JPH02138466A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents

連続真空蒸着装置

Info

Publication number
JPH02138466A
JPH02138466A JP28776788A JP28776788A JPH02138466A JP H02138466 A JPH02138466 A JP H02138466A JP 28776788 A JP28776788 A JP 28776788A JP 28776788 A JP28776788 A JP 28776788A JP H02138466 A JPH02138466 A JP H02138466A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
base plate
differential pressure
substrate
long
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28776788A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Younosuke Hoshi
要之介 星
Susumu Kamikawa
進 神川
Hajime Okita
沖田 肇
Kuniyuki Kajinishi
梶西 邦幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP28776788A priority Critical patent/JPH02138466A/ja
Publication of JPH02138466A publication Critical patent/JPH02138466A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1紙、プラスチンクフィルム等の吸湿性または
含水性のある走行基板に、連続的に真空蒸着する装置に
関する。
(従来の技術) 従来1紙、ブラスチンクフィルム等に対する真空蒸着は
バッチ方式で実施されていた。即ら、予めコイル状に巻
いた基板を真空容器内に装填し。
真空容器が蒸着に適した圧力になるまで十分排気した後
、該基板を走行・芸着していた。
第3図は、そのような従来の真空蒸着装置の一例を示す
もので1図中101は走行基板、102は蒸着室、 1
03はデフレクタロール、104は冷却ロール、105
は巻取りロール、106は巻出ロール、107は薄着装
置、108は蒸着材、109は蒸着材収納容器、110
は蒸着材加熱装置、111 はエツジマスク。
113は排気ポンプユニットである。
走行基板101は、蒸着室102内において巻出ロール
106からデフレクタロール103を介して冷却ロール
104に送られ、冷却ロール104上で蒸着装置t10
7によって蒸着された後、巻取りロール105に巻取ら
れる。蒸着室102は、真空ポンプユニット113によ
り蒸着に適した真空度にして、蒸着が行なわれる。一方
複数条のマスキング用ベルト112が、デフレクタロー
ル103を介してエンドレスで走行基板101と等しい
速度で走行しており、冷却ロール104上で走行基板1
01に密着して走行し。
走行基板表面のうちマスキング用ベルト112と密着し
ていない部分のみ、蒸着がおこなわれる。
上記第3図に示される従来の1バッチ1コイル方式の真
空蒸着装置は非能率的で生産性が悪い。
そこで生産性を向上させるため、シールロールと隔壁と
によって複数段に仕切られた減圧室を設け。
それら減圧室をそれぞれ排気して、大気圧から真空まで
段階的に低くする圧力を作り出し、そこにフィルム等、
可撓性の基板を通すことにより、大気中から真空中へ、
そして再び大気中へと、基板を連続的に走行させて真空
蒸着を施すことも考え〔発明が解決しようとする關題鼻
〕 紙、プラスチックフィルム等の基板が吸湿または含水し
ている場合、その基板中の水分は真空中で蒸発する。蒸
着部においては、蒸着原子が該基板に到達するのをその
蒸発水分が妨げるため、蒸着が不均一になったり、蒸着
割合が減少したりする問題があった。
第3図図示のバッチ式の場合は、単一真空室で基板から
の水分の蒸発があって、真空室が蒸着に適した圧力に到
達しに<<、蒸着作業を開始する前に、コイルを真空室
で3〜7日間乾燥させる必要があり、生産性が悪かった
。また基板を連続的に走行させる方式の場合は、未乾燥
の基板を使用する際に、蒸着室を蒸着に適した圧力に到
達させるには、大容量の真空ポンプが必要になる。かつ
基板表面からの水分蒸発を完全には抑えきれない。
C?i、Mを解決するための手段〕 本発明は、前記従来の課題を解決するために。
吸湿性または含水性の基板を大気中から真空室内へ複数
段に仕切られた差圧室を経て連続的に導入し、上記真空
室において上記基板に真空蒸着を施した後、上記基板を
大気中に連続的に搬出するようにした連続真空蒸着装置
において、上記基板を加熱す条加熱装置が上記差圧室内
に設けられたことを特徴とする連続真空蒸着装置、およ
び加熱された上記基板を冷却する冷却ロールが差圧室内
に設けられたことを特徴とする連続真空蒸着装置を提案
するものである。
〔作用〕
基板は、大気圧中から真空蒸着室に導かれる間に、連続
的に加熱され、基板に吸収あるいは吸着されている水は
基板から蒸発する。また加熱された基板を冷却する冷却
ロールを設けた場合は、蒸着室に入る前に基板は冷却さ
れ、蒸着室での水の蒸発が少な(なる。
〔実施例〕
第1図は本考案の一実施例の構成を示す部分断面図であ
る。この図において、lは走行基板、2は蒸着室(真空
室)、3はデフレクタロール、4は冷却ロール、5は巻
取りロール、6ば巻出り−ル、7は蒸着装置、8は蒸着
材、9は蒸着材収納容器、10は蒸着材加熱装置、 1
1はエツジマスク。
