JPH02115704A - 粗面の液膜厚測定方法及びその測定装置 - Google Patents
粗面の液膜厚測定方法及びその測定装置Info
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- JPH02115704A JPH02115704A JP27055088A JP27055088A JPH02115704A JP H02115704 A JPH02115704 A JP H02115704A JP 27055088 A JP27055088 A JP 27055088A JP 27055088 A JP27055088 A JP 27055088A JP H02115704 A JPH02115704 A JP H02115704A
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は粗面にほぼ一様に付着する液の膜厚を測定する
測定方法及びその装置に関するものである。
測定方法及びその装置に関するものである。
印刷機械等においては印刷原板となる粗面を有する板に
ほぼ一様に液、例えば水等を付着させる必要がある。そ
してこのように液の膜厚をむらなく一様に塗布すること
によって均一な印刷を行うことができる。
ほぼ一様に液、例えば水等を付着させる必要がある。そ
してこのように液の膜厚をむらなく一様に塗布すること
によって均一な印刷を行うことができる。
しかしながら従来よりこのような粗面に付着する液体の
膜厚を測定するための方法及び装置は提案されていなか
った。そのため印刷を繰り返しながら液の付着程度を確
認する必要があった。
膜厚を測定するための方法及び装置は提案されていなか
った。そのため印刷を繰り返しながら液の付着程度を確
認する必要があった。
本発明はこのような従来の問題点に鑑みてなされたもの
であって、粗面に薄くほぼ一様に付着する液の膜厚を正
確に測定できる方法及び装置を捷供することを技術的課
題Σする。
であって、粗面に薄くほぼ一様に付着する液の膜厚を正
確に測定できる方法及び装置を捷供することを技術的課
題Σする。
本願の請求項１の発明は粗面にほぼ一様に付着する液の
膜厚を測定する粗面の液膜厚測定方法であって、粗面に
対して所定角度傾けて光ビームを照射し、光ビームの粗
面より反射された正反射光及びその周囲に得られる拡散
反射光を受光し、正反射光及び拡散反射光の光量レベル
の比又は差に基づいて膜厚を検出するようにしたことを
特徴とするものである。
膜厚を測定する粗面の液膜厚測定方法であって、粗面に
対して所定角度傾けて光ビームを照射し、光ビームの粗
面より反射された正反射光及びその周囲に得られる拡散
反射光を受光し、正反射光及び拡散反射光の光量レベル
の比又は差に基づいて膜厚を検出するようにしたことを
特徴とするものである。
又本願の請求項２の発明は粗面にほぼ一様に付着する液
の膜厚を測定する測定装置であって、粗面に対して所定
角度傾けて粗面に向けた光ビームを照射する投光部と、
投光部より照射された光ビームの正反射光を受光する第
１の受光手段と、投光部より照射された光ビームの拡散
反射光を受光する第２の受光手段と、第１．第２の受光
手段より得られる出力の比又は差を算出する演算手段と
を具備し、該演算手段の出力に基づいて液の膜厚を測定
することを特徴とするものである。
の膜厚を測定する測定装置であって、粗面に対して所定
角度傾けて粗面に向けた光ビームを照射する投光部と、
投光部より照射された光ビームの正反射光を受光する第
１の受光手段と、投光部より照射された光ビームの拡散
反射光を受光する第２の受光手段と、第１．第２の受光
手段より得られる出力の比又は差を算出する演算手段と
を具備し、該演算手段の出力に基づいて液の膜厚を測定
することを特徴とするものである。
又本願の請求項３の発明は粗面にほぼ一様に付着する液
の膜厚を測定する粗面の液膜厚測定方法であって、粗面
に対して所定角度傾けて光ビームを照射し、光ビームの
粗面より反射された光の正反射光及び拡散反射光の受光
領域の受光量をカメラによって受光し、所定レベルを越
える反射光の受光面積に基づいて液膜厚を検出すること
を特徴とするものである。
の膜厚を測定する粗面の液膜厚測定方法であって、粗面
に対して所定角度傾けて光ビームを照射し、光ビームの
粗面より反射された光の正反射光及び拡散反射光の受光
領域の受光量をカメラによって受光し、所定レベルを越
える反射光の受光面積に基づいて液膜厚を検出すること
