JPH02107502A - 無機酸化物の処理方法 - Google Patents

無機酸化物の処理方法

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JPH02107502A
JPH02107502A JP63259583A JP25958388A JPH02107502A JP H02107502 A JPH02107502 A JP H02107502A JP 63259583 A JP63259583 A JP 63259583A JP 25958388 A JP25958388 A JP 25958388A JP H02107502 A JPH02107502 A JP H02107502A
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JP
Japan
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oxide
inorganic oxide
fluorine
particles
fluorinating agent
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Application number
JP63259583A
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English (en)
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Takeo Suzuki
武夫 鈴木
Genji Taga
玄治 多賀
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Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/14Methods for preparing oxides or hydroxides in general
    • C01B13/145After-treatment of oxides or hydroxides, e.g. pulverising, drying, decreasing the acidity

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、無機酸化物の表面をフッ素化剤によって処理
する方法に関する。
(従来技術) シリカ粒子は各種の合成樹脂の充填材、液体クロマトグ
ラフィー若しくはガスクロマトグラフィー等のカラム充
填剤等に使用されている。このようなシリカ粒子の耐ア
ルカリ性を向上させてカラム充填剤として好適に使用す
るために、シリカ粒子をフッ化水素酸水溶液中に浸漬さ
せることが知られている。上記の処理によってシリカ粒
子表面のシラノール基のOH基はフッ素原子に置換する
と考えられている。従って、上記の処理を行なうことに
よって、シリカ粒子とフッ素系溶媒又はフッ素系樹脂と
の親和性が向上し、シリカ粒子のフッ素系溶媒又はフッ
素系樹脂への分散性が向上すると考えられる。
(発明が解決しようとする課題) そこで、本発明者らは、上記の処理を行なったシリカ粒
子をフッ素系溶媒であるl、1.2−トリクロロ−1,
2,2−)リフルオロエタンに分散させることを試みた
が、良好には分散せず、シリカ粒子が凝集した。本発明
者らは、この原因について検討した結果、上記の処理に
よってシリカ粒子表面にある程度の量のフッ素原子を導
入できるが、その程度のフッ素原子の量では、前記のフ
ッ素系溶媒やフッ素系樹脂への分散性を向上させるには
至らないことがわかった。
(課題を解決するための手段) そこで、本発明者らは、シリカ粒子の表面に存在するフ
ッ素原子の量を増大させる方法について鋭意研究を重ね
た結果、本発明の処理方法を見い出すに至った。
即ち、本発明は、無機酸化物をフッ素化剤と水蒸気の存
在下に加熱することを特徴とする無機酸化物の処理方法
である。
本発明の方法は、無機酸化物の粒子を前述のフッ素系溶
