JPH02103238A - プリプレグの製造法 - Google Patents

プリプレグの製造法

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JPH02103238A
JPH02103238A JP25584488A JP25584488A JPH02103238A JP H02103238 A JPH02103238 A JP H02103238A JP 25584488 A JP25584488 A JP 25584488A JP 25584488 A JP25584488 A JP 25584488A JP H02103238 A JPH02103238 A JP H02103238A
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JP
Japan
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solvent
impregnated
resin
chamber
base material
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JP25584488A
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English (en)
Inventor
Morio Take
杜夫 岳
Fumiki Iguchi
井口 文樹
Yasushi Kurine
栗根 靖
Kazuhiro Miyasaka
宮坂 一博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、積層板類、構造材料、その他の用途に好適に
使用されるプリプレグの製造法の改良に関するものであ
り、基材に溶剤を含浸した後、これを密閉系で除去し、
直ちに樹脂溶液中に導入することを特徴とするものであ
り、従来の真空含浸法に対しては、減圧室に流入する空
気が少ないので冷却による溶剤回収と組み合わせること
により減圧賦課を大幅に低減できるものであり、また、
溶剤予備含浸法に対しては、溶剤の樹脂溶液槽への混入
を1/100以下乃至実質的になくすることを可能とし
て樹脂溶液濃度の制御を容易にするものである。
〔従来の技術およびその課題〕
電気用途に使用される積層板類、構造材料、その他の製
造に使用されるプリプレグの製造法は、従来、補強基材
を直接樹脂溶液に浸漬する方法(直接含浸法■)が主流
であったが、補強基材繊維のモノフィラメント間などの
微細な間隙に空気の残ったプリプレグができる問題があ
る。この解決策として、希釈した樹脂溶液或いは溶剤を
予備含浸させた後、本含浸する方法(予備含浸法■)や
減圧室を介して樹脂溶液に浸漬する方法(真空含浸法■
)などが提案されている。
しかし、予備含浸法■の場合、本含浸に用いる樹脂溶液
槽に予備含浸に用いた過剰分の溶剤が持ち込まれるとい
う問題があり、また、溶剤の持ち込まれる蚤も温度その
他の要因により変動し易い為、樹脂溶液濃度の管理が難
しいという問題点があった。また、真空含浸法■の場合
、補強基材が連続した多孔質であることから、ロールに
よるシールでは、真空ポンプを大型にすることが必須で
ある。しかも、真空吸引のために発生する多量の排気ガ
ス中には、樹脂溶液槽からの溶剤の混入があることから
、この排気ガスの処理という新たな問題点が生じるもの
であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、上記した課題の解決について鋭意検討した結
果、溶剤含浸とその密閉室による除去とを組み合わせる
方法を見出し、完成させたものである。
すなわち、本発明は、基材に樹脂液を含浸し加熱するプ
リプレグの製造法において、該基材を溶剤に含浸して基
材内の空気を溶剤で置換し、続いて該基材中に含ませた
液状溶剤を密閉室中で除去し、直ちに樹脂液を含浸する
ことを特徴とするプリプレグの製造法である。また、該
含浸装置として、溶剤含浸槽〔A〕、該溶剤含浸槽Aに
隣接し、入口および出口をロールにより密閉した減圧室
[B)並びに該減圧室Bの出口ロールに直結し、出口ロ
ールの全面が樹脂液に満たされた構造の樹脂液槽〔C〕
を少なくとも有する装置を用いること;前記の含浸装置
の減圧室B中で、溶剤含浸基材が加熱されること;溶剤
含浸槽Aと減圧室Bとの間に、入口および出口をロール
により密閉され、溶剤含浸槽A側が入口ロール側が冷却
され、中央部乃至出口ロール側が加熱された溶剤予備蒸
発室CD]を設けてなること;さらに、前記の含浸装置