を特徴とするものである。
更に本願の請求項４の発明は粗面にほぼ一様に付着する
液の膜厚を測定する測定装置であって、粗面に対して所
定角度傾けて粗面に向けた光ビームを照射する投光部と
、投光部より照射された光ビームの正反射光及び拡散反
射光の受光領域を受光するカメラと、カメラより得られ
る各画素について所定レベルを越える受光面積を判別す
る信号処理手段と、を具備し、該信号処理手段の出力に
基づいて液の膜厚を測定することを特徴とするものであ
る。
液の膜厚を測定する測定装置であって、粗面に対して所
定角度傾けて粗面に向けた光ビームを照射する投光部と
、投光部より照射された光ビームの正反射光及び拡散反
射光の受光領域を受光するカメラと、カメラより得られ
る各画素について所定レベルを越える受光面積を判別す
る信号処理手段と、を具備し、該信号処理手段の出力に
基づいて液の膜厚を測定することを特徴とするものであ
る。
このような特徴を有する本願の請求項１及び２の発明に
よれば、粗面に付着する液滴に対して粗面から所定角度
傾けて光ビームを照射し、その正反射光とその周囲に得
られる拡散反射光の光レベルの差又は比に基づいて付着
する液の膜厚を測定するようにしている。そして膜厚が
均一であればその液の上面は鏡面体となっているため膜
厚の表面で光は全反射して正反射光が第１の受光手段に
与えられ、膜厚が薄くなれば膜厚の影響によって照射さ
れた光は一部が全反射せずにその周辺に散乱することと
なる。従って第１．第２の受光手段より夫々正反射光と
拡散反射光の光量を検出し、演算手段によりそれらの比
又は差を検出することにより粗面上の液の膜厚を測定す
ることができる。
よれば、粗面に付着する液滴に対して粗面から所定角度
傾けて光ビームを照射し、その正反射光とその周囲に得
られる拡散反射光の光レベルの差又は比に基づいて付着
する液の膜厚を測定するようにしている。そして膜厚が
均一であればその液の上面は鏡面体となっているため膜
厚の表面で光は全反射して正反射光が第１の受光手段に
与えられ、膜厚が薄くなれば膜厚の影響によって照射さ
れた光は一部が全反射せずにその周辺に散乱することと
なる。従って第１．第２の受光手段より夫々正反射光と
拡散反射光の光量を検出し、演算手段によりそれらの比
又は差を検出することにより粗面上の液の膜厚を測定す
ることができる。
又本願の請求項３及び４の発明によれば、投光部からの
光をカメラによって受光している。そして受光出力の各
画素について受光量が所定レベルを越えている画素数を
判別することにより正反射光と拡散反射光との分布を把
握することができ、この画素数が散乱量、即ち膜厚に対
応しているためこのデータに基づいて膜厚を測定するよ
うにしている。
光をカメラによって受光している。そして受光出力の各
画素について受光量が所定レベルを越えている画素数を
判別することにより正反射光と拡散反射光との分布を把
握することができ、この画素数が散乱量、即ち膜厚に対
応しているためこのデータに基づいて膜厚を測定するよ
うにしている。
そのため本願の請求項１及び２の発明によれば、。
膜厚が十分薄い場合には比較的簡単な構成で客観的に膜
厚を判別することができるという効果が得られる。又本
願の請求項３及び４の発明によれば、カメラを用いてい
るため反射光が分布する領域での正反射及び散乱の分布
を正確に識別することができ、これに基づいて正確に粗
面上の液の膜厚を測定することが可能となる。
厚を判別することができるという効果が得られる。又本
願の請求項３及び４の発明によれば、カメラを用いてい
るため反射光が分布する領域での正反射及び散乱の分布
を正確に識別することができ、これに基づいて正確に粗
面上の液の膜厚を測定することが可能となる。
第１図は本願の請求項１及び２の発明を具体化した第１
実施例による膜厚測定装置を示すブロック図である。本
図において上面が微小な凹凸を有する粗面の粗面１１に
例えば水滴２をほぼ一様に塗布した後その膜厚を測定し
ている状態を示す図である。粗面板１にはその面から所
定角度（α）傾けて投光部３を配置する。投光部３は平
行な光ビームを粗面板１に照射するものであって、例え
ば第２図（ａ）に示すように可視光を発光するＨｅ−Ｎ
ｅレーザ４をそのまま用いてもよく、又第２図（ｂ）に
示すように半導体レーザ５を投光素子として用いてその
光を集束レンズ６によって集束し平行な光ビームとして
粗面板１に照射するようにしてもよい。又第２図（Ｃ）
に示すようにレーザに代えてハロゲンランプ７を光源と
