JPH0212630A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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Publication number
JPH0212630A
JPH0212630A JP63163194A JP16319488A JPH0212630A JP H0212630 A JPH0212630 A JP H0212630A JP 63163194 A JP63163194 A JP 63163194A JP 16319488 A JP16319488 A JP 16319488A JP H0212630 A JPH0212630 A JP H0212630A
Authority
JP
Japan
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recording layer
optical recording
recording medium
coating
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP63163194A
Other languages
English (en)
Inventor
Taku Tokita
時田 卓
Kenji Yamane
健次 山根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP63163194A priority Critical patent/JPH0212630A/ja
Publication of JPH0212630A publication Critical patent/JPH0212630A/ja
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1匪a五歪皇ヱ 本発明は、光記録媒体に関し、さらに詳しくはご基体上
に記録層と被膜とがこの順序で積層されてなり、記録層
と被膜との密着性に優れ、しかも耐湿性、耐水性にも優
れているような光記録媒体に関する。
の     tらびに の 従来では、基体上に設けられた記録層を光硬化型樹脂で
被覆してなる光ディスクなどの光記録媒体が用いられて
いる。
このような光記録媒体を被覆する際に用いられる光硬化
型樹脂には、種々の特性が求められ、たとえば、(イ)
短時間で記録層に接着可能なこと、(ロ)記録層に悪影
響を与える成分を含まないこと、さらには、(ハ)透明
性に優れて光記録媒体の光学特性を損わないことなどが
求められる。
ところで、従来から光記録媒体を被覆する際に用いられ
ている光硬化型樹脂としては、種々の活性エネルギー光
線硬化型エポキシ樹脂組成物が挙げられる。
しかしながら、これらのエポキシ樹脂組成物の多くは硬
化初期における接着性に劣り、また硬化時間が比較的長
いため、たとえば光ディスクを製造する際に、製造ライ
ンのスピードを上げられないという問題点があった。ま
た、それらの多くは両温接着性にも劣るという問題点も
あった。
九匪百1旬 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決し
ようとするものであって、記録層に対する密着性が良好
で、かつ耐湿性、耐水性に優れ、しかも短時間で硬化さ
せることができるような被膜を有する光記録媒体を提供
することを目的としている。
魚朋fl又 本発明に係る光記録媒体は、基体と、該基体上に設けら
れた記録層と、該記録層上に設けられた被膜とからなり
、前記被膜が、 (A)エポキシ樹脂、 (B)スルホニウム塩およびシクロペンタジェニル鉄化
合物よりなる群から選ばれる化合物、 (C)アクリレート、メタアクリレートおよびそれらの
オリゴマーよりなる群から選ばれる化合物、 および (D)有機過酸化物、 を含有する組成物の硬化物であることを特徴としている
本発明に係る光記録媒体は、上記のような特徴を有して
いるので、被膜と記録層との密着性が良好であり、かつ
被膜は耐湿性、耐水性に優れ、しかも短時間で硬化させ
ることができるため、光記録媒体の製造ラインを高速(
ヒすることができる。
