JPH02112465A - 糸に処理剤を塗布するための方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、貯蔵タンクから取り出され、糸に対し適量が
供給される処理剤を該糸に塗布することにより、巻回処
理工程における上記糸の特性に影響を及ぼす糸に処理剤
を塗布するための方法、及び該方法を実施するための装
置に関する。

本明細書において、“処理剤（ｍｅｄｉａｌｌｌ）“な
る語は、例えば調製剤、結合剤、染料溶液、防水加工剤
等の物質或いは生成物を意味する。

従来の技術及びその問題点 紡績分野においては、調製剤又は再生剤で糸材料を処理
することは公知である。結果として、糸は、例えば柔か
な感触、より大きな可撓性などの特定の特性を付与され
る。これにより、糸は、例えば加熱処理等のようなその
後の処理工程の間において必要とされる特性を有するこ
ととなる。更に、糸の緻密化の回避や、摩滅及び摩擦係
数の低減が求められる場合がある。

糸に対する処理剤の適用のため、巻上げ処理の間におい
て上記の処理が実行されるということは公知である。種
々の手段がこの目的のために知られており、そのための
装置が、巻かれていない糸巻き管又はボビンと、巻かれ
た糸巻き管又はボビンとの間における糸の経路に沿って
配置されている。処理剤が浦及び脂肪で実質的に乳濁物
とされている場合は、これら処理剤は、塗布目的のため
にできるだけ暖められねばならない。巻回されるべき糸
は、回転ディスク又はローラを介して供給され、該糸に
調製剤が適用されて該糸に接触しつつ該糸に移される。

通常、処理剤を収容する浴（ｂａｓｌｎ　）が備えられ
ており、該浴は、必要に応じて加熱システムを具備する
。ディスク又はローラは浴に浸漬しており、各種の糸に
対応する塗布を保証するために、十分な調製剤を付与す
る。

定の供与及び該供与により糸に対する一定の塗布を遂行
するために、浴内におけるレベルが、適切な手段に基づ
き、一定に保持されねばならない。

いくつかの巻」二げステーションのディスク又はローラ
が浸漬され得るような大きさを浴は有することができる
。

従来の処理装置を用いることは、糸に対する塗布の正確
な糸全周への遂行をすることが不可能である。塗布処理
の間において、過剰な処理剤が滴下し、そのため巻上げ
ステーションの一部を汚すことは避けられないことであ
る。滴下又は排出のための皿が備えられても、このよう
な汚れの影響を完全に回避することはできない。この汚
れの影響の他に、処理剤の浪費も存し、該処理剤の補充
が、これに相当するコストを必要とする。これら従来の
手段は、系全体を均等に囲繞する塗布を保証しない。

そのため、本発明の課題は、処理剤の浪費を確実に回避
して該処理剤の消費口を減少させると同時に、糸全周の
塗布を保証して、上述のタイプの方法を更に発展させる
ことにある。

本発明によれば、上記の課題は、処理剤が、糸に塗布さ
れるために塗布層の厚さに相当する量で処理装置に注入
されて該処理装置に貯えられ、該処理装置に搬送される
のと同量の処理剤が、処理装置を通って移行する糸に塗
布されることにより解決される。

その結果、過剰の処理剤の戻りがなく、装置の外側を汚
すことを確実に回避する。処理装置を通過する糸は、そ
の全周に亘って処理剤を適切に受は取る。このように、
従来の装置とは異なり、糸全周に対し均一な塗布が成さ
れる。

本発明はまた、最善の形態で本発明方法を実施するとこ
ろの、上記課題を達成するための装置に関する。本発明
によれば、上記の課題は、広い範囲内で調節し得る特定
の量の処理剤を供給するための少くとも１つの供与ポン
プの圧力ラインに、処理装置が接続されることにより解
決される。

実施例 以下に、本発明の実施例を、添付図面を参照しつつ説明
する。

本発明は、意図される塗布に対し必要量の処理剤が供給
され、糸の周りに供与され得るのであれば、糸に対する
処理剤塗布に際しての改善がなされ得るという考えに基
づくものである。本発明はまた、容易に蒸発する溶剤若
しくは高度のビスコース処理剤を伴う処理剤の確実且つ
安全な塗布を保証することを意図するものである。

第１図及び第２図は、簡潔化された実施例におけるこの
ような装置を示す。第１図及び第２図に示す処理装置（
１）は、実質的に平行六面体形状のケーシング（２）と
、該ケーシング（２）の−側壁において該ケーシング（
２）を閉じるためのカバー（３）とを備えている。カバ
ー（３）は、回り継手又はヒンジ（４）により、ケーシ
ング（２）に枢着されている。ケーシング（２）内には
、多孔性の界面活性を有する材料（６）が挿入されてお
り、内部に供給される処理剤が、糸（８）に塗布される
。カバー（３）に対向する側壁がらは、圧力バイブ（５
）が出ており、処理剤は、第６図から第８図に関連して
以下に述べられるように、圧力バイブ（５）を通ってケ
ーシング（２）及び界面活性を有する材料（６）内に供
給される。

