JPH02124769A - 炭化珪素と共に充填された硬化性オルガノポリシロキサン及びそれからのひじょうに強化された焼結体 - Google Patents
炭化珪素と共に充填された硬化性オルガノポリシロキサン及びそれからのひじょうに強化された焼結体Info
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
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- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
- C04B35/571—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、炭化珪素粉末、ある金属含有焼結助剤、及び
オルガノポリシロキサン硬化剤と共に充填されるある硬
化性オルガノポリシロキサンの高温分解によるひじょう
に強化されたセラミック体の調製に関する。そのような
、ひじように強化されセラミック体は、非圧力性焼結方
法又は熱圧焼結方法のいづれかにより調製され得る。本
発明はまた、実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤
、オルガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミックオ
ルガノポリシロキサンから成る物質の新規組成物にも関
する。これらの物質の組成物は、所望する形状に形成さ
れ、そして次に高密度のセラミック形状体を形成するた
めに焼結され得る。本発明の1つの利点は、未処理体が
比較的高い強度を有しそして従って容易に取扱いされ、
そして所望により、焼結の前、機械加工され得ることで
ある。
オルガノポリシロキサン硬化剤と共に充填されるある硬
化性オルガノポリシロキサンの高温分解によるひじょう
に強化されたセラミック体の調製に関する。そのような
、ひじように強化されセラミック体は、非圧力性焼結方
法又は熱圧焼結方法のいづれかにより調製され得る。本
発明はまた、実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤
、オルガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミックオ
ルガノポリシロキサンから成る物質の新規組成物にも関
する。これらの物質の組成物は、所望する形状に形成さ
れ、そして次に高密度のセラミック形状体を形成するた
めに焼結され得る。本発明の1つの利点は、未処理体が
比較的高い強度を有しそして従って容易に取扱いされ、
そして所望により、焼結の前、機械加工され得ることで
ある。
その形状体の未処理強度は、焼結の前、その形成体を硬
化することによってさらに強められ得る。
化することによってさらに強められ得る。
本発明は、結合剤として硬化性オルガノポリシロキサン
を用いての非圧力性焼結方法により高密度セラミック生
成物を提供する。一般的に、高密度セラミック材料は、
高い強度を有するであろう。
を用いての非圧力性焼結方法により高密度セラミック生
成物を提供する。一般的に、高密度セラミック材料は、
高い強度を有するであろう。
本発明は、炭化珪素の焼結体を調製するための方法に関
し、前記方法は、(a)(i )実質的に炭化珪素粉末
、金属含有焼結助剤、オルガノポリシロキサン硬化剤及
びプレセラミックオルガノポリシロキサンから成る均質
混合物を調製し、ここで前記金属含有焼結助剤は、炭化
珪素粉末の重量に基づいて金属0.1〜3,0重量%で
存在し、前記オルガノポリシロキサン硬化剤は硬化する
のに有効な量存在し、そして前記プレセラミックオルガ
ノポリシロキサンは、前記混合物の遊離炭素値が炭化珪
素粉末及びプレセラミックオルガノポリシロキサンに由
来する炭化物の合計重量に基づいて032重量%以上で
あるようなレベルで存在し、そして (ii )次に、取扱いできる未処理体を得るために、
前記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下で所望
する形状に形成することにより取扱いできる未処理体を
調製し;そして (b) 2.4 g/c+1以上の密度を有する炭化珪
素の焼結体を得るために、前記取扱いできる未処理体を
1900℃以上の温度で不活性雰囲気下で焼結すること
を含んで成る。
し、前記方法は、(a)(i )実質的に炭化珪素粉末
、金属含有焼結助剤、オルガノポリシロキサン硬化剤及
びプレセラミックオルガノポリシロキサンから成る均質
混合物を調製し、ここで前記金属含有焼結助剤は、炭化
珪素粉末の重量に基づいて金属0.1〜3,0重量%で
存在し、前記オルガノポリシロキサン硬化剤は硬化する
のに有効な量存在し、そして前記プレセラミックオルガ
ノポリシロキサンは、前記混合物の遊離炭素値が炭化珪
素粉末及びプレセラミックオルガノポリシロキサンに由
来する炭化物の合計重量に基づいて032重量%以上で
あるようなレベルで存在し、そして (ii )次に、取扱いできる未処理体を得るために、
前記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下で所望
する形状に形成することにより取扱いできる未処理体を
調製し;そして (b) 2.4 g/c+1以上の密度を有する炭化珪
素の焼結体を得るために、前記取扱いできる未処理体を
1900℃以上の温度で不活性雰囲気下で焼結すること
を含んで成る。
本発明はまた、取扱いできる未処理体を形成するための
方法にも関し、前記方法とは、(a)実質的に炭化珪素
粉末、金属含有焼結助剤、オルガノポリシロキサン硬化
剤及びプレセラミックオルガノポリシロキサンから成る
均質混合物を調製し、ここで前記金属含有焼結助剤は、
炭化珪素粉末の重量に基づいて金属0.1〜3.0重量
%で存在し、前記オルガノポリシロキサン硬化剤は硬化
するのに有効な量存在し、そして前記プレセラミックオ
ルガノポリシロキサンは、前記混合物の遊離炭素値が炭
化珪素粉末及びブレセラミ・ンクオルガノボリシロキサ
ンに由来する炭化物の合計重量に基づいて0.2重量%
以上であるようなレベルで存在し、そして (b)前記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下
で所望する形状に形成することを含んで成る。
方法にも関し、前記方法とは、(a)実質的に炭化珪素
粉末、金属含有焼結助剤、オルガノポリシロキサン硬化
剤及びプレセラミックオルガノポリシロキサンから成る
均質混合物を調製し、ここで前記金属含有焼結助剤は、
炭化珪素粉末の重量に基づいて金属0.1〜3.0重量
%で存在し、前記オルガノポリシロキサン硬化剤は硬化
するのに有効な量存在し、そして前記プレセラミックオ
ルガノポリシロキサンは、前記混合物の遊離炭素値が炭
化珪素粉末及びブレセラミ・ンクオルガノボリシロキサ
ンに由来する炭化物の合計重量に基づいて0.2重量%
以上であるようなレベルで存在し、そして (b)前記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下
で所望する形状に形成することを含んで成る。
本発明はさらに、実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結
助剤、オルガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミッ
クオルガノポリシロキサンから成る均質混合物にも関し
、ここで前記金属含有焼結助剤、炭化珪素粉末の重量に
基づいて金属0.1〜3.0重量%で存在し、前記オル
ガノポリシロキサン硬化剤は硬化するのに有効な量存在
し、そして前記プレセラミックオルガノポリシロキサン
は、前記混合物の遊離炭素値が炭化珪素粉末及びプレセ
ラミックオルガノポリシロキサンに由来する炭化物の合
計重量に基づいて0.2重量%以上であるようなレベル
で存在する。
助剤、オルガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミッ
クオルガノポリシロキサンから成る均質混合物にも関し
、ここで前記金属含有焼結助剤、炭化珪素粉末の重量に
基づいて金属0.1〜3.0重量%で存在し、前記オル
ガノポリシロキサン硬化剤は硬化するのに有効な量存在
し、そして前記プレセラミックオルガノポリシロキサン
は、前記混合物の遊離炭素値が炭化珪素粉末及びプレセ
ラミックオルガノポリシロキサンに由来する炭化物の合
計重量に基づいて0.2重量%以上であるようなレベル
で存在する。
この出願は、同じ発明者により及び本出願と同じ日に出
願された同時係属出願(1988年9月26日に出願さ
れたアメリカ特許出願第249,036号)“炭化珪素
粉末と共に充填されたオルガノポリシロキサンからのひ
じょうに強化された物体゛°にひじょうに関係する。こ
の同時係属出願は、硬化剤を使用しないでの、炭化珪素
と共に充填されたオルガノポリシロキサンを説明する。
願された同時係属出願(1988年9月26日に出願さ
れたアメリカ特許出願第249,036号)“炭化珪素
粉末と共に充填されたオルガノポリシロキサンからのひ
じょうに強化された物体゛°にひじょうに関係する。こ
の同時係属出願は、硬化剤を使用しないでの、炭化珪素
と共に充填されたオルガノポリシロキサンを説明する。
一般的に、この同時係属出願の方法により調製された未
処理体は、本発明の方法により調製された未処理体はど
強くない。
処理体は、本発明の方法により調製された未処理体はど
強くない。
本発明の実施により製造される焼結体は、理論的に約7
5%以上の密度(すなわち、約2.4 g /cl1以
上の密度)を存する。そのような高い強化体は、軽重型
超耐熱性セラミックとして有用である。炭化珪素理論的
密度は、3.21g/c+11である。
5%以上の密度(すなわち、約2.4 g /cl1以
上の密度)を存する。そのような高い強化体は、軽重型
超耐熱性セラミックとして有用である。炭化珪素理論的
密度は、3.21g/c+11である。
本発明の新規組成物は、炭化珪素粉末、金属含有焼結助
剤及びオルガノポリシロキサン硬化剤と共に充填された
オルガノポリシロキサンから実質的に成る。これらの新
規組成物は、取扱いできる未処理体を製造するために使
用され得る。“取扱いできる未処理体′”とは、焼結す
る前、取扱いされ又は機械加工されるのに十分な未処理
強度を有する未処理体を意味する。さらに、本発明の組
成物は、さらに強い未処理体を得るために、焼結の前、
硬化され得る。高い未処理強度は、本発明の1つの有意
な利点であり:高い未処理強度は、最終焼結又は高温分
解段階の前、その未処理体をさらに加工し、そして形状
化することを可能にする。
剤及びオルガノポリシロキサン硬化剤と共に充填された
オルガノポリシロキサンから実質的に成る。これらの新
規組成物は、取扱いできる未処理体を製造するために使
用され得る。“取扱いできる未処理体′”とは、焼結す
る前、取扱いされ又は機械加工されるのに十分な未処理
強度を有する未処理体を意味する。さらに、本発明の組
成物は、さらに強い未処理体を得るために、焼結の前、
硬化され得る。高い未処理強度は、本発明の1つの有意
な利点であり:高い未処理強度は、最終焼結又は高温分
解段階の前、その未処理体をさらに加工し、そして形状
化することを可能にする。
−FG的に、500psi又はそれ以上の未処理強度が
、本発明の実施において得られる。
、本発明の実施において得られる。
未処理体は、当業界で知られている従来の技法により形
成され得る。そのような方法は、加圧成形−軸プレス成
形、等プレス成形(isopressing)、押出、
トランスファー成形、射出成形及び同様のものを包含す
る。その形成された未処理体は、所望により機械加工す
ることによりさらに形状化され得る。形状化した後、そ
の未処理体は不活性雰囲気下で高温に加熱され、理論的
に約75%以上の密度を有するセラミック製品に転換さ
れる。セラミック製品の密度は、理論的に約85%(約
2.7g/ cffl )以上であることが好ましい。
成され得る。そのような方法は、加圧成形−軸プレス成
形、等プレス成形(isopressing)、押出、
トランスファー成形、射出成形及び同様のものを包含す
る。その形成された未処理体は、所望により機械加工す
ることによりさらに形状化され得る。形状化した後、そ
の未処理体は不活性雰囲気下で高温に加熱され、理論的
に約75%以上の密度を有するセラミック製品に転換さ
れる。セラミック製品の密度は、理論的に約85%(約
2.7g/ cffl )以上であることが好ましい。
より好ましくは、その密度は約2.9 g /c4 (
理論的に90%)以上であり;最っとも好ましくは、そ
の密度は約3.05g/ci(理論的に95%)以上で
ある。焼結段階は、非圧力焼結方法又は熱圧焼結方法の
いづれかを用いて行なわれ得る。本発明の組成物を用い
る場合、いづれの方法でも、高い密度のセラミック製品
を製造することができる。熱圧焼結方法は−a的に、高
い密度のセラミック製品を製造するであろう。従って、
最大密度が所望される場合、熱圧焼結方法が好ましい。
理論的に90%)以上であり;最っとも好ましくは、そ
の密度は約3.05g/ci(理論的に95%)以上で
ある。焼結段階は、非圧力焼結方法又は熱圧焼結方法の
いづれかを用いて行なわれ得る。本発明の組成物を用い
る場合、いづれの方法でも、高い密度のセラミック製品
を製造することができる。熱圧焼結方法は−a的に、高
い密度のセラミック製品を製造するであろう。従って、
最大密度が所望される場合、熱圧焼結方法が好ましい。
しかしながら、一般的に、非圧力焼結方法は、単純な操
作なので好ましい。焼結又は高温分解段階は、不活性雰
囲気、たとえば窒素又はアルゴン下で行なわれる。α−
3iC粒子の上昇は、窒素含有雰囲気下で焼結すること
によって減じられ得る。
作なので好ましい。焼結又は高温分解段階は、不活性雰
囲気、たとえば窒素又はアルゴン下で行なわれる。α−
3iC粒子の上昇は、窒素含有雰囲気下で焼結すること
によって減じられ得る。
最終セラミック製品への焼結段階は、一般的に約190
0℃又はそれ以上の温度で行なわれる。低い温度も使用
され得るが、しかしそのセラミック製品は所望する密度
を有さないであろう。好ましい焼結温度は約2000〜
2200℃であり、そして約2150℃が最っとも好ま
しい。
0℃又はそれ以上の温度で行なわれる。低い温度も使用
され得るが、しかしそのセラミック製品は所望する密度
を有さないであろう。好ましい焼結温度は約2000〜
2200℃であり、そして約2150℃が最っとも好ま
しい。
本発明において有用なオルガノポリシロキサンは、−C
的に当業界において良(知られている。
的に当業界において良(知られている。
そのオルガノポリシロキサンは、有意なセラミッり炭化
物収率のセラミック材料に転換され得る。
物収率のセラミック材料に転換され得る。
−i的に、そのセラミック炭化物の収率は、約20重量
%以上であるべきである。本来、セラミック炭化物の収
率が高い場合、はとんど収縮が存在しないであろう。従
って、好ましくは、約40重量%以上のセラミック炭化
物収率を有するオルガノボッシロキサンが、本発明の実
施において使用される。オルガノポリシロキサンはまた
、遊離炭素を含むセラミック炭化物も生せしめる。混合
物の規定を用いれば、セラミック炭化物は、存在すべき
遊離炭素のために約30重里%以上の合計炭素を含むべ
きである。約40重量%以上の合計炭素有するセラミッ
ク炭化物を生ぜしめるオルガノポリシロキサンが好まし
い。40重量%の炭素含有セラミック材料は、混合物の
規定に基づいて、約86重量%のSiC及び14重量%
の遊離炭素を含む。約50重量%以上の合計炭素を存す
るセラミック炭化物を生せしめるオルガノポリシロキサ
ンが最つとも好ましく、50重量%の炭素含をセラミッ
ク材料は、混合物の規定に基づいて、約72重量%のS
iC及び28重量%の遊離炭素を含む。セラミック炭化
物は、少なくとも10重量%の遊離炭素を含むことが一
般的に好ましい。最っとも好ましくは、セラミック炭化
物は、少なくとも25重量%の遊離炭素を含む。
%以上であるべきである。本来、セラミック炭化物の収
率が高い場合、はとんど収縮が存在しないであろう。従
って、好ましくは、約40重量%以上のセラミック炭化
物収率を有するオルガノボッシロキサンが、本発明の実
施において使用される。オルガノポリシロキサンはまた
、遊離炭素を含むセラミック炭化物も生せしめる。混合
物の規定を用いれば、セラミック炭化物は、存在すべき
遊離炭素のために約30重里%以上の合計炭素を含むべ
きである。約40重量%以上の合計炭素有するセラミッ
ク炭化物を生ぜしめるオルガノポリシロキサンが好まし
い。40重量%の炭素含有セラミック材料は、混合物の
規定に基づいて、約86重量%のSiC及び14重量%
の遊離炭素を含む。約50重量%以上の合計炭素を存す
るセラミック炭化物を生せしめるオルガノポリシロキサ
ンが最つとも好ましく、50重量%の炭素含をセラミッ
ク材料は、混合物の規定に基づいて、約72重量%のS
iC及び28重量%の遊離炭素を含む。セラミック炭化
物は、少なくとも10重量%の遊離炭素を含むことが一
般的に好ましい。最っとも好ましくは、セラミック炭化
物は、少なくとも25重量%の遊離炭素を含む。
オルガノポリシロキサンが十分な炭化物収率のセラミッ
ク炭化物に転換され、そしてその得られたセラミック炭
化物が十分な遊離炭素を含むかぎり、オルガノポリシロ
キサンの構造は臨界でない。
ク炭化物に転換され、そしてその得られたセラミック炭
化物が十分な遊離炭素を含むかぎり、オルガノポリシロ
キサンの構造は臨界でない。
オルガノポリシロキサンは、次の一般構造の単位を有す
る: (RISiOo、5] 、 (RzSiO
) 、 (R5iO+、s)及び[5iOz)