し、中央に開口を有するピンホール板８を用いてその開
口部を通過する光を集束レンズ９によって集束させて平
行なビームとするようにしてもよい。
実施例による膜厚測定装置を示すブロック図である。本
図において上面が微小な凹凸を有する粗面の粗面１１に
例えば水滴２をほぼ一様に塗布した後その膜厚を測定し
ている状態を示す図である。粗面板１にはその面から所
定角度（α）傾けて投光部３を配置する。投光部３は平
行な光ビームを粗面板１に照射するものであって、例え
ば第２図（ａ）に示すように可視光を発光するＨｅ−Ｎ
ｅレーザ４をそのまま用いてもよく、又第２図（ｂ）に
示すように半導体レーザ５を投光素子として用いてその
光を集束レンズ６によって集束し平行な光ビームとして
粗面板１に照射するようにしてもよい。又第２図（Ｃ）
に示すようにレーザに代えてハロゲンランプ７を光源と
し、中央に開口を有するピンホール板８を用いてその開
口部を通過する光を集束レンズ９によって集束させて平
行なビームとするようにしてもよい。
さて投光部３から粗面板１に照射された光はその上面で
反射され反射光が受光部ｌＯに与えられる。受光部１０
には図示のように正反射光を受光する領域に第１の受光
素子、例えばフォトダイオード１１を設け、その周囲の
いずれかの部分に第２の受光素子、例えばフォトダイオ
ード１２を設ける。これらのフォトダイオード１１．１
２から得られる出力は夫々増幅回路１３．１４に与えら
れる。増幅回路１３．１４はこれらの信号を増幅して光
信号Ｐ＋、Ｐｇを得るものであり、その出力は積分回路
１５．１６に与えられる。積分回路１５．１６は光信号
を一定時間積分することによりその時間的な平均値信号
Ｑ、、Ｑ！を得るものであり、その出力は演算部１７に
与えられる。演算部１７は積分回路１５．１６の出力Ｑ
ｔ 、 Ｑｚの比、例えばＱ ｚ ／ Ｑ ＋を演算す
るものであって、その演算信号を出力部１８に与える。
反射され反射光が受光部ｌＯに与えられる。受光部１０
には図示のように正反射光を受光する領域に第１の受光
素子、例えばフォトダイオード１１を設け、その周囲の
いずれかの部分に第２の受光素子、例えばフォトダイオ
ード１２を設ける。これらのフォトダイオード１１．１
２から得られる出力は夫々増幅回路１３．１４に与えら
れる。増幅回路１３．１４はこれらの信号を増幅して光
信号Ｐ＋、Ｐｇを得るものであり、その出力は積分回路
１５．１６に与えられる。積分回路１５．１６は光信号
を一定時間積分することによりその時間的な平均値信号
Ｑ、、Ｑ！を得るものであり、その出力は演算部１７に
与えられる。演算部１７は積分回路１５．１６の出力Ｑ
ｔ 、 Ｑｚの比、例えばＱ ｚ ／ Ｑ ＋を演算す
るものであって、その演算信号を出力部１８に与える。
出力部１８は演算された信号をリニアライズすると共に
得られた信号を膜厚に対応してｏ−１ｏｖ等の電圧信号
又は４〜２０ｍＡの電流信号として出力するものである
。フォトダイオード１１．増幅回路１３及び積分回路１
５は光ビームの正反射光を受光する第１の受光手段を構
成しており、フォトダイオード１２、増幅回路１４及び
積分回路１６は光ビームの拡散反射光を受光する第２の
受光手段を構成している。又演算部１７は積分回路１５
．１６の出力比を算出する演算手段を構成している。
得られた信号を膜厚に対応してｏ−１ｏｖ等の電圧信号
又は４〜２０ｍＡの電流信号として出力するものである
。フォトダイオード１１．増幅回路１３及び積分回路１
５は光ビームの正反射光を受光する第１の受光手段を構
成しており、フォトダイオード１２、増幅回路１４及び
積分回路１６は光ビームの拡散反射光を受光する第２の
受光手段を構成している。又演算部１７は積分回路１５
．１６の出力比を算出する演算手段を構成している。
次に本実施例の動作について説明する。投光部３のＨｅ
−Ｎｅレーザ４を駆動すれば平行な光ビームが粗面板１
に照射される。この光ビームと粗面板との角度αを光が
全反射するような小さい角度に保っておくものとすれば
、レーザビームが反射され、受光部１０に与えられる。
−Ｎｅレーザ４を駆動すれば平行な光ビームが粗面板１
に照射される。この光ビームと粗面板との角度αを光が
全反射するような小さい角度に保っておくものとすれば
、レーザビームが反射され、受光部１０に与えられる。
ここで第３図（ａ）に示すように粗面板１の粗面１ａ上
の凹凸に対して水２の膜厚が十分大きいときには、レー
ザビームは散乱することなく全て全反射して受光部１０
のフォトダイオード１１に与えられる。従ってその受光