12は入側シール装置、13は出側シール装置、14は
シール装置+ 15a+15b、15cm+−−−はシ
ールロール。
16a+ 16bt 16c+−−−は差圧室、 17
はチャンネル、18は基板加熱装置、19はアンコイラ
、20はコイラ。
21は押付ロール、22は切断機、23は排気ポンプユ
ニットをそれぞれ示す。
走行基板1はアンコイラ19の一対のり−ル6の一方に
取り付けられデフレクタロール3を介してシール装置t
14に送られる。同シール装置14は、3本1&Iのシ
ールロール15a、 15b、 15c+−−−を複数
組間隔を置いて配設することによって仕切られた差圧室
16a+ 16b+ 16c、−−−を有し、それら差
圧室16a。
16b、 16C,−−一に接続された排気ポンプユニ
ット23により、蒸着室2に至るまで大気側から段階的
に圧力勾配を発生させ、蒸着室2を所定の真空度に保っ
ている。走行基板1は、該シールロール15a。
15b、 15c、−−の3本ロールのうち1片側2本
のロール間隙間および、差圧室16a、 16b、 1
6c、−−−を次々と通過する。
本実施例では、圧カフ60〜10−” Torrに保た
れた差圧室16a、 16b、 16c、−−−のうち
1つ以上に、基板加熱装置1E18が配置されており、
輻射、誘電加熱。
誘導加熱等によって、走行基板lを連続的に加熱する。
走行基板1は、冷却ロール4上で蒸着!t!i置7によ
って蒸着された後、再びシールロール15a、 15b
15c、−−−の3本ロールのうち反対側2本のロール
間隙間を逆に走行し、シール装置14から搬出される。
大気中に搬出された走行基板1は、デフレフクロール3
を介してコイラ20の一対のり−ル5の一方に巻きとら
れる。
本実施例では、走行基板が差圧室内で連続的に加熱され
て水分が蒸発するので、蒸着室における真空蒸着が効果
的に行なわれる。
次に第2図は1本発明の第2の実施例の構成を示す部分
断面図である。この図において、前記第1図により説明
した第1の実施例と同様の部分については同一の符号を
付け、詳しい説明を省略する。
本実施例では、基板加熱装置1日により加熱された走行
基板1を冷却する冷却ロール24が最終段の差圧室内に
設けられている。走行基板1は最終加熱装置を出た後、
この冷却ロール24によって冷却上記のように本実施例
では、走行基板1は蒸着室2に入る前に冷却されるので
、蒸着室2内での水の蒸発が抑制される。したがって、
真空蒸着がさらに有効に行なわれる。
〔発明の効果] 本発明によれば1紙、プラスチックフィルム等。
特に吸湿性または含水性の物質への蒸着を連続して実施
できる。また従来、吸湿性または含水性の物質に蒸着す
る場合、真空室内に1コイル分3〜7日間放置していた
が1本発明ではその必要がないから、蒸着装置の稼動効
率を大幅に向上できる。
さらに本発明では、F8着室内の基板は乾燥していて、
薄着に適した圧力は極端に低くはないから。
真空ポンプの容量が小さくてすむ。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構成を示す部分断面図、第
2図は本発明の第2の実施、例の構成を示す部分断面図
である。第3図は従来の真空薄着装置の一例を示す図で
ある。 1−−一走行基板、2−−−蒸着室 3−−−デフレククロール 4−m−冷却ロール、   5 6−−−巻出リール、7− 8−m−蒸着材、     9 10−m−蒸着材加熱装置、  11 12−一一人側シール装置、  13−14−−−シー
ル装置。 15a 15b、15c −−−シールロール。 16a、 16b、 16c、−−一圧力室17−−−
チヤンネル、   1B−−一基板加熱装置。 19−m−アンコイラ、    20−一−コイラ。 21−−一押付ロール、   22−−一切断機。 23−−一排気ボンプユニ7ト 24−m−冷却ロール、   101−102−m−蒸
着室、103 104−m−冷却ロール、   105−106−−−
巻出ロール、   107−−−108−−一蒸着材、
     109−110−−一基板加熱装置、111
− 113−m=排気ポンプユニット 巻取リール。 蒸着装置。 一蒸着材収納容器。 エツジマスク。 出側シール装置。 走行基板。 −デフレフクロール。 巻取ロール 蒸着装置 蒸着材収納容器。 エツジマスク。 第3図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)吸湿性または含水性の基板を大気中から真空室内
    へ複数段に仕切られた差圧室を経て連続的に導入し、上
    記真空室において上記基板に真空蒸着を施した後、上記
    基板を大気中に連続的に搬出するようにした連続真空蒸
    着装置において、上記基板を加熱する加熱装置が上記差
    圧室内に設けられたことを特徴とする連続真空蒸着装置
  2. (2)加熱された基板を冷却する冷却ロールが差圧室内
    に設けられたことを特徴とする請求項(1)記載の連続
    真空蒸着装置。
JP28776788A 1988-11-16 1988-11-16 連続真空蒸着装置 Pending JPH02138466A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28776788A JPH02138466A (ja) 1988-11-16 1988-11-16 連続真空蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28776788A JPH02138466A (ja) 1988-11-16 1988-11-16 連続真空蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02138466A true JPH02138466A (ja) 1990-05-28