(ここで、個々のRは水素、1〜20個の炭素原子を含
むアルキル基、フェニル基及びビニル基から成る群から
独立して選択される]。
る: (RISiOo、5] 、 (RzSiO
) 、 (R5iO+、s)及び[5iOz)
(ここで、個々のRは水素、1〜20個の炭素原子を含
むアルキル基、フェニル基及びビニル基から成る群から
独立して選択される]。
一般的に、フェニル基を含むオルガノポリシロキサンは
、そのような基が十分な遊離炭素を有するセラミック炭
化物の形成を容易に可能にするものとして好ましい。ビ
ニル基を含むオルガノポリシロキサンもまた珪素に結合
されるビニル基が、オルガノポリシロキサンが焼結の前
、硬化され得る機構を付与するので好ましい。好ましい
オルガノポリシロキサンは、種々の量の(PhSiO+
、s) 。
、そのような基が十分な遊離炭素を有するセラミック炭
化物の形成を容易に可能にするものとして好ましい。ビ
ニル基を含むオルガノポリシロキサンもまた珪素に結合
されるビニル基が、オルガノポリシロキサンが焼結の前
、硬化され得る機構を付与するので好ましい。好ましい
オルガノポリシロキサンは、種々の量の(PhSiO+
、s) 。
(MeSiO+、 s)及び(PhViSiO)単位を
含む。特に好ましいオルガノポリシロキサンは、下記単
位の式: %式%) により説明され、ここで10〜90モル%の(PhSi
O+、 s)単位、0〜50モル%の〔門esiO+、
s)単位及び10〜90モル%の(PhViSiO)単
位が存在し;より好ましくは、20〜30モル%の(P
hSiO+、 s 3単位、30〜50モル%の(Me
SiOl、s)単位及び30〜50モル%の(PhVi
SiO)単位が存在する。本発明において有用なオルガ
ノポリシロキサンは、上記シロキサン単位の他に又はそ
の代わりに他のシロキサン単位を含むことができる。そ
のようなシロキサン単位の例は、(ViSiO+、s)
、 (PhMeSiO) 、 (MeflS
iO) 。
含む。特に好ましいオルガノポリシロキサンは、下記単
位の式: %式%) により説明され、ここで10〜90モル%の(PhSi
O+、 s)単位、0〜50モル%の〔門esiO+、
s)単位及び10〜90モル%の(PhViSiO)単
位が存在し;より好ましくは、20〜30モル%の(P
hSiO+、 s 3単位、30〜50モル%の(Me
SiOl、s)単位及び30〜50モル%の(PhVi
SiO)単位が存在する。本発明において有用なオルガ
ノポリシロキサンは、上記シロキサン単位の他に又はそ
の代わりに他のシロキサン単位を含むことができる。そ
のようなシロキサン単位の例は、(ViSiO+、s)
、 (PhMeSiO) 、 (MeflS
iO) 。
(MeViSiO) 、 (PhzSiO) 、
(MezSiO)(MetSiOo、、〕及び同様の
ものを包含する。オルガノポリシロキサンの混合物もま
た使用され得る。
(MezSiO)(MetSiOo、、〕及び同様の
ものを包含する。オルガノポリシロキサンの混合物もま
た使用され得る。
−C的に、Rがほとんど独占的にメチルであるオルガノ
ポリシロキサンは、得られるセラミック炭化物中に十分
な遊離炭素が存在しないので本発明に使用するためには
適切でない。
ポリシロキサンは、得られるセラミック炭化物中に十分
な遊離炭素が存在しないので本発明に使用するためには
適切でない。
本発明のオルガノポリシロキサンは、当業界において良
く知られた技法により調製され得る。オルガノポリシロ
キサンを調製するために使用される実際の方法は臨界で
はない。最っとも通常には、オルガノポリシロキサンは
オルガノクロロシランの加水分解により調製される。そ
のような方法及び他の方法は、No1l、 Cheii
str and Technol。
く知られた技法により調製され得る。オルガノポリシロ
キサンを調製するために使用される実際の方法は臨界で
はない。最っとも通常には、オルガノポリシロキサンは
オルガノクロロシランの加水分解により調製される。そ
のような方法及び他の方法は、No1l、 Cheii
str and Technol。
of 5ilicones、チャプター5(翻訳された
2d Ger。
2d Ger。
Ed、、Acadeffiic Press、1968
)に記載される。適切なオルガノポリシロキサンの調製
のための特定の方法は、本発明の明細書に含まれる例に
例示される。
)に記載される。適切なオルガノポリシロキサンの調製
のための特定の方法は、本発明の明細書に含まれる例に
例示される。
オルガノポリシロキサンの他に、本発明の組成物中の他
の成分は、炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤及びオルガ
ノポリシロキサン硬化剤である。
の成分は、炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤及びオルガ
ノポリシロキサン硬化剤である。
本発明において有用な炭化珪素粉末は市販されている。
α−5iC及びβ−3iC粉末の両者、並びにそれらの
混合物が使用され得る。一般的に、5ミクロン以下の平
均粒度を有するSiC粉末が好ましく;より好ましくは
、1ミクロン以下の平均粒度を有する粉末である。
混合物が使用され得る。一般的に、5ミクロン以下の平
均粒度を有するSiC粉末が好ましく;より好ましくは
、1ミクロン以下の平均粒度を有する粉末である。
適切な金属含有焼結助剤は、鉄、Fe5C、マグネシウ
ム、MgCt、リチウム、L1□02、ベリリウム、B
ezC1硼素、硼素含有化合物、アルミニウム、アルミ
ニウム含有化合物及び金属酸化物、たとえば酸化トリウ
ム、酸化イツトリウム、酸化ランタン及び酸化セリウム
を包含する。これらの金属含有焼結助剤の多くは、Ne
gita、”Effective Sintering
Aids for 5ilicon Carbide
Ceramics:Reactivitiesof 5
ilicon Carbide with Vario
us Additives。
ム、MgCt、リチウム、L1□02、ベリリウム、B
ezC1硼素、硼素含有化合物、アルミニウム、アルミ
ニウム含有化合物及び金属酸化物、たとえば酸化トリウ
ム、酸化イツトリウム、酸化ランタン及び酸化セリウム
を包含する。これらの金属含有焼結助剤の多くは、Ne
gita、”Effective Sintering
Aids for 5ilicon Carbide
Ceramics:Reactivitiesof 5
ilicon Carbide with Vario
us Additives。
69 J、Am、Ceram、Soc、C−308(1
986)に記載される。
986)に記載される。
Negitaにより示された他の金属含有焼結助剤もま
た、本発明の実施において効果的である。−船釣に、焼
結助剤は、炭化珪素粉末の重量に基づいて約0.1〜3
.0重量%の金属に等しい量で存在すべきである。好ま
しい焼結助剤は、硼素、硼素含有化合物、アルミニウム
及びアルミニウム含有化合物から成る群から選択される
。硼素含有焼結助剤の例として、炭化硼素、水素化リチ
ウム硼素、トリビニル硼素、トリフェニル硼素、六硼化
珪素、HJOz 、 Bz(h及び同様のものを挙げ
ることができる。アルミニウム含有焼結助剤の例として
、酸化アルミニウム窒化アルミニウム、二硼化アルミニ
ウム及び同様のものを挙げることができる。最っとも好
ましい焼結助剤は、硼素及び炭化硼素である。焼結助剤
の混合物もまた、使用され得る。
た、本発明の実施において効果的である。−船釣に、焼
結助剤は、炭化珪素粉末の重量に基づいて約0.1〜3
.0重量%の金属に等しい量で存在すべきである。好ま
しい焼結助剤は、硼素、硼素含有化合物、アルミニウム
及びアルミニウム含有化合物から成る群から選択される
。硼素含有焼結助剤の例として、炭化硼素、水素化リチ
ウム硼素、トリビニル硼素、トリフェニル硼素、六硼化
珪素、HJOz 、 Bz(h及び同様のものを挙げ
ることができる。アルミニウム含有焼結助剤の例として
、酸化アルミニウム窒化アルミニウム、二硼化アルミニ
ウム及び同様のものを挙げることができる。最っとも好
ましい焼結助剤は、硼素及び炭化硼素である。焼結助剤
の混合物もまた、使用され得る。
本発明の組成物はまた、オルガノポリシロキサン硬化剤
も含む。そのような硬化剤は、焼結の前、形状化された
製品を硬化する(オルガ7ノポリシロキサンを架橋する
ことにより)ために使用され得る。そのような硬化され
た製品は一般的に、非硬化製品よりも高い強度を有し、
そして従って焼結の前、いづれかの取扱い工程又は機械
加工工程に耐えることができる。本発明において有用で
ある従来のオルガノポリシロキサン硬化剤は、当業界に
おいて良く知られている。例として、有機過酸化物、た
とえばジベンゾイルペルオキシド、ビスーPIロロベン
ゾールペルオキシド、ビス−2゜4−ジクロロペンゾー
ルペルオキシド、ジーt −ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、ニーブチルベルベンゾエート及びニ
ーブチルペルアセテート;及び白金含有硬化剤、たとえ
ば白金、IItPLCl b ((CJq) xP)
zPtc 1 tを挙げることができる。好ましいオル
ガノポリシロキサン硬化剤は、ジクミルペルオキシド及
びニーブチルベルベンゾエートを包含する。当業界にお
いて知られている他の従来のオルガノポリシロキサン硬
化剤もまた、使用され得る。本発明のオルガノポリシロ
キサン硬化剤は、有効量、すなわちオルガノポリシロキ
サンにおける架橋を誘発するのに十分な量で存在する。
も含む。そのような硬化剤は、焼結の前、形状化された
製品を硬化する(オルガ7ノポリシロキサンを架橋する
ことにより)ために使用され得る。そのような硬化され
た製品は一般的に、非硬化製品よりも高い強度を有し、
そして従って焼結の前、いづれかの取扱い工程又は機械
加工工程に耐えることができる。本発明において有用で
ある従来のオルガノポリシロキサン硬化剤は、当業界に
おいて良く知られている。例として、有機過酸化物、た
とえばジベンゾイルペルオキシド、ビスーPIロロベン
ゾールペルオキシド、ビス−2゜4−ジクロロペンゾー
ルペルオキシド、ジーt −ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、ニーブチルベルベンゾエート及びニ
ーブチルペルアセテート;及び白金含有硬化剤、たとえ
ば白金、IItPLCl b ((CJq) xP)
zPtc 1 tを挙げることができる。好ましいオル
ガノポリシロキサン硬化剤は、ジクミルペルオキシド及
びニーブチルベルベンゾエートを包含する。当業界にお
いて知られている他の従来のオルガノポリシロキサン硬
化剤もまた、使用され得る。本発明のオルガノポリシロ
キサン硬化剤は、有効量、すなわちオルガノポリシロキ
サンにおける架橋を誘発するのに十分な量で存在する。
従って、その硬化剤の実際の量は、使用される実際の硬
化剤の活性に依存するであろう。しかしながら、通常、
非白金硬化剤は、オルガノポリシロキサンの重量に基づ
いて約001〜5.0重量%で存在し、そして好ましく
は約2.0重量%である。オルガノポリシロキサンがビ
ニル基及び珪素に結合される水素原子の両者を含む場合
、白金含有硬化剤が使用され得る。そのような白金含有
硬化剤に関しては、硬化剤のレベルは、白金がオルガノ
ポリシロキサンの重量に基づいて約j〜11000pp
で存在するようなレベルであり、そして好ましいレベル
は、白金が約50〜150ppI11で存在するような
レベルである。
化剤の活性に依存するであろう。しかしながら、通常、
非白金硬化剤は、オルガノポリシロキサンの重量に基づ
いて約001〜5.0重量%で存在し、そして好ましく
は約2.0重量%である。オルガノポリシロキサンがビ
ニル基及び珪素に結合される水素原子の両者を含む場合
、白金含有硬化剤が使用され得る。そのような白金含有
硬化剤に関しては、硬化剤のレベルは、白金がオルガノ
ポリシロキサンの重量に基づいて約j〜11000pp
で存在するようなレベルであり、そして好ましいレベル
は、白金が約50〜150ppI11で存在するような
レベルである。
プレセラミックオルガノポリシロキサンは、組成物のt
)!炭素値が、炭化珪素粉末及びプレセラミックオルガ
ノポリシロキサンに由来する炭化物の合計重量に基づい
て0.2重量%以上であるようなレベルで本発明の組成
物に存在する。
)!炭素値が、炭化珪素粉末及びプレセラミックオルガ
ノポリシロキサンに由来する炭化物の合計重量に基づい
て0.2重量%以上であるようなレベルで本発明の組成
物に存在する。
“混合物の遊離炭素値”により意味されることは、炭化
珪素粉末及びオルガノポリシロキサンに由来する炭化物
の合計重量に基づいて重■%により表わされる場合、高
温分解の間、オルガノポリシロキサンに由来する遊離又
は過剰炭素の量である。セラミック炭化物における炭素
の合計量は、遊離又は過剰炭素の量+炭化珪素の形での
炭素の量に等しい。オルガノポリシロキサンに由来する
遊離炭素の量は、いづれの炭化珪素粉末又は焼結助剤の
不在下で、適切なセラミック炭化物が得られるまで不活
性雰囲気下でオルガノポリシロキサンを高温分解するこ
とにより決定される。本発明のためには、゛適切なセラ
ミック炭化物゛とは、高温でさらに暴露された後、重量
の有意な上昇が存在しないであろう高温で生成されるセ
ラミック炭化物として定義される。通常、適切なセラミ
ック炭化物は、1800℃で約30分間の高温分解によ
り生成される。他の高温は、適切なセラミック炭化物を
形成するために使用されるが、しかし高温への暴露の長
さは、1800℃以下の温度に対しては長くされる必要
はないであろう。次に、適切なセラミック炭化物のセラ
ミック収率及び炭素含有率が決定される。混合物の規定
を用いて、適切なセラミック炭化物のSiC及び遊離炭
素の量を計算することができる。遊離炭素の量は、通常
、プレセラミックオルガノポリシロキサン1g当たりに
生成される″M離炭素の重量として表わされる。オルガ
ノポリシロキサンの高温分解により生成される遊離炭素
の量を知れば、所望する遊離炭素値を有するオルガノポ
リシロキサン/炭化珪素混合物を得るためにいかに多く
のオルガノポリシロキサンが必要とされるかを決定する
ことができる。本来、焼結体を調製するために同じ又は
ひじように類似するオルガノポリシロキサンを用いる場
合、オルガノポリシロキサン1g当たりに生成される′
ti離炭素の量を毎回決定する必要はない。
珪素粉末及びオルガノポリシロキサンに由来する炭化物
の合計重量に基づいて重■%により表わされる場合、高
温分解の間、オルガノポリシロキサンに由来する遊離又
は過剰炭素の量である。セラミック炭化物における炭素
の合計量は、遊離又は過剰炭素の量+炭化珪素の形での
炭素の量に等しい。オルガノポリシロキサンに由来する
遊離炭素の量は、いづれの炭化珪素粉末又は焼結助剤の
不在下で、適切なセラミック炭化物が得られるまで不活
性雰囲気下でオルガノポリシロキサンを高温分解するこ
とにより決定される。本発明のためには、゛適切なセラ
ミック炭化物゛とは、高温でさらに暴露された後、重量
の有意な上昇が存在しないであろう高温で生成されるセ
ラミック炭化物として定義される。通常、適切なセラミ
ック炭化物は、1800℃で約30分間の高温分解によ
り生成される。他の高温は、適切なセラミック炭化物を
形成するために使用されるが、しかし高温への暴露の長
さは、1800℃以下の温度に対しては長くされる必要
はないであろう。次に、適切なセラミック炭化物のセラ
ミック収率及び炭素含有率が決定される。混合物の規定
を用いて、適切なセラミック炭化物のSiC及び遊離炭
素の量を計算することができる。遊離炭素の量は、通常
、プレセラミックオルガノポリシロキサン1g当たりに
生成される″M離炭素の重量として表わされる。オルガ
ノポリシロキサンの高温分解により生成される遊離炭素
の量を知れば、所望する遊離炭素値を有するオルガノポ
リシロキサン/炭化珪素混合物を得るためにいかに多く
のオルガノポリシロキサンが必要とされるかを決定する
ことができる。本来、焼結体を調製するために同じ又は
ひじように類似するオルガノポリシロキサンを用いる場
合、オルガノポリシロキサン1g当たりに生成される′
ti離炭素の量を毎回決定する必要はない。
この方法は、たぶん例により最良に例示され得る。オル
ガノポリシロキサン(100g )を1800℃で高温
分解すれば、40重量%の炭素及び60重量%の珪素を
含む炭化物50重量%が得られる。そのような炭化物は
、30g (1,07モル)の珪素を含む。混合物の規
定を用いれば、その炭化物はまた、1.07モル(12
,8g )の炭素をSiCの形で含む。その炭化物は2
0gの炭素を含むので、炭化物中の’>TAM炭素の量
は、7.2 g (20g −12,8g )である。
ガノポリシロキサン(100g )を1800℃で高温
分解すれば、40重量%の炭素及び60重量%の珪素を
含む炭化物50重量%が得られる。そのような炭化物は
、30g (1,07モル)の珪素を含む。混合物の規
定を用いれば、その炭化物はまた、1.07モル(12
,8g )の炭素をSiCの形で含む。その炭化物は2
0gの炭素を含むので、炭化物中の’>TAM炭素の量
は、7.2 g (20g −12,8g )である。
従って、それぞれ1gのプレセラミックオルガノポリシ
ロキサンは、0.072 gの遊離炭素を生成する。
ロキサンは、0.072 gの遊離炭素を生成する。
1.5重量%の混合物のための遊離炭素値が所望される
場合、次の計算が行なわれる。人は必要とされるオルガ
ノポリシロキサンの量に等しいとする。
場合、次の計算が行なわれる。人は必要とされるオルガ
ノポリシロキサンの量に等しいとする。
オルガノポリシロキサンに由来する炭化物の量は、0.