1班ユニ困皿A」 以下本発明に係る光記録媒体について具体的に説明する
本発明に係る光記録媒体は、基体と、該基体上に設けら
れた記録層と、該記録層上に設けられた被膜とからなり
、前記被膜に、 (A)エポキシ樹脂、 (B)スルホニウム塩およびシクロペンタジェニル鉄化
合物よりなる群から還ばれる化合物、 (C)アクリレート、メタアクリレートおよびそれらの
オリゴマーよりなる群から選ばれる化合物、 および (D)有機過酸化物、 を含有する組成物の硬化物が用いられるが、以下にまず
被膜について説明する。
被膜に含有されるエポキシ樹脂(A)としては、たとえ
ば1分子中に2個以上のエポキシ基を含有する化合物が
好ましく、たとえば脂肪族あるいは脂環式のエポキシ化
合物が特に好ましい。
このようなエポキシ樹脂(A)としては、異体的には、
ビスフェノールA、ビスフェノールF、1.1,2.2
−テトラキス(4°−ヒドロキシフェニル)エタンなど
のポリフェノール類化合物のグリシジルエーテル系工°
ボキシ樹脂;カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、
フロログルシンなどの多価フェノール類のグリシジルエ
ーテル系エポキシ樹脂;エチレングリコール、ブタンジ
オール、グリセロール、エリスリトール、ポリオキシア
ルキレングリコールなどの多価アルコール類のグリシジ
ルエーテル系エポキシ樹脂;ノボラック型エポキシ樹脂
;ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネンジオキシ
ド、ジシクロペンタジェンジオキシドなどの環状脂肪族
系エポキシ樹脂;フタル酸、シクロヘキサン−1,2−
ジカルボン酸などのポリカルボン酸のエステル縮合物の
ポリグリシジルエステル系エポキシ樹脂;ポリグリシジ
ルアミン系エポキシ樹脂などが用いられる。これらのエ
ポキシ樹脂のうちでは、ポリフェノール類化合物のグリ
シジルエーテル系エポキシ樹脂またはノボラック型エポ
キシ樹脂が好ましく、またビスフェノールAまたはビス
フェノールFのグリシジルエーテル系エポキシ樹脂がさ
らに好ましく、なかでもビスフェノールAのグリシジル
エーテル系エポキシ樹脂が特に好ましい。
また、被膜には、スルホニウム塩またはシクロペンタジ
ェニル鉄化合物(B)が含有される。
このようなスルホニウム塩としては、トリアリールスル
ホニウム塩が好ましく、とりわけトリフェニルスルホニ
ウム塩が特に好ましい、このスルホニウム塩のアニオン
としては、たとえばAsF6−あるいはBF4°等が好
ましい。
このようなスルホニウム塩としては、具体的には、トリ
フェニルスルホニウム塩 トリー(4−メチルフェニル) スルホニウム塩 トリー(4−メトキシフェニル) スルホニウム塩 用いられる。
またシクロペンタジェニル鉄化合物としては、分子中に
2個のシクロペンタジェニル基を含有する化合物、また
は分子中に1個のシクロペンタジェニル基およびフェニ
ルもしくはイソプロピルフェニルのような1個の芳香族
基を含有する化合物が用いられる。これらのうち、後者
の化合物がより好ましく、さらにシクロペンタジェニル
基とイソプロピルフェニル基とを有する下記に示すよう
なシクロペンタジェニル鉄化合物が特に好ましこのよう
なスルホニウム塩およびシクロペンタジェニル鉄化合物
はそれぞれ単独で使用することもできるが、また両者を
併用することもできる。
被膜に含有される(C)成分は、アクリート、メタアク
リレートおよびそれらのオリゴマーよりなる群から選ば
れる。
このようなアクリレートおよびメタアクリレートとして
は、ヒドロキシ化合物またはジ以上のポリヒドロキシ化
合物と、アクリル酸またはメタアクリル酸とのエステル
が用いられる。このようなエステルとしては、たとえば
、炭素数1〜20の1価の脂肪族アルコール、炭素数1
〜30の脂環式アルコール、炭素数1〜20の2価の脂
肪族アルコール、炭素数1〜20の2価の脂環式アルコ
ール、炭素数1〜2の3価の脂肪族アルコール、水酸基
末端のポリエステル等のヒドロキシ化合物と、アクリル
酸またはメタアクリル酸とのエステルが挙げられる。
このようなエステルとしては、具体的には以下のような
化合物が用いられる。
メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルア
クリレート、エチルメタアクリレート、ブチルアクリレ
ート、ブチルメタクリレート;シクロへキシルアクリレ
ート、ノルボニルアクリレート、ジシクロペンタニルア
クリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、イソボ
ロニルアクリレート、シクロへキシルメタアクリレート
、下記に示すヘキサシクロ[6,6,1 2,7,09°141へ1タデシル−4−10,13 アクリレート 3.8  10.13 12−メチルへキサシクロ[6,6,1,1,12,7
9,14 ,0、O]]ヘプタデシルー4−アクリレート3.6 
10.13 11−メチルへキサシクロ[6,6,1,1,12,7
9,14 0,0]]ヘプタデシルー4−アクリレート3.6 1
0.13 12−エチルへキサシクロ[6,6,1,1,12,7
9,14 、O、O]]ヘプタデシルー4−アクリレート3.6 
10.13 11−エチルへキサシクロ[6,6,1,1,12,7
9,14 、O、O]]ヘプタデシルー4−アクリレート2.9 
4.7 下記に示すオクタシクロ[8,8,1,111,181
3,163,812,171,1、O,0,0] ]ト
コシルー 5−アクリレー ト5−メチルオクタシクロ[8,812”  1’°7
11.18  13.16    3.8  12.1
71   .1    、O,O、O]]ドアシルー5
−アクリレート 2.5 7.10 2.7−ジメチルテトラシクロ[4,4,0,1,1]
]ドデシルー3−アクリレート 2.10− シメ+ルテトラシクo [4,4012°
517゛1°]ドデシル−3−アクリレート、11.1
2−ジメチルテトラシクロ[4,4,0,12°5.1
7°10] ドデシル−3−アクリレート、2.5  
7.10 下記に示すテトラシクロ[4,4,0,i   、1]
ドデシル−3−アクリレート 2.5  7.10 9−11換テトラシクロ[4,4,0,1,1]]ドデ
シルー3−アクリレート式中9位の置換基はメチル、エ
チル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ステアリル、ブロモ、フルオロ)、8−1換テトラ
シクロ[4,4,0,12”’ 、17−’°コドデシ
ルー3−アクリレート(式中8位の置換基はメチル、エ
チル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ステアリル、ブロモまたはフルオロである) 、8
.9−ジ置換テトラジクロロ4□2.5 7.10 4.0,1  .1   ]]ドデシルー3−アクリレ
ート式中8位、9位の置換基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ステアリ
ル、ブロモまたはフルオロである)、3.6 10.1
3 2.7 ヘキサシクロ[6,6,1,1,1,0,09°14コ
ヘプタデシル−4−メタクリレート、3゜6  10.
13 12−メチルへキサシフO[6,6,1,1,12,7
9,14 0,01へ1タデシル−4−メタクリレート、3.6 
10.13 11−メチルへキサシクロ[6,6,1,,1,12,
79,14 0,0]]ヘプタデシルー4−メタクリレート3.6 
10.13 12−エチルへキサシクロ[6,6,1,1,12,7
9,14 、O、Q  、]へ]ゲタデシルー4−メタクリレート
3.6 10.13 11−エチルへキサシクロ[6,6,1,1、,12,
79,14 、O、O]]ヘプタデシルー4−メタクリレート2.9
 4,7 11.18 13.16オクタシクロ[8,
8,1,1,1,13,812,17 0,00]]トコシルー5−メタクリレート2.9  
4.7 15−メチルオクタシクロ[8,8,1,111,18
13,163,812,171,1、O,O、O] ]
トコシルー 5−メタクリレート 2.5 7.10 2.7−ジメチルテトラシクロ[4,4,0,1,1]
]ドデシルー3−メタクリレート 2.5 7.10 2.10−ジメチルテトラシクロ[4,4,0,1,1
]]ドデシルー3−メタクリレート 2.5 7.10 11.12−ジメチルテトラシクロ[4,4,0,1,