Family

ID=17721492

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28776788A Pending JPH02138466A (ja) 1988-11-16 1988-11-16 連続真空蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02138466A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008091610A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Sumitomo Wiring Syst Ltd プリント基板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008091610A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Sumitomo Wiring Syst Ltd プリント基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI405866B (zh) 將帶形基質作真空處理的設備與方法
JPH0152473B2 (ja)
JPH02138466A (ja) 連続真空蒸着装置
US3043715A (en) Method and apparatus for vacuum coating metallic substrates
CA2240999C (en) Continuous drying apparatus for porous web
JPH0735579B2 (ja) 帯状物のエア−ロツク
JPS624866A (ja) 真空処理装置のシ−ル装置
JPH0735580B2 (ja) 帯状物のエア−ロツク装置
JP4568994B2 (ja) ロールコーター式連続スパッタリング装置
JPH03122276A (ja) 連続真空蒸着装置
JP2009179446A (ja) 巻取装置および巻取部材の作製方法
JPS624865A (ja) 真空処理装置のシ−ル装置
US4800656A (en) Device and process for drying solvent-containing plastic sheets or films
JP3059000B2 (ja) 連続真空シール装置
JP2554171B2 (ja) 連続真空処理装置
JP3784846B2 (ja) 連続真空処理装置
JP2615223B2 (ja) 連続真空蒸着装置
JPH07210869A (ja) 連続磁気テープ製造設備
JPH01184271A (ja) 真空蒸着装置
JPS6353262B2 (ja)
JPH06128746A (ja) 巻取式真空処理装置
JPS63114962A (ja) 真空蒸着装置
KR20160036317A (ko) 초전도선재 절연막 증착장치
JPH01212763A (ja) 連続式真空蒸着装置
JP2001503111A (ja) 繊維ウェブ乾燥装置