5X(g、50%の炭化物収率に基づいて)であり;高
温分解の間に形成される遊離炭素の量は0.072又(
g)である。SiC粉末100 gを含む混合物のため
には、次の等式: %式%) が得られ、ここで0.072Xはオルガノポリシロキサ
ンに由来する遊離炭素の量であり、そして(100+
0.5 X )はSiC粉末及びオルガ、Jポリシロキ
サンに由来する炭化物の合計量である。又について上記
等式を解けば、オルガノポリシロキサン23.3gが混
合物の所望する1、5%の遊離炭素値を付与するであろ
うことが見出される。この方法を用いれば、本発明の組
成物を調製するために必要とされるオルガノポリシロキ
サンの量が決定され得る。この方法は、高価で且つ時間
のかかる試験及び誤差を回避する。
5X(g、50%の炭化物収率に基づいて)であり;高
温分解の間に形成される遊離炭素の量は0.072又(
g)である。SiC粉末100 gを含む混合物のため
には、次の等式: %式%) が得られ、ここで0.072Xはオルガノポリシロキサ
ンに由来する遊離炭素の量であり、そして(100+
0.5 X )はSiC粉末及びオルガ、Jポリシロキ
サンに由来する炭化物の合計量である。又について上記
等式を解けば、オルガノポリシロキサン23.3gが混
合物の所望する1、5%の遊離炭素値を付与するであろ
うことが見出される。この方法を用いれば、本発明の組
成物を調製するために必要とされるオルガノポリシロキ
サンの量が決定され得る。この方法は、高価で且つ時間
のかかる試験及び誤差を回避する。
混合物の遊離炭素値は、炭化珪素粉末及びオルガノポリ
シロキサンに由来する炭化物の合計重量に基づいて0.
2重量%以上であるべきである。約0.2重量%以下の
遊離炭素値に関しては、焼結体の密度が一般的に、約2
.4g/C111(理論的に75%)以下に低下するで
あろう。混合物の遊離炭素値は0.5%以上であり、そ
して得られる焼結体の密度は理論的に約85%以上であ
ることが一般的に好ましい。混合物の遊離炭素値は、0
.5〜3.0重量%であることがより好ましく、そして
1.0〜2.0重量%であることがさらにより好ましい
。最適密度は、一般的に、混合物の遊離炭素値が約1.
5重量%である場合に得られる。
シロキサンに由来する炭化物の合計重量に基づいて0.
2重量%以上であるべきである。約0.2重量%以下の
遊離炭素値に関しては、焼結体の密度が一般的に、約2
.4g/C111(理論的に75%)以下に低下するで
あろう。混合物の遊離炭素値は0.5%以上であり、そ
して得られる焼結体の密度は理論的に約85%以上であ
ることが一般的に好ましい。混合物の遊離炭素値は、0
.5〜3.0重量%であることがより好ましく、そして
1.0〜2.0重量%であることがさらにより好ましい
。最適密度は、一般的に、混合物の遊離炭素値が約1.
5重量%である場合に得られる。
混合物における必要とされるオルガノポリシロキサンの
量が決定されれば、種々の成分が、均等且つ均質な混合
物を確保する態様で混合される。
量が決定されれば、種々の成分が、均等且つ均質な混合
物を確保する態様で混合される。
そのような混合物は、焼結生成物を通して異なった密度
部分を避けることを必要とされる。均等且つ均質の混合
物は、従来の混合技法を用いることによって調製され得
る。そのような技法の例は、乾燥又は湿潤状態で種々の
粉末を粉砕することを包含する。一般的に湿式粉砕が好
ましく、ここで種々の粉末が混合され、有機溶媒と共に
粉砕され、溶媒が除去され、そして次にその得られた混
合物がさらに粉砕される。他の混合及び粉砕方法は、当
業者に明らかであろう。次に、均等且つ均質の混合物が
、所望する形状に形成される。好ましくは、その所望す
る形状は、射出成形、−軸プレス成形、抽出、トランス
ファー成形及び同様の方法を用いて圧力下で形成される
。製品を形成した後、機械によりさらに形状化され得る
。組成物は、好ましくは、その最終形状化の前、硬化さ
れる。硬化方法は、当業界において良く知られている。
部分を避けることを必要とされる。均等且つ均質の混合
物は、従来の混合技法を用いることによって調製され得
る。そのような技法の例は、乾燥又は湿潤状態で種々の
粉末を粉砕することを包含する。一般的に湿式粉砕が好
ましく、ここで種々の粉末が混合され、有機溶媒と共に
粉砕され、溶媒が除去され、そして次にその得られた混
合物がさらに粉砕される。他の混合及び粉砕方法は、当
業者に明らかであろう。次に、均等且つ均質の混合物が
、所望する形状に形成される。好ましくは、その所望す
る形状は、射出成形、−軸プレス成形、抽出、トランス
ファー成形及び同様の方法を用いて圧力下で形成される
。製品を形成した後、機械によりさらに形状化され得る
。組成物は、好ましくは、その最終形状化の前、硬化さ
れる。硬化方法は、当業界において良く知られている。
−船釣に、そのような硬化は、製品を約50〜300℃
に加熱することによって行なわれる。最終形状が得られ
た後、その製品は、不活性大気下で1900℃又はそれ
以上の温度に焼結される。好ましい焼結温度は、約20
00〜2200℃であり、そして約2150℃が最っと
も好ましい。
に加熱することによって行なわれる。最終形状が得られ
た後、その製品は、不活性大気下で1900℃又はそれ
以上の温度に焼結される。好ましい焼結温度は、約20
00〜2200℃であり、そして約2150℃が最っと
も好ましい。
理論により制限されることを望まないが、プレセラミッ
クオルガノポリシロキサンに由来する遊離炭素は、高い
強度の焼結体の形成において2種の異なった役割を演じ
ると思われる。第一に、それは炭化珪素粉末に中に存在
する酸素の除去を助け;そして第二に、それは追加の焼
結助剤として明らかに作用する。炭化珪素粉末は、しば
しば、いわゆる“′ti離炭素°“を含む。しかしなが
ら、炭化珪素粉末中に存在する“遊離炭素゛は、プレセ
ラミックオルガノポリシロキサンからその場で生成され
る遊離炭素と同じように活性化し又は効果的であるよう
には思えない。その場で生成される遊離炭素が化学的に
より活性的であるかどうが、又はそれが単により平等に
分散されるかどうかは明らかでない。いづれにせよ、混
合物の遊離炭素値(前の方で定義された)が約1.5重
量%である場合、最適密度を有する焼結体が得られる。
クオルガノポリシロキサンに由来する遊離炭素は、高い
強度の焼結体の形成において2種の異なった役割を演じ
ると思われる。第一に、それは炭化珪素粉末に中に存在
する酸素の除去を助け;そして第二に、それは追加の焼
結助剤として明らかに作用する。炭化珪素粉末は、しば
しば、いわゆる“′ti離炭素°“を含む。しかしなが
ら、炭化珪素粉末中に存在する“遊離炭素゛は、プレセ
ラミックオルガノポリシロキサンからその場で生成され
る遊離炭素と同じように活性化し又は効果的であるよう
には思えない。その場で生成される遊離炭素が化学的に
より活性的であるかどうが、又はそれが単により平等に
分散されるかどうかは明らかでない。いづれにせよ、混
合物の遊離炭素値(前の方で定義された)が約1.5重
量%である場合、最適密度を有する焼結体が得られる。
当業者が本発明をより理解するために、次の例が与えら
れる。特にことわらないかぎり、すべての%は、重量に
よってである。この明細古を通して、“Me ””はメ
チル基を表わし、“Ph”はフヱニル基を表わし、そし
て“Ivil”はビニル基を表わす。
れる。特にことわらないかぎり、すべての%は、重量に
よってである。この明細古を通して、“Me ””はメ
チル基を表わし、“Ph”はフヱニル基を表わし、そし
て“Ivil”はビニル基を表わす。
次の例において、使用される分析方法は次の通りである
: プロトンNMRスペクトルは、Varian EM36
0又はE?l390スペクトロメーターのいづれかで記
録された;フーリエ変換IRスペクトルは、N1col
et5 DXスペクトロメーターで記録された。ゲル透
過クロマトグラフィー(GPC)データは、モデル60
0Eシステムコントローラー、モデル490LIV及び
モデル410 Differential Defra
ctumeter検出器を備えたーaters GPC
から得られ;すべでの値はポリスチレンに対してである
。
: プロトンNMRスペクトルは、Varian EM36
0又はE?l390スペクトロメーターのいづれかで記
録された;フーリエ変換IRスペクトルは、N1col
et5 DXスペクトロメーターで記録された。ゲル透
過クロマトグラフィー(GPC)データは、モデル60
0Eシステムコントローラー、モデル490LIV及び
モデル410 Differential Defra
ctumeter検出器を備えたーaters GPC
から得られ;すべでの値はポリスチレンに対してである
。
炭素分析は、ConLral Equipment C
orporation240−XA Elementa
l Analyzerにより行なわれた。
orporation240−XA Elementa
l Analyzerにより行なわれた。
酸素分析は、Oxygen Determinator
316(モデル783700)及びElectrod
e Furnace EFlooを備えるLeco O
xygen Analyzerにより行なわれた。珪素
は、珪素材料を珪素の可溶性形に転換し、そして原子吸
光分光計により合計珪素についてその溶解物を分析する
ことから成る融合技法により決定された。
316(モデル783700)及びElectrod
e Furnace EFlooを備えるLeco O
xygen Analyzerにより行なわれた。珪素
は、珪素材料を珪素の可溶性形に転換し、そして原子吸
光分光計により合計珪素についてその溶解物を分析する
ことから成る融合技法により決定された。
配合は、ローラー羽を備えたBrabenderPla
sticorder(Model PL−V151)に
より行なわれた。
sticorder(Model PL−V151)に
より行なわれた。
試験片は、Carver実験用プレス(Fred S、
CarverInc、 、 Summミt、N、J、)
により形成された。12トンのHallコンソール成形
機械(モデル359E)がトランスファー成形のために
使用された。高温分解は、Eurotheri Con
troller/Programmer Model
822を備えたAstro Graphite Ele
n+ent Tube FurnaceModel 1
000−3060−FP12で行なわれた。曲げ強度(
4点ブレンド技法を用いて)は、Model TTC又
はModel 85621nstron装置のいづれか
で決定された。
CarverInc、 、 Summミt、N、J、)
により形成された。12トンのHallコンソール成形
機械(モデル359E)がトランスファー成形のために
使用された。高温分解は、Eurotheri Con
troller/Programmer Model
822を備えたAstro Graphite Ele
n+ent Tube FurnaceModel 1
000−3060−FP12で行なわれた。曲げ強度(
4点ブレンド技法を用いて)は、Model TTC又
はModel 85621nstron装置のいづれか
で決定された。
4種の異なったSiC粉末が使用された:α−5iC約
5〜8%及びβ−3iC95%の混合物を含むIb1d
en UP SiCじIb1den”);5uperi
or Graphite(H3C059) β−5i
Cじ5uperior Graphite”);Her
manC,5tarck Co、A10 a −5iC
(”5tarck AIO”);及びαSiC約15%
及びβ−5iC85%の混合物を含むHerman C
,5tarck Co、B105tC(“5tarck
310”)。使用される硼素は、Cerac Inc
、からの非晶質硼素粉末であった。炭化硼素(Tetr
abor)は、Elektro−schmelzwer
k Kempten Gnbh、、Munich、We
st Gern+anyからであった。酸化アルミニウ
ム(Baikalox CR125)は、Baikow
ski International Corp、、C
harlotLe。
5〜8%及びβ−3iC95%の混合物を含むIb1d
en UP SiCじIb1den”);5uperi
or Graphite(H3C059) β−5i
Cじ5uperior Graphite”);Her
manC,5tarck Co、A10 a −5iC
(”5tarck AIO”);及びαSiC約15%
及びβ−5iC85%の混合物を含むHerman C
,5tarck Co、B105tC(“5tarck
310”)。使用される硼素は、Cerac Inc
、からの非晶質硼素粉末であった。炭化硼素(Tetr
abor)は、Elektro−schmelzwer
k Kempten Gnbh、、Munich、We
st Gern+anyからであった。酸化アルミニウ
ム(Baikalox CR125)は、Baikow
ski International Corp、、C
harlotLe。
North Carolinaから得られた。窒化アル
ミニウム(Grade A)は、l1ern+an C
,5tarck Co、から得られた。
ミニウム(Grade A)は、l1ern+an C
,5tarck Co、から得られた。
氾: (PhMeSiO) 0. ? z (MeVi
SiO) o、 + 4(MeHSiO) o、 +
aによる焼結体の調製。
SiO) o、 + 4(MeHSiO) o、 +
aによる焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。トルエン約120d中、47.7
8 g (0,25モル)のPhMeSiCffz
、7.06g(0,05モル)のMeViSiCQ z
及び5.75 g (0,05モル)のMellSi
Cl zの溶液を、水3001d中、74.2gのNa
zCOxの撹拌混合物に滴下した。約1時間撹拌した後
、有機層を集め、?1g5O,上で乾燥せしめ、そして
濾過した。濾液の濃縮は、曇った粘性のある油状物31
.9 g (77,2%の収率)を与えた。IR(K
Br、 薄いフィルム):3073(w)、 3052
(w)、 2959(w)2903(w)、 2164
(w)、 1595(w)、 1427(匈)、 14
06(w)。
8 g (0,25モル)のPhMeSiCffz
、7.06g(0,05モル)のMeViSiCQ z
及び5.75 g (0,05モル)のMellSi
Cl zの溶液を、水3001d中、74.2gのNa
zCOxの撹拌混合物に滴下した。約1時間撹拌した後
、有機層を集め、?1g5O,上で乾燥せしめ、そして
濾過した。濾液の濃縮は、曇った粘性のある油状物31
.9 g (77,2%の収率)を与えた。IR(K
Br、 薄いフィルム):3073(w)、 3052
(w)、 2959(w)2903(w)、 2164
(w)、 1595(w)、 1427(匈)、 14
06(w)。
1265(s)、 1124(s)、 1082(s)
、 1026(s)、 907(m)。
、 1026(s)、 907(m)。
872(峠、 973(s) 、 731 (R1)及
び694cm−’(m)。
び694cm−’(m)。
B−炭化物組成物の計算、アルゴン下での上記ポリマー
のサンプルを10℃/分で1800℃に加熱し、そして
室温に冷却する前、2時間1800℃で維持した。サン
プルは、39.6%の質量残率を有し、そして炭素49
.0%及び珪素46.7%を含んだ。次の計算を行なっ
た:硬化されたポリマー100gは、炭素49.0%及
び珪素51.0%(差により)から成るセラミック炭化
物39.6gを与える。(計算を簡単にするために、酸
素の量を無視した。)炭化物は、SiC28,9g(7
3%)及び炭素10.7g (27%)から成る。従っ
て、高温分解の後、それぞれ1gのポリマーは、SiC
O,289g及び遊離炭素0.107 gを与える。
のサンプルを10℃/分で1800℃に加熱し、そして
室温に冷却する前、2時間1800℃で維持した。サン
プルは、39.6%の質量残率を有し、そして炭素49
.0%及び珪素46.7%を含んだ。次の計算を行なっ
た:硬化されたポリマー100gは、炭素49.0%及
び珪素51.0%(差により)から成るセラミック炭化
物39.6gを与える。(計算を簡単にするために、酸
素の量を無視した。)炭化物は、SiC28,9g(7
3%)及び炭素10.7g (27%)から成る。従っ
て、高温分解の後、それぞれ1gのポリマーは、SiC
O,289g及び遊離炭素0.107 gを与える。
C−試験片の加工。一連の5種のシロキサン/SiC粉
末ブレンドを、次の方法を用いて調製した:上記調製さ
れたシロキサンの計量されたサンプル及び過酸化ベンゾ
イル約2重量%(シロキサンの重量に基づく)を、トル
エン10〜20戒中に溶解した。この溶液を、濃縮ペー
ストが形成されるまで、Ib1den SiC粉末及び
硼素と共に、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合し
た。残留溶媒を、真空下で除去した。その乾燥された粉
末を、乳鉢及び乳棒で再び粉砕し、そして次に90I1
mのメツシュ篩を通した。その篩分けされた粉末を、約
9.4ksiで35X8X2mmの試験片に成形した。
末ブレンドを、次の方法を用いて調製した:上記調製さ
れたシロキサンの計量されたサンプル及び過酸化ベンゾ
イル約2重量%(シロキサンの重量に基づく)を、トル
エン10〜20戒中に溶解した。この溶液を、濃縮ペー
ストが形成されるまで、Ib1den SiC粉末及び
硼素と共に、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合し
た。残留溶媒を、真空下で除去した。その乾燥された粉
末を、乳鉢及び乳棒で再び粉砕し、そして次に90I1
mのメツシュ篩を通した。その篩分けされた粉末を、約
9.4ksiで35X8X2mmの試験片に成形した。
それぞれの試験片を、SiC20,000g及び硼素0
.080g並びに種々の量のオルガノポリシロキサン及
び過酸化ベンゾイルにより調製した。試験片を、次の温
度プログラムを用いて、アストロ管炉(アルゴン雰囲気
)中で2150℃に加熱した: 26.7℃/分で室温
から300℃125℃/分で300℃がら700℃,2
0”C/分で700℃から1350℃21350℃で3
0分間の保持、20℃/分で1350℃から2150℃
1及び2150″Cで30分間の保持。その加熱された
試験片の密度を測定した。次の結果が得られた: 1 1.000 0.021 1.97
2.54 0.52 2.000 0
.040 2.06 2.84 1.03
3.000 0.060 2.16
3.10 1.54 4.000 0.