1]]ドデシルー3−メタクリレート 2.5 7.10 テトラシクロ[4,4,0,1,1]]ドデシルー3−
メタクリレート 2.5 7.101 9−置換テトラシクロ[4,4,0,1,1、ドデシル
−3−アクリレート(式中9位の置換基はメチル、エチ
ル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘキシル
、ステアリル、ブロモまたはフルオロである)、 2.5 7.10 8−置換テトラシクロ[4,4,0,1,1]]ドデシ
ルー3−メタクリレート式中8位の置換基はメチル、エ
チル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ステアリル、ブロモまたはフルオロである)および
8,9−ジ置換テトラシクロ[4,40,12°5.1
7°1°コドデシル−3−メタクリレート(式中8位、
9位の置換基はメチル、エチル、プロピル、イソブチル
、ヘキシル、シクロヘキシル、ステアリル、ブロモまた
はフルオロである)、下記式(I) A(M −N−)−ili−M −A     ・・・
(I)(式中、Aはアクリル酸残基であり、Mは二価の
脂肪族または#3環式アルコール残基であり、Nは二塩
基酸の残基であり、そしてnは正の数である)で表わさ
れる両末端をアクリル酸で封鎖したポリエステル、 下記式(II) A      A A−(−X −Y+−7−X −A    ・・・(I
I)(式中、Aの定義は上記に同じであり、Xは三価以
上の多価の脂肪族または脂環族のアルコール残基であり
、Nは二価以上の多塩基酸であり、そしてmは正の数で
ある)で表わされる両末端および鎖中の水酸基をアクリ
ル酸で封鎖したポリエステル。
これらのアクリレートまたはメタアクリレートのうちの
一部の化合物は、特開昭61−136529号公報に開
示されている。
またこれらのアクリレートまたはメタアクリレートはさ
らに、それ自体公知の方法に従って予備重合して製造さ
れたオリゴマーとして用いることもできる。
上記のような成分(C)のうち、被膜に含有される(C
)成分としては、アクリル酸またはメタアクリル酸のア
ルキルエステル、上記式(I>の化合物および上記式(
n)で示される化合物の混合物が好ましい、さらには、
前述したアクリレートおよびメタクリレートのアルキル
エステル部位に、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基
を有するモノマーあるいはこれらのオリゴマーを付加し
て得られる化合物が好ましい、さらに、メタクリロキシ
エチルホスフェート、ビスメタクリロキシエチルホスフ
ェート、ジフェニル−2−(メタ)アクリロイロキシエ
チルホスフェートのようなリン酸塩含有(メタ)アクリ
レートを付加することも被膜と記録層との密着性を高め
る上で好ましい。
被膜に含有される有機過酸化物(D>としては、たとえ
ばベンゾイルペルオキシド、ジクロルベンゾイルペルオ
キシド、クメンハイドロペルオキシド、ジクミルペルオ
キシド、ジーtert−ブチルペルオキシド、2.5−
ジメチル−2,5−ジ(ペルオキシドベンゾエート)ヘ
キシン−3,1□4−ビス(tert−ブチルペルオキ
シイソプロピル)ベンゼン、ラウロイルペルオキシド、
te酎−ブチルベルアセテート、25−ジメチル−2,
5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3,
2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペル
オキシ)ヘキサン、tert−ブチルベルベンゾエート
、tert−ブチルベルフェニルアセテート、tert
−ブチルベルイソブチレート、tert−ブチルベルー
5eC−オクトエート、tert−ブチルベルビバレー
ト、クミルベルビバレート、tert−ブチルベルジエ
チルアセテートなどが用いられる。
これらのうちでは、ジクミルペルオキシド、ジーter
t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−
ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3,2,
