JPH02117626A - フッ素化反応装置 - Google Patents
フッ素化反応装置Info
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- JPH02117626A JPH02117626A JP27017188A JP27017188A JPH02117626A JP H02117626 A JPH02117626 A JP H02117626A JP 27017188 A JP27017188 A JP 27017188A JP 27017188 A JP27017188 A JP 27017188A JP H02117626 A JPH02117626 A JP H02117626A
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- fluorine gas
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- hydrogen fluoride
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- fluoride
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Working-Up Tar And Pitch (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、フッ素化反応装置に関する。
従来技術とその問題点
従来、高分子化合物、石油残漬物、石炭瀝青物、炭化水
素類などの含炭素物質をフッ素化して、産業上有用なフ
ッ素化合物を製造する装置には、フッ素ガス供給口およ
び反応ガス排出口が備えられているのみである。
素類などの含炭素物質をフッ素化して、産業上有用なフ
ッ素化合物を製造する装置には、フッ素ガス供給口およ
び反応ガス排出口が備えられているのみである。
この様な装置においては、フッ素化反応の進行に伴って
、フッ化水素（ＨＦ）を主として、その他少貰のＣＦ
５Ｃ２Ｆ６などのガスが発生する。
、フッ化水素（ＨＦ）を主として、その他少貰のＣＦ
５Ｃ２Ｆ６などのガスが発生する。
この様なガスが発生すると、反応に関与すべきフッ素の
分圧が低下して反応速度が低下するので、反応を定常的
に継続させるためには、反応に必要な当量を上回るフッ
素ガスを供給して、所定のフッ素ガス分圧を維持する必
要があった。従って、高価なフッ素ガスの消費量を削減
する新たな技術の出現が切望されている。
分圧が低下して反応速度が低下するので、反応を定常的
に継続させるためには、反応に必要な当量を上回るフッ
素ガスを供給して、所定のフッ素ガス分圧を維持する必
要があった。従って、高価なフッ素ガスの消費量を削減
する新たな技術の出現が切望されている。
問題点を解決するための手段
本発明者は、この様な技術の現状に鑑みて鋭意研究を進
めた結果、フッ素化反応装置の内部にフッ化ナトリウム
（ＮａＦ）、フッ化カリウム（ＫＦ） 、フッ化リチウ
ム（Ｌ ｉ Ｆ） 、フッ化セシウム（ＣＳ Ｆ）など
のフッ化水素との反応性を有する物質を内蔵させておく
場合には、フッ素化反応自体を実質的に阻害することな
く、反応装置内のフッ素ガスの分圧低下を効果的に防止
することが出来ることを見出した。
めた結果、フッ素化反応装置の内部にフッ化ナトリウム
（ＮａＦ）、フッ化カリウム（ＫＦ） 、フッ化リチウ
ム（Ｌ ｉ Ｆ） 、フッ化セシウム（ＣＳ Ｆ）など
のフッ化水素との反応性を有する物質を内蔵させておく
場合には、フッ素化反応自体を実質的に阻害することな
く、反応装置内のフッ素ガスの分圧低下を効果的に防止
することが出来ることを見出した。
すなわち、本発明は、フッ素ガスを使用して含炭素物質
をフッ素化する装置において、フッ素化反応工程で発生
するフッ化水素と反応してこれを除去する脱フッ化水素
剤を内蔵してなるフッ素化反応装置を提供するものであ
る。
をフッ素化する装置において、フッ素化反応工程で発生
するフッ化水素と反応してこれを除去する脱フッ化水素
剤を内蔵してなるフッ素化反応装置を提供するものであ
る。
高分子化合物、石油残漬物、石炭瀝青物、炭化水素類な
どのフッ素化反応に際して発生するガスは、ＨＦ５ＣＦ
４．０２Ｆ６などであるが、通常ＨＦが大半を占め、そ
の他のガスは、少量である。
どのフッ素化反応に際して発生するガスは、ＨＦ５ＣＦ
４．０２Ｆ６などであるが、通常ＨＦが大半を占め、そ
の他のガスは、少量である。
従って、ＮａＦＳＣｓＦなどの脱フッ化水素剤をフッ素
化反応装置に内蔵させておくと、発生したＨＦは、下記
の如き反応により、脱フッ化水素剤に吸着され、除去さ
れる。
化反応装置に内蔵させておくと、発生したＨＦは、下記
の如き反応により、脱フッ化水素剤に吸着され、除去さ
れる。
Ｎ ａ Ｆ ＋ＨＦ ４Ｎ ａ ＨＦ２Ｃｓ Ｆ＋ＨＦ
−＋Ｃｓ ＨＦ２ 脱フッ化水素剤として、フッ化カリウム、フッ化リチウ
ムなどを使用する場合にも、同様な反応が行なわれる。
−＋Ｃｓ ＨＦ２ 脱フッ化水素剤として、フッ化カリウム、フッ化リチウ
ムなどを使用する場合にも、同様な反応が行なわれる。
この様にしてＨＦが除去されると、フッ素化反応装置装
置雰囲気中のフッ素ガス濃度が相対的に上昇するので、
フッ素ガス分圧を確保するために過剰四のフッ素ガスを
供給する必要がなくなり、理想的には、理論量の供給で