080 2.23 3.11 2.05
6.000 0.124 − 3.
08 2.9=焼結された試験片(MIL−3T
D−1942(1983年11月21日)に従って機械
加工された)についてである。
.080g並びに種々の量のオルガノポリシロキサン及
び過酸化ベンゾイルにより調製した。試験片を、次の温
度プログラムを用いて、アストロ管炉(アルゴン雰囲気
)中で2150℃に加熱した: 26.7℃/分で室温
から300℃125℃/分で300℃がら700℃,2
0”C/分で700℃から1350℃21350℃で3
0分間の保持、20℃/分で1350℃から2150℃
1及び2150″Cで30分間の保持。その加熱された
試験片の密度を測定した。次の結果が得られた: 1 1.000 0.021 1.97
2.54 0.52 2.000 0
.040 2.06 2.84 1.03
3.000 0.060 2.16
3.10 1.54 4.000 0.
080 2.23 3.11 2.05
6.000 0.124 − 3.
08 2.9=焼結された試験片(MIL−3T
D−1942(1983年11月21日)に従って機械
加工された)についてである。
Q : (PhSiO+、 s) o、 so (Ph
ViSiO) O,?。による焼結体の調製。
ViSiO) O,?。による焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。トルエン70m!中、71.8
g(0,35モル)のPhViSiC122及び31.
7g (0,15−Eル)のPhSiC1,の溶液を、
水450d及びトルエン200d中、70gのNazC
O=の撹拌混合物に滴下した。添加が完結した後、その
反応混合物を室温で30分間撹拌した。2相が分離され
、そして有a層を集め、そして真空下で濃縮した。残留
物(71g )を、トルエン400d中に)容解し、そ
してその溶液19.3 31.7 51.2 をKOHo、5g上で還流した。すべての水がDean
−5tark )ラップを用いて除去された後、その
トルエン溶液を、MgSO4上でさらに乾燥せしめ、そ
して焼結ガラスフリットを通して濾過した。真空下での
その濾液の濃縮は、粘着性のある油状物59.6g (
83,8%の収率)を与えた。GPC分子量(THF溶
媒) : Mn =901 、Mw =3711゜プ
ロトンNMR(CDCl x 、デルタ値):5.33
〜6.17(SiVi、広いマルチイブレット)、6.
67〜7.70(SiPh、広イマルティブレット)
; 5iPh/5iViモル比は、1.5 / 1.
0であった。
g(0,35モル)のPhViSiC122及び31.
7g (0,15−Eル)のPhSiC1,の溶液を、
水450d及びトルエン200d中、70gのNazC
O=の撹拌混合物に滴下した。添加が完結した後、その
反応混合物を室温で30分間撹拌した。2相が分離され
、そして有a層を集め、そして真空下で濃縮した。残留
物(71g )を、トルエン400d中に)容解し、そ
してその溶液19.3 31.7 51.2 をKOHo、5g上で還流した。すべての水がDean
−5tark )ラップを用いて除去された後、その
トルエン溶液を、MgSO4上でさらに乾燥せしめ、そ
して焼結ガラスフリットを通して濾過した。真空下での
その濾液の濃縮は、粘着性のある油状物59.6g (
83,8%の収率)を与えた。GPC分子量(THF溶
媒) : Mn =901 、Mw =3711゜プ
ロトンNMR(CDCl x 、デルタ値):5.33
〜6.17(SiVi、広いマルチイブレット)、6.
67〜7.70(SiPh、広イマルティブレット)
; 5iPh/5iViモル比は、1.5 / 1.
0であった。
B−計算。上記ポリマー1.672 g及び過酸化ベン
ゾイル0.056 gの混合物を、約トルエン5戒中に
溶解し、トルエンを真空下で除去し、そして残留物をア
ルゴン雰囲気下で約10分間、約150°以上に加熱し
た。残留物を、グラッファイトるつぼで計算し、そして
アストロ管炉に移した。その炉を20トル以下に2度排
気し、そしてアルゴンを充填した。アルゴン雰囲気下で
、そのポリマーサンプルを10℃/分で1800℃に加
熱し、そして室温に冷却する前、1800℃で2時間維
持した。そのサンプルは、42.8%の質量残率を有し
、そして62.2%の炭素、36.8%の珪素及び0.
2%の酸素を含んだ。
ゾイル0.056 gの混合物を、約トルエン5戒中に
溶解し、トルエンを真空下で除去し、そして残留物をア
ルゴン雰囲気下で約10分間、約150°以上に加熱し
た。残留物を、グラッファイトるつぼで計算し、そして
アストロ管炉に移した。その炉を20トル以下に2度排
気し、そしてアルゴンを充填した。アルゴン雰囲気下で
、そのポリマーサンプルを10℃/分で1800℃に加
熱し、そして室温に冷却する前、1800℃で2時間維
持した。そのサンプルは、42.8%の質量残率を有し
、そして62.2%の炭素、36.8%の珪素及び0.
2%の酸素を含んだ。
次の計算を行なった:硬化されたポリマー100gは、
珪素37.8%(差により)及び炭素62.2%から成
るセラミック炭化物42.8gを与える。その炭化物は
、SiC23,1g (54%)及び炭素19.7g
(46%)から成る。従って、それぞれ1gのポリマー
は、高温分解の後、SiC0,231g及び遊離炭素0
.197gを与える。
珪素37.8%(差により)及び炭素62.2%から成
るセラミック炭化物42.8gを与える。その炭化物は
、SiC23,1g (54%)及び炭素19.7g
(46%)から成る。従って、それぞれ1gのポリマー
は、高温分解の後、SiC0,231g及び遊離炭素0
.197gを与える。
C−試験片の加工。一連の7種のシロキサン/SiCブ
レンドを、例1と同じ方法で調製した。
レンドを、例1と同じ方法で調製した。
Ib1den SiC25,00g、硼素0.10g及
び種々の量のオルガノポリシロキサン及び過酸化ベンゾ
イルから成るそれぞれの試験片を調製した。その試験片
を、例1におけるのと同じ温度プロフィールを用いて、
アルゴン雰囲気下で2150℃に加熱した。次の結果が
得られた: 1 0.250 0.006 1.87
2.41 0.22 0.624 0.
014 1.89 2.65 0.53
1.000 0.024 1.95 2
.97 0.84 1.500 0.0
30 1.97 3.11 1.25
2.000 0.042 1.99
3.16 1.56 2.500 0.
050 2.03 3.09 1.97
5.000 0.104 2.25
3.09 3.6:焼結された試験片(旧L−
5TD4942(1983年11月21日)に従って機
械加工された)についてである。
び種々の量のオルガノポリシロキサン及び過酸化ベンゾ
イルから成るそれぞれの試験片を調製した。その試験片
を、例1におけるのと同じ温度プロフィールを用いて、
アルゴン雰囲気下で2150℃に加熱した。次の結果が
得られた: 1 0.250 0.006 1.87
2.41 0.22 0.624 0.
014 1.89 2.65 0.53
1.000 0.024 1.95 2
.97 0.84 1.500 0.0
30 1.97 3.11 1.25
2.000 0.042 1.99
3.16 1.56 2.500 0.
050 2.03 3.09 1.97
5.000 0.104 2.25
3.09 3.6:焼結された試験片(旧L−
5TD4942(1983年11月21日)に従って機
械加工された)についてである。
例、□−支:密度に対する加熱温度の効果。
1、5%の遊離炭素値を有するシロキサン/SiCブレ
ンドを、次の方法を用いて調製した:トルエン150成
に溶解された例2のシロキサンポリマー 12.00g
及び過酸化ベンゾイル0.252g (シロキサンポリ
マーの重量に基づいて約2重世%)の溶液を、Ib1d
en SiC粉末150g及び硼素0.60 gと共に
混合した。そのブレンドの遊離炭素値は1.5■6.8 20.2 44.7 53.7 56.7 61.7 %であった。そのブレンドを30分間、アトリック−で
粉砕した。得られたスラリーを樹脂ケラトルに移し、そ
して溶媒を真空下で除去した。乾燥された粉末を乳鉢及
び乳棒で粉砕し、そして次に90趨のメツシュ篩を通し
た。篩分けされた粉末を、47ks iで試験片(35
X8X2順)乾燥成形した。
ンドを、次の方法を用いて調製した:トルエン150成
に溶解された例2のシロキサンポリマー 12.00g
及び過酸化ベンゾイル0.252g (シロキサンポリ
マーの重量に基づいて約2重世%)の溶液を、Ib1d
en SiC粉末150g及び硼素0.60 gと共に
混合した。そのブレンドの遊離炭素値は1.5■6.8 20.2 44.7 53.7 56.7 61.7 %であった。そのブレンドを30分間、アトリック−で
粉砕した。得られたスラリーを樹脂ケラトルに移し、そ
して溶媒を真空下で除去した。乾燥された粉末を乳鉢及
び乳棒で粉砕し、そして次に90趨のメツシュ篩を通し
た。篩分けされた粉末を、47ks iで試験片(35
X8X2順)乾燥成形した。
その試験片を、例1におけるのと同じ温度プログラム(
但し、最終温度において異なる)を用いてアルゴン雰囲
気下で1950 、2000 、2050及び2100
℃に加熱した。次の結果が得られた。
但し、最終温度において異なる)を用いてアルゴン雰囲
気下で1950 、2000 、2050及び2100
℃に加熱した。次の結果が得られた。
1.950 3.05
95.02000 3.08
96.02050 3、1
4 97.82100
3.15 98.1±土: (PhSi
O+ 、 s) O,Z? (MeSiO+ 、 s)
o、 oq (Ph’ViSiO) o、 haによ
る焼結体の調製。
95.02000 3.08
96.02050 3、1
4 97.82100
3.15 98.1±土: (PhSi
O+ 、 s) O,Z? (MeSiO+ 、 s)
o、 oq (Ph’ViSiO) o、 haによ
る焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。トルエン50mm中、71.76
(0,35モル) (7) PhViSiCfz 、、
31.7g (0,15モル)のPhSiCl 2
及び7.45g (0,05モル)のMeSiCj2
sの溶液を、水400m1l及びトルエン20Od中、
85gのNa、CO,の撹拌混合物に滴下した。添加が
完結した後、その反応混合物を室温で30分間撹拌した
。
(0,35モル) (7) PhViSiCfz 、、
31.7g (0,15モル)のPhSiCl 2
及び7.45g (0,05モル)のMeSiCj2
sの溶液を、水400m1l及びトルエン20Od中、
85gのNa、CO,の撹拌混合物に滴下した。添加が
完結した後、その反応混合物を室温で30分間撹拌した
。
2相が分離され、そして有機層を集め、そして真空下で
濃縮した。残留物(64,9g )を、トルエン65g
中に溶解し、そしてそのを容液をにOH0,10g上で
還流した。すべての水がDean−3tark )ラッ
プを用いて除去された後、そのトルエン溶液を、室温に
下げ、そして約0.3dのMe3SiCffiを添加し
た。
濃縮した。残留物(64,9g )を、トルエン65g
中に溶解し、そしてそのを容液をにOH0,10g上で
還流した。すべての水がDean−3tark )ラッ
プを用いて除去された後、そのトルエン溶液を、室温に
下げ、そして約0.3dのMe3SiCffiを添加し
た。
約1時間後、その溶液を中間サイズのガラスフリットを
通して濾過した。真空下でのその濾液の濃縮は、粘着性
のある油状物60.7g (81,5%)を与えた。プ
ロトンNMR(CDCj23、ゾルタイ直)二〇、 3
〜0.4 (SiMe、広いハンプ)、5.5〜6.2
(SiVi、広いマルチイブレット)及び6.8〜7.
8(SiPh、広いマルチイブレット) ; S+M
e/ S+V+ /5iPhのモル比は、1.0 /
7.1 /10.8であった。
通して濾過した。真空下でのその濾液の濃縮は、粘着性
のある油状物60.7g (81,5%)を与えた。プ
ロトンNMR(CDCj23、ゾルタイ直)二〇、 3
〜0.4 (SiMe、広いハンプ)、5.5〜6.2
(SiVi、広いマルチイブレット)及び6.8〜7.
8(SiPh、広いマルチイブレット) ; S+M
e/ S+V+ /5iPhのモル比は、1.0 /
7.1 /10.8であった。
B−炭化物組成物の計算。上記ポリマーのサンプルを、
例1、パートBにおけるのと同じ方法を用いて、180
0℃に加熱した。そのサンプルは48.1%の質量残率
を有し、そして62.2%の炭素を含んだ。次の計算を
行なった:硬化されたポリマー100 gは、37.8
%(差により)の珪素及び62.2%の炭素から成るセ
ラミック炭化物48.1gを与える。
例1、パートBにおけるのと同じ方法を用いて、180
0℃に加熱した。そのサンプルは48.1%の質量残率
を有し、そして62.2%の炭素を含んだ。次の計算を
行なった:硬化されたポリマー100 gは、37.8
%(差により)の珪素及び62.2%の炭素から成るセ
ラミック炭化物48.1gを与える。
従って、その炭化物は、SiC26,0g (54,1
%)及び炭素22.1g (45,9%)から成る。従
って、それぞれ1gのポリマーは、高温分解の後、Si
C0,260g及び遊離炭素0.221gを与える。
%)及び炭素22.1g (45,9%)から成る。従
って、それぞれ1gのポリマーは、高温分解の後、Si
C0,260g及び遊離炭素0.221gを与える。
C−試験片の加工。5種の試験片を、シロキサンポリマ
ー2.001 g、過酸化ベンゾイル0.041 g及
びIb1den SiC粉末25.0gを含むブレンド
から、例1におけるのと同じ方法を用いて調製した。そ
のブレンドの遊離炭素値は、1.7%であった。未処理
試験片の平均曲げ強度は、236ps iであった。
ー2.001 g、過酸化ベンゾイル0.041 g及
びIb1den SiC粉末25.0gを含むブレンド
から、例1におけるのと同じ方法を用いて調製した。そ
のブレンドの遊離炭素値は、1.7%であった。未処理
試験片の平均曲げ強度は、236ps iであった。
次に、その試験片を、例1と同じ加熱方法を用いてアル
ゴン下で2098℃に加熱した。その加熱された試験片
の平均密度は3.16 g /ctl (理論的に98
.5%)であり;その平均曲げ強度は37.8±15.
2ksiであった。
ゴン下で2098℃に加熱した。その加熱された試験片
の平均密度は3.16 g /ctl (理論的に98
.5%)であり;その平均曲げ強度は37.8±15.
