JPH02113251A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントInfo
- Publication number
- JPH02113251A JPH02113251A JP26758588A JP26758588A JPH02113251A JP H02113251 A JPH02113251 A JP H02113251A JP 26758588 A JP26758588 A JP 26758588A JP 26758588 A JP26758588 A JP 26758588A JP H02113251 A JPH02113251 A JP H02113251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- compd
- photosensitive resin
- parts
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 title 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 101000905241 Mus musculus Heart- and neural crest derivatives-expressed protein 1 Proteins 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 11
- 238000007665 sagging Methods 0.000 abstract description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract description 2
- WKRKXDRSJVDMGO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(diethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(CC)CC WKRKXDRSJVDMGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 abstract 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- -1 aliphatic halogen compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl methane Natural products CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentabromoethane Chemical compound BrC(Br)C(Br)(Br)Br OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZVDYAWIYXVQEB-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1,3-dione;2,2-dimethylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO.C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LZVDYAWIYXVQEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N [4,5,5,6,6-pentaethoxy-4-[2-[1,5,5,6,6-pentaethoxy-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohex-2-en-1-yl]propan-2-yl]cyclohex-2-en-1-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(C(C)(C)C1(C(C(C(C=C1)OC(C(=C)C)=O)(OCC)OCC)(OCC)OCC)OCC)OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005526 organic bromine compounds Chemical class 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- JPYTXSWRYBJQHD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;prop-1-enylbenzene Chemical compound OC(=O)C=C.CC=CC1=CC=CC=C1 JPYTXSWRYBJQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- CNCAHWAKBQIUMY-UHFFFAOYSA-N tribromo(tribromomethylsulfonyl)methane Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br CNCAHWAKBQIUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N tribromomethylsulfonylbenzene Chemical compound BrC(Br)(Br)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 DWWMSEANWMWMCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、印刷配線板製造、金属精密加工等に使用され
る保護膜形成用の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感
光性エレメントに関する。
る保護膜形成用の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感
光性エレメントに関する。
(従来の技術)