の減圧室B又は減圧室Bと溶剤予備蒸発室りとの組合せ
に代えて、該溶剤含浸槽Aに直結して入口および出口を
ロールにより密閉され、入口部分側が溶媒の液化温度以
下に冷却され、中央部〜後半部が溶剤の沸点以上に加熱
された構造の溶剤蒸気室〔B′〕を設けてなる含浸装置
を用いることを特徴とするプリプレグの製造法である。
以下、本発明の構成について説明する。
本発明の基材とは、通常の電気、電子材料、構造材料、
その他に使用される長尺の補強基材であれば特に限定さ
れないものであり、クラフト紙、リンター紙;Eガラス
、Sガラス、Dガラス、石英ガラス、その他の各種ガラ
ス、炭化珪素その他の各種セラミックスなどの織布或い
は不織布;炭素繊維織布或いは不織布;アルミナ、マイ
カなどのペーパー;全芳香族ポリアミド、フッ素樹脂、
ポリフェニレンサルファイドポリエーテルエーテルケト
ン、ポリエーテルイミド、全芳香族ポリエステルなどの
耐熱性のエンジニエリングプラスチック繊維織布、不織
布或いは多孔質シート:上記の繊維を混合使用してなる
混合繊布、不織布或いはペーパー;上記の繊維を複合し
てなる糸を用いた織布或いは不織布などが例示される。
溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キ
シレン、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン
、メタノール、その他の樹脂溶液の調製に通常使用され
る溶剤類があげられる。又、樹脂溶液に使用したものと
は異なるクロロセン、フレオン、ジクロロメタン、トリ
クロロエタン、水などのより安定な溶剤を減圧を使用し
て実質的に除く場合には使用できる。
樹脂溶液は、溶剤を使用してなる樹脂溶剤溶液、無溶剤
の樹脂液の何れでも特に限定されないものであり、上記
基材と同様に各種用途に使用されているものが使用でき
る。具体的に例示すれば、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、シアン
酸エステル樹脂またはシアン酸エステル−マレイミド樹
脂組成物、シアン酸エステル−エポキシ樹脂組成物、シ
アン酸エステル−マレイミド−エポキシ樹脂組成物など
のシアン酸エステル樹脂、ジメトキシメチルベンゼンを
主原料として重縮合させて製造される樹脂(商品名「ザ
イロックレジン」)又はこれらの樹脂を主体としてなる
熱硬化性樹脂組成物が挙げられる。
次に、本発明の製造法の理解を容易とするために添付の
図面により説明する。
第1.2および3図は、本発明のプリプレグの製造装置
の含浸工程部分の模式図である。
第1図において、ロールに巻かれた長尺の基材〔10〕
が、溶剤含浸槽Aに導入される。通常、槽中の滞留時間
5秒以上、好ましくは8秒〜10分間で処理され、モノ
フィラメント間にも溶剤が浸透した溶剤含浸基材〔11
〕とされる。ついで、適宜溶剤気化防止用の冷却部や冷
却したロールを経て、入口ロール〔21]に導かれる。
入口ロール21でシールされ、通常、圧力100 mm
 tl g以下に設定された減圧室Bに導入される。シ
ールに用いるロール21.22は、少なくとも表面が耐
溶剤性の優れたフッ素樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリ
コン樹脂などの弾性体製のものが好適である。入口ロー
ル21によるシールは、溶剤で連通孔が閉塞された基材
であるので、溶剤予備含浸工程を使用しない場合に比較
して容易に密封度を高めることが可能となる。逆に、従
来の真空含浸法のような減圧度(真空度)を保たなくと
も、減圧室B中に搬入される空気は極めて微Wkである
ので、樹脂溶液槽には実質的に溶剤蒸気が混入するに止
まることとなる。
減圧室Bに導入された溶剤含浸基材11は、適宜、溶剤
の沸点程度以下、通常60℃以下まで加熱し、1分間程
度の時間で空気のない溶剤を実質的に除去された基材〔
12〕とされる。ついで、出口ロール〔22〕を経て樹
脂溶液槽Cに導入される。樹脂溶液槽Cでは、通常、室
温〜60℃、30秒〜10分間程度の条件で基材の微細
間隙まで樹脂溶液が含浸された樹脂含浸基材〔13〕と
された後、加熱乾燥工程に導かれる。樹脂溶液槽Cから
減圧室B側への出口ロールからの樹脂溶液の滲み出しが
有るが本発明の実施にとっては特に有害とはならない。
また、減圧室Bには、真空ポンプが冷却器を介して接続
され、溶剤蒸気は冷却器で液体とされて大部分が回収さ
れて溶剤含浸槽Aに循環される。真空ポンプよりの排気
ガスは使用した溶剤の種類に応じた処理を行われる。
第2図は、上記第1図の含浸装置の溶剤含浸槽Aと減圧
室Bとの間に、溶剤予備蒸発室りを設けたものである。