2ksiであった。
[5: (PhSiO+、 s) o、 t + (M
eSiO+、 s) o、 z* (PhViSiO)
o、 s。
eSiO+、 s) o、 z* (PhViSiO)
o、 s。
による焼結体の調製。
A−ポリマーの合成、トルエン50mR中、71.76
g (0,35モル) (7) PhViSiCj
2z 、31.7g (0,15モル)のPhSiC
l 3及び29.8g (0,20モル)のMeSiC
l 3の溶液を、水400成及びトルエン250d中、
180gのNazCO,、の撹拌混合物に滴下した。
g (0,35モル) (7) PhViSiCj
2z 、31.7g (0,15モル)のPhSiC
l 3及び29.8g (0,20モル)のMeSiC
l 3の溶液を、水400成及びトルエン250d中、
180gのNazCO,、の撹拌混合物に滴下した。
添加が完結した後、その反応混合物を室温で45分間撹
拌した。2相が分離され、そして有機層を集め、そして
真空下で濃縮した。残留物(79,0g )を、トルエ
ン88.7g中に溶解し、そしてKOH0,10g上で
還流した。すべての水がDean−3tark )ラッ
プを用いて除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷
却し、そしてMe、5iC7!約1.0 allを添加
した。
拌した。2相が分離され、そして有機層を集め、そして
真空下で濃縮した。残留物(79,0g )を、トルエ
ン88.7g中に溶解し、そしてKOH0,10g上で
還流した。すべての水がDean−3tark )ラッ
プを用いて除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷
却し、そしてMe、5iC7!約1.0 allを添加
した。
約1時間後、その溶液を、中ぐらいのガラスフリットを
通して濾過した。真空下でのその濾液の濃縮は、粘着性
のガム70.9g (83,8%の収率)を与えた。そ
のポリマーをトルエン150mf中に溶解し、そしてイ
ソプロパツール約1.52中に注いだ。沈殿したポリマ
ーを集め、そして約200℃及び1トルで乾燥せしめた
。プロトンNMR(CDC13、デルタ値) :
0.36〜0.40 (SiMe、広いシングレット)
、5、5〜6.3 (SiVi、広イシングレット)及
び6.8〜7.8 (SiPh、広いシングレット)
;SiMe/Stνi/5iPhのモル比は、1.0
/1.86/2.78であった。
通して濾過した。真空下でのその濾液の濃縮は、粘着性
のガム70.9g (83,8%の収率)を与えた。そ
のポリマーをトルエン150mf中に溶解し、そしてイ
ソプロパツール約1.52中に注いだ。沈殿したポリマ
ーを集め、そして約200℃及び1トルで乾燥せしめた
。プロトンNMR(CDC13、デルタ値) :
0.36〜0.40 (SiMe、広いシングレット)
、5、5〜6.3 (SiVi、広イシングレット)及
び6.8〜7.8 (SiPh、広いシングレット)
;SiMe/Stνi/5iPhのモル比は、1.0
/1.86/2.78であった。
B−計算。上記ポリマーのサンプル(2,643g )
を、(MeHSiO) o、 q7(Me3Sj06.
s) o、 oz流体(約20〜40センチストーク
の粘度)0.268g及びイソプロパツール中、0.1
MのHzPtCj2+、の溶液2滴と共に混合した。そ
の混合物を、室温に下げる前、約2時間135℃で加熱
し、ポリマーを架橋した。残留物をlO℃/分で180
0℃に加熱し、そして室温に冷却する前、アルゴン下で
2時間、1800℃で維持した。そのサンプルは56.
7%の質量残率を有し、そして50.3%の炭素を含ん
だ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100g
は、49.7%(差により)の珪素及び50.3%の炭
素から成るセラミック炭化物56.7gを与える。その
炭化物は、SiC40,25g(71,0%)及び炭素
16.44g (29,0%)から成る。
を、(MeHSiO) o、 q7(Me3Sj06.
s) o、 oz流体(約20〜40センチストーク
の粘度)0.268g及びイソプロパツール中、0.1
MのHzPtCj2+、の溶液2滴と共に混合した。そ
の混合物を、室温に下げる前、約2時間135℃で加熱
し、ポリマーを架橋した。残留物をlO℃/分で180
0℃に加熱し、そして室温に冷却する前、アルゴン下で
2時間、1800℃で維持した。そのサンプルは56.
7%の質量残率を有し、そして50.3%の炭素を含ん
だ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100g
は、49.7%(差により)の珪素及び50.3%の炭
素から成るセラミック炭化物56.7gを与える。その
炭化物は、SiC40,25g(71,0%)及び炭素
16.44g (29,0%)から成る。
従って、それぞれIgのポリマーは、高温分解の後、S
iC0,403g及び遊離炭素0.164gを与える。
iC0,403g及び遊離炭素0.164gを与える。
C−試験片の加工。上記データを用いて、次の混合物が
、1.4%の遊離炭素値及び0.3%の硼素により調製
された:トルエン約10〜15戚中に溶解された上記シ
ロキサンポリマー2.082gを、Ib1denSiC
粉末23.65 g、硼素0.073 g、(MeH3
iO) o、 97(MelSiOo、 s) o、
oz原流体約20〜40センチストークの粘度)0.2
17g及びイソプロパツール中、0.1Mのtl、Pt
162〜3滴と共に混合し、そして濃縮ペーストが得ら
れるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で粉砕した
。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を除去
した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し、そ
して90趨のメツシュ篩を通した。その篩分けされた粉
末を、試験片(35X8X2鵬)に46ks iで成形
した。その試験片を130℃で1時間、加熱し、そのポ
リマーを架橋した。硬化の後、試験片は、1100±7
5ps iの平均曲げ強度を有した。その硬化された試
験片を10℃/分の速度で2100”Cに加熱し、そし
てアルゴン雰囲気下で30分間、2100℃で維持した
。6種の加熱された試験片の平均密度は、3.14±0
.01 g/cd (理論的に97.8%)であった。
、1.4%の遊離炭素値及び0.3%の硼素により調製
された:トルエン約10〜15戚中に溶解された上記シ
ロキサンポリマー2.082gを、Ib1denSiC
粉末23.65 g、硼素0.073 g、(MeH3
iO) o、 97(MelSiOo、 s) o、
oz原流体約20〜40センチストークの粘度)0.2
17g及びイソプロパツール中、0.1Mのtl、Pt
162〜3滴と共に混合し、そして濃縮ペーストが得ら
れるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で粉砕した
。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を除去
した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し、そ
して90趨のメツシュ篩を通した。その篩分けされた粉
末を、試験片(35X8X2鵬)に46ks iで成形
した。その試験片を130℃で1時間、加熱し、そのポ
リマーを架橋した。硬化の後、試験片は、1100±7
5ps iの平均曲げ強度を有した。その硬化された試
験片を10℃/分の速度で2100”Cに加熱し、そし
てアルゴン雰囲気下で30分間、2100℃で維持した
。6種の加熱された試験片の平均密度は、3.14±0
.01 g/cd (理論的に97.8%)であった。
列」−シロキサン/ S i C混合物のホットプレス
。
。
1.5%の遊離炭素値を有する篩分けされたシロキサン
/ S i Cブレンドを、Ib1den SiC粉末
150g、硼素0.6g、例2と同じ方法により調製さ
れた式(PhSiO+、 s) o、 :IO(PhV
iSiO) +1. ?Oのシロキサン12.0g及び
過酸化ベンゾイル0.48gの混合物をトルエン中でア
トリッターにより粉砕することによって調製した。その
シロキサンは、高温分解の後、シロキサン1g当たり遊
離炭素0.197 gを含んだ。
/ S i Cブレンドを、Ib1den SiC粉末
150g、硼素0.6g、例2と同じ方法により調製さ
れた式(PhSiO+、 s) o、 :IO(PhV
iSiO) +1. ?Oのシロキサン12.0g及び
過酸化ベンゾイル0.48gの混合物をトルエン中でア
トリッターにより粉砕することによって調製した。その
シロキサンは、高温分解の後、シロキサン1g当たり遊
離炭素0.197 gを含んだ。
溶媒を、50℃以下で真空下で除去した。乾燥された混
合物を粉砕し、そして90−の篩を通して集めた。この
混合物のサンプルを20℃/分でアルゴン下で2100
℃に加熱し7、そして2100℃で1時間、維持した。
合物を粉砕し、そして90−の篩を通して集めた。この
混合物のサンプルを20℃/分でアルゴン下で2100
℃に加熱し7、そして2100℃で1時間、維持した。
この加熱循環しゅう、サンプルは4ksiの圧力下で維
持された。得られたホットプレス体の密度は3.17g
/cffl(理論的に98.8%)であった。
持された。得られたホットプレス体の密度は3.17g
/cffl(理論的に98.8%)であった。
そのホットプレスされたサンプルを断片化し、そして旧
L−5TD−1942(MR) (1983年11月2
1日)に従って試験片に機械加工した。その機械加工さ
れた試験片の平均曲げ強度は90ks iであった。
L−5TD−1942(MR) (1983年11月2
1日)に従って試験片に機械加工した。その機械加工さ
れた試験片の平均曲げ強度は90ks iであった。
例ご7 : (PhSiO+、s)a、21(MeS
iO+、s)o、a:+(PhViSiO)o、xhか
らの焼結体の調製。
iO+、s)o、a:+(PhViSiO)o、xhか
らの焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。トルエン50戚中、50.8 g
(0,25モル) (D PhViSiCfz 、31
.7g (0,15モル)のPhSiCQ 3及び44
.8g (0,30モル)のMeSiC/!、。
(0,25モル) (D PhViSiCfz 、31
.7g (0,15モル)のPhSiCQ 3及び44
.8g (0,30モル)のMeSiC/!、。
の溶液を、水400d及びトルエン250i中、180
gのNazCO3の撹拌混合物に滴下した。添加が完結
した後その反応混合物を室温で45分間撹拌した。
gのNazCO3の撹拌混合物に滴下した。添加が完結
した後その反応混合物を室温で45分間撹拌した。
2相が分離され、そして有機層を集め、そして真空下で
濃縮した。残留物(75,2g )を、トルエン約15
0g中に溶解し、そしてKOII O,103g上で還
流した。すべての水がDean−Stark トラップ
を用いて除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷却
し、そしてMe3SiCβ約1.0 dを添加した。約
1時間後、その溶液を、0.2 tmの膜フィルターを
通して濾過した。真空下でその濾液を濃縮し、そしてそ
の残留物を150dのトルエン中に溶解した。そのトル
エン溶液を、イソプロパツール約1.51中に注いだ。
濃縮した。残留物(75,2g )を、トルエン約15
0g中に溶解し、そしてKOII O,103g上で還
流した。すべての水がDean−Stark トラップ
を用いて除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷却
し、そしてMe3SiCβ約1.0 dを添加した。約
1時間後、その溶液を、0.2 tmの膜フィルターを
通して濾過した。真空下でその濾液を濃縮し、そしてそ
の残留物を150dのトルエン中に溶解した。そのトル
エン溶液を、イソプロパツール約1.51中に注いだ。
沈殿したポリマーを集め、そして約200℃及び1トル
で乾燥せしめた。その収量は41.9g (54,8%
)であった。プロトンNMR(CDC13、デルタ値)
: 0.23〜0.60 (SiMe、広いリン
グ1/ツト) 、5.6〜6.4 (SiVi、広イシ
ングレント)及び6.9〜3.Q (SiPh、広いシ
ングレット);SiMe/5iVi/5iPhのモル比
は、2.7 / 1.0 / 1.1であった。GPC
分子量(THF溶媒):M讐−4993及びMn =1
215゜ B−計算。上記シロキサンポリマー1.841 g 及
び過酸化ベンゾイル0.035 gのブレンドを、乳鉢
及び乳棒により調製した。そのブレンドを135℃に4
5分間、加熱し、シロキサンポリマーを架橋せしめた。
で乾燥せしめた。その収量は41.9g (54,8%
)であった。プロトンNMR(CDC13、デルタ値)
: 0.23〜0.60 (SiMe、広いリン
グ1/ツト) 、5.6〜6.4 (SiVi、広イシ
ングレント)及び6.9〜3.Q (SiPh、広いシ
ングレット);SiMe/5iVi/5iPhのモル比
は、2.7 / 1.0 / 1.1であった。GPC
分子量(THF溶媒):M讐−4993及びMn =1
215゜ B−計算。上記シロキサンポリマー1.841 g 及
び過酸化ベンゾイル0.035 gのブレンドを、乳鉢
及び乳棒により調製した。そのブレンドを135℃に4
5分間、加熱し、シロキサンポリマーを架橋せしめた。
次に、硬化されたシロキサンを、アルゴン下で1800
”C(13℃/分で室温から1200℃15℃/分で1
200から1800℃及び1800℃での30分間の保
持)に加熱した。そのサンプルは、50.0%のII残
率を有し、そして49.0%の炭素を含んだ。次の計算
を行なった:硬化されたポリマー100gは、 珪素51.0%(差により)及び炭素49.0%から成
るセラミック炭化物50.0 gを与える。その炭化物
は、SiC36,4g (72,8%)及び炭素13.
6g (27,2%)から成る。従って、それぞれ1g
のポリマーは、高温分解の後、SiC0,36X g及
び遊離炭素0.136gを与える。
”C(13℃/分で室温から1200℃15℃/分で1
200から1800℃及び1800℃での30分間の保
持)に加熱した。そのサンプルは、50.0%のII残
率を有し、そして49.0%の炭素を含んだ。次の計算
を行なった:硬化されたポリマー100gは、 珪素51.0%(差により)及び炭素49.0%から成
るセラミック炭化物50.0 gを与える。その炭化物
は、SiC36,4g (72,8%)及び炭素13.
6g (27,2%)から成る。従って、それぞれ1g
のポリマーは、高温分解の後、SiC0,36X g及
び遊離炭素0.136gを与える。
C−試験片の加工。上記パー1−Bの計算及び次の方法
を用いて、1.8%の遊離炭素値を有するシロキサン/
S i C混合物を調製した:上記シロキザンボリマ
ー3.39i gを、Ib1den SiC粉末23.
333g及び硼素0.075gと共に、濃縮ペーストが
得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合
した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を
除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し
、そして次に90−のメツシュ篩を通した。その篩分け
された粉末を、46ks iで試験片(35X 8 X
2 mm)に乾燥成形した。その未加工試験片は、1
050±166ps iの平均曲げ強度を有した。
を用いて、1.8%の遊離炭素値を有するシロキサン/
S i C混合物を調製した:上記シロキザンボリマ
ー3.39i gを、Ib1den SiC粉末23.
333g及び硼素0.075gと共に、濃縮ペーストが
得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合
した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を
除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し
、そして次に90−のメツシュ篩を通した。その篩分け
された粉末を、46ks iで試験片(35X 8 X
2 mm)に乾燥成形した。その未加工試験片は、1
050±166ps iの平均曲げ強度を有した。
その試験片を75℃で1.5時間硬化した;その平均曲
げ強度は1720±107ps iに高められた。次に
その試験片を、次の温度プログラムを用いてアルゴン下
で2050℃に加熱した: 11.2℃/分で室温から
300℃110℃/分で300℃から550℃16℃/
分で550℃から700℃132,4”C/分で700
℃から1350℃130℃/分で1350℃から205
0℃及び2050″Cでの30分間の保持。加熱された
試験片の平均密度は、2.99g/c+a (理論的に
93.1%)であった。その加熱された試験片は、34
.4±4.2ksiの平均曲げ強度を有した。
げ強度は1720±107ps iに高められた。次に
その試験片を、次の温度プログラムを用いてアルゴン下
で2050℃に加熱した: 11.2℃/分で室温から
300℃110℃/分で300℃から550℃16℃/
分で550℃から700℃132,4”C/分で700
℃から1350℃130℃/分で1350℃から205
0℃及び2050″Cでの30分間の保持。加熱された
試験片の平均密度は、2.99g/c+a (理論的に
93.1%)であった。その加熱された試験片は、34
.4±4.2ksiの平均曲げ強度を有した。
げ強度を有した。
也工: (r’hsio+、 s) 0.31 (Me
SiO+、 s) o、 sb (PhViSiO)
0.23からの焼結体の調製。
SiO+、 s) o、 sb (PhViSiO)
0.23からの焼結体の調製。
トルエン50d中、30.5g (0,15モル)のP
hViSiCl z 、42.3 g (0,20モル
)のPhSiCe 3及び44.8g (0,30モル
)のMeSiC13の溶液を、水400m1及びトルエ
ン25Od中、180gのNazCO3の撹拌混合物に
滴下した。添加が完結した後、その反応混合物を室温で
45分間撹拌した。2相が分離され、そして有機層を集
め、そして真空下で濃縮した。残留物(71,3g )
を、トルエン189.5g中に溶解し、そしてKO!(
0,129g上で還流した。
hViSiCl z 、42.3 g (0,20モル
)のPhSiCe 3及び44.8g (0,30モル
)のMeSiC13の溶液を、水400m1及びトルエ
ン25Od中、180gのNazCO3の撹拌混合物に
滴下した。添加が完結した後、その反応混合物を室温で
45分間撹拌した。2相が分離され、そして有機層を集
め、そして真空下で濃縮した。残留物(71,3g )
を、トルエン189.5g中に溶解し、そしてKO!(
0,129g上で還流した。
すべての水がDean−5tark トラップを用いて
除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷却し、そし
てMe3SiC1約1.0 dを添加した。約1時間後
、その溶液を、0.2−の膜フィルターを通して濾過し
た。その濾液を真空下で濃縮し、そしてその残留物を2
00”C及び1トルで乾燥せしめた。収量は40.0g
(58,7%の収率)であった、GPC分子量(TH
F溶媒) : Mw =9011、M n = 15
40゜B−計算。上記シロキサンポリマー1.740g
及び過酸化ベンゾイル0.068gのブレンドを、乳鉢
及び乳棒により調製した。そのブレンドを170℃ニ1
5分間、加熱し、シロキサンポリマーを架橋せしめた。
除去された後、そのトルエン溶液を室温に冷却し、そし
てMe3SiC1約1.0 dを添加した。約1時間後
、その溶液を、0.2−の膜フィルターを通して濾過し
た。その濾液を真空下で濃縮し、そしてその残留物を2
00”C及び1トルで乾燥せしめた。収量は40.0g
(58,7%の収率)であった、GPC分子量(TH
F溶媒) : Mw =9011、M n = 15
40゜B−計算。上記シロキサンポリマー1.740g
及び過酸化ベンゾイル0.068gのブレンドを、乳鉢
及び乳棒により調製した。そのブレンドを170℃ニ1
5分間、加熱し、シロキサンポリマーを架橋せしめた。
次に、架橋されたポリマーを、アルゴン下で1900℃
(13℃/分で室温から1200℃15℃/分で120
0から1900℃及び1900″Cでの2時間の保持)
に加熱した。
(13℃/分で室温から1200℃15℃/分で120
0から1900℃及び1900″Cでの2時間の保持)
に加熱した。
そのサンプルは、44.4%の質量残率を有し、そして
43.8%の炭素を含んだ。
43.8%の炭素を含んだ。
C−試験片の加工。1.5%の遊離炭素値を有するシロ
キサン/ S i Cブレンドを、次の方法を用いて調
製した;約10〜15dのトルエン中に溶解された上記
シロキサンポリマー4.409 g及び過酸化ベンゾイ
ル0.176gを、Ib1den SiC粉末23.0
42 g及び硼素0.100 gと共に、濃縮ペースト
が得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混
合した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒
を除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕
し、そして次に90趨のメツシュ篩を通した。篩分けさ
れた粉末を、46ks iで試験片(35X8X2+1
1111)に乾燥成形した。その未加工試験片は、13
76±224ps+の平均曲げ強度及び2.21g/c
+dの平均密度を有した。その試験片を例7(パートC
)におけるのと同じ温度プログラムを用いてアルゴン雰
囲気下で2050℃に加熱した。加熱された試験片の平
均密度は、3.11g/Cff1(理論的に96.9%
)であった。その加熱された試験片は、41.8±7.