従来、印刷配線板の製造、金属の精密加工等の分野にお
いて、エツチング等の化学的手法を用いる際にレジスト
材料として感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性
エレメントを使用することが知られている。
いて、エツチング等の化学的手法を用いる際にレジスト
材料として感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性
エレメントを使用することが知られている。
そして、感光性エレメントとしては、支持体上に感光性
樹脂組成物を積層したものが広く使用されている。
樹脂組成物を積層したものが広く使用されている。
ところで、印刷配線板の製造法にはテンティング法とい
う方法があり、これを第1図及び第2図を用いて説明す
ると、1は銅箔、2は基材で、チップ搭載のための銅ス
ルーホール5をレジスト3で保護しく第1図)、エツチ
ング(第2図)、レジスト剥離を経て、両面電気回路構
成を行うものである。
う方法があり、これを第1図及び第2図を用いて説明す
ると、1は銅箔、2は基材で、チップ搭載のための銅ス
ルーホール5をレジスト3で保護しく第1図)、エツチ
ング(第2図)、レジスト剥離を経て、両面電気回路構
成を行うものである。
また、特殊テンティング法として、第3図及び第4図に
示す方法があり、この方法にあっては、チップ搭載のた
めのランド部4をレジスト3で保護し、銅スルーホール
5の開口部であるテント部6に露光、現像の工程により
孔を開け(第3図)、銅スルーホール5内の銅だけエツ
チングして基材2の表面だけに電気回路の導体8形成を
行うようなされている(第4図)。
示す方法があり、この方法にあっては、チップ搭載のた
めのランド部4をレジスト3で保護し、銅スルーホール
5の開口部であるテント部6に露光、現像の工程により
孔を開け(第3図)、銅スルーホール5内の銅だけエツ
チングして基材2の表面だけに電気回路の導体8形成を
行うようなされている(第4図)。
ところで、この特殊テンティング法では、第3図に示す
如く、ランド部4を保護するため銅スルーホール5内に
レジスト3のひさし部7がひさし状に出ている。この場
合、ひさし部7をネガ幅と同一幅に形成すること(換言
すれば、所望の寸法の孔を正確に開けること)及びひさ
し部7が銅スルーホール5内部に垂れ込まないようにす
ることによってエツチング残りを発生させないようにす
ることが重要である。
如く、ランド部4を保護するため銅スルーホール5内に
レジスト3のひさし部7がひさし状に出ている。この場
合、ひさし部7をネガ幅と同一幅に形成すること(換言
すれば、所望の寸法の孔を正確に開けること)及びひさ
し部7が銅スルーホール5内部に垂れ込まないようにす
ることによってエツチング残りを発生させないようにす
ることが重要である。
また、特殊テンティング法及びテンティング法はレジス
トの回路パターンをエツチングにより形成するが、その
際、レジスト幅と電気回路の導体幅は同一の幅であるこ
とが望ましい。
トの回路パターンをエツチングにより形成するが、その
際、レジスト幅と電気回路の導体幅は同一の幅であるこ
とが望ましい。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記の如き特殊テンティング法にあって
は、電気回路を形成するため基材に貼る銅箔は、回路の
誘電率の関係から50μm〜70μmと比較的厚めのも
のが用いられ、このため部分的な銅残りが起こり易く、
これを防ぐため、エツチング時間を延長するのが通常で
ある。その際、レジストと銅面との界面で銅箔の一部が
えぐり取られ(サイドエッチ)、ネガのパターン幅より
狭い電気回路の導体幅しか得られな(なるという問題点
があった(以下、この現象をアンダーカットという)。
は、電気回路を形成するため基材に貼る銅箔は、回路の
誘電率の関係から50μm〜70μmと比較的厚めのも
のが用いられ、このため部分的な銅残りが起こり易く、
これを防ぐため、エツチング時間を延長するのが通常で
ある。その際、レジストと銅面との界面で銅箔の一部が
えぐり取られ(サイドエッチ)、ネガのパターン幅より
狭い電気回路の導体幅しか得られな(なるという問題点
があった(以下、この現象をアンダーカットという)。
サイドエッチによるアンダーカット部5及びこれに起因
したネガパターンの回路幅より狭い電気回路の導体幅1
0を第5図に示した。
したネガパターンの回路幅より狭い電気回路の導体幅1
0を第5図に示した。
一方、アンダーカットの速度はレジストと銅との密着力
に依存し、密着力の高いレジストを用いた場合、アンダ
ーカットの速度を遅らせることができるので、レジスト
幅と同一の、従って結果的にはネガのパターン幅とほぼ
同一の電気回路の導体幅を得ることができる。
に依存し、密着力の高いレジストを用いた場合、アンダ
ーカットの速度を遅らせることができるので、レジスト
幅と同一の、従って結果的にはネガのパターン幅とほぼ
同一の電気回路の導体幅を得ることができる。
しかしながら、従来の感光性樹脂組成物は、特殊テンテ
ィング法を行う場合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさ
し部がネガパターンの回路幅とほぼ同一に形成される(
特殊テンティング性が良好)ようなものは、アンダーカ
ットが大きくなり、アンダーカットの小さいものはひさ
し部の垂れ込みが起こり、ひさし部がネガ幅とほぼ同一
にならずネガのパターン幅より大きく形成される(従っ
て孔は小さくなる)(特殊テンティング性が不良)とい
う問題点があった。
ィング法を行う場合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさ
し部がネガパターンの回路幅とほぼ同一に形成される(
特殊テンティング性が良好)ようなものは、アンダーカ
ットが大きくなり、アンダーカットの小さいものはひさ
し部の垂れ込みが起こり、ひさし部がネガ幅とほぼ同一
にならずネガのパターン幅より大きく形成される(従っ
て孔は小さくなる)(特殊テンティング性が不良)とい
う問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、特殊テンティング法を行