媒中に凝集させることなく良好に分散させるために使用
し得る他、無機酸化物の表面にフッ素原子を導入するこ
とによって無機酸化物の表面の18水性や耐化学薬品性
を向上させるためにも使用し得る。
このため、本発明で使用される無機酸化物の形状、大き
さ及び表面積等の物理的性質は、何ら制限されるもので
はなく、無機酸化物の用途に応じて決定される。例えば
、無機酸化物を合成樹脂の充填剤、ガスクロマトグラフ
ィー又は液体クロマトグラフィー〇カラム充填剤等の用
途に使用する場合には、一般に平均粒子径が0.1〜1
00μrn、好ましくは1〜50μmの球状、柱状、繊
維状及び不定形等の任意の形状の粒子が用いられる。ま
た、無機酸化物の粉末を成形して建築又は構築物の壁材
等に用いる場合には、−辺が数Cl11〜数十cmの板
状体が用いられる。
本発明に於ける無機酸化物は、公知のものが何ら制限な
く採用される。例えば、酸化リチウム、酸化ナトリウム
、酸化カリウム等の周期律表第1族の金属酸化物:酸化
マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、
酸化ベリリウム等の周期律表第■族の金属酸化物;酸化
アルミニウム等の周期律表第■族の金属酸化物;二酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ム等の周期律表第■族の金属酸化物等を挙げることがで
きる。
これら金属酸化物は一種類に限られるものではなく、数
種類が含有されていても良い。
上記の無機酸化物の中でも周期律表第■族の金属酸化物
は、本発明の方法によりその表面に多量のフッ素原子を
導入することができるために好適である。就中、シリカ
又はこれと上記した周期律表第■族、同第■族、同第■
族及び同第■族の金属酸化物との複合体よりなる無機酸
化物が特に好ましく用い得る。
無機酸化物が、シリカと上記した金属酸化物とよりなる
場合、シリカの割合は50重量%以上、さらには80重
量%以上であることが好ましい。
また、無機酸化物は、X線回折で無定形であることが無
機酸化物の表面のフッ素原子の量をより多くすることが
できるために好ましい。
以上に述べた無機酸化物は、フッ素化剤と水蒸気の存在
下に加熱される。フッ素化剤としては、水の存在下でフ
ッ素イオンを発生する化合物が何ら制限なく採用される
。本発明に於いて好適に採用されるフッ素化剤としては
、例えば、フッ化水素酸、フッ化ナトリウム、フン化カ
リウム、フッ素ガス等を挙げることができる。
本発明に於いては、無機酸化物の加熱時にフッ素化剤と
水蒸気が存在しておれば良く、その存在状態を問わない
。本発明に於いては、無機酸化物とフッ素化剤とをまず
接触させ、次いで水蒸気の存在下に加熱する方法が採用
される。
無機酸化物とフッ素化剤の接触は公知の方法が何ら制限
なく採用され、気相中及び液相中での接触のいずれの方
法を採用しても良い。気相中で接触させる場合、気体の
フッ素化剤を単独で使用することができるが、一般には
、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の不活性ガスで
気体のフッ素化剤を希釈して使用する。希釈の程度は特
に制限されないが、一般には気体のフッ素化剤が5〜9
0III01%さらには20〜50mon!%の範囲で
使用される。このような気体のフ・2素化剤は、密閉さ
れた反応容器中で無機酸化物と接触させることもでき、
また、反応容器中へ流通させつつ無機酸化物と接触させ
ることもできる。流通させる場合には、気体のフッ素化
剤又はこれを希釈したガスを空間速度lO〜10.00
0hr−’で流通させることが好ましい。
また、無機酸化物とフッ素化剤とを液相中で接触させる
場合には、フッ素化剤は一般に水、又はアルコール等の
極性溶媒で希釈され、該希釈溶液中に無機酸化物を浸漬
するか、又は無機酸化物に該希釈溶液を散布する等の方
法で接触が行なわれる。この時の希釈溶液中のフッ素化
剤の濃度は特に制限されるものではないが、フッ素化剤
の吸着を良好に行ない、且つ無機酸化物の溶解を防止す
るためには、0.5〜30重量%、好ましくは1〜IO
重量%の範囲が好適である。