量を増幅回路１３を介して電気信号ＰＰ２に変換し、所
定時間積分回路１５．１６によって積分しても、積分回
路１６には極めて低いレベルの信号しか与えられなくな
る。従って水の膜厚が十分大きければ演算部１７の出力
はほぼ零に近くなる。さて第３図（ｂｌに示すように水
２の膜厚が薄くなり粗面板１の粗面１ａの凹凸の高さと
ほぼ等しくなれば、照射された光ビームは全て正反射す
ることはなく一部がその凹凸部によって散乱する。従っ
てフォトダイオード１１で受光される受光レベルが低下
しフォトダイオード１２の受光レベルが上昇する。その
ためこの信号を電気信号Ｐ、、Ｐ、に変換して所定時間
積分することによって演算部１７より得られる出力は徐
々に大きくなる。このように膜厚に対応した出力が演算
部１７より得られることとなり、この関係は例えば第４
図のように示される。従ってこの出力レベルをあらかじ
め校正しておき、その出力を例えばりニアライザ等を用
いて直線化することによっである範囲までの膜厚に対応
した直線的な出力を得ることができる。出力部１８はア
ナログ回路から成るリニアライザを用いてもよく、又演
算部１７の出力を一旦Ａ／Ｄ変換してデジタル量に変換
しその出力を例えばマイクロコンピュータに与え、アラ
かじめ入力に対応した膜厚値を持つ補正テーブルを設け
ておきそのテーブルを読出すことによって膜厚のデジタ
ル値を得るようにしてもよい。又演算部１７では積分回
路１５．１６の比によって膜厚信号を得るようにしてい
るが、両者の出力ＱＱ２の差から膜厚信号を得るように
することもできる。
の凹凸に対して水２の膜厚が十分大きいときには、レー
ザビームは散乱することなく全て全反射して受光部１０
のフォトダイオード１１に与えられる。従ってその受光
量を増幅回路１３を介して電気信号ＰＰ２に変換し、所
定時間積分回路１５．１６によって積分しても、積分回
路１６には極めて低いレベルの信号しか与えられなくな
る。従って水の膜厚が十分大きければ演算部１７の出力
はほぼ零に近くなる。さて第３図（ｂｌに示すように水
２の膜厚が薄くなり粗面板１の粗面１ａの凹凸の高さと
ほぼ等しくなれば、照射された光ビームは全て正反射す
ることはなく一部がその凹凸部によって散乱する。従っ
てフォトダイオード１１で受光される受光レベルが低下
しフォトダイオード１２の受光レベルが上昇する。その
ためこの信号を電気信号Ｐ、、Ｐ、に変換して所定時間
積分することによって演算部１７より得られる出力は徐
々に大きくなる。このように膜厚に対応した出力が演算
部１７より得られることとなり、この関係は例えば第４
図のように示される。従ってこの出力レベルをあらかじ
め校正しておき、その出力を例えばりニアライザ等を用
いて直線化することによっである範囲までの膜厚に対応
した直線的な出力を得ることができる。出力部１８はア
ナログ回路から成るリニアライザを用いてもよく、又演
算部１７の出力を一旦Ａ／Ｄ変換してデジタル量に変換
しその出力を例えばマイクロコンピュータに与え、アラ
かじめ入力に対応した膜厚値を持つ補正テーブルを設け
ておきそのテーブルを読出すことによって膜厚のデジタ
ル値を得るようにしてもよい。又演算部１７では積分回
路１５．１６の比によって膜厚信号を得るようにしてい
るが、両者の出力ＱＱ２の差から膜厚信号を得るように
することもできる。
次に本願の請求項３及び４の発明を具体化した実施例に
ついて説明する。本実施例の液膜厚測定装置も粗面板１
の表面より所定角度αを傾けて投光部を配置し平行な光
ビームをその表面に照射して反射させることによって液
滴の膜厚を測定するようにしたことは前述した第１実施
例と同様である。第５図は本実施例による受光部及び信
号処理部の構成を示す図である。本実施例では受光部１
０として二次元の受光手段であるカメラを用い仮想受光
面の光の分布を検出するようにしている。
ついて説明する。本実施例の液膜厚測定装置も粗面板１
の表面より所定角度αを傾けて投光部を配置し平行な光
ビームをその表面に照射して反射させることによって液
滴の膜厚を測定するようにしたことは前述した第１実施
例と同様である。第５図は本実施例による受光部及び信
号処理部の構成を示す図である。本実施例では受光部１
０として二次元の受光手段であるカメラを用い仮想受光
面の光の分布を検出するようにしている。
カメラ２０の前面には仮想受光面２１の光を受光素子、
例えばＣＣＤ２２に集束させるレンズ２３が設けられる
。ＣＣＤ２２はＣＣＤ駆動回路２４によって連続的に駆
動され、各画素より光信号が得られる。クロック発振部