良いことになる。
置雰囲気中のフッ素ガス濃度が相対的に上昇するので、
フッ素ガス分圧を確保するために過剰四のフッ素ガスを
供給する必要がなくなり、理想的には、理論量の供給で
良いことになる。
より具体的に、ＣＨなる炭化水素のフッ素 ｎ
化を想定すると、
ＣＨ＋ （”” ／ ）Ｆ −ｍＣＦ＋ｎＨＦｍｎ
２ ２ となり、従来法において反応に必要なフッ素分圧を例え
ば０． ５以上に維持しようとすれば、必要反応当量の
（ｌｌｌ”３ｎ／）倍のフッ素を供給しなｍ＋ｎ ければならない。これに対し、本発明によれば、はぼ理
論量に近い値で反応を行なうことが可能となる。例えば
、フッ素化すべき含炭素物質が通常の石炭瀝青物である
場合には、本発明方法によれば、従来法に比してフッ素
消費量は、４０％以上削減される。
２ ２ となり、従来法において反応に必要なフッ素分圧を例え
ば０． ５以上に維持しようとすれば、必要反応当量の
（ｌｌｌ”３ｎ／）倍のフッ素を供給しなｍ＋ｎ ければならない。これに対し、本発明によれば、はぼ理
論量に近い値で反応を行なうことが可能となる。例えば
、フッ素化すべき含炭素物質が通常の石炭瀝青物である
場合には、本発明方法によれば、従来法に比してフッ素
消費量は、４０％以上削減される。
以下図面に示す実施態様を参照しつつ、本発明をより詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図に大要を示す本発明のフッ素化反応装置（１）は
、公知の装置と同様にフッ素ガス供給路（３）および反
応ガス排出路（５）を備えている。
、公知の装置と同様にフッ素ガス供給路（３）および反
応ガス排出路（５）を備えている。
フッ素化すべき含炭素物質（７）は、供給されてきたフ
ッ素ガスと反応して、主としてＨＦガスを発生する。こ
のＨＦガスを含む雰囲気ガスは、通常モーター（９）で
駆動される攪拌翼（１１）により反応装置（１）内を循
環されるので、反応装置（１）内の適宜の位置に配置さ
れた脱フッ化水素剤（１３）と接触して、ＨＦガスは、
これに反応吸収される。また、含炭素物質（７）とフッ
素ガスとの反応に際しては、少量ではあるが、ＣＦ、、
０２Ｆ６などのガスも発生するので、これらの分圧を低
下させるために、雰囲気ガスの一部を反応ガス排出路（
５）から排出する。
ッ素ガスと反応して、主としてＨＦガスを発生する。こ
のＨＦガスを含む雰囲気ガスは、通常モーター（９）で
駆動される攪拌翼（１１）により反応装置（１）内を循
環されるので、反応装置（１）内の適宜の位置に配置さ
れた脱フッ化水素剤（１３）と接触して、ＨＦガスは、
これに反応吸収される。また、含炭素物質（７）とフッ
素ガスとの反応に際しては、少量ではあるが、ＣＦ、、
０２Ｆ６などのガスも発生するので、これらの分圧を低
下させるために、雰囲気ガスの一部を反応ガス排出路（
５）から排出する。
本発明装置においては、脱フッ化水素の効率を一定水準
以上に維持するべく、脱フッ化水素剤（１３）は、１バ
ツチの反応に必要な全以上を内蔵させておき、必要に応
じて入替えを容易に行なうようにしておくことが好まし
い。また、攪拌翼（１１）により雰囲気の循環を行なう
場合には、脱フッ化水素剤（１３）の配置場所は、特に
限定されない。さらに、本発明装置には、公知の装置と
同様に、冷却水入口（１７）および冷却水出口（１９）
を備えた反応温度制御用冷却ジャケット（１５）ならび
に反応温度制御用ヒータ（２１）を設けることが出来る
。
以上に維持するべく、脱フッ化水素剤（１３）は、１バ
ツチの反応に必要な全以上を内蔵させておき、必要に応
じて入替えを容易に行なうようにしておくことが好まし
い。また、攪拌翼（１１）により雰囲気の循環を行なう
場合には、脱フッ化水素剤（１３）の配置場所は、特に
限定されない。さらに、本発明装置には、公知の装置と
同様に、冷却水入口（１７）および冷却水出口（１９）
を備えた反応温度制御用冷却ジャケット（１５）ならび
に反応温度制御用ヒータ（２１）を設けることが出来る
。
発明の効果
本発明によれば、高価なフッ素ガスの消費量を大巾に削
減させることができ、延いてはフッ素化製品の製造コス
トを低下させることが出来る。
減させることができ、延いてはフッ素化製品の製造コス
トを低下させることが出来る。
第１図は、本発明のフッ素化反応装置の大要を示す断面
図である。 （１）・・・フッ素化反応装置 ・・・フッ素ガス供給路 ・・・反応ガス排出路 ・・・フッ素化すべき含炭素物質 ・・・モーター ・・・攪拌翼 ・・・脱フッ化水素剤 ・・・反応温度制御用冷却ジャケラ！・・・・冷却水入
口 ・・・冷却水出口 ・・・反応温度制御用ヒータ （以 上）
図である。 （１）・・・フッ素化反応装置 ・・・フッ素ガス供給路 ・・・反応ガス排出路 ・・・フッ素化すべき含炭素物質 ・・・モーター ・・・攪拌翼 ・・・脱フッ化水素剤 ・・・反応温度制御用冷却ジャケラ！・・・・冷却水入
口 ・・・冷却水出口 ・・・反応温度制御用ヒータ （以 上）
Claims (1)
- （１）フッ素ガスを使用して含炭素物質をフッ素化する
装置において、フッ素化反応工程で発生するフッ化水素
と反応してこれを除去する脱フッ化水素剤を内蔵してな