4ksiの平均曲げ強度を有した。
キサン/ S i Cブレンドを、次の方法を用いて調
製した;約10〜15dのトルエン中に溶解された上記
シロキサンポリマー4.409 g及び過酸化ベンゾイ
ル0.176gを、Ib1den SiC粉末23.0
42 g及び硼素0.100 gと共に、濃縮ペースト
が得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混
合した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒
を除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕
し、そして次に90趨のメツシュ篩を通した。篩分けさ
れた粉末を、46ks iで試験片(35X8X2+1
1111)に乾燥成形した。その未加工試験片は、13
76±224ps+の平均曲げ強度及び2.21g/c
+dの平均密度を有した。その試験片を例7(パートC
)におけるのと同じ温度プログラムを用いてアルゴン雰
囲気下で2050℃に加熱した。加熱された試験片の平
均密度は、3.11g/Cff1(理論的に96.9%
)であった。その加熱された試験片は、41.8±7.
4ksiの平均曲げ強度を有した。
例9鐸(PhSiO+、 s) 0.75 (MezV
iSiOo、 s) o、 zs及びPhzSi (O
5iMezll) zからの焼結体の調製。
iSiOo、 s) o、 zs及びPhzSi (O
5iMezll) zからの焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。3960 gのPhSi (OM
e) :l及び620gの(ViMez、Si) zo
の混合物を、水800g中、トリフルオロメタンスルホ
ン酸3gの溶液に添加した。その反応混合物を室温で約
20分間維持し、そして5時間還流した。次にその反応
混合物を室温に冷却し、そして炭酸カリウム2.73g
により中和した。反応混合物の温度が120℃に達する
まで、揮発物を蒸留により除去した。反応混合物を室温
に冷却し、この時点で、トルエン1500 g及び3%
KO)l水溶液125.7 gを添加した。次に水をD
eanStark )ラップを用いて除去した。水が
完全に除去された後、その反応混合物を室温に冷却し、
この時点で、MezViSiCf 20m1を添加した
。室温で約2時間撹拌した後、反応混合物を0.2卿の
膜フィルターに通し濾過し、そしてその濾液を回転1発
器を用いて濃縮した。残留物を、100℃及び1トルで
約1〜2時間、乾燥せしめた。単位式%式% 3053.3 g (95,4%の収率)であった。
e) :l及び620gの(ViMez、Si) zo
の混合物を、水800g中、トリフルオロメタンスルホ
ン酸3gの溶液に添加した。その反応混合物を室温で約
20分間維持し、そして5時間還流した。次にその反応
混合物を室温に冷却し、そして炭酸カリウム2.73g
により中和した。反応混合物の温度が120℃に達する
まで、揮発物を蒸留により除去した。反応混合物を室温
に冷却し、この時点で、トルエン1500 g及び3%
KO)l水溶液125.7 gを添加した。次に水をD
eanStark )ラップを用いて除去した。水が
完全に除去された後、その反応混合物を室温に冷却し、
この時点で、MezViSiCf 20m1を添加した
。室温で約2時間撹拌した後、反応混合物を0.2卿の
膜フィルターに通し濾過し、そしてその濾液を回転1発
器を用いて濃縮した。残留物を、100℃及び1トルで
約1〜2時間、乾燥せしめた。単位式%式% 3053.3 g (95,4%の収率)であった。
GPC分子量(THF溶媒) : Miv =180
3、Mn =806゜B−計算。(1)上記樹脂14.
85 g、5.16gのPhzSi(O5iMezH)
!及び触媒A0.01 gのブレンドを調製した。触
媒Aは、オクタデシルジメルアミン0.09g、0.3
51 gの((C4L) 、IP) zPtCj! z
及びトルエン32.7gから成った。このブレンドのサ
ンプルを120℃で1時間、架橋した。このサンプルを
、例日におけるのと同じ方法を用いてアルゴン下で19
00℃に加熱した。そのサンプルは、44.9%の質量
残率を有し、そして炭素53.4%を含んだ。次の計算
を行なった:硬化されたポリマー100gは、珪素46
.6%(差により)及び炭素53.4%から成るセラミ
ック炭化物44゜9gを与える。その炭化物は、SiC
29,9g (66,6%)及び炭素15.0g (3
3,4%)から成る。従って、それぞれIgのポリマー
は、高熱分解の後、、 SiC0,299g及び遊離
炭素0.150gを与える。
3、Mn =806゜B−計算。(1)上記樹脂14.
85 g、5.16gのPhzSi(O5iMezH)
!及び触媒A0.01 gのブレンドを調製した。触
媒Aは、オクタデシルジメルアミン0.09g、0.3
51 gの((C4L) 、IP) zPtCj! z
及びトルエン32.7gから成った。このブレンドのサ
ンプルを120℃で1時間、架橋した。このサンプルを
、例日におけるのと同じ方法を用いてアルゴン下で19
00℃に加熱した。そのサンプルは、44.9%の質量
残率を有し、そして炭素53.4%を含んだ。次の計算
を行なった:硬化されたポリマー100gは、珪素46
.6%(差により)及び炭素53.4%から成るセラミ
ック炭化物44゜9gを与える。その炭化物は、SiC
29,9g (66,6%)及び炭素15.0g (3
3,4%)から成る。従って、それぞれIgのポリマー
は、高熱分解の後、、 SiC0,299g及び遊離
炭素0.150gを与える。
(2)上記樹脂16.21 g、3.80gのPhzS
i (O5iMez)i) z及び触媒A 0.594
gのブレンドを調製した。このブレンドのサンプルを1
20℃で1時間、架橋した。
i (O5iMez)i) z及び触媒A 0.594
gのブレンドを調製した。このブレンドのサンプルを1
20℃で1時間、架橋した。
このサンプルを、例8におけるのと同じ方法を用いてア
ルゴン下で1900℃に加熱した。そのサンプルは、4
7.4%の質量残率を有し、そして炭素48.8%を含
んだ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100
gは、珪素48.8%(差により)及び炭素51.2%
から成るセラミック炭化物47.4gを与える。その炭
化物は、SiC33,0g (69,7%)及び炭素1
4.4g (30,3%)から成る。従って、それぞれ
1gのポリマーは、高熱分解の後、SiC0,330g
及び遊離炭素0.144 gを与える。
ルゴン下で1900℃に加熱した。そのサンプルは、4
7.4%の質量残率を有し、そして炭素48.8%を含
んだ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100
gは、珪素48.8%(差により)及び炭素51.2%
から成るセラミック炭化物47.4gを与える。その炭
化物は、SiC33,0g (69,7%)及び炭素1
4.4g (30,3%)から成る。従って、それぞれ
1gのポリマーは、高熱分解の後、SiC0,330g
及び遊離炭素0.144 gを与える。
C−試験片の加工。(1)上記樹脂29.7g、10.
32 gのPh、Si(O5iMezH) 2及び触媒
A 0.594gのブレンドを調製した。そのブレンド
は、1.5%の′M離炭素値を有した。このブレンドの
サンプル(5,000g )を、トルエン約10〜15
m1に溶解し、そしてIb1den SiC粉末47.
6 g及び硼素0.15gと共に、″4w3ペーストが
得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合
した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を
除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し
1.そして次に90周のメツシュ篩を通した。篩分けさ
れた粉末を、35ks iで試験片(35X8X2閣)
に乾燥成形した。
32 gのPh、Si(O5iMezH) 2及び触媒
A 0.594gのブレンドを調製した。そのブレンド
は、1.5%の′M離炭素値を有した。このブレンドの
サンプル(5,000g )を、トルエン約10〜15
m1に溶解し、そしてIb1den SiC粉末47.
6 g及び硼素0.15gと共に、″4w3ペーストが
得られるまで、硬化されたアルミナ乳鉢及び乳棒で混合
した。そのペーストを真空下で乾燥せしめ、残留溶媒を
除去した。その乾燥された粉末を乳鉢及び乳棒で粉砕し
1.そして次に90周のメツシュ篩を通した。篩分けさ
れた粉末を、35ks iで試験片(35X8X2閣)
に乾燥成形した。
その未加工試験片は、622±145psiの平均曲げ
強度及び2.04g/c+dの平均密度を有した。その
試験片を135℃で15時間加熱し、ポリマーを架橋し
た。
強度及び2.04g/c+dの平均密度を有した。その
試験片を135℃で15時間加熱し、ポリマーを架橋し
た。
その硬化された試験片は、1990±433ps iの
平均曲げ強度及び2.04g/cfflの平均密度を有
した。次にその試験片を、15℃/分でアルゴン下で2
075℃に加熱し、そして2075℃で30分間維持し
た。加熱された試験片の平均密度は、3.15g/cf
fl(理論的に98.1%)であった。その加熱された
試験片は、54.7±3.5ksiの平均曲げ強度を有
した。
平均曲げ強度及び2.04g/cfflの平均密度を有
した。次にその試験片を、15℃/分でアルゴン下で2
075℃に加熱し、そして2075℃で30分間維持し
た。加熱された試験片の平均密度は、3.15g/cf
fl(理論的に98.1%)であった。その加熱された
試験片は、54.7±3.5ksiの平均曲げ強度を有
した。
(2)上記パートC(1)で調製された未架橋ブレンド
のサンプル(3,215g )を、トルエン中、1bi
den SiC粉末23.41!及び硼素0.106g
と共に混合した。そのブレンドは1.9%の遊離炭素値
を有した。試験片を上記バートC(1)と同じ方法を用
いて調製し、そしてそれは未処理状態で2.15g/
cfflの密度を有した。その未処理試験片を、135
℃で3日間加熱し、ポリマーを架橋せしめた。その後、
その試験片は3065±339ps iの平均曲げ強度
を有した。その硬化された試験片を、次の温度プログラ
ムを用いて2075℃に加熱した: 17.3℃/分で
室温から520℃19,3℃/分で520℃から800
℃、11.1″C/分で800℃から1100℃11,
7℃/分で1100℃から1300℃125,8℃/分
で1300℃から2075℃及び2075℃で30分間
の保持。加熱された試験片の平均密度は3.15g/c
ffl(理論的に98.1%)であった。その加熱され
た試験片は、48.7±632ksiの平均曲げ強度を
有した。
のサンプル(3,215g )を、トルエン中、1bi
den SiC粉末23.41!及び硼素0.106g
と共に混合した。そのブレンドは1.9%の遊離炭素値
を有した。試験片を上記バートC(1)と同じ方法を用
いて調製し、そしてそれは未処理状態で2.15g/
cfflの密度を有した。その未処理試験片を、135
℃で3日間加熱し、ポリマーを架橋せしめた。その後、
その試験片は3065±339ps iの平均曲げ強度
を有した。その硬化された試験片を、次の温度プログラ
ムを用いて2075℃に加熱した: 17.3℃/分で
室温から520℃19,3℃/分で520℃から800
℃、11.1″C/分で800℃から1100℃11,
7℃/分で1100℃から1300℃125,8℃/分
で1300℃から2075℃及び2075℃で30分間
の保持。加熱された試験片の平均密度は3.15g/c
ffl(理論的に98.1%)であった。その加熱され
た試験片は、48.7±632ksiの平均曲げ強度を
有した。
(3)上記(PhSiO+、 s) o、 qs (M
ezViSiOo、 s) 0.25樹脂29.7 g
、 10.32 gのPh2Si (O5iMez
H) z及び触媒B 0.594gのブレンドを調製し
た。触媒Bは、0.182gの1iOcIl、C)!z
NHz 、1.OOgの((C411?) :lP)
zPtc l□及びトルエン100gから成った。ヘキ
サン中、この未架橋ブレンド(5,25g)及び分散剤
(Chevron Chemicalからの0LOA
1200)2.0gの溶液を、5uperior Gr
aphite SiC粉末50g及び硼素0.5gと共
に、濃縮ペーストが得られるまで、硬化されたアルミナ
乳鉢及び乳棒で混合した。そのブレンドは、1.4%の
遊離炭素値を有した。残留溶媒を真空下で除去した。そ
の乾燥された粉末を粉砕し、そして90−のスクリーン
を通した。篩分けされた粉末を50ksiで試験片(7
,7X 35.9 X 15mm)に−軸成形した。未
処理試験片の密度は2.27±0.02g/cfflで
あった。その試験片を次のプロフィールを用いてアルゴ
ン下で2075℃に加熱した:25℃/分で室温から1
400℃11400℃で30分間の保持、15”C/分
で1400℃から2075℃及び2075℃での30分
間の保持。加熱されたサンプルの密度は、平均3.14
+0.02g/cnt (理論的に97.8%)であっ
た。機械処理(MIL−STD−1942(MR) (
1983年11月21日)による)の後、その曲げ強度
は、平均48.3±7.5ksiであった。
ezViSiOo、 s) 0.25樹脂29.7 g
、 10.32 gのPh2Si (O5iMez
H) z及び触媒B 0.594gのブレンドを調製し
た。触媒Bは、0.182gの1iOcIl、C)!z
NHz 、1.OOgの((C411?) :lP)
zPtc l□及びトルエン100gから成った。ヘキ
サン中、この未架橋ブレンド(5,25g)及び分散剤
(Chevron Chemicalからの0LOA
1200)2.0gの溶液を、5uperior Gr
aphite SiC粉末50g及び硼素0.5gと共
に、濃縮ペーストが得られるまで、硬化されたアルミナ
乳鉢及び乳棒で混合した。そのブレンドは、1.4%の
遊離炭素値を有した。残留溶媒を真空下で除去した。そ
の乾燥された粉末を粉砕し、そして90−のスクリーン
を通した。篩分けされた粉末を50ksiで試験片(7
,7X 35.9 X 15mm)に−軸成形した。未
処理試験片の密度は2.27±0.02g/cfflで
あった。その試験片を次のプロフィールを用いてアルゴ
ン下で2075℃に加熱した:25℃/分で室温から1
400℃11400℃で30分間の保持、15”C/分
で1400℃から2075℃及び2075℃での30分
間の保持。加熱されたサンプルの密度は、平均3.14
+0.02g/cnt (理論的に97.8%)であっ
た。機械処理(MIL−STD−1942(MR) (
1983年11月21日)による)の後、その曲げ強度
は、平均48.3±7.5ksiであった。
(4)ヘキサン15(1mLl中、上記単位式%式%
1.11gのPhzSi(O5iMe2H) z及び触
媒C5滴の溶液を、5tarck AIOSiC粉末5
0g及び硼素0.25gと共に10分間超音波混合し、
1.5%の遊離炭素値を有するブレンドを得た。触媒C
は、0.11gの1(OCII□CI(Jllz 、0
.10 gの((C4H9) 3P) zPtCl g
及びトルエン10gから成った。溶媒を真空下で除去し
、そして残留物を60メソシユの篩に通した。篩分けさ
れた粉末を、種々の圧力で試験片に一軸成形した。試験
片を、上記バートC(4)に記載されるのと同じ温度を
用いて、2020℃及び2075℃に加熱した。次の結
果が得られた: 10 1.92 2
.9920 1.93 2.97
3.0230 1.96 2.97
3.0250 1.99
2.99 3.0560 2.05
3.00 3.07(5)へキ
サン150緘中、上記単位式%式% 1.11gのPhzSi(O3iMe−zH) z及び
触媒C5滴の溶液を、5tarck BIOSiC粉末
50g及び硼素0.25gと共に10分間超音波混合し
、1.5%の遊離炭素値を存するブレンドを得た。触媒
Cは、0.11gの)10cHzcllJIb 、0.