２５はＣＣＤ駆動回路２４及び各部にクロック信号を与
えるものである。
例えばＣＣＤ２２に集束させるレンズ２３が設けられる
。ＣＣＤ２２はＣＣＤ駆動回路２４によって連続的に駆
動され、各画素より光信号が得られる。クロック発振部
２５はＣＣＤ駆動回路２４及び各部にクロック信号を与
えるものである。
ＣＣＤ駆動回路２４より得られる各画素の出力は信号強
度判別回路２６に与えられる。信号強度判別回路２６は
ＣＣＤ２２の各画素についてその受光量が所定レベルを
越えているかどうかを判別するものであり、その判別出
力をカウンタ２７に与える。カウンタ２７はカウンタ制
御回路２８よりゲート信号及びＣＣＤの一掃引毎にリセ
ット信号が与えられ、クロック発振部２５より得られる
クロックに対応したタイミングで判別出力を計数するも
のである。そしてカウンタ２７の計数出力はラッチ回路
２９に与えられる。ランチ回路２９は計数値を一周期間
保持するものでありその出力はＤ／Ａ変換器３０に与え
られる。Ｄ／Ａ変換器３０はこの信号をアナログ信号に
変換するものであり、その出力は積分回路３１を介して
出力部３２に与えられる。出力部３２の構成は前述した
第１実施例と同様である。ここで信号強度判別回路２６
、カウンタ２７．カウンタ制御回路２８及びラッチ回路
２９はカメラより得られる各画素によって所定レベルを
越える受光面積を判別する信号処理手段を構成している
。
度判別回路２６に与えられる。信号強度判別回路２６は
ＣＣＤ２２の各画素についてその受光量が所定レベルを
越えているかどうかを判別するものであり、その判別出
力をカウンタ２７に与える。カウンタ２７はカウンタ制
御回路２８よりゲート信号及びＣＣＤの一掃引毎にリセ
ット信号が与えられ、クロック発振部２５より得られる
クロックに対応したタイミングで判別出力を計数するも
のである。そしてカウンタ２７の計数出力はラッチ回路
２９に与えられる。ランチ回路２９は計数値を一周期間
保持するものでありその出力はＤ／Ａ変換器３０に与え
られる。Ｄ／Ａ変換器３０はこの信号をアナログ信号に
変換するものであり、その出力は積分回路３１を介して
出力部３２に与えられる。出力部３２の構成は前述した
第１実施例と同様である。ここで信号強度判別回路２６
、カウンタ２７．カウンタ制御回路２８及びラッチ回路
２９はカメラより得られる各画素によって所定レベルを
越える受光面積を判別する信号処理手段を構成している
。
次に本実施例の動作について説明する。投光部３より平
行な光ビームを粗面板１に対して照射するとその反射光
がカメラ２１のＣＣＤ２２に受光される。ＣＣＤ駆動回
路２４はＣＣＤ２２の各画素より得られる受光信号を順
次信号強度判別回路２６に与えている。従って所定のレ
ベルを越える画素を受光したときに信号強度判別回路２
６より判別信号が得られ、その信号の数がカウンタ２７
によって計数される。第３図（ａ）に示すように液の膜
厚が大きければ平行なレーザビームは拡散することな（
全てが正反射するため、受光部のＣＣＤに照射される面
積は極めて小さくなる。従って信号強度判別回路２６よ
り所定レベルを越える信号強度が判別される画素数の数
も少な（なり、カウンタ２７の計数値は小さくなる。従
ってこの出力をＤ／Ａ変換器３０によりアナログ信号に
変換し、積分回路３１を介して出力する際にも低いレベ
ルの出力となる。一方策３図（ｂ）に示すように液の膜
厚が薄くなれば拡散反射するため反射光が広い領域に拡
散することとなる。この場合には所定レベルを越える画
素数が増加する。従ってカウンタ２７の計数値は膜厚と
対応することとなり、例えば第６図に示すようなグラフ
で表される。従ってカウンタ２７の計数値を−サンプリ
ング期間ラッチしＤ／Ａ変換器３０を介してアナログ信
号に変換すると共に、更に積分回路３１を介して出力す
ることによって膜厚に対応したアナログ信号を得ること
ができる。
行な光ビームを粗面板１に対して照射するとその反射光
がカメラ２１のＣＣＤ２２に受光される。ＣＣＤ駆動回
路２４はＣＣＤ２２の各画素より得られる受光信号を順
次信号強度判別回路２６に与えている。従って所定のレ
ベルを越える画素を受光したときに信号強度判別回路２
６より判別信号が得られ、その信号の数がカウンタ２７
によって計数される。第３図（ａ）に示すように液の膜
厚が大きければ平行なレーザビームは拡散することな（
全てが正反射するため、受光部のＣＣＤに照射される面
積は極めて小さくなる。従って信号強度判別回路２６よ
り所定レベルを越える信号強度が判別される画素数の数