溶剤予備蒸発室りでは、入口部分側が冷却され、中間〜
後半部において溶剤含浸基材11が加熱されるものであ
り、通常、数百mmt1g程度の減圧からやや加圧(数
十mmHg程度)に設定される。加熱により、溶剤の大
部分は気化する。気化した溶剤の一部は減圧室Bの入口
ロール21(図はダブルロール)を経て減圧室Bに漏れ
るが、大部分は冷却された入口部分側で凝縮される。第
2図の場合、第1図の装置に比較して、真空ポンプ負荷
が軽減され、空気の排除がより確実となるメリットがあ
る。
又、第3図の装置は、上記第2図の溶媒予備蒸発室りと
減圧室Bとを溶剤蒸気室B′に置換したものと言えるも
のである。溶剤蒸気室B′内では、溶剤蒸気の冷却凝集
が入口部分側の溶剤の沸点以下に冷却された冷却器或い
はロール面で行われ、溶剤の気化と加熱蒸気化が中間〜
後半部側の加熱器で、溶剤の沸点以上、通常5〜30℃
程度高い温度に加熱されて行われ、加熱と冷却とのバラ
ンスにより、通常、数百mm t(g程度の減圧からや
や加圧(数+mm)Igg程度となるように設定される
。また、出口ロールは樹脂溶液に直接接触するので、加
熱含浸する場合を除き、通常は加熱器との間に断熱材層
を配置した構造とされる。本図に示した装置による凝縮
と蒸発との連続循環により、真空シール、真空ポンプ負
荷、排気ガス処理、樹脂溶液濃度制御などを不用とし、
基材の微細な間隙にも十分に樹脂が含浸された基材含浸
プリプレグの製造を可能とする。即ち、通常の有機溶剤
は、液体に比較して気体の体積は、常圧下、沸点〜5℃
程度の範囲で100〜250倍程度(水等の分子蛍の小
さいものの場合 数百倍)である。従って、基材と共に
樹脂溶液槽Cに搬入される溶媒の量は、予備含浸法に比
較して1/100以下に低減されるので樹脂溶液槽C中
の樹脂溶液の濃度の低下も実質的にない。しかも、微量
の溶剤の混入は、微細な基材間への樹脂溶液の浸透を促
進する効果も期待される。また、操作は通常、常圧付近
が使用できるので、特別のシールは不用である。なお、
溶剤蒸気室B′への空気の混入を避けるために、溶剤含
浸時間を長くとり、基材から発生した気泡を全て溶剤含
浸槽Aの入口側がら除くようにすること、微量の混入空
気を除去するための予備真空装置などを適宜設置するこ
とは好ましい。
以上、本発明を図面により説明したが、本発明は上記し
た図面に限定されるものではなく、基材の微細な間隙ま
で溶剤を含浸させて空気を除いた溶剤含浸基材とし、該
基材中の溶剤溶液を密閉系で除去し、樹脂溶液を含浸さ
せることを除き、種々の変更を行うことができるもので
ある。
例えば、溶剤含浸槽を溶媒の沸点以下の温度に加温する
こと、超音波振動を与えること、片面よりロール、スプ
レーなどで予備含浸することなどを併用すること;溶剤
含浸基材をロール、スプレーなどに代替すること;減圧
室、溶剤予備蒸発室、溶剤蒸気室などの加熱手段を公知
方法、例えば加熱ロール接触、加圧蒸気加熱盤、電熱、
赤外線加熱、その他から適宜選択すること;ロールシー
ルを適宜、ダブルロール、ベルトロールその他に変更す
ること;減圧室或いは溶剤蒸気室の出口ロールの上に樹
脂溶液槽を配置する等の上下左右の位置関係を適宜変更
することなどである。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例等により説明する。
尚、実施例等中の部は重量基準である。
実施例1〜9及び比較例1〜6 エポキシ当量的460のビスフェノールA型エポキシ樹
脂100部、ジシアンジアミド4部及びベンジルジメチ
ルアミン0.2部をジメチルホルムアミド(判MP) 
 20部とメチルエチルケトン(=MEK)  60部
との混合溶媒に溶解混合してワニス(以下「ワニスA」
と記す)を調製した。
同様にエポキシ当量的460の臭素化ビスフェノールA
型エポキシ樹脂100部、ジアミノジフェニルスルホン
 14部、2−メチルイミダゾール0.2部をMEK 
60部に溶解混合してワニス (以下「ワニスB」と記
す)を調製した。
プリプレグの製造は、ワニスA又はワニスBを樹脂溶液
とし、基材としてJIS R3414に規定されるEP
F−18A相当のガラス織布、EPA−1OA相当のガ
ラス織布又はガラス不織布としてGMC−050(本州
製紙@!!!り  (以下それぞれ単に「18A」、「
10A」、rGMCJと記す)を、溶剤として、MIE
K 、 DMF、アセトン又はフレオンを用いた。
実施例1〜9は添付の第1図と同様の含浸装置を用い、
溶剤含浸槽A、減圧室B、樹脂液槽Cの条件を第1表に
記載の如く変化させてワニス含浸を行い、加熱乾燥して
B−stageのプリプレグとした。また、比較例1〜