10 gの((C4H9) iP) zP tCl□及
びトルエン10gから成った。溶媒を真空下で除去し、
そして残留物を60メツシユの篩に通した。篩分けされ
た粉末を、種々の圧力で試験片に一軸成形した。試験片
を、上記パートC(4)に記載されるのと同じ温度を用
いて、2020℃及び2075℃に加熱した。次の結果
が得られた: 10 2.06 3
.1120 2.08 3.04
3.1130 2.13 3.06
3.1150 2.15
3.03 3.1160 2.18
3.08 3.10(6)上記C
(5)におけるのと同じブレンド及び方法を用いて試験
片を調製した。但し、Ib1denSiC粉末が使用さ
れた。試験片を調製するための圧力は変更された。試験
片は、150℃で17時間、アルゴン雰囲気下で硬化さ
れた。次の結果が得られた: to 140 11
17(7)ヘキサン450m1中、上記単位式%式% 溶液を、Ib1den SiC粉末44.75g及び酸
化アルミニウム0.503gと共に10分間超音波混合
した。得られたブレンドは、1.9%の遊離炭素値を有
した。
媒C5滴の溶液を、5tarck AIOSiC粉末5
0g及び硼素0.25gと共に10分間超音波混合し、
1.5%の遊離炭素値を有するブレンドを得た。触媒C
は、0.11gの1(OCII□CI(Jllz 、0
.10 gの((C4H9) 3P) zPtCl g
及びトルエン10gから成った。溶媒を真空下で除去し
、そして残留物を60メソシユの篩に通した。篩分けさ
れた粉末を、種々の圧力で試験片に一軸成形した。試験
片を、上記バートC(4)に記載されるのと同じ温度を
用いて、2020℃及び2075℃に加熱した。次の結
果が得られた: 10 1.92 2
.9920 1.93 2.97
3.0230 1.96 2.97
3.0250 1.99
2.99 3.0560 2.05
3.00 3.07(5)へキ
サン150緘中、上記単位式%式% 1.11gのPhzSi(O3iMe−zH) z及び
触媒C5滴の溶液を、5tarck BIOSiC粉末
50g及び硼素0.25gと共に10分間超音波混合し
、1.5%の遊離炭素値を存するブレンドを得た。触媒
Cは、0.11gの)10cHzcllJIb 、0.
10 gの((C4H9) iP) zP tCl□及
びトルエン10gから成った。溶媒を真空下で除去し、
そして残留物を60メツシユの篩に通した。篩分けされ
た粉末を、種々の圧力で試験片に一軸成形した。試験片
を、上記パートC(4)に記載されるのと同じ温度を用
いて、2020℃及び2075℃に加熱した。次の結果
が得られた: 10 2.06 3
.1120 2.08 3.04
3.1130 2.13 3.06
3.1150 2.15
3.03 3.1160 2.18
3.08 3.10(6)上記C
(5)におけるのと同じブレンド及び方法を用いて試験
片を調製した。但し、Ib1denSiC粉末が使用さ
れた。試験片を調製するための圧力は変更された。試験
片は、150℃で17時間、アルゴン雰囲気下で硬化さ
れた。次の結果が得られた: to 140 11
17(7)ヘキサン450m1中、上記単位式%式% 溶液を、Ib1den SiC粉末44.75g及び酸
化アルミニウム0.503gと共に10分間超音波混合
した。得られたブレンドは、1.9%の遊離炭素値を有
した。
触媒Bは、上記パー1−C(3)に記載される。溶媒を
真空下で除去し、そして残留物を250−のスクリーン
に通した。篩分けされた粉末を、47ks iで試験片
に一軸成形した。その試験片を200℃で18時間、空
気中で硬化した。その硬化された試験片は、2.19±
0.01g/cイの平均密度及び2601±224匹i
の曲げ強度を有した。次に、その試験片を、アルゴン雰
囲気下で15℃/分で2075℃(1400℃及び20
75℃で30分の保持を含む)に加熱した。その加熱さ
れた試験片の平均密度は、2.76g/cffl(理論
的に86%)であった。
真空下で除去し、そして残留物を250−のスクリーン
に通した。篩分けされた粉末を、47ks iで試験片
に一軸成形した。その試験片を200℃で18時間、空
気中で硬化した。その硬化された試験片は、2.19±
0.01g/cイの平均密度及び2601±224匹i
の曲げ強度を有した。次に、その試験片を、アルゴン雰
囲気下で15℃/分で2075℃(1400℃及び20
75℃で30分の保持を含む)に加熱した。その加熱さ
れた試験片の平均密度は、2.76g/cffl(理論
的に86%)であった。
(8)上記樹脂3.53g、 1.22gのPh、Si
(OSiMezFI) z、触媒B 0.105g、
Ib1den SiC粉末44.75g及び炭化硼素
粉末0.50 gから、上記C(7)と同じ方法を用い
て試験片を調製し:その試験片を、上記C(7)におけ
るように硬化し、そして2075℃に加熱した。硬化さ
れた(加熱されていない)試験片は、2.13±0.0
1g/(1!1の平均密度及び2417±256psi
の曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均密度は、
3.14 g /c4 (理論的に98%)であった。
(OSiMezFI) z、触媒B 0.105g、
Ib1den SiC粉末44.75g及び炭化硼素
粉末0.50 gから、上記C(7)と同じ方法を用い
て試験片を調製し:その試験片を、上記C(7)におけ
るように硬化し、そして2075℃に加熱した。硬化さ
れた(加熱されていない)試験片は、2.13±0.0
1g/(1!1の平均密度及び2417±256psi
の曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均密度は、
3.14 g /c4 (理論的に98%)であった。
(9)上記樹脂3.53g、1.22gのPh、Si(
OSiMe、ll) z、触媒B O,105g、 1
biden SiC粉末44.75g及び窒化アルミニ
ウム0.503 gから、上記C(7)と同じ方法を用
いて試験片を調製し;その試験片を、上記C(7)にお
けるように硬化し、そして2075℃に加熱した。硬化
された(加熱されていない)試験片は、2,23±0.
02g/cI11の平均密度及び4224±110ps
iの曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均密度は
、2.70g/cl(理論的に84%)であった。
OSiMe、ll) z、触媒B O,105g、 1
biden SiC粉末44.75g及び窒化アルミニ
ウム0.503 gから、上記C(7)と同じ方法を用
いて試験片を調製し;その試験片を、上記C(7)にお
けるように硬化し、そして2075℃に加熱した。硬化
された(加熱されていない)試験片は、2,23±0.
02g/cI11の平均密度及び4224±110ps
iの曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均密度は
、2.70g/cl(理論的に84%)であった。
(10)上記樹脂3.53g、1.22gのPh、Si
(OSiMezH) z、触媒B O,105g、
Ib1den SiC粉末44.75 g及び酸化アル
ミニウム0.255gから、上記C(7)と同じ方法を
用いて試験片を調製し;その試験片を、上記C(7)に
おけるように硬化し、そして2075゛Cに加熱した。
(OSiMezH) z、触媒B O,105g、
Ib1den SiC粉末44.75 g及び酸化アル
ミニウム0.255gから、上記C(7)と同じ方法を
用いて試験片を調製し;その試験片を、上記C(7)に
おけるように硬化し、そして2075゛Cに加熱した。
硬化された(加熱されていない)試験片は、2.11±
0.02g/cfflの平均密度及び2300±168
ps iの曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均
密度は、2.76 g / crl (理論的に86%
)であった。
0.02g/cfflの平均密度及び2300±168
ps iの曲げ強度を有した。加熱された試験片の平均
密度は、2.76 g / crl (理論的に86%
)であった。
耐圧: (PhStO+、5)。、、。(CJtSiO
+、 s)。1゜(MezViSiO) e、 zs及
びPhSi(O5iMezll) xからの焼結体の調
製。
+、 s)。1゜(MezViSiO) e、 zs及
びPhSi(O5iMezll) xからの焼結体の調
製。
A−ポリマーの合成。 152.5 g ノPh5j
(OMe) :t、37.9gのCJ7Si (OMe
) :l及び50.1gの(ViMezSi) zOの
混合物を、水54g及びトリフルオロメタンスルホン酸
0.16 gの溶液に添加した。その反応混合物を室温
で約20分間維持し、そして4時間還流した。
(OMe) :t、37.9gのCJ7Si (OMe
) :l及び50.1gの(ViMezSi) zOの
混合物を、水54g及びトリフルオロメタンスルホン酸
0.16 gの溶液に添加した。その反応混合物を室温
で約20分間維持し、そして4時間還流した。
次にその反応混合物を室温に冷却し、そして炭酸カリウ
ム0.18gにより中和した。反応混合物の温度が12
0℃に達するまで、揮発物を蒸留により除去した。反応
混合物を室温に冷却し、この時点で、トルエン700g
及び3%KOH水溶液6.2gを添加した。次に水をD
ean−Stark )ラップを用いて除去した。水が
完全に除去された後、その反応混合物を室温に冷却し、
この時点で、MezViSiCj! 1 urnを添加
した。室温で約2時間撹拌した後、反応混合物を焼結ガ
ラスフィルターに通し濾過し、そしてその濾液を回転蒸
発器を用いて濃縮した。残留物を、100℃及び1トル
で乾燥せしめた。収量は155.2gであった。プロト
ンNMR(d8− )ルエン、デルタ(直) : 0
.04〜0.6 (SiMe、白いシングレット)、
0.7〜2.1 (SiCsllt、広いハンプ)、
5.7〜6.3 (SiVi、広いマルチプレット)及
び6.8〜8.4 (SiPh、広いマルチプレット)
; SiMe/5tCJt/5iVi/5iPhの
−1−/L/比は、2.1 / 1.4 /1、0 /
3.3であった。cpc分子量(THF溶媒):Mw
=1248、Mn =867゜ B−計算。上記樹脂5.00 g、1.73 gのPh
Si(OSiMe、H)3及び触媒80.069gのブ
レンドを調製した。触媒Bは、0.182 gのHOC
I(zcHtNHzl、00gの((C4H9) 3P
) zPtCl z及びトルエン100gから成った。
ム0.18gにより中和した。反応混合物の温度が12
0℃に達するまで、揮発物を蒸留により除去した。反応
混合物を室温に冷却し、この時点で、トルエン700g
及び3%KOH水溶液6.2gを添加した。次に水をD
ean−Stark )ラップを用いて除去した。水が
完全に除去された後、その反応混合物を室温に冷却し、
この時点で、MezViSiCj! 1 urnを添加
した。室温で約2時間撹拌した後、反応混合物を焼結ガ
ラスフィルターに通し濾過し、そしてその濾液を回転蒸
発器を用いて濃縮した。残留物を、100℃及び1トル
で乾燥せしめた。収量は155.2gであった。プロト
ンNMR(d8− )ルエン、デルタ(直) : 0
.04〜0.6 (SiMe、白いシングレット)、
0.7〜2.1 (SiCsllt、広いハンプ)、
5.7〜6.3 (SiVi、広いマルチプレット)及
び6.8〜8.4 (SiPh、広いマルチプレット)
; SiMe/5tCJt/5iVi/5iPhの
−1−/L/比は、2.1 / 1.4 /1、0 /
3.3であった。cpc分子量(THF溶媒):Mw
=1248、Mn =867゜ B−計算。上記樹脂5.00 g、1.73 gのPh
Si(OSiMe、H)3及び触媒80.069gのブ
レンドを調製した。触媒Bは、0.182 gのHOC
I(zcHtNHzl、00gの((C4H9) 3P
) zPtCl z及びトルエン100gから成った。
このブレンドのサンプルを200℃で八
2時間、架橋した。この架橋されたポリマーを、約15
℃/分の速度でアルゴン下で1900℃に加熱し、そし
て1900℃で2時間維持した。そのサンプルは、27
.6%の質量残率を有し、そして炭素40.8%を含ん
だ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100g
は、珪素59.2%(差により)及び炭素40.8%か
ら成るセラミック炭化物27.6gを与える。その炭化
物は、SiC23,3g (84,6%)及び炭素4.
3g (15,4%)から成る。従って、それぞれI
gのポリマーは、高熱分解の後、SiC0,233g及
び遊離炭素0.043 gを与える。
℃/分の速度でアルゴン下で1900℃に加熱し、そし
て1900℃で2時間維持した。そのサンプルは、27
.6%の質量残率を有し、そして炭素40.8%を含ん
だ。次の計算を行なった:硬化されたポリマー100g
は、珪素59.2%(差により)及び炭素40.8%か
ら成るセラミック炭化物27.6gを与える。その炭化
物は、SiC23,3g (84,6%)及び炭素4.
3g (15,4%)から成る。従って、それぞれI
gのポリマーは、高熱分解の後、SiC0,233g及
び遊離炭素0.043 gを与える。
C−試験片の加工。上記樹脂25.00 g 、 8.