も少な（なり、カウンタ２７の計数値は小さくなる。従
ってこの出力をＤ／Ａ変換器３０によりアナログ信号に
変換し、積分回路３１を介して出力する際にも低いレベ
ルの出力となる。一方策３図（ｂ）に示すように液の膜
厚が薄くなれば拡散反射するため反射光が広い領域に拡
散することとなる。この場合には所定レベルを越える画
素数が増加する。従ってカウンタ２７の計数値は膜厚と
対応することとなり、例えば第６図に示すようなグラフ
で表される。従ってカウンタ２７の計数値を−サンプリ
ング期間ラッチしＤ／Ａ変換器３０を介してアナログ信
号に変換すると共に、更に積分回路３１を介して出力す
ることによって膜厚に対応したアナログ信号を得ること
ができる。
又ラッチ回路２９の出力はＣＰＵに与えてデジタル的に
積分を行い補正テーブルによって画素数に対応した膜厚
信号を得るようにすることもできる。
積分を行い補正テーブルによって画素数に対応した膜厚
信号を得るようにすることもできる。
尚本実施例では二次元のＣＯＤを有するテレビカメラを
設けてその画素数によって拡散の有無を判別して膜厚を
検出しているが、−次元のＣＣＤ等の画像検知素子を用
いて膜厚を計測することも可能である。
設けてその画素数によって拡散の有無を判別して膜厚を
検出しているが、−次元のＣＣＤ等の画像検知素子を用
いて膜厚を計測することも可能である。
第１図は本発明の一実施例による粗面の液膜厚測定装置
のブロック図、第２図（ａｌ〜第２図（Ｃ）は投光部の
構成を示すブロック図、第３図（ａ）、第３図（′ｂ）
は粗面と膜厚との関係を示す図、第４図は膜厚と演算部
の演算出力の関係を示すグラフ、第５図は本願の第２の
実施例による膜厚測定装置を示す図、第６図は膜厚と計
数出力を示すグラフである。 １・−・・−粗面板 ２・−・−水 ３−・−・−
・投光部４−−−−−−−Ｈｅ −Ｎ ｅレーザ １
０−−−−一受光部１１．１２−・−・−フォトダイオ
ード １５，１６゜３１・・・・−積分回路 １７
・・−・−・演算部 ２゜・＝・カメラ ２：Ｌ−
−−−−−−ＣＣＤ ２６・−−−−−・信号強度
判別回路 ２７・−−−−−−〜カウンタ特許出願人
立石電機株式会社 代理人 弁理士 岡本宜喜（他１名） 第 図 第 図
のブロック図、第２図（ａｌ〜第２図（Ｃ）は投光部の
構成を示すブロック図、第３図（ａ）、第３図（′ｂ）
は粗面と膜厚との関係を示す図、第４図は膜厚と演算部
の演算出力の関係を示すグラフ、第５図は本願の第２の
実施例による膜厚測定装置を示す図、第６図は膜厚と計
数出力を示すグラフである。 １・−・・−粗面板 ２・−・−水 ３−・−・−
・投光部４−−−−−−−Ｈｅ −Ｎ ｅレーザ １
０−−−−一受光部１１．１２−・−・−フォトダイオ
ード １５，１６゜３１・・・・−積分回路 １７
・・−・−・演算部 ２゜・＝・カメラ ２：Ｌ−
−−−−−−ＣＣＤ ２６・−−−−−・信号強度
判別回路 ２７・−−−−−−〜カウンタ特許出願人
立石電機株式会社 代理人 弁理士 岡本宜喜（他１名） 第 図 第 図
Claims (4)
- （１）粗面にほぼ一様に付着する液の膜厚を測定する粗
面の液膜厚測定方法であって、 粗面に対して所定角度傾けて光ビームを照射し、前記光
ビームの粗面より反射された正反射光及びその周囲に得
られる拡散反射光を受光し、前記正反射光及び拡散反射
光の光量レベルの比又は差に基づいて膜厚を検出するよ
うにしたことを特徴とする粗面の液膜厚測定方法。 - （２）粗面にほぼ一様に付着する液の膜厚を測定する測
定装置であって、 粗面に対して所定角度傾けて粗面に向けた光ビームを照
射する投光部と、 前記投光部より照射された光ビームの正反射光を受光す
る第１の受光手段と、 前記投光部より照射された光ビームの拡散反射光を受光
する第２の受光手段と、 前記第１、第２の受光手段より得られる出力の比又は差
を算出する演算手段とを具備し、該演算手段の出力に基
づいて液の膜厚を測定することを特徴とする粗面の液膜
厚測定装置。 - （３）粗面にほぼ一様に付着する液の膜厚を測定する粗
面の液膜厚測定方法であって、 粗面に対して所定角度傾けて光ビームを照射し、前記光
ビームの粗面より反射された光の正反射光及び拡散反射
光の受光領域の受光量をカメラによって受光し、 所定レベルを越える反射光の受光面積に基づいて液膜厚
を検出することを特徴とする粗面の液膜厚測定方法。 - （４）粗面にほぼ一様に付着する液の膜厚を測定する測
定装置であって、 粗面に対して所定角度傾けて粗面に向けた光ビームを照