無機酸化物とフッ素化剤との接触時の温度は特に制限さ
れることはなく、0℃〜極性溶媒の沸点までの広い範囲
から採用される。また、接触の時間も特に制限されない
が、一般には1〜20時間程度が好適である。
以上の方法によって無機酸化物にフッ素化剤が吸着され
る。その吸着量は、無機酸化物の形状、粒子径及び種類
によって左右されるが、一般には1〜500μmoρ%
g−(無機酸化物)の範囲である。
次に水蒸気の存在下に加熱する方法も何ら制限されない
。水蒸気は反応容器中にら密封されていても良く、また
、反応容器中へ流通させていても良い。水蒸気を反応容
器中に密封させる場合には、一般に水蒸気の蒸気圧を5
〜760 mm1g、さらには10〜500 mmHg
とすることが好ましい。また、水蒸気を反応容器に流通
させる場合には、上記の蒸気圧を有する水蒸気を含む気
体を空間速度50〜L OO0hr−’、さらにはI 
Q O〜500hr−’の範囲で流通させることが好ま
しい。水蒸気を含む気体としては、窒素ガス、ヘリウム
、ネオン、アルゴン等の不活性ガスが好適に用いられる
加熱の温度は、特に制限されるものではないが、得られ
た無機酸化物のフッ素系溶媒への分散性を勘案すると、
通常100〜300゛Cの範囲から採用され、特に15
0〜250℃の範囲が好ましく用いられる。さらに、加
熱時間は、水蒸気を含むガスの流量および加熱温度によ
って左右されるために一概に決定できないが、一般には
3時間以上加熱を続けることが好ましい。
加熱は、加熱のために特別の手段を構することなく、水
蒸気の熱を利用して行なっても良い。
以上に、シリカ粒子とフッ素化剤とをまず接触させ、次
いで水蒸気の存在下に加熱する方法を述べたが、本発明
に於いては、フッ素化剤と水蒸気を同時にシリカ粒子に
接触させながら加熱する方法も採用し得る。
このようにして本発明の目的とする無機酸化物を得るこ
とができる。
(効果) 本発明の方法によって無機酸化物の表°面に多量のフッ
素原子を導入させることができる。即ち、従来のように
シリカ粒子をフン化水素酸水溶液と単に接触させる方法
では、シリカ粒子の表面に単位表面積あたり0.4個/
nm”のフッ素原子を導入し得るに止まるが、本発明の
方法によれば、1.0個/nm”以上のフッ素原子を導
入し得る。
本発明の方法により無機酸化物に導入したフッ素原子は
、無機酸化物の表面に存在するOH基と置換して金属原
子と強固に結合しているものと考えられる。従って、本
発明の方法により得られた無機酸化物のフッ素原子は、
極性溶媒による洗浄やそれに続く乾燥によって脱離する
ことはない。
本発明の方法により得られた無機酸化物は、表面に多量
のフッ素原子を有するためにフッ素系溶媒又はフッ素系
樹脂との親和性が良好である。従って、これらのフッ素
系溶媒やフッ素系樹脂への分散性が極めて良好な無機酸
化物を得ることができる。また、表面のフッ素原子によ
って18水性及び耐化学薬品性に優れた無機酸化物を得
ることができる。
このような特徴から、本発明の方法により得られた無機
酸化物は、エレクトロニクス分野で使用されるフッ素系
溶媒等の清浄度測定用標準粒子、液晶等のマイクロエレ
クトロニクスのスペーサーフッ素樹脂のフィラー、ガス
クロマトグラフィー又は液体クロマトグラフィーのカラ
ム充填材、撥水性及び耐化学薬品性の建築又は構築用材
料などに好適に用いることができる。
〔実施例〕
以下に実施例を挙げ、本発明を更に具体的に説明するが
、以下の実施例に於ける無機酸化物の分散性の測定およ
びフッ素の定量方法は、次のようにして実施した。
+11分散性の測定 無機酸化物粒子78■を、1,1.2−1−リクロロ−
1,2,2−1−リフルオロエタン10社中に入れ、数
分間超音波攪拌をしたのち、1分以内に島津ダブルビー
ム分光光度計(UV−20O8)を用いて可視光の透過
率を測定し、分散性の指標とした。なお、可視光は溶媒
(1゜1.2−)リクロロー1.2.2−トリフルオロ
エタン)および無機酸化物による吸収のない波長である
500nm(タングステンランプ)を、またセルは水晶
製10+uセルを使用した。
(2)フッ素量の定量 無機酸化物10.0gに蒸留水200dを入れ、攪拌を