った場合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさし部がネガ
のパターン幅とほぼ同一に形成され、かつアンダーカッ
トが小さい感光性樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
った場合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさし部がネガ
のパターン幅とほぼ同一に形成され、かつアンダーカッ
トが小さい感光性樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
(課題を解決するための手段)
本発明は、(A)フィルム性付与ポリマー65〜75重
量部及び(B) エチレン性不飽和化合物を25〜35
重量部からなり総量を100重量部とした配合物に、該
配合物100重量部に対して、(式中、R1およびR2
は各々独立して水素原子、炭素数4以下のアルキル基ま
たはハロゲンを示す)(D)一般式(n)で表わされる
化合物3.0〜6.0重量部、 (式中、R3,R,およびR5は各々独立して水素原子
、炭素数4以下のアルキル基またはハロゲンを示す) 及び (E)有機ハロゲン化合物領 2〜3.0重量部、を配
合してなる感光性樹脂組成物に関する。
量部及び(B) エチレン性不飽和化合物を25〜35
重量部からなり総量を100重量部とした配合物に、該
配合物100重量部に対して、(式中、R1およびR2
は各々独立して水素原子、炭素数4以下のアルキル基ま
たはハロゲンを示す)(D)一般式(n)で表わされる
化合物3.0〜6.0重量部、 (式中、R3,R,およびR5は各々独立して水素原子
、炭素数4以下のアルキル基またはハロゲンを示す) 及び (E)有機ハロゲン化合物領 2〜3.0重量部、を配
合してなる感光性樹脂組成物に関する。
また、本発明は、この感光性樹脂組成物を用いた感光性
エレメントに関する。
エレメントに関する。
本発明に用いられる(A)フィルム性付与ポリマーには
公知のものを使用でき、特に制限はないが、ビニル共重
合によって得られる高分子量体が好ましい。
公知のものを使用でき、特に制限はないが、ビニル共重
合によって得られる高分子量体が好ましい。
ビニル共重合体の製造に用いられるビニル重合性単量体
としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル
酸ラウリル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチルスチ
レン、ビニルトルエン、N−ビニルピロリドン、α−メ
チルスチレン、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、
アクリロニトリル、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、アクリル酸、
メタクリル酸等がある。
としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル
酸ラウリル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチルスチ
レン、ビニルトルエン、N−ビニルピロリドン、α−メ
チルスチレン、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、
アクリロニトリル、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、アクリル酸、
メタクリル酸等がある。
また、本発明に用いられる(B)エチレン性不飽和化合
物は、公知のものを使用でき、特に制限はないが、感度
が高いという点から、アクリレート単量体またはメタク
リレート単量体の使用が好ましい。
物は、公知のものを使用でき、特に制限はないが、感度
が高いという点から、アクリレート単量体またはメタク
リレート単量体の使用が好ましい。
アクリレート単量体またはメタクリレート単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、2,2−ビス(4−メ
タクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(4・−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
ジペンタンエリスリトールペンタアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート等の多価アルコー
ルのポリアクリレートまたはポリメタクリレート、トリ
メチルプロパントリグリシジルエーテルのアクリル酸ま
たはメタクリル酸との付加物、ビスフェノールAエピク
ロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸またはメタ
クリル酸付加物等のエポキシアクリレート、無水フタル
酸−ネオペンチルグリコール−アクリル酸の1:1:2
の縮合物等の体分子不飽和ポリエステルが挙げられる。
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、2,2−ビス(4−メ
タクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(4・−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、
ジペンタンエリスリトールペンタアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート等の多価アルコー
ルのポリアクリレートまたはポリメタクリレート、トリ
メチルプロパントリグリシジルエーテルのアクリル酸ま
たはメタクリル酸との付加物、ビスフェノールAエピク
ロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸またはメタ
クリル酸付加物等のエポキシアクリレート、無水フタル
酸−ネオペンチルグリコール−アクリル酸の1:1:2
の縮合物等の体分子不飽和ポリエステルが挙げられる。
特に、剥離片を細分化するには、3官能以」二のアクリ
レートまたはメタクリレート、例えばトリメチロールプ