6は溶剤含浸槽A又は減圧室Bを使用しない方法とした
結果を第1表に示した。
なお、第1表中の気泡量及び樹脂液濃度の安定性は下記
の方法により評価した。
・気泡量 ; 実体顕微鏡により、所定の方向から光を当てて気泡によ
る白色部分の量を観察する方法により、全く無気泡と判
定されるものを10点とし、従来法(比1)のものの気
泡量を1点としてその間を等分する方法とした。
・樹脂液濃度安定性 ; 溶剤予備含浸法を使用しない従来法(比1)の運転中の
樹脂液比重の安定性を10点とし、溶剤予備含浸法を用
いる従来法(比3)の場合の運転中の樹脂液比重の安定
性を1点としてその間を10等分する方法によって評価
した。
第1表−2 実施例10.11 樹脂溶液として、ワニスAを、基材として18Aを、溶
剤として、MEKを使用した。実施例10は添付の第2
図と同様の含浸装置を使用し、実施例11は添付の第3
図と同様の含浸装置を使用する他は同様にした。
結果を第2表に示した。
なお、評価は第1表と同様とした。
第2表 〔発明の作用および効果〕 以上、発明の詳細な説明および実施例から明らかなよう
に、本発明のプリプレグの製造法によれば、溶剤含浸基
材から溶媒溶液が除かれるので、従来の溶剤予備含浸法
のような樹脂溶液中に溶剤が混入することによる樹脂溶
液濃度の変化とそれによる基材への樹脂付着量のバラツ
キの問題はない。また、真空含浸法に見られる極めて高
度な減圧度も必要とされず、真空吸引の負担の減少、排
気ガス量の減少も可能となる。
しかも、得られるプリプレグは高度の減圧を保った真空
含浸法と同等なものであることから、その工業的意義は
極めて高いものである。
【図面の簡単な説明】
第1.2及び3図は、本発明のプリプレグの製造法の主
要部である含浸装置の模式図であり、図中の番号および
符号はA:溶剤含浸槽、B:減圧室、B′ :溶剤蒸気
室、C:樹脂溶液槽、D:溶剤予備蒸発室、10:基材
、11:溶剤含浸基材、12:溶剤溶液除去基材、13
:樹脂含浸基材をそれぞれ示す。 特許出願人   三菱瓦斯化学株式会社代理人(907
0)弁理士  小月 貞文第 図 回収溶剤 第 図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基材に樹脂液を含浸し加熱するプリプレグの製造法
    において、該基材を溶剤に含浸して基材内の空気を溶剤
    で置換し、続いて該基材中に含ませた液状溶剤を密閉室
    中で除去し、直ちに樹脂液を含浸することを特徴とする
    プリプレグの製造法。 2 溶剤含浸槽〔A〕、該溶剤含浸槽Aに隣接し、入口
    および出口をロールにより密閉した減圧室〔B〕並びに
    該減圧室Bの出口ロールに直結し、出口ロールの全面が
    樹脂液に満たされた構造の樹脂液槽〔C〕を少なくとも
    有する含浸装置を用いる請求項1記載のプリプレグの製
    造法。 3 減圧室B中で、溶剤含浸基材が加熱される請求項2
    記載のプリプレグの製造法。 4 溶剤含浸槽Aと減圧室Bとの間に、入口および出口
    をロールにより密閉され、溶剤含浸槽A側が入口ロール
    側が冷却され、中央部乃至出口ロール側が加熱された溶
    剤予備蒸発室〔D〕を設けてなる請求項2記載のプリプ
    レグの製造法。 5 溶剤含浸槽〔A〕、該溶剤含浸槽Aに直結して入口
    および出口をロールにより密閉され、入口部分側が溶媒
    の液化温度以下に冷却され、中央部乃至後半部が溶剤の
    沸点以上に加熱された構造の溶剤蒸気室〔B′〕並びに
    該溶剤蒸気室B′の出口ロールに直結し、出口ロールの
    全面が樹脂溶液に満たされた構造の樹脂溶液槽〔C〕を
    少なくとも有する含浸装置を用いる請求項1記載のプリ
    プレグの製造法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02122904A (ja) * 1988-11-02 1990-05-10 Matsushita Electric Works Ltd 基材へのワニス含浸方法
JP2011131422A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Kobe Steel Ltd 長繊維強化熱可塑性樹脂ストランドの製造装置及び製造方法
JP2015203058A (ja) * 2014-04-13 2015-11-16 三菱瓦斯化学株式会社 連続繊維強化熱可塑性樹脂の製造方法

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