5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキ
シ)ヘキサン、1,4−ビス(tert−ブチルペルオ
キシイソプロピル)ベンゼンなどのジアルキルペルオキ
シドが好ましい。
本発明で被膜として用いられる組成物では、(B)成分
は(A)成分100重量部に対して1〜10重量部好ま
しくは2〜5重量部の量で用いられ、(C)成分は(A
)成分100重量部に対して1〜35重量部好ましくは
20〜30重量部の量で用いられ、<D)成分は(A)
成分100重量部に対して1〜10重1部好ましくは2
〜5重1部の1で用いられる。
本発明に係る光記録媒体において、被膜として用いられ
る組成物は、必ずしも光重合開始助剤を含む必要はない
が、被膜を硬化させる際に紫外線などの比較的低エネル
ギーの活性エネルギー光線を用いる場合には、組成物は
光重合開始助剤を含むことが好ましい、このような光重
合開始助剤としては、紫外線などが照射されると分解し
てラジカルを発生する分解型化合物あるいは水素を引き
抜かれてラジカルを発生する水素引抜き型化合物などの
ような公知の種々の共重合開始助剤を用いることができ
る。このような光重合開始助剤としては、具体的には、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインインプロピルエーテル、ベン
ゾインブチルエーテルなどのベンゾインまたはそのエー
テル;ベンゾフェノン、p−タロルベンゾフエノン、p
−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合
物;ベンジル、ベンジルジメチルケタールなどのベンジ
ル系化合物; 1−(4−イソプロピルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパノン、1−フェ
ニル−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパノン、
1−(4−tert−ブチルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−プロパンなどのヒドロキシアルキ
ルフェニルケトン系化合物などが用いられる。
また被膜として用いられる組成物には、必要に応じて、
増感剤を含有させることができる。
このような増感剤としては、具体的には、アントラセン
、ナフタレン、クリセン、フエナン)・レンなどの炭化
水素系化合物;p−ジニトロベンゼン、p−ニトロアニ
リン、1,3.5−トリニトロベンゼン、p−ニトロジ
フェニルなどのニトロ化合物;ロープチルアミン、ジ−
n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノ
エチルメタクリレート、ρ−二ヒトロアニリンドアセチ
ル−4−二トロー1−ナフチルアミンなどのアミノ化合
物;フェノール、p−二トロフェノール、2.4−ジニ
トロフェノール、2,4゜6−ドリニトロフエノールな
どのフェノール化合物:ベンズアルデヒド、9−アント
ラアルデヒド、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ジベ
ンザルアセトン、ベンジル、p、 p’−ジアミノベン
ゾフェノン、p、p’−テトラメチルジアミノベンゾフ
ェノンなどのケトン類;アントラキノン、1,2−ベン
ゾアントラキノン、ベンゾキノン、1.2−ナフトキノ
ン、1.4−ナフトキノンなどのキノン類;アントロン
、1.9−ベンゾアントロン、6−フェニル−1,9−
ベンゾアントロン、3−フェニル−19−ベンゾアント
ロン、2−ケト−3−アザ−1,9−ベンゾアントロン
、3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンゾアント
ロンなどのアントロン類などが用いられる。
また被膜として用いられる組成物に、必要に応じて溶媒
を加えることもできる。
このように該組成物に溶媒を加えることにより、基層上
に該組成物を容易に塗布することができる。
該組成物に加える溶媒としては、有機ケトン系溶媒が好