ケーシング（２）の上端部及び下端部には、スロット状
の溝が設けられており、該構内には、スロットが形成さ
れた糸ガイド（１３）が挿入されている。該糸ガイド（
１３）は、ケーシング（２）を通過する糸（８）を案内
するために用いられる。

ケーシング（２）に供給される処理剤の量が、糸（８）
に塗布されねばならない処理剤の量に正確に一致すると
いうことは、第１図及び第２図に示された処理装置に関
し重要なことである。

第１図及び第２図に示す実施例において、圧力バイブ又
はライン（５）は、開口（１４）を伴って材料（６）上
で、若しくは該材料（６）内で終わるのに対し、第３図
から第５図に示す実施例においては、２つの開口（１８
）が設けられている。

２つのライン（２０）、　　（２１）に連なる分岐ライ
ン（１９）が、圧力ライン（５）の開口（１４）に引き
続いて備えられており（第５図参照）、２つのライン（
２０）、　　（２１）は、開ｌコ（１８）に至るまでケ
ーシング（２）の壁内を導かれている。開口（１８）は
、ケーシング（２）に螺合されてライン（２０）、　　
（２１）の最終端部を形成する中空ねじ（２３）の一部
を構成する。該中空ねじ（２３）は、異なる開口を有す
るものに取り替えられ得る。

第３図は、ケーシング（２）の内部が必ずしも材料（６
）により完全に充填される必要のないことを示す。材料
（６）は、開口（１８）に対し対応する凹所を囲繞し、
これにより処理剤は材料（６）内を流れる。第１図及び
第２図に示すより簡潔な実施例においては、開［：］（
１４）はまた、材料（６）内に移され得る。

第４図に示す実施例は、ケーシング（２）内部が材料（
６）により完全に満たされている点においてのみ、第３
図に示した実施例と異なる。

糸を材料（６）内に挿入するために、ケーシング（２）
は、カバー（３）を移動することにより開放され得る。

材料（６）は、該材料（６）の厚みの半ばまで延びるス
ロット（２２）を有している。糸は、材料（６）及び糸
ガイド（１３）内に挿入されることができ、その後ケー
シング（２）は、カバー（３）で再び閉じられる。ライ
ン（２０）、　　（２１）の穿設のため、外部へ通じる
開口をも設けざるを得ないので、これら開口は、その後
固定ねじ（２４）により閉塞されねばならない。

材料（６）は、異なるタイプのものとすることができ、
この異なるタイプの材料は、吸収剤若しくは良好な界面
活性を有するものでなければならない。例えば、内部に
処理剤を貯え得るような発泡体成形物又は吸収性材料の
固型物を使用し得る。

しかしながら、様々な材料の複数層又は発泡材料を用い
ることもまた可能である。

第１図から第５図に示す処理装置の作動のために、糸（
８）に塗布される処理剤のｎに正確に一致する量の処理
剤がケーシング（２）に送り込まれることは、重要なこ
とである。第６図から第８図は、処理装置（１）内に極
めて正確に処理剤を供与し得る装置を示す。

第６図に示すように、処理剤の搬送のために、複動ピス
トンポンプとして構成された供与ポンプ（１０）が使用
され、該供与ポンプ（１０）は、ピストン（２７）を有
するシリンダ（２６）を備えている。ピストン（２７）
は、駆動装置（１５）により後方及び前方へ移動される
ピストンロッド（２８）を有している。駆動装置（１５
）は、例えばウオームギア又はラックピニオンギアのよ
うなりニアギア装置（図示せず）により、ピストンロッ
ド（２８）の駆動を可能にするモータ（２９）及びギア
（３０）を備えている。

ピストン（２７）の両側に位置する２つのシリンダチャ
ンバ（３１）、（３２）の各々には、ライン（３３）、
　　（３４）が接続されており、該ライン（３３）、（
３４）は、吸引バルブ（３５）及び圧力バルブ（３６）
を有する２つのライン部分に分岐されている。２つの吸
引バルブ（３５）は、ライン（３７）を介して処理剤の
貯蔵タンク（３８’　）に連結されている。２つの圧力
バルブ（３６）は、処理装置（１）へ導く圧力ライン（
５）に繋がれている。制御装置（１７）は、供与ポンプ
（１０）を制御するために備えられている。該制御装置
からの制御ライン（３８）がモータ（２９）に接続され
、更に他の制御ライン（３９）がリミットスイッチ（４
０）に接続されている。該リミットスイッチ（４０）は
、ビストンストローク反転のための制御パルスを発信す
るためのものである。制御装置（１７）はまた、プログ
ラマブルプロセッサとし得る。