65 gのPhSi (OSiMeり :l及び触媒8
0.345gを含むブレンドを調製した。このブレンド
(25,02g )を、[biden StC粉末74
.7g及び非晶質硼素0.3gと共に、濃縮ペーストが
得られるまで、Brabender混合チャンバー中で
混合した。そのブレンドは、1.3%の遊離炭素値を有
した。いくつかのサンプルtogを、1o00ps i
のラム圧、1800psiの型締圧及び5分間のトラン
スファーサイクルを用いて、スパイラルフロー金型中で
110℃でトランスファー成形した。8.5インチのス
パイラルフローが得られた。2個のサンプル36gを、
同じ成形状件を用いて、12−キャビティ試験片型(そ
れぞれのキャビティは6.2 X37.8X 2.5
mmであった)中で成形した。その成形された試験片を
205℃で2時間硬化した。その硬化された試験片は、
5187±758psiの平均曲げ強度を有した。その
試験片を、1〜2℃/分−’i? 2075℃に加熱し
、そし72075℃テ30分間維持した。その加熱され
た試験片の平均密度は3.09 g /cd (理論的
に96.3%)であった。その加熱された試験片は、2
5.9±16.8ksiの平均曲げ強度を有した。
65 gのPhSi (OSiMeり :l及び触媒8
0.345gを含むブレンドを調製した。このブレンド
(25,02g )を、[biden StC粉末74
.7g及び非晶質硼素0.3gと共に、濃縮ペーストが
得られるまで、Brabender混合チャンバー中で
混合した。そのブレンドは、1.3%の遊離炭素値を有
した。いくつかのサンプルtogを、1o00ps i
のラム圧、1800psiの型締圧及び5分間のトラン
スファーサイクルを用いて、スパイラルフロー金型中で
110℃でトランスファー成形した。8.5インチのス
パイラルフローが得られた。2個のサンプル36gを、
同じ成形状件を用いて、12−キャビティ試験片型(そ
れぞれのキャビティは6.2 X37.8X 2.5
mmであった)中で成形した。その成形された試験片を
205℃で2時間硬化した。その硬化された試験片は、
5187±758psiの平均曲げ強度を有した。その
試験片を、1〜2℃/分−’i? 2075℃に加熱し
、そし72075℃テ30分間維持した。その加熱され
た試験片の平均密度は3.09 g /cd (理論的
に96.3%)であった。その加熱された試験片は、2
5.9±16.8ksiの平均曲げ強度を有した。
f : (PhSiO+、 s) 0.27 (MeS
iO+、 s) o、 + s (MezSiO) o
、 + s(MeViSiO)o、 1s(PhzSi
O)o、 rzからの焼結体の調製。
iO+、 s) o、 + s (MezSiO) o
、 + s(MeViSiO)o、 1s(PhzSi
O)o、 rzからの焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。排水コック、温度計、冷却器、一
般の機械撹拌機及び追加の漏斗を備える51の三つロフ
ラスコに、水1790 g及びイソプロピルアルコール
324gを添加した。トルエン792g中に溶解された
134.6g (0,90モル)のMeSiCj2.、
116.1g (0,90モル)のMezSiCQ 2
.285.5g (1,35モル)のPhSiC13,
151,8g(0,60モル)のPhzSiCl z及
び176g (1,25モル)のMeViSiCffi
□の混合物を、15分間にわたって水面下に添加した。
般の機械撹拌機及び追加の漏斗を備える51の三つロフ
ラスコに、水1790 g及びイソプロピルアルコール
324gを添加した。トルエン792g中に溶解された
134.6g (0,90モル)のMeSiCj2.、
116.1g (0,90モル)のMezSiCQ 2
.285.5g (1,35モル)のPhSiC13,
151,8g(0,60モル)のPhzSiCl z及
び176g (1,25モル)のMeViSiCffi
□の混合物を、15分間にわたって水面下に添加した。
この添加の間、反応温度が45゛Cに上昇した。その反
応混合物を、5分間撹拌した。
応混合物を、5分間撹拌した。
集められた有機層を、温水により2度洗浄し、そして次
番こ共沸乾燥せしめ、そしてオクタン酸亜鉛(ポリマー
の合計重量に基づいて0.1%)により増粘せしめた。
番こ共沸乾燥せしめ、そしてオクタン酸亜鉛(ポリマー
の合計重量に基づいて0.1%)により増粘せしめた。
溶媒を除去し、そして樹脂を150℃及び20トルで乾
燥せし7めた。生成物の収量は、535g (91,2
%)であった。
燥せし7めた。生成物の収量は、535g (91,2
%)であった。
B−計算。1%過酸化ジクミルと共に混合された上記ポ
リマーのサンプルを、200″Cで1時間硬化した。そ
の硬化されたポリマーを、15℃/分の速度でアルゴン
下で1900℃に加熱し、そして1900゛Cで2時間
保持した。そのサンプルは、43,7%の質量残率を有
し、そして炭素40.6%を含んだ。次の計算を行なっ
た:硬化されたポリマー100gは、珪素59.4%(
差により)及び炭素40.6%から成るセラミック炭化
物43.7 gを与える。その炭化物は、SiC37,
1g (84,9%)及び炭素6.6 g (15,1
%)から成る。従って、それぞれ1gのポリマーは、高
温分解の後、SiC0,371g及び遊離炭素0.06
6gを与える。
リマーのサンプルを、200″Cで1時間硬化した。そ
の硬化されたポリマーを、15℃/分の速度でアルゴン
下で1900℃に加熱し、そして1900゛Cで2時間
保持した。そのサンプルは、43,7%の質量残率を有
し、そして炭素40.6%を含んだ。次の計算を行なっ
た:硬化されたポリマー100gは、珪素59.4%(
差により)及び炭素40.6%から成るセラミック炭化
物43.7 gを与える。その炭化物は、SiC37,
1g (84,9%)及び炭素6.6 g (15,1
%)から成る。従って、それぞれ1gのポリマーは、高
温分解の後、SiC0,371g及び遊離炭素0.06
6gを与える。
C−試験片の加工、 Ib1den SiC76,1
g %硼素0.34 g 、ステアリン酸亜鉛0.51
g及び上記樹脂27.02gを、均質混合物が得られ
るまで、Brabender混合チャンバー中において
110℃で混合した。その混合物は2.0%の遊離炭素
値を有した。その混合物を、1000ps iのラム圧
及び1850ps iの型締圧で177℃で12−キャ
ビティ試験片型(それぞれのキャビティは6.2 X3
7.8X 2.5 mmであった)中でトランスファー
成形した。その試験片を型から除き、そして205℃で
1.5時間さらに硬化した。
g %硼素0.34 g 、ステアリン酸亜鉛0.51
g及び上記樹脂27.02gを、均質混合物が得られ
るまで、Brabender混合チャンバー中において
110℃で混合した。その混合物は2.0%の遊離炭素
値を有した。その混合物を、1000ps iのラム圧
及び1850ps iの型締圧で177℃で12−キャ
ビティ試験片型(それぞれのキャビティは6.2 X3
7.8X 2.5 mmであった)中でトランスファー
成形した。その試験片を型から除き、そして205℃で
1.5時間さらに硬化した。
その硬化された試験片は、2045±645ps iの
平均曲げ強度を有した。その試験片を次の温度プログラ
ムを用いて2075℃に加熱した:3℃/分で室温から
180″C10,5℃/分で180℃から700℃11
,5℃/分で700℃から1400℃11400℃で3
0分間の保持、20℃/分で1400℃から2075℃
及び2075℃で30分間の保持。その炉を、10℃/
分で2075℃から600℃に冷却した。加熱された試
験片は、41.9±5.8ksiの平均曲げ強度及び3
.07g/c111(理論的に95.6%)の平均密度
を有した。
平均曲げ強度を有した。その試験片を次の温度プログラ
ムを用いて2075℃に加熱した:3℃/分で室温から
180″C10,5℃/分で180℃から700℃11
,5℃/分で700℃から1400℃11400℃で3
0分間の保持、20℃/分で1400℃から2075℃
及び2075℃で30分間の保持。その炉を、10℃/
分で2075℃から600℃に冷却した。加熱された試
験片は、41.9±5.8ksiの平均曲げ強度及び3
.07g/c111(理論的に95.6%)の平均密度
を有した。
的に95.6%)の平均密度を有した。
貞■: (PhMeSiO)o、 st(MeflSi
O)o、 bl (門f3isioo、 s) o、
oh及び(PhSi01.5) o、 14 (ViS
iJ、 s) o、 3x(ME!zVisiOo、
s) 0.33による焼結体の調製。
O)o、 bl (門f3isioo、 s) o、
oh及び(PhSi01.5) o、 14 (ViS
iJ、 s) o、 3x(ME!zVisiOo、
s) 0.33による焼結体の調製。
A−ポリマーの合成。
ポリマーA : (PhMeSiO) o、 3x (
MellSiO) o、 bl(Me3SiOo、 s
) 0.06゜77.0gのPhS i (OMe)
3、MeH3iCl 2の加水分解により得られたシロ
キサン流体63.4g、ヘキサメチルジシロキサン8.
02g及びトリフルオロメタンスルホン酸0.2gの混
合物を、トルエン170g中に溶解した。その反応混合
物を4時間還流し、そして副生成物の水を共沸蒸留によ
り除去した。室温に冷却した後、その反応混合物をに2
C(hにより中和し、そしてその溶液を焼結ガラスフリ
ットを通して濾過した。溶媒の除去の後、低粘性流体1
29.8 g (87,0%の収率)が得られた。
MellSiO) o、 bl(Me3SiOo、 s
) 0.06゜77.0gのPhS i (OMe)
3、MeH3iCl 2の加水分解により得られたシロ
キサン流体63.4g、ヘキサメチルジシロキサン8.
02g及びトリフルオロメタンスルホン酸0.2gの混
合物を、トルエン170g中に溶解した。その反応混合
物を4時間還流し、そして副生成物の水を共沸蒸留によ
り除去した。室温に冷却した後、その反応混合物をに2
C(hにより中和し、そしてその溶液を焼結ガラスフリ
ットを通して濾過した。溶媒の除去の後、低粘性流体1
29.8 g (87,0%の収率)が得られた。
ポリ? 2 : (PhSi01.s)o、3z(V
iSiO+、s)o、zt(MezViSiOo、 s
) O,:l:l。495.1g (2,5モル)のP
hS i (OMe) z、370g (0,25−t
−ル) ノViSi(OMe)3.232.5g (1
,25モル) (7)(MezViSi)zO、蒸留水
270 g及びトリフルオロメタンスルホン酸0.7g
の混合物を4時間還流した。その反応混合物を、室温に
冷却し、そして0.72gのに2CO,により中和した
。反応混合物の温度を120℃に達するまで、揮発物を
蒸留により除去した。室温に冷却した後、3%水性KO
H34,Og及びトルエン400gを添加した。次に、
水を共沸蒸留により除去した。次に、その反応を10d
のMezViSi(Jと共に象、冷した。溶媒の濾過及
び除去後、透明な残留物650g (86,4%の収率
)を得た。プロトンNMR(CDCJ2s 、デルタ値
) : −0,2〜0.3 (SiMe、オーバー
ラツプのシングレフト)、5.4〜6.1 (SiVi
、広いマルチブレット)及び6.8〜7.9 (SiP
h、広いマルチプレット) ;SiMe/5iVi/
5iPhのモル比は1.0/2、1 / 1.2であっ
た。GPC分子量(THF溶媒):Mw −863、M
n =1641゜ B−計算。4.06 gのポリマー1.5.OOgのポ
リマー2及び触媒B(例10に記載される) 0.13
gのブレンドを調製した。そのポリマー混合物を、20
0℃で4〜5時間、架橋し、そして次に、次の温度プロ
グラムを用いてアルゴン下で1900℃に加熱した:1
1℃/分で室温から1000℃14,4℃/分で100
0℃から1900℃及び1900″Cで2時間の維持。
iSiO+、s)o、zt(MezViSiOo、 s
) O,:l:l。495.1g (2,5モル)のP
hS i (OMe) z、370g (0,25−t
−ル) ノViSi(OMe)3.232.5g (1
,25モル) (7)(MezViSi)zO、蒸留水
270 g及びトリフルオロメタンスルホン酸0.7g
の混合物を4時間還流した。その反応混合物を、室温に
冷却し、そして0.72gのに2CO,により中和した
。反応混合物の温度を120℃に達するまで、揮発物を
蒸留により除去した。室温に冷却した後、3%水性KO
H34,Og及びトルエン400gを添加した。次に、
水を共沸蒸留により除去した。次に、その反応を10d
のMezViSi(Jと共に象、冷した。溶媒の濾過及
び除去後、透明な残留物650g (86,4%の収率
)を得た。プロトンNMR(CDCJ2s 、デルタ値
) : −0,2〜0.3 (SiMe、オーバー
ラツプのシングレフト)、5.4〜6.1 (SiVi
、広いマルチブレット)及び6.8〜7.9 (SiP
h、広いマルチプレット) ;SiMe/5iVi/
5iPhのモル比は1.0/2、1 / 1.2であっ
た。GPC分子量(THF溶媒):Mw −863、M
n =1641゜ B−計算。4.06 gのポリマー1.5.OOgのポ
リマー2及び触媒B(例10に記載される) 0.13
gのブレンドを調製した。そのポリマー混合物を、20
0℃で4〜5時間、架橋し、そして次に、次の温度プロ
グラムを用いてアルゴン下で1900℃に加熱した:1
1℃/分で室温から1000℃14,4℃/分で100
0℃から1900℃及び1900″Cで2時間の維持。
そのサンプルは50.8%の質量残率を有し、そして3
8.8%の炭素を含んだ。次の計算を行なった:硬化さ
れたポリマー100gは、珪素61.2%(差により)
及び炭素38.8%から成るセラミック炭化物50.8
gを与える。その炭化物は、SiC44,4g(87,
4%)及び炭素6.4 g (12,6%)がら成る。
8.8%の炭素を含んだ。次の計算を行なった:硬化さ
れたポリマー100gは、珪素61.2%(差により)
及び炭素38.8%から成るセラミック炭化物50.8
gを与える。その炭化物は、SiC44,4g(87,
4%)及び炭素6.4 g (12,6%)がら成る。
従って、それぞれ1gのポリマーは、高温分解の後、S
iC0,444g及びa離炭素0.064 gを与える
。
iC0,444g及びa離炭素0.064 gを与える
。
C−試験片の加工。11.96gのポリマー1.14.
73gのポリマー2、触媒B O,51g 、 Ib1
denSiC79,8g及び硼素0.32gのブレンド
を、均質ペーストが得られるまでBrabender混
合チャンバー中で配合した。そのブレンドは、1.8%
の遊離炭素値を有した。このブレンドのサンプルlOg
を、150℃でスピラルフロー金型中でトランスファー
成形しi 1ooopsiのラム圧及び1850ps
iの型締圧で、13.5インチの流れが得られた。試験
片(6,2x37.8x 6.2 M)を、同じ成形条
件及び12−キャビティ試験片型を用いて調製した。そ
の試験片を、200℃で16時間さらに硬化した。その
硬化された試験片は、3900±1150psiの平均
曲げ強度を有した。その試験片を、次の温度プロフィー
ルを用いてアルゴン下で2049℃に加熱した:4.9
℃/分で室温から490℃14,7℃/分で490℃か
ら1050℃14,3℃/分で1050”Cから204
9℃及び2049℃での30分間の維持。14種の加熱
された試験片の平均密度は、3.10 g /ctA
(理論的に96.6%)であった。
73gのポリマー2、触媒B O,51g 、 Ib1
denSiC79,8g及び硼素0.32gのブレンド
を、均質ペーストが得られるまでBrabender混
合チャンバー中で配合した。そのブレンドは、1.8%
の遊離炭素値を有した。このブレンドのサンプルlOg
を、150℃でスピラルフロー金型中でトランスファー
成形しi 1ooopsiのラム圧及び1850ps
iの型締圧で、13.5インチの流れが得られた。試験
片(6,2x37.8x 6.2 M)を、同じ成形条
件及び12−キャビティ試験片型を用いて調製した。そ
の試験片を、200℃で16時間さらに硬化した。その
硬化された試験片は、3900±1150psiの平均
曲げ強度を有した。その試験片を、次の温度プロフィー
ルを用いてアルゴン下で2049℃に加熱した:4.9
℃/分で室温から490℃14,7℃/分で490℃か
ら1050℃14,3℃/分で1050”Cから204
9℃及び2049℃での30分間の維持。14種の加熱
された試験片の平均密度は、3.10 g /ctA
(理論的に96.6%)であった。
Claims (5)
- 1.炭化珪素の焼結体を調製するための方法であって、 (a)(i)実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤
、オルガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミックオ
ルガノポリシロキサンから成る均質混合物を調製し、こ
こで前記金属含有焼結助剤は、炭化珪素粉末の重量に基
づいて金属0.1〜3.0重量%で存在し、前記オルガ
ノポリシロキサン硬化剤は硬化するのに有効な量存在し
、そして前記プレセラミックオルガノポリシロキサンは
、前記混合物の遊離炭素値が炭化珪素粉末及びプレセラ
ミックオルガノポリシロキサンに由来する炭化物の合計
重量に基づいて0.2重量%以上であるようなレベルで
存在し、そして (ii)次に、取扱いできる未処理体を得るために、前
記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下で所望す
る形状に形成することにより取扱いできる未処理体を調
製し;そして (b)2.4g/cm^3以上の密度を有する炭化珪素
の焼結体を得るために、前記取扱いできる未処理体を1
900℃以上の温度で不活性雰囲気下で焼結することを
含んで成る方法。 - 2.前記取扱いできる未処理体が焼結段階の後、硬化さ
れる請求の範囲第1項記載の方法。 - 3.取扱いできる未処理体を形成するための方法であっ
て、 (a)実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤、オル
ガノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミックオルガノ
ポリシロキサンから成る均質混合物を調製し、ここで前
記金属含有焼結助剤は、炭化珪素粉末の重量に基づいて
金属0.1〜3.0重量%で存在し、前記オルガノポリ
シロキサン硬化剤は硬化するのに有効な量存在し、そし
て前記プレセラミックオルガノポリシロキサンは、前記
混合物の遊離炭素値が炭化珪素粉末及びプレセラミック
オルガノポリシロキサンに由来する炭化物の合計重量に
基づいて0.2重量%以上であるようなレベルで存在し
、そして (b)前記均質混合物を約500℃以下の温度で圧力下
で所望する形状に形成することを含んで成る方法。 - 4.前記取扱いできる未処理体が硬化される請求の範囲
第3項記載の方法。 - 5.実質的に炭化珪素粉末、金属含有焼結助剤、オルガ
ノポリシロキサン硬化剤及びプレセラミックオルガノポ
リシロキサンから成る均質混合物であって、前記金属含
有焼結助剤は、炭化珪素粉末の重量に基づいて金属0.
1〜3.0重量%で存在し、前記オルガノポリシロキサ
ン硬化剤は硬化するのに有効な量存在し、そして前記プ
レセラミックオルガノポリシロキサンは、前記混合物の
遊離炭素値が炭化珪素粉末及びプレセラミックオルガノ
ポリシロキサンに由来する炭化物の合計重量に基づいて
0.2重量%以上であるようなレベルで存在することを
特徴とする均質混合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US248884 | 1988-09-26 | ||
US07/248,884 US4888376A (en) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | Curable organopolysiloxanes filled with silicon carbide powders and highly densified sintered bodies therefrom |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02124769A true JPH02124769A (ja) | 1990-05-14 |
JPH0747692B2 JPH0747692B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=22941097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1246583A Expired - Lifetime JPH0747692B2 (ja) | 1988-09-26 | 1989-09-25 | 炭化珪素と共に充填された硬化性オルガノポリシロキサン及びそれからのひじょうに強化された焼結体 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4888376A (ja) |
EP (1) | EP0361736B1 (ja) |
JP (1) | JPH0747692B2 (ja) |
KR (1) | KR960001428B1 (ja) |
AU (1) | AU617531B2 (ja) |
CA (1) | CA1337948C (ja) |
DE (1) | DE68927317T2 (ja) |
ES (1) | ES2094731T3 (ja) |
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