ましく、特にアセトン、メチルエチルゲトン、メチルイ
ソブチルケトン、ジイソブチルゲトンが好ましい、この
ような溶媒は、通常、該組成物中に5〜95重量%、好
ましくは20〜70重景%の量で用いられる。
さらに反応性希釈剤、増感剤、増粘剤、ダレ防止剤、保
存安定剤、可塑剤等通常の接着剤に配合され得る成分を
配合することができる。
上記した組成物を硬化させてなる被膜は、記録層上に設
けられるが、このような被膜を記録層上に設けるには、
次のようにすればよい、すなわち、まず、刷毛塗り法、
スプレー法、浸漬法、バーコード法、ロールコータ−法
、スピンコーター法などの方法を用いて記録層上に上記
した組成物からなる塗膜を設け、次いで該塗膜を、自然
乾燥法、キャリアガスによる強制乾燥法、赤外線炉、遠
赤外線炉あるいは熱風炉を用いた加熱乾燥法などを用い
て乾燥させればよい、このような乾燥被膜をさらに硬化
させるには、たとえば、紫外線などの光線を該被膜に照
射するか、あるいは該被膜を加熱すればよい。
本発明に係る光記録媒体の記録層としては、光磁気記録
型記録層、相変化型光記録層、ビット形成型光記録層な
どが用いられる。
光磁気記録型記録層としては、たとえば、非晶質膜の膜
面と垂直な方向に磁化容易軸を有し、方向に全面磁化さ
れている膜面に、レーザー光を照射し、記録層の一部に
この全面磁化方向とは逆向きの小さな反転磁区を形成し
、この反転磁区の配列に対応して光学的に情報を記録す
る方式の記録層がある。
このように記録された情報を読み出すには、磁気的なフ
ァラデー効果あるいはカー効果を利用する。
このような光磁気記録層としては、鉄、コバルトなどの
遷移金属と、テルビウム(Tb)、ガドリウム(Gd)
などの希土類元素との合金非晶質薄膜などを用いること
ができる。
相変化型の記録層としては、たとえば、結晶質薄膜の一
部に、記録すべき情報に対応させてレーザー光を照射し
て非晶質化部を形成し、この非晶質化部の配列に対応[
7て光学的に情報を記録する方式の記録層がある。この
ような相変化型記録層としては、ゲルマニウム、インジ
ウム、すす、鉛などのような金属のうち1〜27mの金
属をテルル低酸化物に加えてなる結晶質薄膜などを用い
ることができる。
このような記録層と被膜との間には、必要に応じてさら
に、金!I膜などからなる反射層が形成されていてもよ
いし、誘電体からなるエンハンス層などが形成されてい
てもよい、なお、このエンハンス層は、基体と記録層と
の間に形成されていてもよい。
これらの記録層は、従来公知の方法で基体上に設けるこ
とができる。
本発明に係る光記録媒体の基体には、ポリカーボネート
系重合体、エチレン・環状オレフィン共重合体あるいは
4−メチル−1−ペンテンを主成分とするオレフィン共
重合体などが好ましく用いられる。
エチレン・環状オレフィン共重合体としては、下記式(
3)で示されるモノマー成分とエチレンとの共重合体で
あって、該モノマー成分が重合体中で下記式(1)で示
される横道をとるものを挙げることができる。
R7、R8 に独立に、 、R、R、RおよびR12は、互 水素原子、ハロゲン原子または炭素数 1〜20のアルキル基であり、R9またはR10とRま
たはR12は、さらに、互に結合して3〜6員環を形成
していてもよく、nは正の整数であり、nが2以上の場
合には、複数のR5、R6、R7およびR8は同一でも
異なっていてもよい、)基体としてこのような、耐熱性
、耐熱老化性、劇薬品性、耐溶剤性、誘電特性、剛性、
透明性、耐8R撃性および成形性にも優れたエチレン・
環状オレフィン系ランダム共重合体を用い、また、被膜
として前記したような組成物の硬化体を用いることによ
り、光記録媒体全体としても、l!!1fii!的強度
、透明性などの特性を向上させることができる。
このような、エチレン・環状オレフィン共重合体は、エ
チレン単位40〜90モル%と上記式(1)の単位60
〜10モル%とからなっていることが好ましい。
本発明に係る光記録媒体において、各層の膜厚は、通常
、被膜では5〜30μm、記録層では20人〜5μmで
あり、基体層では1.1〜1.3閤である。
基体は、本発明に係る光記録媒体の用途に応じて、通常
、それ自体公知の溶融成形法によって、ディスク、テー
プ、ベルト、ドラムなど種々の形状とすることができる
