JPH0210700A

JPH0210700A - プラズマトーチ

Info

Publication number: JPH0210700A
Application number: JP1072030A
Authority: JP
Inventors: Ronald P T Kamp; ロナルド・ペトルス・テオドルス・カムプ; Meij Johannes P De; ヨハネス・ペトルス・デ・メーエイ
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1988-03-28
Filing date: 1989-03-27
Publication date: 1990-01-16
Also published as: DE68907102T2; EP0335448A1; NL8800767A; EP0335448B1; US4992642A; DE68907102D1; NO891264L; NO891264D0

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はホルダーと非電導性ノズルを含むハウジングを
有し、このハウジングは、入口開口、出口開口を有する
ノズル、更に該ハウジングと同軸に配設されたロンド状
電極を有する、プラズマビームの高周波容量的発生用の
プラズマトーチに関するものである。

プラズマビームを発生するプラズマトーチは、材料の局
部加熱、溶接および切断、石英ガラスを含むガラスの加
工および成形、材料の溶射のような種々の工業分野で用
いられる。

（従来の技術）ドイツ国公開公報第１７６５１０４号にはプラズマビー
ムを容量的に発生する装置が開示されている。

この目的で、高周波発生器の外部発振器回路がタングス
テン電極に接続されている。ガスがこの電極に沿って通
される。電気的共振に応じて高電圧が電極に発生され、
通過するガスを電離させる。

電極は非導電性管で包囲されている。この管の一方の側
には、その詳細は省略するノズルが設けられ、このノズ
ルからプラズマビームが出ることができる。このプラズ
マビームは、加工されるべき加工片と接触され、回路は
この加工片を経て容量的に閉じられる。このドイツ国公
開公報は５〜１５ｍｍのノズル−加工片距離を特定して
いる。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、このようなプラズマトーチで発生されるプラ
ズマビームが１５ｍｍよりも大きなノズル−加工片距離
を架橋することができ、加工片上のプラズマビームの結
果的なスポットがこの加工片の加工に対し十分に有効で
あるようにこの種のプラズマトーチを改良することを目
的とするものである。

（課題を解決するための手段）本発明によれば、前記の目的は次のようにすることによ
り達成される、すなわち、同軸に配設された非導電性の
ブツシュがノズルと電極の間に設けられ、ノズルの内側
とブツシュの外側は、出口開口に向ってテーパーをつけ
られた環状溝を取囲み、ブツシュの内面と電極の表面は
円筒状溝を取囲み、この円筒状溝は入口開口と連絡され
る。電極のまわりの円筒状溝は、この溝を通って流れる
ガスによる電極の冷却を可能にする。テーパーを付けら
れた環状溝は、この溝を通って流れるガスが発生プラズ
マビームを収斂するのを可能にし、このため、プラズマ
ビームは、ノズルと加工片間の大きなギャップを架橋す
ることができる。ガス流速は、例えば、ガス流が濁流で
あるように選ぶのが好ましい。ガス流が層流か否かは、
プラズマビームの形から見てとることができる。例えば
アルゴン、ヘリウム、窒素または窒素と水素の混合物の
ような種々のガスを使用することができる。

電極はタングステン、モリブデンまたは炭化珪素のよう
な高融点導電材料よりつくられる。ノズルとブツシュは
共に電気絶縁性のセラミック材料よりつくられることが
できる。電極に接続される高周波発生器は１３．５６か
ら２７．１２　ＭＨｚの周波数を有する交流電流を供給
する。通常の寸法のプラズマトーチでは、発生器は数１
００Ｗから数に−の電力を有する。

プラズマトーチは、解離されたガス分子や電離されたガ
ス分子および電子も含む。ガス中に蓄えられた解離およ
び電離エネルギは、プラズマビーム中に位置する加工片
の表面で再結合により開放される。利用可能なエネルギ
の値とビームの比較的小さな直径のために、極めて高い
温度を局部的に発生することができる。加工片は導電性
および非導電性の何れでもよい。プラズマビームは良好
な導電体なので、ビームが加工片に当てられたスポット
に強い高周波電磁界が発生され、加工片内に誘電または
伝導エネルギの形の付加的なエネルギが生じる。その大
きさはその時点の温度の材料の電気的特性によって決ま
る。