行ないながら100℃に加熱し5時間保持した。その後
、遠心分離器を用いて、無機酸化物を分離し、蒸留水3
00dで洗浄した後、100℃の乾燥器内で20時間乾
燥し、単に無機酸化物表面に単に吸着していると思われ
るフッ素原子を除去した。
このようにして得られた無機酸化物1.0gを白金製蒸
発皿に入れ、0.5モル/1の濃度の硝酸水溶液20献
を加えて、砂浴上100℃で10分間加熱した。この時
、蒸発乾固しないように適宜、蒸留水を添加した。冷却
した後、0.5モル/lの濃度の水酸化ナトリウム水溶
液40afをゆっくり加え、砂浴上で100 ”C11
0分間加熱し、蒸留水50tfを加えて固形物を濾過し
た。濾液を蒸留で適宜希釈した後、イオンクロマトグラ
フィー(横河電機製モデルIC100)でフッ素イオン
量を測定した。
(3)比表面積 柴田化学器機工業■迅速表面積測定装置5Atoooを
用いた。測定原理はBET法である。
実施例1 無機酸化物はテトラエチルシリケート (Si (OCt Hs) a〕を、アンモニア性アル
コール溶液中で加水分解させて得られた球状のシリカ粒
子(非晶質、平均粒子径−2,3μm、粒子径の変動係
数=2.8%)を洗浄・乾燥したものを用いた。
内容積17!のポリエチレン製ビーカーに、上記球状の
シリカ粒子60.0 g (1,0mo#)およびメタ
ノール260gを仕込み、電磁攪拌器を用いて攪拌混合
し、シリカとメタノールを含むスラリーを調製した。
50重量%フッ化水素酸水溶液16.0 gとメタノー
ル240gからなる溶液を調製し、このフ・ッ化水素酸
溶液(3,1重■%)を4g/mrnの速度で、攪拌下
、シリカとメタノールを含むスラリー中に室温で滴下し
た。滴下終了後、20時間電磁攪拌を続け、その後、シ
リカ粒子を自然沈降させ、上澄み液をデカンテーション
した。メタノール500gを用いて、シリカ粒子を洗浄
し真空乾燥器内で乾燥した。
次いで、得られたシリカ粒子を管状炉(内径208m)
に入れ、水蒸気と窒素の混合ガス(水蒸気圧20 mm
mm1lを流通させた。管内を、水蒸気と窒素の混合ガ
スで充分置換した後、6℃/minで昇温し、200°
Cで3時間保持した後、降温した。
この間、水蒸気と窒素の混合ガスは、120hr−’の
空間速度で流通させた。
得られたシリカ粒子は、1,1.2−1リクロロー1.
2.2−トリフルオロエタン中で非常に良く分散し、可
視光(500nm)の透過率は92%であった。
また、走査型電子顕微鏡の観察より、平均粒子径、粒子
形状を調べたが、処理前と処理後の間で変化が認められ
なかった。
処理後のシリカ粒子のフッ素量は、4.7μmO1/g
で、比表面積は、1.4m/gであった。また、単位表
面積あたりのフッ素原子の個数は、2.0個/n11”
であった。
比較開上 実施例1で用いたのと同一の球状のシリカ粒子を用い、
水蒸気と窒素との混合ガス流通下で加熱処理を施さず、
フッ素水素酸との接触のみを実施例1と全く同様な条件
で行なった。
得られたシリカ粒子は、1,1.21リクロロー1.2
.2−トリフルオロエタン中で凝集、白濁し、可視光(
500nm)の透過率は3%であった。
さらに、得られたシリカ粒子のフッ素量は1.7μmo
j!/gで、比表面積は、2.7m/gとなり、単位表
面積あたりのフッ素原子の個数は0.4個/nm”であ
った。
実施例2 平均粒子径および粒子径の変動係数の異なる表1に示し
た球状のシリカ粒子を用いた以外は、実施例1と全く同
様な条件で行なった。
結果を表1.に示した。
実施例3 無機酸化物として球状のガラス粒子(平均粒子径10μ
m、変動係数10%、Si0□96モル%、MzOz 
4モル%)、ハロゲン化珪素の火災中での加水分解によ
って生成する微細シリカを火災中で溶融して得た球状の
溶融シリカ粒子(平均粒子径5μm、変動係数17%)
、球状のチタニア粒子(平均粒子径2.5μm、変動係
数9%)及び球状のアルミナ粒子(平均粒子径1.5μ
rn、変動係数11%)を用いて実施例1と同様に行な
った。
ガラス粒子および溶融シリカ粒子は、夫々100gに蒸
留水300gを加え、500ccオートクレイブ中、1