射する投光部と、 前記投光部より照射された光ビームの正反射光及び拡散
反射光の受光領域を受光するカメラと、前記カメラより
得られる各画素について所定レベルを越える受光面積を
判別する信号処理手段と、を具備し、該信号処理手段の
出力に基づいて液の膜厚を測定することを特徴とする粗
面の液膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27055088A JPH02115704A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 粗面の液膜厚測定方法及びその測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27055088A JPH02115704A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 粗面の液膜厚測定方法及びその測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115704A true JPH02115704A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17487744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27055088A Pending JPH02115704A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | 粗面の液膜厚測定方法及びその測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02115704A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5452953A (en) * | 1993-10-12 | 1995-09-26 | Hughes Aircraft Company | Film thickness measurement of structures containing a scattering surface |
| US6791895B2 (en) | 2001-08-09 | 2004-09-14 | Renesas Technology Corporation | Semiconductor memory device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60199657A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 印刷機の湿し水計測方法 |
| JPS63157004A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Komori Printing Mach Co Ltd | 反射光検出装置 |
-
1988
- 1988-10-25 JP JP27055088A patent/JPH02115704A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60199657A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 印刷機の湿し水計測方法 |
| JPS63157004A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Komori Printing Mach Co Ltd | 反射光検出装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5452953A (en) * | 1993-10-12 | 1995-09-26 | Hughes Aircraft Company | Film thickness measurement of structures containing a scattering surface |
| US6791895B2 (en) | 2001-08-09 | 2004-09-14 | Renesas Technology Corporation | Semiconductor memory device |
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