この場合、本発明に係る光記録媒体は、このような基体
の一面上に上記の記録層を設けた構造であってもよく、
その両面に記録層を設けた構造であってもよい、いずれ
にしても、記録層上にはさらに上記のような被膜が設け
られる。
1肌ム夏1 本発明に係る第1の光記録媒体は、基体と、該基体上に
設けられた記録層と、該記録層上に設けられた被膜とか
らなり、前記被膜として、(A)エポキシ樹脂、 (B)スルホニウム塩およびシクロペンタジェニル鉄化
合物よりなる群から選ばれる化合物、 <C)アクリレート、メタアクリレートおよびそれらの
オリゴマーよりなる群から還ばれる化合物、 および (D>有機過酸化物、 を含有する組成物の硬化物が用いられているので、本発
明に係る光記録媒体では、被膜と記録層との密着性が良
好であり、かつ被膜は耐湿性、耐水性に優れ、かつ短時
間で硬化させることができ、製造ラインを高速運転する
ことができる。
[実施例] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例における評価は、次の方法で行なっ
た。
[初期密着性試験] JIS  K  5400−1979中のゴバン目試験
に準じて、記録層と被膜との密着性を試験した。100
個のゴバン目中の何個が記録層に接着していたかを調べ
ることにより、被膜の密着性を判定した。
[耐水、耐湿性を確めるための密着性試@]温度を85
°Cとし、湿度を85%とした恒温槽の中に168時間
光記録媒体を入れた後、上記の方法で、記録層と被膜と
の密着性を試験した。
去j自辻1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EPO)41にP−
140、三井石油化学工業■製)とアクリルエステルモ
ノマー(東亜合成化学■品、M−5700)とアクリル
オリゴマー〈東亜合成化学■品、H−6100、H−6
300、M−8030)とを、エポキシ樹脂: M−5
700:M−6100: H−6300: H−803
0の重量比が80:7二5:3:5となる割合で混合し
た。得られた混合物に、シクロペンタジェニルイソプロ
ピルフェニル鉄(II)塩、アントラセンおよびシクロ
へキシルハイドロパーオキサイドを、この順で100/
210.25/2.5の重量比で混合し、組成物を得た
得られた組成物30重量部に対し、メチルイソブチルケ
トン90重量部を加え、さらにBYK−344tHal
linckrodt製)0.15重1部を添加して被覆
液とした。次に、光デイスク基体上に、Si3N4膜7
00人、Tb Fe Co 1lI300A、Ti膜7
00人の順序で、それぞれ積層してなるなった後に、1
00℃の熱風炉で1a分間この光記録媒体の塗膜を乾燥
し、次いで紫外線照射< 160 mW/ csi、1
5秒)し、硬化被膜を有する光記録媒体を得な、この被
膜に、前記したような密着性試験並びに耐水、耐湿性を
確めるための密着性試験を行なった。
結果を第1表に示す。
なお、上記基体には、下記のように製造されたZポリマ
ーを用いた。
くエチレンと多環状オレフィンとの 共重合体(2ポリマー)の合成〉 撹拌翼を備えた21ガラス製重合器を用いて、連続的に
、エチレンと多環状オレフィン1,4,5.8−ジメタ
ノ−1,2,3,4,4a、5,8,8a−オクタヒド
ロナフと略す)の共重合反応を行った。すなわち、重合
器上部から、DMONのシクロヘキサン溶液、vO(O
C2H5)C12のシクロヘキサン溶液(触媒)、およ
びエチルアルミニウムセスキクロリド(AI(CH) 
  CI   >のシクロ2 5 1.5  1.5 ヘキサン溶液(触媒)を、重合器中に連続的に供給した
。それぞれの添加量は、重合器内でのDMON濃度60
./j、重合器内でのバナジウム濃度0 、9 mIo
l/jI 、および重合器内でのアルミニウム濃度が7
.211110し]となるような量とした。一方、重合
器下部から、重合器内の重合液が常に1jになるように
連続的に抜き出した。ま乏 た、重合器上部から、エチレンを毎時8y水素を毎時6
j、窒素を毎時45jの速度で供給した。
共重合反応は、重合器外部にとりつけられたジャケット
に冷媒を循環させることにより10℃で行った。