80℃、7時間、攪拌下で水熱処理を施した後使用した
。水熱処理後の各粒子は、X線回折分析の結果、ともに
非晶質であった。
また、チタニア及びアルミナの各粒子は、蒸留水で充分
洗浄したものを、そのまま用いた。
各無機酸化物とも、フッ素化剤の種類、添加量および水
蒸気加熱処理時の水蒸気分圧、処理温度、処理時間を表
2のように変えた以外は、全て実施例1と同様な条件で
実施した。
また、得られた各無機酸化物について、1.12−トリ
クロロ−1,2,2−1−リフルオロエタン中の分散性
、可視光(500nm)の透過率およびフン素置につい
ても表2に併記して示す。
ス凄lボ1 実施例1で用いたのと同一の球状にシリカ粒子および実
施例3で用いた球状のガラス粒子、溶融シリカ粒子、チ
タニア粒子について、フッ素化剤と水蒸気を気相中で同
時に作用させて、フッ素化処理を行なった。球状のガラ
ス粒子と溶融シリカ粒子は、実施例3と同様にオートフ
レイブ中水熱処理を行ない、チタニア粒子は蒸留水で洗
浄した。
各無機酸化物の粒子とも、60.0 gを管状炉(内径
20鶴)に入れ、これにフッ化水素、水蒸気及び窒素の
混合ガスを流通させた。この混合ガスは、フッ化水素ボ
ンベ、窒素ボンベおよび水蒸気発生用気化器より供給さ
れ、ガス混合器を経て管状炉へ導いた。また、フッ化水
素、水蒸気および窒素の各分圧は、各ボンベおよび気化
器のバルブ操作により表3のとおり調節した。
管状炉内をフン化水素、水蒸気及び窒素の混合ガスで充
分に置換した後、5℃/ll1inで昇温し、表3に示
した温度で表3に示した時間保持した後、降温した。こ
の間、フッ化水素、水蒸気及び窒素の混合ガスは、60
〜240hr−’の空間速度で流通させた。室温まで降
温した後、窒素ガスで管状炉内を充分に置換し、無機酸
化物の粒子を取り出した。
各無機酸化物の粒子の処理条件を表3に示す。
さらに、得られた各無機酸化物の粒子について1.2.
2−1−リクロロー1 2.2−トリフルオロエタン中
の分散性、可視光(500nm)の透過率およびフン素
早についても、表3に併記して示す。
実JU帽恒 30 X 80 x*、厚さ1.311鳳のシリカガラ
ス板を実施例2と同様にオートフレイブ中で水熱処理を
行なった。得られたシリカガラス板を、実施例1と同一
の条件で処理を行なった。
上記の処理をしたシリカガラス板の水に対する接触角を
、エルマ社製の接触角測定装置を用いて測定した。23
.0℃において、接触角は73°であった。
また、上記の処理をしてないシリカガラス板の接触角は
、23.0℃において12°であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)無機酸化物をフッ素化剤と水蒸気の存在下に加熱
    することを特徴とする無機酸化物の処理方法。
JP63259583A 1988-10-17 1988-10-17 無機酸化物の処理方法 Pending JPH02107502A (ja)

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JP63259583A JPH02107502A (ja) 1988-10-17 1988-10-17 無機酸化物の処理方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6852299B2 (en) 2000-04-28 2005-02-08 Mitsui Chemicals, Inc. Water-repellent porous silica, method for preparation thereof and use thereof
WO2011027872A1 (ja) * 2009-09-04 2011-03-10 国立大学法人東京大学 無機構造物及びその製造方法、並びに無機薄膜の製造方法
JP2011207628A (ja) * 2010-03-27 2011-10-20 Univ Of Fukui 着色二酸化チタン粉末の製造方法

Cited By (4)

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