JPS63182536U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63182536U JPS63182536U JP7480287U JP7480287U JPS63182536U JP S63182536 U JPS63182536 U JP S63182536U JP 7480287 U JP7480287 U JP 7480287U JP 7480287 U JP7480287 U JP 7480287U JP S63182536 U JPS63182536 U JP S63182536U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rotation device
- holders
- adjacent
- rotate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、この考案の実施例を示す説明図、第
２図はその要部の破断斜視図、第３図は、この考
案の他の実施例を示す回転時の説明図、第４図は
、従来例の説明図である。 １〜４……基板ホルダー、１ａ〜４ａ……軸線
、５……回転板、６，７……歯車、８〜１１……
基板、２１〜２６……基板ホルダー、２７〜３２
……基板。
２図はその要部の破断斜視図、第３図は、この考
案の他の実施例を示す回転時の説明図、第４図は
、従来例の説明図である。 １〜４……基板ホルダー、１ａ〜４ａ……軸線
、５……回転板、６，７……歯車、８〜１１……
基板、２１〜２６……基板ホルダー、２７〜３２
……基板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 軸線を中心として回転する複数の基板ホル
ダーが互いに隣接して設けられ、各基板ホルダー
上に方形の基板を載置する基板回転装置において
、前記複数の基板ホルダーはいずれも等速回転で
、かつ隣接する基板ホルダーは互いに逆向きに回
転するように構成されたことを特徴とする基板回
転装置。 (2) 前記方形の基板は、互いに隣接するものの
うち一方が他方に対してほぼ４５°回転させた位
置関係となるように、前記基板ホルダー上に載置
されたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲
第(1)項記載の基板回転装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7480287U JPH0526755Y2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7480287U JPH0526755Y2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63182536U true JPS63182536U (ja) | 1988-11-24 |
| JPH0526755Y2 JPH0526755Y2 (ja) | 1993-07-07 |
Family
ID=30920358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7480287U Expired - Lifetime JPH0526755Y2 (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0526755Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012224878A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Nissan Motor Co Ltd | 蒸着装置用ワーク移動機構とこれを用いた蒸着方法 |
| JP2019196513A (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 株式会社アルバック | 成膜装置 |
| JP2020176326A (ja) * | 2019-04-22 | 2020-10-29 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 真空蒸着装置及び蒸着膜の製造方法 |
-
1987
- 1987-05-19 JP JP7480287U patent/JPH0526755Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012224878A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Nissan Motor Co Ltd | 蒸着装置用ワーク移動機構とこれを用いた蒸着方法 |
| JP2019196513A (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 株式会社アルバック | 成膜装置 |
| JP2020176326A (ja) * | 2019-04-22 | 2020-10-29 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 真空蒸着装置及び蒸着膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0526755Y2 (ja) | 1993-07-07 |
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