上記条件で共重合反応を行うと、エチレン多環状オレフ
ィン(エチレン・DMON)共重合体を含む重合反応混
合物が得られた。11!合器下部から抜き出した重合液
に、イソプロピルアルコールを少量添加して重合反応を
停止させた。この後重合液に対して約3倍量のアセトン
が入れである家庭用ミキサー中に、ミキサーを回転させ
ながら重合液を投入し、生成共重合体を析出させた。析
出させた共重合体は沢過により採取し、ポリマー濃度が
約50g/jになるようにアセトン中に分肢させ、アセ
トンの沸点で約2時間共重合体を処理した。上記記載の
処理後、濾過により共重合体を採取し、120°Cで一
昼夜減圧乾燥した。
以上のようにして得られたエチレン・DMONランダム
共重合体(エチレン多環状オレフィン共重合体、Zポリ
マー)の13C−N M R分析で測定した共重合体中
のエチレン組成は59+go1%、135°Cデカリン
中で測定した極限粘度[η]は0.42dJl/l、ガ
ラス転移温度は136℃であった。
上記Zポリマーから常法に従って厚さ1.2噛、直径1
30omの光デイスク用基体を製造し、その上に前記記
録層を設けた。
K立■ユ 実施例1において、シクロペンタジェニルイソプロビル
フェニル鉄(n)塩のかわりにトリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート例1と同様に光記録媒体の記
録層に被覆液を塗布して塗膜を設け、この塗膜を硬化さ
せた後、実施例1と同様の試験を行なった。
結果を第1表に示す。
え獲■ユ 実施例1の組成物100重量部に対し、2−アクリロイ
ルオキシエチルフタル酸5重1部を添加した。その後、
実施例1と同様に光記録媒体の記録層に該被覆液を塗布
し、塗膜を設け、この塗膜を硬化させた後、実施例1と
同様の測定を行なった。
結果を第1表に示す。
1上1 第1表に示すように、本実施例によれば、記録層に被着
された被膜は硬化初期接着性および耐水・耐温性に優れ
ることが確認された。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)基体と、該基体上に設けられた記録層と、該記録層
    上に設けられた被膜とからなる光記録媒体において、前
    記被膜が、下記成分(A)〜(D)を含有する組成物の
    硬化物であることを特徴とする光記録媒体; (A)エポキシ樹脂 (B)スルホニウム塩およびシクロペンタジエニル鉄化
    合物よりなる群から選ばれる化合物 (C)アクリレート、メタアクリレートおよびそれらの
    オリゴマーよりなる群から選ばれる化合物および (D)有機過酸化物。 2)基体が下記式(1); ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R
    ^6、R^7、R^8、R^9、R^1^0、R^1^
    1およびR^1^2は、互に独立に、水素原子、ハロゲ
    ン原子または炭素数1〜20のアルキル基であり、R^
    9またはR^1^0とR^1^1またはR^1^2は、
    さらに、互に結合して3〜6員環を形成していてもよく
    、nは正の整数であり、nが2以上の場合には、複数の
    R^5、R^6、R^7およびR^8は同一でも異なっ
    ていてもよい。)で表わされる重合単位および下記式(
    2);−CH_2CH_2−・・・(2) で表わされる重合単位とから実質的になるエチレン・環
    状オレフィン共重合体よりなることを特徴とする請求項
    第1項に記載の光記録媒体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275621A (ja) * 1988-09-13 1990-03-15 Asahi Denka Kogyo Kk 樹脂の光学的造形方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0275621A (ja) * 1988-09-13 1990-03-15 Asahi Denka Kogyo Kk 樹脂の光学的造形方法

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