ロパントリアクリレートの使用が好ましい。
レートまたはメタクリレート、例えばトリメチロールプ
ロパントリアクリレートの使用が好ましい。
そして、本発明では(A)成分と(B)成分の配合比は
(A)成分65〜75重量部に対して(B)成分を25
〜35重量部とし、(A)成分と(B)成分の総計が1
00重量部となるよう用いられる。
(A)成分65〜75重量部に対して(B)成分を25
〜35重量部とし、(A)成分と(B)成分の総計が1
00重量部となるよう用いられる。
この範囲外の配合では、特殊テンティング法を行った場
合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさし部がネガのパタ
ーン幅とほぼ同一に形成され、かつアンダーカットが小
さい感光性樹脂組成物が得られない。
合、ひさし部の垂れ込みがなく、ひさし部がネガのパタ
ーン幅とほぼ同一に形成され、かつアンダーカットが小
さい感光性樹脂組成物が得られない。
また、本発明で用いる(C)成分は、一般式(1)で示
される化合物が使用され、2,4−ジエチルチオキサン
トンが好ましい。
される化合物が使用され、2,4−ジエチルチオキサン
トンが好ましい。
100車量部1こ対し、1、(J−セF中!1[重用S
の中U囲で用いられる。
の中U囲で用いられる。
本発明で用いる(D)成分は、一般式(n)で示され、
ジエチルアミノ安息香酸エチルが好ましい。
ジエチルアミノ安息香酸エチルが好ましい。
(D)成分は、成分(A)および(B)の総計100重
量部に対し、3.0〜6.0重量部の範囲で用いられる
。
量部に対し、3.0〜6.0重量部の範囲で用いられる
。
3.0重量部未満ではひさし部がネガのパターン幅とほ
ぼ同一にならずネガ幅より大きく形成される。6.0重
量部を越えるとアンダーカットが大きくなる。
ぼ同一にならずネガ幅より大きく形成される。6.0重
量部を越えるとアンダーカットが大きくなる。
本発明で用いる(E)成分は、有機ハロゲン化合物であ
る。これらのうち活性光により容易に710ゲンラジカ
ルを遊離するものまたは連鎖移動により容易にハロゲン
ラジカルを遊離するものが好ましい。
る。これらのうち活性光により容易に710ゲンラジカ
ルを遊離するものまたは連鎖移動により容易にハロゲン
ラジカルを遊離するものが好ましい。
有機ハロゲン化合物としては、例えば四塩化炭素、クロ
ロホルム、ブロモホルム、1. 1. 1トリクロロエ
タン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メチレン、
4臭化炭素、ヨードホルム、1、 1. 2. 2−テ
トラブロモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモア
セトンフェノン、ビス−(トリブロモメチル)スルホン
、トリブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩
素化オレフィン等が挙げられる。炭素−ハロゲン結合強
度の弱い脂肪族ハロゲン化合物、特に同−炭素上に2個
以上のハロゲン原子が結合している化合物、とりわけ有
機ブロム化合物が好ましい。トリブロモメチル基を有す
る有機ハロゲン化合物が一層好ましい結果を与える。
ロホルム、ブロモホルム、1. 1. 1トリクロロエ
タン、臭化メチレン、ヨウ化メチレン、塩化メチレン、
4臭化炭素、ヨードホルム、1、 1. 2. 2−テ
トラブロモエタン、ペンタブロモエタン、トリブロモア
セトンフェノン、ビス−(トリブロモメチル)スルホン
、トリブロモメチルフェニルスルホン、塩化ビニル、塩
素化オレフィン等が挙げられる。炭素−ハロゲン結合強
度の弱い脂肪族ハロゲン化合物、特に同−炭素上に2個
以上のハロゲン原子が結合している化合物、とりわけ有
機ブロム化合物が好ましい。トリブロモメチル基を有す
る有機ハロゲン化合物が一層好ましい結果を与える。
(E)有機ハロゲン化合物は、成分(A)及び(B)の
総計100重量部に対し、0.2〜3゜0重量部の範囲
で用いられる。0.2重量部未満では感度不足となり、
一方3.0重量部を越えると連鎖移動が起こり安定性悪
くなり1色相が変化し不都合である。
総計100重量部に対し、0.2〜3゜0重量部の範囲
で用いられる。0.2重量部未満では感度不足となり、
一方3.0重量部を越えると連鎖移動が起こり安定性悪
くなり1色相が変化し不都合である。
本発明になる感光性樹脂組成物は、感光性フィルム等の
感光性エレメントとして用いることができるが、使用に
際してメチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解し
て用いてもよい。感光性フィルムを作成する場合は、例
えば、ポリエチレンテレフタレート等の支持体上に溶剤
に溶解した感光性樹脂組成物を、公知の適当な方法で塗
布し、乾燥し所定の膜厚の感光層を得、この上にポリエ
チレン等のフィルムを保護フィルムとして積層すること
により製造できる。
感光性エレメントとして用いることができるが、使用に
際してメチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に溶解し
て用いてもよい。感光性フィルムを作成する場合は、例
えば、ポリエチレンテレフタレート等の支持体上に溶剤
に溶解した感光性樹脂組成物を、公知の適当な方法で塗
布し、乾燥し所定の膜厚の感光層を得、この上にポリエ
チレン等のフィルムを保護フィルムとして積層すること
により製造できる。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、液状レジストとし
て用いることもできる。
て用いることもできる。
なお、本発明になる感光性樹脂組成物には、染料、可塑
剤、顔料、難燃剤、安定剤等を必要に応じて添加するこ
ともできる。また、密着性付与剤を使用することも可能
である。
剤、顔料、難燃剤、安定剤等を必要に応じて添加するこ
ともできる。また、密着性付与剤を使用することも可能
である。
(作用)
本発明では、(A)成分65〜75重量部に対して(B
)成分を25〜35重量部の範囲で、成分(A)および
(B)の総計が100重量部となるよう用いられ、通常
の感光性樹脂組成分における(B)成分含h−ffiが