るフッ素化反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017188A JPH02117626A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | フッ素化反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017188A JPH02117626A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | フッ素化反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02117626A true JPH02117626A (ja) | 1990-05-02 |
Family
ID=17482522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27017188A Pending JPH02117626A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | フッ素化反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02117626A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5434319A (en) * | 1993-04-03 | 1995-07-18 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh | Production of perfluoroalkanes |
| DE10159940A1 (de) * | 2001-12-06 | 2003-06-26 | Messer Griesheim Gmbh | Gasphasenfluorierung mit HF-Filter |
| WO2007089386A3 (en) * | 2006-01-04 | 2007-09-20 | Honeywell Int Inc | Improved fluoriation reactor |
| WO2007125975A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Showa Denko K.K. | １，２，３，４－テトラクロロヘキサフルオロブタンの製造方法 |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP27017188A patent/JPH02117626A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5434319A (en) * | 1993-04-03 | 1995-07-18 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh | Production of perfluoroalkanes |
| DE10159940A1 (de) * | 2001-12-06 | 2003-06-26 | Messer Griesheim Gmbh | Gasphasenfluorierung mit HF-Filter |
| DE10159940B4 (de) * | 2001-12-06 | 2007-02-08 | Air Liquide Deutschland Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Fluorierung von Formteilen aus Kunststoff mit einem fluorhaltigen Gasgemisch |
| WO2007089386A3 (en) * | 2006-01-04 | 2007-09-20 | Honeywell Int Inc | Improved fluoriation reactor |
| JP2009522366A (ja) * | 2006-01-04 | 2009-06-11 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 改善されたフッ素化反応器 |
| US7731911B2 (en) | 2006-01-04 | 2010-06-08 | Honeywell International Inc. | Fluorination reactor |
| KR101352471B1 (ko) * | 2006-01-04 | 2014-01-17 | 허니웰 인터내셔널 인코포레이티드 | 개선된 플루오르화 반응기 |
| JP2014055152A (ja) * | 2006-01-04 | 2014-03-27 | Honeywell Internatl Inc | 改善されたフッ素化反応器 |
| WO2007125975A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Showa Denko K.K. | １，２，３，４－テトラクロロヘキサフルオロブタンの製造方法 |
| JP4896965B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-03-14 | 昭和電工株式会社 | １，２，３，４−テトラクロロヘキサフルオロブタンの製造方法 |
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