撹拌軸との間で生ずる液面検知信号によつて、
洗浄吐出管からの洗浄液の供給を停止するように
したことを特徴とする臨床化学自動分析装置にお
ける反応測定管洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1980141571U JPH0213978Y2 (ja) | 1980-10-06 | 1980-10-06 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1980141571U JPH0213978Y2 (ja) | 1980-10-06 | 1980-10-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5764757U JPS5764757U (ja) | 1982-04-17 |
JPH0213978Y2 true JPH0213978Y2 (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=29501390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1980141571U Expired JPH0213978Y2 (ja) | 1980-10-06 | 1980-10-06 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0213978Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007132632A1 (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Olympus Corporation | 洗浄装置および自動分析装置 |
WO2007132631A1 (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Olympus Corporation | 洗浄装置および自動分析装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4738395U (ja) * | 1971-05-28 | 1972-12-27 | ||
JPS6042370Y2 (ja) * | 1978-11-08 | 1985-12-26 | 株式会社日立製作所 | 自動化学分析装置 |
-
1980
- 1980-10-06 JP JP1980141571U patent/JPH0213978Y2/ja not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007132632A1 (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Olympus Corporation | 洗浄装置および自動分析装置 |
WO2007132631A1 (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Olympus Corporation | 洗浄装置および自動分析装置 |
JPWO2007132632A1 (ja) * | 2006-05-17 | 2009-09-24 | オリンパス株式会社 | 洗浄装置および自動分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5764757U (ja) | 1982-04-17 |
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