一定の供給量が、第６図に示す供与装置を用いる処理装
置（１）に連続的に送り込まれ得る。この供与装置を用
いた場合には、ピストンの反転移動位置において送込み
量に僅かな変化が生じるだけである。一定の送込み管の
供給が連続的に必要であるならば、第７図及び第８図に
示すように、２つの供与ポンプＣｌ０）、（１１）を有
する供与メカニズムが使用されるべきである。

第６図に示した構成と異なり、第７図における２つの供
与ポンプ（１０）、　　（１１）は、単動ポンプである
。該単動ポンプは、−側へのストロー夕方向において処
理剤を送り込み、他の側へのストローク方向において貯
蔵タンク（３８’　）から処理剤を吸引する。

２つの供与ポンプ（１０）、（１１）を駆動するために
、モータ（２９）を有する１つの駆動装置（１５）が備
えられている。該駆動装置（１５）は、模式的に示され
た伝達ギア（１６’）により、２つのピストンロッド（
２８）の各々を反対方向へ移動させる。第７図は、単一
のモータに代えて、供与ポンプ（１０）の駆動装置とし
て一点鎖線で表されているように、各々が１つのギア（
３０）に結合された２つのモータ（２つ）を備える例を
示している。

２つの供与ポンプ（１０）、　　（１１）の各々は、吸
引バルブ（３５）及び圧力バルブ（３６）を何し、第６
図に示したと同様のバルブ配置が採用され得る。制御装
置（１７）は、１つ若しくは２つのモータ（１５）、（
１６）にライン（３８）で接続されており、一方、各供
与ポンプ（１０）。

（１１）のために、これらに対応する制御ライン（３９
）を用いて制御装置（１７）に接続されたリミットスイ
ッチ（４０）が設けられている。

制御装置（１７）により、２つの供与ポンプ（１０）、
　　（１１）の往復動が制御され得る。これら供与ポン
プの動作サイクルが交互に行われるならば、ストローク
の反転位置においても実質的に一定な送込み量若しくは
放出量を維持することが可能である。

第８図に示す供与メカニズムは、第７図に示す２つのモ
ータ配置の場合に対応するが、吸引及び圧力バルブとし
て用いられるチエツクバルブに代えて、４方若しくは２
方のバルブ（４２）、（４３）が用いられている。この
４万又は２方のバルブ（４２）、　　（４３）の使用は
、圧力ライン（５）及び吸引ライン（３７）の回路を簡
潔にする。更に、バルブ（４２）、　　（４３）は、制
御装置（１７）により制御ライン（４４）、　　（４５
）を介して操作され得る。方向制御バルブ（４２）、　
　（４３）の反転は、圧力ライン（５）に一定不変の、
即ち一定の処理剤流が存するように実行され得る。

この目的のため、供与ポンプ（１０）、　　（１１）の
反転移動は、動作が逆になるように、時間的にずれた状
態で制御される。

上述の各種装置は、これらの簡素化により特徴づけられ
ている。しかしながら、極めて正確な供与方式で、材料
（６）内に処理剤を送り込むことが可能である。処理装
置（１）は、コンパクトに形成でき、タバコの包装箱よ
り著しく大きくはならない。それでいて該処理装置（１
）は、糸（８）の全問に対する処理剤の塗布を全（満足
いくものとする。ケーシング（２）が小さいため、処理
装置（１）は、既存の巻上機に簡便に取り付けられ得る
。全てのライン或いは配管システムを容易に検査でき、
且つ簡便に清掃し得るため、多様な処理剤を用いること
も可能であり、上記の種々の装置は、この目的達成のた
めに比較的容易に置換され得る。

また、糸に塗布されるべき量の調製剤だけが、供給され
るため、−上記装置は、処理剤を戻す目的のための装置
を要しないという利点を有する。このように、上記装置
は、巻上機部品が汚れるのを回避し、調製剤の節約をも
たらす閉鎖流体システムを構成する。しかし、装置内に
残存する水様処理剤を少しも乾燥させることなく、供与
装置を長期間停止させることも、更に可能である。

