JPH02125968U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02125968U JPH02125968U JP3528489U JP3528489U JPH02125968U JP H02125968 U JPH02125968 U JP H02125968U JP 3528489 U JP3528489 U JP 3528489U JP 3528489 U JP3528489 U JP 3528489U JP H02125968 U JPH02125968 U JP H02125968U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rotary support
- rotation
- support shafts
- vapor deposition
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 3
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
図面は本考案の実施例を示し、第１図は基板反
転機構の全体構成を示す一部断面にした正面図、
第２図は同機構を一部省略して示す平面図、第３
図は回転支軸の連結部分の構造を示す断面図、第
４図は回転力付与手段の正面図、第５図は他の実
施例における第２図と同様の図である。 １……真空槽、２……基板、４……蒸発源、６
ａ〜６ｃ，４２ａ〜４２ｃ……回転支軸、７……
回転治具、２６〜２９，４６……軸受部材、３３
……自在継手、３４，４９……回転力付与手段。
転機構の全体構成を示す一部断面にした正面図、
第２図は同機構を一部省略して示す平面図、第３
図は回転支軸の連結部分の構造を示す断面図、第
４図は回転力付与手段の正面図、第５図は他の実
施例における第２図と同様の図である。 １……真空槽、２……基板、４……蒸発源、６
ａ〜６ｃ，４２ａ〜４２ｃ……回転支軸、７……
回転治具、２６〜２９，４６……軸受部材、３３
……自在継手、３４，４９……回転力付与手段。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 基板への蒸着を行なう真空槽内において、蒸発
源を通る中心線まわりを回転可能な回転治具に、
基板を保持する複数の基板ホルダーをその表側及
び裏側からの基板への蒸着のために反転可能に支
持する機構であつて、 上記複数の基板ホルダーは上記回転治具の放射
方向と周方向とのそれぞれに間隔をおいて配置さ
れていて、 上記回転治具の放射方向もしくは周方向に沿つ
て延び、各基板ホルダーをそれぞれ支持して回転
する回転支軸と、 上記各回転支軸を回転治具に回転自在に支持す
る軸受部材と、 上記回転支軸の延設方向に隣り合わせた回転支
軸同士を連結する自在継手と、 上記自在継手にて連結された一連の回転支軸に
回転力を付与する回転力付与手段と、 を備えていることを特徴とする蒸着装置の基板
反転機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3528489U JPH0726361Y2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 蒸着装置の基板反転機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3528489U JPH0726361Y2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 蒸着装置の基板反転機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02125968U true JPH02125968U (ja) | 1990-10-17 |
| JPH0726361Y2 JPH0726361Y2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=31540500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3528489U Expired - Lifetime JPH0726361Y2 (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 蒸着装置の基板反転機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0726361Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006058473A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Oyokoden Lab Co Ltd | 誘電体多層膜フィルタ及びその製造方法 |
| CN115216738A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-10-21 | 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 | 一种可旋转镀环的镀锅机构及蒸镀机 |
-
1989
- 1989-03-27 JP JP3528489U patent/JPH0726361Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006058473A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Oyokoden Lab Co Ltd | 誘電体多層膜フィルタ及びその製造方法 |
| CN115216738A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-10-21 | 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 | 一种可旋转镀环的镀锅机构及蒸镀机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0726361Y2 (ja) | 1995-06-14 |