比較的少ないので、光硬化後の収縮率を小さく抑えるこ
とができ、レジストと銅との密着性が向」−シ、サイド
エッチによるアンダーカットの増大を抑制することがで
きる。
)成分を25〜35重量部の範囲で、成分(A)および
(B)の総計が100重量部となるよう用いられ、通常
の感光性樹脂組成分における(B)成分含h−ffiが
比較的少ないので、光硬化後の収縮率を小さく抑えるこ
とができ、レジストと銅との密着性が向」−シ、サイド
エッチによるアンダーカットの増大を抑制することがで
きる。
また、成分(A)および(B)の総計100重性レジス
トの表面硬化を迅速に行えるためカブリが起きにくくひ
さし部がネガのパターン幅とほぼ同一に形成でき、また
、硬化の程度も大きくできるので、レジストひさしの強
度を向−トさせスルーホール内への垂れ込みをなくすこ
とができる。
トの表面硬化を迅速に行えるためカブリが起きにくくひ
さし部がネガのパターン幅とほぼ同一に形成でき、また
、硬化の程度も大きくできるので、レジストひさしの強
度を向−トさせスルーホール内への垂れ込みをなくすこ
とができる。
(実施例)
本発明を実施例及び比較例によって説明する。
<a>
まず、表1に示す配合比(単位は重量部)で、*1 メ
チルメタクリレート/メタクリル酸/アクリル酸2−エ
チルヘキシル/メタクリル酸ブチル共重合体(重量部比
51.2/23.0/20゜315、 5.重量平均分
子量90,000;数平均分子量38,000) *2 8PE−10”/ウレタンアクリレート84/A
−TMM−3L”/MECHPP” (重量部比8/1
0/10/8) *3 新中村化学(株)製2,2−ビス(4−メタクリ
ロキシ・ペンタエトキシフェニル)プロパン *4 2. 2.4−トリメチルへキサメチレンジイソ
シアネート/シクロヘキサンジメタツール/β−ヒドロ
キシアクリレート付加物 *5 新中村化学(株)製ペンタエリスリトールトリア
クリレート *6 大阪有機化学工業(株)製γ−クロローβ−ヒド
ロキシプロビルーβ′−メタクリロイルオキシエステル
−〇−フタレート *7 川口化学工業(株)製2,2′−メチレンビス(
4−エチル−6−t−ブチルフェノール)。
チルメタクリレート/メタクリル酸/アクリル酸2−エ
チルヘキシル/メタクリル酸ブチル共重合体(重量部比
51.2/23.0/20゜315、 5.重量平均分
子量90,000;数平均分子量38,000) *2 8PE−10”/ウレタンアクリレート84/A
−TMM−3L”/MECHPP” (重量部比8/1
0/10/8) *3 新中村化学(株)製2,2−ビス(4−メタクリ
ロキシ・ペンタエトキシフェニル)プロパン *4 2. 2.4−トリメチルへキサメチレンジイソ
シアネート/シクロヘキサンジメタツール/β−ヒドロ
キシアクリレート付加物 *5 新中村化学(株)製ペンタエリスリトールトリア
クリレート *6 大阪有機化学工業(株)製γ−クロローβ−ヒド
ロキシプロビルーβ′−メタクリロイルオキシエステル
−〇−フタレート *7 川口化学工業(株)製2,2′−メチレンビス(
4−エチル−6−t−ブチルフェノール)。
(安定剤)
(b)
」1記の如くして得られた実施例1〜5および比較例1
〜4の感光性樹脂組成物を、厚み23μmを有するポリ
エチレンテレフタレートフィルム(東しく株)製、ルミ
ラー[F])に乾燥後、膜厚が50μmとなるように塗
工乾燥し、厚み35μmのポリエチレンフィルムで被覆
して感光性エレメント(感光性フィルム)を得た。
〜4の感光性樹脂組成物を、厚み23μmを有するポリ
エチレンテレフタレートフィルム(東しく株)製、ルミ
ラー[F])に乾燥後、膜厚が50μmとなるように塗
工乾燥し、厚み35μmのポリエチレンフィルムで被覆
して感光性エレメント(感光性フィルム)を得た。
得られた感光性エレメントから、ポリエチレンフィルム
を剥離しながら、その感光層面をスコッチブライト[F
]バフロール(住友3M製)により研磨、乾燥し、清浄
にされた銅張り積層板(100++uaX 200+n
m)の銅面上に、日立高温ラミネータを用い連続的に積
層して試験片を得た。積層条件を表2に示す。
を剥離しながら、その感光層面をスコッチブライト[F
]バフロール(住友3M製)により研磨、乾燥し、清浄
にされた銅張り積層板(100++uaX 200+n
m)の銅面上に、日立高温ラミネータを用い連続的に積
層して試験片を得た。積層条件を表2に示す。
以
表2
*ラミネーターのシリンダエア圧力
(C)
上記(b)で得られた各試験片につき、次に示す試験を
行った。
行った。
得られた試験結果を表4に示す。
(1)アンダーカット試験
(b)で得られた試験片のレジスト層を、表2に示す条
件で積層した。そして、ライン幅150μmのネガパタ
ーンを用いて露光後現像し、エツチング剥離して電気回
路の導体幅(第5図の10)を測定した。評価基準は、
アンダーカットが小さく導体幅120μm以上である場
合を○、アンダーカットが大きく電気回路の導体幅が1
20μm以下である場合を×として示した。
件で積層した。そして、ライン幅150μmのネガパタ
ーンを用いて露光後現像し、エツチング剥離して電気回
路の導体幅(第5図の10)を測定した。評価基準は、
アンダーカットが小さく導体幅120μm以上である場
合を○、アンダーカットが大きく電気回路の導体幅が1
20μm以下である場合を×として示した。
(2)特殊テンティング性試験
感光性レジストを、前記(b)と同様に処理したスルー
ホール径2.0++uwφのスルーホールを有する銅張
り積層板(100+mX200an)上に、(b)と同
様の方法で積層した。そして、第6図に示したネガのパ
ターン(光非透過部直径(11):1.22蜘fて光透
退部距離(12) :0.69mo+)を用い、スル
ーホールの中心に円形のネガのパターンの円の中心を合
わせて露光し、次いで現像し、エツチング剥離してスル
ーホール内の残銅の有無を顕微鏡(倍率50倍)で観察
し評価した。
ホール径2.0++uwφのスルーホールを有する銅張
り積層板(100+mX200an)上に、(b)と同
様の方法で積層した。そして、第6図に示したネガのパ
ターン(光非透過部直径(11):1.22蜘fて光透
退部距離(12) :0.69mo+)を用い、スル
ーホールの中心に円形のネガのパターンの円の中心を合