供給されたガスに適当だエネルギが加えられると、この
プラズマトーチは、加工片上への、金属またはセラミッ
クの何れもの材料の溶射に使用することができる。

米国特許第３．８９４，２０９号にもプラズマトーチが
開示されていことは注目に値する。この米国特許に記載
されたトーチは中空の電極を有し、その中をガスが流れ
ることができる。ガスは電極の内側に沿って流れること
ができる。けれどもこのトーチは、長くそして小さな直
径のプラズマビームが発生されるようにテーパーを付け
たノズル有していない。

本発明のプラズマトーチの一実施態様では、ブツシュは
ノズルに対して軸方向に調節可能である。

テーパーを有する環状溝中のガス流はこれによって影響
を受け、したがってプラズマビームの収斂が生じる。ブ
ツシュとスリーブの一部との間のねし山結合がこの目的
に非常に適している。

本発明のプラズマトーチの別の実施態様では、電極はノ
ズルの流出開口に対して軸方向に調節可能である。この
調節もプラズマビームの形に影響を与えることができる
。

本発明のプラズマトーチの特別な実施態様では、トーチ
は、テーパーを有する環状溝と連絡された第２の入口開
口を有する。このような設備を用いると、２つのガス流
すなわち電極に沿って流れるガス流とテーパーを有する
環状溝を通って流れるガス流を互に無関係に調節するこ
とができる。これによりプラズマビームの形に影響を与
えることが可能になる。２つのガスは同一のタイプでも
或は異なってもよい。

本発明のプラズマトーチの好適な実施態様では、ノズル
および／またはブツシュを窒化硼素よりつくることがで
きる。このセラミック材料は機械加工が比較的容易であ
り、非常な高温すなわち略々２７７５°Ｃ迄耐えること
ができる。

本発明のプラズマトーチの別の好ましい実施態様では、
電極に、ノズルの流出開口の方向にとがった円錐状先端
が設けられる。このような先端の存在は電磁界の収束を
より大きくし、その結果、電極に沿って流れるガスの電
離の開始がより容易に起きる。電界の位相に応じて電子
か正イオンの何れかが電極の先端に衝突して該電極を短
期間で高温に加熱し、その結果、電子放出を増加し、し
たがってガスの解離および電離を増す。

（実施例）以下に本発明を添付の図面を参照して更に詳しく説明す
る。

第１図において、符号３は外部共振回路５を有する高周
波発生器を示す。通常の周波数は１３．５６ＭＨｚまた
は２７．１２ＭＨｚである。前記の回路５は、プラズマ
トーチ１の電極７に接続される。このプラズマトーチ１
は、ノズル９と絶縁スリーブ１１を有する。

ガスは開口１３を経て導入される。ガスはノズルの開口
１５を経てプラズマトーチ１より出ることができる。共
振回路５が高周波発生器３の周波数に同調さると、共振
によって、極めて高い電圧が、電極７が接続されたコイ
ルの点に発生する。電極７を横切る大きな電界によって
、ピンに沿って流れるガスの初期電離が生じる。位相に
応して、電子か正イオンが電極に衝突してこの電極を極
めて短時間で加熱し、この結果電子放出が増加される。

ガス流中に含まれた電子は高周波電磁界からエネルギを
吸収し、衝突によってエネルギをガス原子および分子に
移すことができる。これによりガスの付加的な解離と電
離が生じる。ガス中に蓄えられた電離および解離エネル
ギは、例えば形成されたプラズマビーム１７内に位置す
る加工片の表面で再結合により利用可能になる。加工片
１９は導電体または非導電体でよい。プラズマビームは
良好な導電体なので、ビームが加工片に入射した点にお
いて強い高周波電磁界が生じ、この電周波電磁界により
加工片内に誘電または伝導エネルギが発生される。プラ
ズマビームに沿った方向にみて、エネルギ発生は場所に
より左右される。その大きさは、その時点の温度の材料
の電気的特性によって決まる。