高い粘性を有する処理剤も、上述の装置に用いられ得る
。ピストンポンプを使用することにより、極めて敏感な
処理剤を供給搬送する際の慎重な扱いを成すことができ
る。供与ポンプの反転移動が、極めて短時間に行われる
こと、及び１つ若しくは複数の供与ポンプが、連続的な
送込みを長期間に亘って確実に保証することが可能であ
るということは、重要なことである。装置が小さ（なる
結果、該装置を新規の又は既製の機械に容易に取り付け
ることが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例にかかる処理剤塗布装置を概
略的に示す正面図、第２図は第１図の■−■線に沿う断
面図、第３図は本発明の他の実施例にかかる処理剤塗布
装置を概略的に示す縦断正面図、第４図は本発明の更に
他の実施例にかかる処理剤塗布装置を示す縦断正面図、
第５図は第３図及び第４図のｖ−ｖ線に沿う断面図、第
６図は処理装置に処理剤を送り込むための回路の１例を
示す回路図、第７図は処理装置に処理剤を送り込むため
の回路の他の例を示す回路図、第８図は処理装置に処理
剤を送り込むための回路の更に他の例を示す回路図であ
る。 （１）・・・・・・処理装置 （２）・・・・・・ケーシング （３）・・・・・・カバー （４）・・・・・・回り継手又はヒンジ結合（５）・・
・・・・圧力バイブ （６）・−・・・・界面活性剤材料 （８）・・・・・・糸 （１３）・・・・・・糸ガイド （１４）・・・・・・開口 （１６’）・・・・・・分配ギア （１８）・・・・・・開口 （１９）・・・・・・分岐ライン （２０）、　　（２１）・・・・・・ライン（２２）・
・・・・・スロット （２３）・・・・・・中空ねじ （２４）・・・・・・固定ねじ （２６）・・・・・・シリンダ （２７）・・・・・・ピストン （２８）・・・・・・ピストンロッド （２つ）・・・・・・モータ （３８′ ・・・・・・ギア 、　　（３２）・・・・・・シリンダチャンバ、　　（
３４）・・・・・・ライン ・・・・・・吸引バルブ ・・・・・・圧力バルブ ・・・・・・ライン 、（３９）・・・・・・制御ライン ）・・・・・・貯蔵タンク ・・・・・・リミットスイッチ 、　　（４Ｂ）・・・・・・２方バルブ、　　（４５）
・・・・・・制御ライン■− （以 上）

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）貯蔵タンクから取り出され、糸に対し適量が供給
   される処理剤を該糸に塗布することにより、巻回処理工
   程における前記糸の特性に影響を及ぼす処理剤塗布方法
   であって、前記処理剤は、前記糸に塗布されるために塗
   布層の厚さに対応する量で処理装置に注入されて該処理
   装置内に貯えられ、該処理装置に供給されるのと同じ量
   が、該処理装置を通過する前記糸に塗布されることを特
   徴とする糸に処理剤を塗布するための方法。
2. （２）前記処理剤が、前記処理装置を通過する前記糸の
   全周に塗布されることを特徴とする請求項１記載の糸に
   処理剤を塗布するための方法。
3. （３）前記処理剤が、前記糸の通過速度に比例する量で
   前記処理装置に送り込まれることを特徴とする請求項１
   又は２記載の糸に処理剤を塗布するための方法。
4. （４）請求項１から３のいずれかに記載の糸に処理剤を
   塗布するための方法を実施するための装置であって、前
   記処理装置が、広い範囲で調節され得る特定量の前記処
   理剤を搬送するために、少くとも１つの供与ポンプ（ｄ
   ｏｓｉｎｇｐｕｍｐ）の圧力ラインに接続されているこ
   とを特徴とする糸に処理剤を塗布するための装置。
5. （５）前記処理装置が開口を有し、前記糸が、該開口を
   通じて前記処理装置の内部に導き入れられ得ることを特
   徴とする請求項４記載の糸に処理剤を塗布するための装
   置。
6. （６）前記処理装置が、吸収性材料の固型物を備えてい
   ることを特徴とする請求項４又は５記載の糸に処理剤を
   塗布するための装置。
7. （７）１つ又は複数の前記供与ポンプが、ピストンポン
   プとして構成され、前記処理剤の一定適量を維持するた
   めの少くとも１つの駆動装置により駆動されることを特
   徴とする請求項４記載の糸に処理剤を塗布するための装
   置。
8. （８）前記駆動装置が、調節可能なステッピングモータ
   により駆動されるウォームギア装置若しくはラックピニ
   オン駆動装置であることを特徴とする請求項７記載の糸
   に処理剤を塗布するための装置。
9. （９）前記処理剤の一定適量を維持するために、逆方向
   に向け作動し、且つ１つ若しくは各々を１つの駆動装置
   により駆動され、更に一定の供給量或いは排出量を有す
   る少くとも２つのピストンポンプを備え、該ピストンポ
   ンプ全体からの前記処理剤の排出が、前記処理装置に対
   し継続的に且つ一定量をもって行われることを特徴とす
   る請求項７又は８記載の糸に処理剤を塗布するための装
   置。
10. （１０）１つ又は複数の供与ポンプが制御装置に接続さ
    れていることを特徴とする請求項４記載の糸に処理剤を
    塗布するための装置。