わせて露光し、次いで現像し、エツチング剥離してスル
ーホール内の残銅の有無を顕微鏡(倍率50倍)で観察
し評価した。
評価基準はスルーホール内に残銅がない場合をO、スル
ーホール内に残銅がある場合を×で示した。
ーホール内に残銅がある場合を×で示した。
表3に、前記(1)および(2)の試験における現像、
エツチング剥離条件を示す。
エツチング剥離条件を示す。
表3
表4
(発明の効果)
本発明になる感光性樹脂組成物は、アンダーカットが小
さく、ネガのパターン幅と電気回路の導体幅をほぼ同一
にすることができ、かつ、特殊テンティング性に優れる
ので、スルーホール内に残銅がない優れたものである。
さく、ネガのパターン幅と電気回路の導体幅をほぼ同一
にすることができ、かつ、特殊テンティング性に優れる
ので、スルーホール内に残銅がない優れたものである。
これを用いた感光性エレメントも同様に優れた特性を有
する。
する。
第1図および第2図はテンティング法における電気回路
の導体形成の概要を示した図、第3図および第4図は特
殊テンティング法による電気回路の導体形成の概要を示
した図、第5図はサイドエッチによるアンダーカットが
あると、電気回路の導体がネガのパターン幅より狭くな
るという概要を示した図、第6図は実施例において特殊
テンティング性を評価するときに用いたネガのパターン
を示した図である。 符号の説明 1・・・銅箔 2・・・基材 3・・・レジスト 4・・・ランド部 5・・・銅スルーホール 6・・・テント部 7・・・ひさし部 8・・・電気回路の導体 9・・・サイドエッチ・によるアンダーカット部10・
・・電気回路の導体幅 11・・・ネガのパターン (光非透過部直径;1.22a+mφ)12・・・ネガ
のパターン (光透退部距離;0. 69mm) 第 第 図 /θ 箭 図 茅 口
の導体形成の概要を示した図、第3図および第4図は特
殊テンティング法による電気回路の導体形成の概要を示
した図、第5図はサイドエッチによるアンダーカットが
あると、電気回路の導体がネガのパターン幅より狭くな
るという概要を示した図、第6図は実施例において特殊
テンティング性を評価するときに用いたネガのパターン
を示した図である。 符号の説明 1・・・銅箔 2・・・基材 3・・・レジスト 4・・・ランド部 5・・・銅スルーホール 6・・・テント部 7・・・ひさし部 8・・・電気回路の導体 9・・・サイドエッチ・によるアンダーカット部10・
・・電気回路の導体幅 11・・・ネガのパターン (光非透過部直径;1.22a+mφ)12・・・ネガ
のパターン (光透退部距離;0. 69mm) 第 第 図 /θ 箭 図 茅 口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)フィルム性付与ポリマー65〜75重量部及
び(B)エチレン性不飽和化合物を25〜35重量部か
らなり総量を100重量部とした配合物に、該配合物1
00重量部に対して、(C)一般式( I )で表わされ
る化合物1.0〜2.0重量部、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1およびR_2は各々独立して水素原子、
炭素数4以下のアルキル基またはハロゲンを示す)(D
)一般式(II)で表わされる化合物3.0〜6.0重量
部 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_3、R_4およびR_5は各々独立して水
素原子、炭素数4以下のアルキル基またはハロゲンを示
す) 及び (E)有機ハロゲン化合物0.2〜3.0重量部、を配
合してなる感光性樹脂組成物。 2、請求項1の感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメ
ント。 3、(C)成分が2,4−ジエチルチオキサントンであ
る請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 4、請求項3の感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメ
ント。 5、(E)成分がトリブロモ基を有する有機ハロゲン化
合物である請求項1または3記載の感光性樹脂組成物。 6、請求項5の感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメ
ント。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26758588A JPH02113251A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26758588A JPH02113251A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02113251A true JPH02113251A (ja) | 1990-04-25 |
Family
ID=17446807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26758588A Pending JPH02113251A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02113251A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005029188A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2014062170A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Fujifilm Corp | インク組成物の光硬化方法、インク組成物からなるインクセット、画像形成方法およびインク組成物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61188533A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS628141A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPS63195648A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