第２図において符号１′は本発明によるプラズマトーチ
の縦断面図を示す。このプラズマトーチは円筒状のホル
ダー３′とノズル５′とを有する。

ホルダー３′は真鍮よりつくられる。ノズル５′は窒化
硼素よりつくられる。このノズルは、出てくるプラズマ
ビームに対する開口１７′を有する。

トーチは導電性のタングステン電極７を有する。

この電極は円錐形の尖頭１５′を有する。ノズル５′と
電極７の間には、ブツシュ９′、テーバ環状溝１１′お
よび円筒状溝１３′が形成されている。前記のブツシュ
および更にノズル５′も・窒化硼素でつくられる。電極
７は、電極ホルダー１９′とスリーブ２１によってホル
ダー３′に固定されている。電極ホルダー１９′とスリ
ーブ２１は共に真鍮でつくられる。電極ホルダーには溝
２３が設けられている。

これ等の溝２３は、ガス入口バイブ２５と円筒状溝の連
絡部を形成する。ホルダー３′には第２のガス入口バイ
ブ２７が設けられ、このガス入口バイブはテーバ環状溝
１１′と連絡している。電極７は、電極ホルダー１９′
、スリーブ２１およびガス入口バイブ２５を経て、高周
波発生器（２７，１２ＭＨｚ）と接続される。ブツシュ
９′はノズル５′に対して軸方向に調節可能である。こ
のために、ブツシュ９′とスリーブ２１の接触面２９に
はねじ山（Ｍ２０ｘ１．５）が設けられている。電極ホ
ルダー１９’　とスリーブ２１の接触面３１にもねじ山
（Ｍ１２）が設けられている。

この装置の特徴によって、層流が開口１７′を通ってノ
ズルを出ることが可能になる。電極の直径は３ｍｍで、
ノズルの開口は５ｍｍである。ガスの流速は秒当り５〜
１０リツトルになり、発生器の電力は略々ｌ０Ｋ−であ
る。発生されたプラズマトーチの長さは略々１メートル
になり得る。ノズルと電極は共に３５ｍｍのプラズマビ
ーム長に対して６０時間以上の動作寿命を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のプラズマトーチの基本的な全体概略図
、第２図は本発明のプラズマトーチの縦断面図である。１・・・プラズマトーチ　　３・・・高周波発生器３′
・・・ホルダー　　　　５・・・外部共振回路５′　９
・・・ノズル　　　７・・・電極９′・・・ブツシュ　
　　　１１・・・絶縁スリーブ１１′・・・テーパ状環
状溝　１３．１５．１７・・・開口１３′・・・円筒状
溝　　　　１５′・・・電極先端１９′・・・電極ホル
ダー　　２１・・・スリーブ２３・・・ｉｌｔ　　　　
　　　　　２５．２７・・・ガス入口バイブ２９、３１
・・・接触面ＦＩＧ、１Ｆ　Ｉ　Ｇ、　２

Claims

【特許請求の範囲】１、ホルダーと非電導性ノズルを含むハウジングを有し
、このハウジングは、入口開口、出口開口を有するノズ
ル、更に該ハウジングと同軸に配設されたロッド状電極
を有する、プラズマビームの高周波容量的発生用のプラ
ズマトーチにおいて、同軸に配設された非導電性のブッ
シュがノズルと電極の間に設けられ、ノズルの内側とブ
ッシュの外側は、出口開口に向ってテーパーをつけられ
た環状溝を取囲み、ブッシュの内面と電極の表面は円筒
状溝を取囲み、この円筒状溝は入口開口と連絡されたこ
とを特徴とするプラズマトーチ。２、ブッシュはノズルに対して軸方向に調節可能である
請求項１記載のプラズマトーチ。３、電極はノズルの流出開口に対して軸方向に調節可能
な請求項１又は２記載のプラズマトーチ。４、トーチには、テーパーをつけた環状溝と連絡された
第２の入口開口が設けられた請求項１乃至３の何れか１
項記載のプラズマトーチ。５、ノズルは窒化硼素でつくられた請求項１乃至４の何
れか１項記載のプラズマトーチ。６、ブッシュは窒化硼素よりつられた請求項１乃至４の
何れか１項記載のプラズマトーチ。７、電極には、ノズルの流出開口の方向にとがった円錐
状先端が設けられた請求項１乃至６の何れか１項記載の
プラズマトーチ。