-
1988
- 1988-10-24 JP JP26758588A patent/JPH02113251A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61188533A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPS628141A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPS63195648A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005029188A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JPWO2005029188A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2007-11-15 | 日立化成工業株式会社 | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
KR100907368B1 (ko) * | 2003-09-24 | 2009-07-10 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트배선판의 제조방법 |
US7622243B2 (en) | 2003-09-24 | 2009-11-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive element, resist pattern formation method and printed wiring board production method |
JP4640177B2 (ja) * | 2003-09-24 | 2011-03-02 | 日立化成工業株式会社 | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2014062170A (ja) * | 2012-09-20 | 2014-04-10 | Fujifilm Corp | インク組成物の光硬化方法、インク組成物からなるインクセット、画像形成方法およびインク組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100191177B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 그를 이용한 감광 소자 | |
JPH0731399B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JPS61166541A (ja) | 光重合性組成物 | |
EP0366077B1 (en) | Photopolymerizable resin composition | |
JPH02113251A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
US4980266A (en) | Photosensitive resin composition | |
JP3199600B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP3692197B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JPH0334056B2 (ja) | ||
US5236809A (en) | Photopolymerizable resin composition employing (meth)acrylonitrile in the linear copolymer to impart additional flexibility of the composition | |
JP2800971B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0820735B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH06242603A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP3437179B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP2596089B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物積層体 | |
JPH0328850A (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント | |
JPS60225841A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH02191955A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JPH04204451A (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント | |
JP3988233B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JPS63213837A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0282248A (ja) | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント | |
JPH02294302A (ja) | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント | |
JPH0469935B2 (ja) | ||
JP2003107695A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |