JPH02101A - 歯科用ミクロ充填複合材 - Google Patents
歯科用ミクロ充填複合材Info
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- JPH02101A JPH02101A JP63279526A JP27952688A JPH02101A JP H02101 A JPH02101 A JP H02101A JP 63279526 A JP63279526 A JP 63279526A JP 27952688 A JP27952688 A JP 27952688A JP H02101 A JPH02101 A JP H02101A
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- dental
- dimethacrylate
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は歯科用ミクロ充填複合材（ｎ＋１ｃｒｏｆｉｌ
ｌｅｄｄｅｎｔａｌ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ）およびその
使用方法に関する。
ｌｅｄｄｅｎｔａｌ ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ）およびその
使用方法に関する。
従来、歯科用複合材における充填剤は約０．５６〜約１
５０ミクロン直径の粒子からなる。これらの比較的に大
きい粒子は多くの開業医において望まれているより粗い
タイプの仕上げになる。ある製造業者では、一般に０．
０２〜０．０４ミクロン直径であるサブミクロン充填剤
粒子を少量使用しているけれども（例えば、沈降を除去
するために）、複合材の約５重量％まで使用し、多くの
粒子は比較的に太き（保持している。
５０ミクロン直径の粒子からなる。これらの比較的に大
きい粒子は多くの開業医において望まれているより粗い
タイプの仕上げになる。ある製造業者では、一般に０．
０２〜０．０４ミクロン直径であるサブミクロン充填剤
粒子を少量使用しているけれども（例えば、沈降を除去
するために）、複合材の約５重量％まで使用し、多くの
粒子は比較的に太き（保持している。
最近、多くの製造業者は、充填剤のすべてが０．０２〜
０．０４ミクロン範囲である市販の「ミクロ充填」複合
材を提供しており、これによりなめらかな仕上げを得る
ようにしている。しかしながら、これらの小粒子の充填
剤を用いる場合には、充填剤を複合材の約２５〜５０％
にすることができる。
０．０４ミクロン範囲である市販の「ミクロ充填」複合
材を提供しており、これによりなめらかな仕上げを得る
ようにしている。しかしながら、これらの小粒子の充填
剤を用いる場合には、充填剤を複合材の約２５〜５０％
にすることができる。
比較的に少量割合の充填剤を代表的な歯科用樹脂に添加
する場合には、引張強さおよび水吸着のような物理的特
性を厳格に妥協させている。
する場合には、引張強さおよび水吸着のような物理的特
性を厳格に妥協させている。
本発明は約３０〜６０％の充填剤を含有する歯科用ミク
ロ充填複合材を提供することであり、上記充填剤は約０
．０１〜０．０４μｍ直径のサブミクロン疎水性シリカ
粒子からなる。この充填剤は樹脂に分散し、その主成分
はエトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレートおよ
び約４０重量％までの適当な脂肪族ジメタクリレート希
釈剤からなる。硬化剤は１成分硬化復原または２成分自
己硬化材料を得るために加える。３成部硬化システムは
米国特許第４．２９７，２６６号明細書（１９８１年１
０月２７日発行）に記載されているように無限硬化（ｉ
ｎｆｉｎｉｔｅ ｃｕｒｅ）により２成分光硬化材料を
造るのに用いることができる。
ロ充填複合材を提供することであり、上記充填剤は約０
．０１〜０．０４μｍ直径のサブミクロン疎水性シリカ
粒子からなる。この充填剤は樹脂に分散し、その主成分
はエトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレートおよ
び約４０重量％までの適当な脂肪族ジメタクリレート希
釈剤からなる。硬化剤は１成分硬化復原または２成分自
己硬化材料を得るために加える。３成部硬化システムは
米国特許第４．２９７，２６６号明細書（１９８１年１
０月２７日発行）に記載されているように無限硬化（ｉ
ｎｆｉｎｉｔｅ ｃｕｒｅ）により２成分光硬化材料を
造るのに用いることができる。
生成硬化材料はミクロ充填復原（ｎ＋１ｃｒｏｆｉｌｌ
ｅｄｒｅｓｔｏｒａｔｉｖｅ）のなめらかな仕上げを示
し、しかも通常の「小さい粒子」復原と同じ範囲の物理
的特性を有している。
ｅｄｒｅｓｔｏｒａｔｉｖｅ）のなめらかな仕上げを示
し、しかも通常の「小さい粒子」復原と同じ範囲の物理
的特性を有している。
次に、本発明を好適な例について説明する。複合材とし
ては歯科医師により適用され、成形され、次いで特定の
歯科硬化光にさらして硬化する単一光硬化ペーストが好
ましい。
ては歯科医師により適用され、成形され、次いで特定の
歯科硬化光にさらして硬化する単一光硬化ペーストが好
ましい。
血よ
本発明における複合材の配合例を次に示す成分から８用
型した： サブミクロン疎水性シリカはデガサのエーロシルＲ９７
２（Ｄｅｑｕｓｓａ’ｓ Ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２）
にすることができ、このシリカは０．０１〜０．０４ミ
クロンの粒子範囲を有し、約０．０２ミクロン（２０Ｘ
ｌ０−’ｃｏ＋）の平均粒度を有していた。疎水性シリ
カの製造基準は火炎加水分解（ｆｌｅｍｅ ｈｙｄｒｏ
ｌｙｓｉｓ）により得られる極めて純粋な形態の二酸化
珪素である。この二酸化珪素の粒子は１０〜４０μの範
囲の直径で変化する。
型した： サブミクロン疎水性シリカはデガサのエーロシルＲ９７
２（Ｄｅｑｕｓｓａ’ｓ Ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２）
にすることができ、このシリカは０．０１〜０．０４ミ
クロンの粒子範囲を有し、約０．０２ミクロン（２０Ｘ
ｌ０−’ｃｏ＋）の平均粒度を有していた。疎水性シリ
カの製造基準は火炎加水分解（ｆｌｅｍｅ ｈｙｄｒｏ
ｌｙｓｉｓ）により得られる極めて純粋な形態の二酸化
珪素である。この二酸化珪素の粒子は１０〜４０μの範
囲の直径で変化する。
各１００平方メートルの表面積に、約０．５ ミリモル
のシラノール基を有しており、このため疎水性になる。
のシラノール基を有しており、このため疎水性になる。
その表面上において、２８〜３３人２当り１個のシラノ
ール基（−５ｉ−ＯＨ）が存在する。それ故、グラム、
すなわち、１ミリモル当り約６．２ ×１０２０個のシ
ラノール基が存在する。この事は粒子当り約２０００個
のシラノール基の形態を与える。
ール基（−５ｉ−ＯＨ）が存在する。それ故、グラム、
すなわち、１ミリモル当り約６．２ ×１０２０個のシ
ラノール基が存在する。この事は粒子当り約２０００個
のシラノール基の形態を与える。
連続プロセスにおいて、約７５％のこれらのシラノール
基はジメチルジクロロシランと科学的に反応でき、生成
する生成物は表面積１００平方メートル当り約０．７
ミリモルの科学的に結合したメチル基を有する。かよう
に反応した場合に、シリカは疎水性となり、親水性材料
からの有機液体において異なる挙動をする。この目的の
たに、新たに得られた親水性シリカは火炎加水分解にお
いて生ずる大量の塩化水素酸から分離する。次いで、こ
のシリカ、ジメチル ジクロロシランおよび水蒸気を窒
素のような不活性ガスにより約４００°Ｃに加熱された
流動床反応器に並流状態で気送する。シクロシランと表
面のシラノール基との化学反応のほかに、反応から生ず
る塩化水素酸の脱着が反応器中の連続流れに生じ、この
ために０．０３％以下の分析的に評価しうる含有量にな
る。大部分の塩化水素酸は新たに生成したＳｉＯ２から
除去され、すでに材料は吸着水を少しも含有しなくなる
。更に、シロキサン ブリッジが、まだ粒子の表面に存
在し、これらのブリッジはプロセスに用いる高温度で形
成する。これらのブリッジは反応圏における水蒸気およ
びクロロシランの存在で破壊し、この場合反応はシラノ
ール基形成の発生期に生ずる。
基はジメチルジクロロシランと科学的に反応でき、生成
する生成物は表面積１００平方メートル当り約０．７
ミリモルの科学的に結合したメチル基を有する。かよう
に反応した場合に、シリカは疎水性となり、親水性材料
からの有機液体において異なる挙動をする。この目的の
たに、新たに得られた親水性シリカは火炎加水分解にお
いて生ずる大量の塩化水素酸から分離する。次いで、こ
のシリカ、ジメチル ジクロロシランおよび水蒸気を窒
素のような不活性ガスにより約４００°Ｃに加熱された
流動床反応器に並流状態で気送する。シクロシランと表
面のシラノール基との化学反応のほかに、反応から生ず
る塩化水素酸の脱着が反応器中の連続流れに生じ、この
ために０．０３％以下の分析的に評価しうる含有量にな
る。大部分の塩化水素酸は新たに生成したＳｉＯ２から
除去され、すでに材料は吸着水を少しも含有しなくなる
。更に、シロキサン ブリッジが、まだ粒子の表面に存
在し、これらのブリッジはプロセスに用いる高温度で形
成する。これらのブリッジは反応圏における水蒸気およ
びクロロシランの存在で破壊し、この場合反応はシラノ
ール基形成の発生期に生ずる。
疎水性シリカの分析データおよび水分吸収データを表１
および２に示す。
および２に示す。
、表−」−
エーロシルＲ９７２の
データ
５ｉＯＺ ＋ （−Ｃ）１３）
平均粒度
炭素
ｐＨ価（４％分分散
場素含有量
重金属
八Ｓ
Ｆｅ、０゜
Ａｊ！ｚＯｓ
ｉＯｚ
ａ ２０
かさ密度
圧縮容量
９９．８ ％
２０ ±１０−７ｃｍ
１．１±０．２ ％
３．８±０．２ ％
０．０４ ±０．０１％
０．００３％
０．０００１ ％
０．００３％
０．０５％
０．０３ ％
０．０１ ％
約４０〜６０ｇ／ｌ
約１０戚／ｇ
タノール／水１：１）
、表−」−
ゝ （ｍ７１００ｍ２）
相対湿度（Ｘ） ２０ ４０ ６０ ８０
親水性性シリカ １．３ ４．０ １０ ３０疎
水性シリカ ０．３ ０．４ ０．９ １．５
２．３〜ボルナンジオンおよびエチル−４−ジメチルア
ミノ ベンゾエートはエクスイブレタス（ｅｘｉｐｌｅ
ｘ）−形成光開始剤である。他の適当な光開始剤を次に
例示する： ２．３−ボルナンジオンおよびエチル−２−ジメチルア
ミノベンゾエート： ベンジルおよびエチル−４−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ベンジルおよびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ２−イソプロピルチオキサントンおよびエチル−４−ジ
メチルアミノベンゾエート； ２−イソプロピルチオキサントンおよびエチル−２−ジ
メチルアミノベンゾエート； ジベンジルケトンおよびエチル−４−ジメチルアミノベ
ンゾエート； ジベンジルケトンおよびエチル−２−ジメチルアミノベ
ンゾエート； ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
１−オンおよびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オンおよびエチル−４−ジメチルアミノベンゾエ
ート； ベンジルジメチルアセタールおよびエチル−４〜ジメチ
ルアミノベンゾエート； ベンジルジメチルアセタールおよびエチル−２〜ジメチ
ルアミノベンゾエート； ジメトキシアセトフェノンおよびエチル−４−ジメチル
アミノベンゾエート； ジメトキシアセトフェノンおよびエチル−２−ジメチル
アミノベンゾエート； ベンゾインメチルエーテルおよびエチル−４−ジメチル
アミノベンゾエート；およびベンゾインメチルエーテル
およびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエート。
親水性性シリカ １．３ ４．０ １０ ３０疎
水性シリカ ０．３ ０．４ ０．９ １．５
２．３〜ボルナンジオンおよびエチル−４−ジメチルア
ミノ ベンゾエートはエクスイブレタス（ｅｘｉｐｌｅ
ｘ）−形成光開始剤である。他の適当な光開始剤を次に
例示する： ２．３−ボルナンジオンおよびエチル−２−ジメチルア
ミノベンゾエート： ベンジルおよびエチル−４−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ベンジルおよびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ２−イソプロピルチオキサントンおよびエチル−４−ジ
メチルアミノベンゾエート； ２−イソプロピルチオキサントンおよびエチル−２−ジ
メチルアミノベンゾエート； ジベンジルケトンおよびエチル−４−ジメチルアミノベ
ンゾエート； ジベンジルケトンおよびエチル−２−ジメチルアミノベ
ンゾエート； ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
１−オンおよびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエー
ト； ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オンおよびエチル−４−ジメチルアミノベンゾエ
ート； ベンジルジメチルアセタールおよびエチル−４〜ジメチ
ルアミノベンゾエート； ベンジルジメチルアセタールおよびエチル−２〜ジメチ
ルアミノベンゾエート； ジメトキシアセトフェノンおよびエチル−４−ジメチル
アミノベンゾエート； ジメトキシアセトフェノンおよびエチル−２−ジメチル
アミノベンゾエート； ベンゾインメチルエーテルおよびエチル−４−ジメチル
アミノベンゾエート；およびベンゾインメチルエーテル
およびエチル−２−ジメチルアミノベンゾエート。
肛
光硬化ペーストを次のようにして調製した；エトキシル
化ビスフェノールＡ ８０．００ 重１部ジメタク
リレート ブチル化ヒドロキシトルエン ｏ、６ｔ２ｓ２．３
−ボルナンジオン ０．１８このペースト
は１種の優れた非ミクロ充填歯科用複合材におよび２種
の競合するミクロ充填複合材に匹敵した。試験結果を次
の表３に示す。
化ビスフェノールＡ ８０．００ 重１部ジメタク
リレート ブチル化ヒドロキシトルエン ｏ、６ｔ２ｓ２．３
−ボルナンジオン ０．１８このペースト
は１種の優れた非ミクロ充填歯科用複合材におよび２種
の競合するミクロ充填複合材に匹敵した。試験結果を次
の表３に示す。
ｌ！！ｌ＋１＋＊″′ 諏−
上述する試験から、本発明の歯科用複合材の引張強さは
２種の競合するミクロ充填複合材より実質的に大きく、
および優れている非ミクロ充填複合材にほぼ等しいこと
がわかる。また、硬化収縮率は本発明による以外の他の
ミクロ充填複合材より低いことがわかる。また、熱膨張
は試験した非ミクロ充填複合材より大きくなく、および
他のミクロ充填複合材より低いことがわかる。更に、水
吸着は非ミクロ充填複合材と同等であり、および競合の
ミクロ充填複合材より極めて低いことがわかる。
２種の競合するミクロ充填複合材より実質的に大きく、
および優れている非ミクロ充填複合材にほぼ等しいこと
がわかる。また、硬化収縮率は本発明による以外の他の
ミクロ充填複合材より低いことがわかる。また、熱膨張
は試験した非ミクロ充填複合材より大きくなく、および
他のミクロ充填複合材より低いことがわかる。更に、水
吸着は非ミクロ充填複合材と同等であり、および競合の
ミクロ充填複合材より極めて低いことがわかる。
複合材の水吸着は、３０％の充填剤によるだけであるが
、０．５■／ ｃｒＡ以下であった。すべての濃度試験
において、充填剤範囲にわたって全充填剤は５５％まで
に低く維持することができる。
、０．５■／ ｃｒＡ以下であった。すべての濃度試験
において、充填剤範囲にわたって全充填剤は５５％まで
に低く維持することができる。
■１
２種のペーストを次のようにして調製した二ペーストＡ
ブチル化ヒドロキシトルエン
過酸化ベンゾイル
サブミクロン疎水性シリカ
０．０１２５
１．５０
５０．００
ペーストＢ
ブチル化ヒドロキシトルエン ０．０１２５２−ヒ
ドロキシエチルＰ−トルイジン ４．２５サブミクロン
疎水性シリカ ５０．００これらのペーストは本
発明の異なるタイプ「自己硬化」ペーストを示している
。これらのペーストの２部を一緒に混合した場合には、
材料は２＋Ａ分で硬化し、次に示す特性を示した： 引張強さ ６１００ｐｓｉ水吸着
０．４７ 熱膨脹 ２９ ｐｐｍ ／ ”Ｃ斑
土 ２種のペーストを次に示すようにして製造した二ペース
トＡ ブチル化ヒドロキシトルエン 過酸化ベイジイル 疎水性サブミクロンシリカ ペーストＢ ０．０１２５ ０．５５ ５０．００ で直ちに硬化した。この材料を光の不存在下に１時間お
き、再び硬化深さを点検した。硬化は試料の深さ、即ち
１２睡まで延びていた。
ドロキシエチルＰ−トルイジン ４．２５サブミクロン
疎水性シリカ ５０．００これらのペーストは本
発明の異なるタイプ「自己硬化」ペーストを示している
。これらのペーストの２部を一緒に混合した場合には、
材料は２＋Ａ分で硬化し、次に示す特性を示した： 引張強さ ６１００ｐｓｉ水吸着
０．４７ 熱膨脹 ２９ ｐｐｍ ／ ”Ｃ斑
土 ２種のペーストを次に示すようにして製造した二ペース
トＡ ブチル化ヒドロキシトルエン 過酸化ベイジイル 疎水性サブミクロンシリカ ペーストＢ ０．０１２５ ０．５５ ５０．００ で直ちに硬化した。この材料を光の不存在下に１時間お
き、再び硬化深さを点検した。硬化は試料の深さ、即ち
１２睡まで延びていた。
本例は本発明の使用を連続硬化２成分系の形態で示した
。
。
貫エ
ペーストを次のようにして製造したニ
ブチル化ヒドロキシトルエン ０．０２２．３−ボル
ナンジオン ０．２０ブチル化ヒドロキシ
トルエン ２．３−ボルナンジオン ０．０１２５ ０．１８ 疎水性サブミクロンシリカ ５０．００これ等の
２種のペーストを同じ割合で混合した場合、両者は反応
しなかったが、歯科用硬化ユニットで活性化した場合、
材料は約３ ’７２ ｍｍの深さま疎水性サブミクロン
シリカ １５．００歯科用硬化光に３０秒間曝露し
た場合、材料は５．３５ｍｍの深さまで硬化し、５８０
０ｐｓ ｉの引張強度を有した。
ナンジオン ０．２０ブチル化ヒドロキシ
トルエン ２．３−ボルナンジオン ０．０１２５ ０．１８ 疎水性サブミクロンシリカ ５０．００これ等の
２種のペーストを同じ割合で混合した場合、両者は反応
しなかったが、歯科用硬化ユニットで活性化した場合、
材料は約３ ’７２ ｍｍの深さま疎水性サブミクロン
シリカ １５．００歯科用硬化光に３０秒間曝露し
た場合、材料は５．３５ｍｍの深さまで硬化し、５８０
０ｐｓ ｉの引張強度を有した。
孤立
ペーストを次に示すようにして製造した：ブチル化ヒド
ロキシトルエン ０．００２ ２．３−ボルナンジオン ０．０５ 疎水性サブミクロンシリカ ５５．００ 歯科用硬化光に３０秒間曝露した場合、材料は ４．８５ｍｍの深さまで硬化し、 ７８００ｐｓ ｉ の引張強度を 有した。
ロキシトルエン ０．００２ ２．３−ボルナンジオン ０．０５ 疎水性サブミクロンシリカ ５５．００ 歯科用硬化光に３０秒間曝露した場合、材料は ４．８５ｍｍの深さまで硬化し、 ７８００ｐｓ ｉ の引張強度を 有した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、約０．０１〜０．０４μの直径を有する疎水性サブ
ミクロンシリカ粒子から成る充填剤が、約４０重量％ま
での適当な脂肪族ジメタクリレート希釈剤と、硬化を行
う硬化剤を含有するエトキシル化ビスフェノールＡジメ
タクリレート樹脂中に、約３０％〜約６０％分散、含有
されていることを特徴とする歯科用ミクロ充填複合材。 ２、１成分光硬化材料を硬化させる媒介物を含むことを
特徴とする請求項１記載の歯科用ミクロ充填複合材。 ３、２成分自己硬化材料を含むことを特徴とする請求項
１記載の歯科用ミクロ充填複合材。 ４、無限硬化を有する２成分光硬化材料を生成する３成
分硬化システムを含むことを特徴とする請求項１記載の
歯科用ミクロ充填複合材。 ５、適用される単一光硬化ベースの形態であり、成形さ
れ、次いで歯科用の硬化用可視光線に曝露することによ
り硬化されることを特徴とする請求項１記載の歯科用ク
ミロ充填複合材。 ６、￥成分￥￥重量部￥ エトキシ化ビスフェノールＡ６７．７５〜３６．００ ジメタクリレート トリエチレングリコール１１．００〜１６．９４ ジメタクリレート 酸化防止剤（例えばブチル０．００２〜０．０２ ヒドロキシトルエン 硬化剤０．０５〜０．２０ 硬化促進剤０．０５〜０．２０ 疎水性サブミクロン１５．００〜５５．００ シリカ粒子 上記成分から成ることを特徴とする歯科用ミクロ充填複
合材。 ７、疎水性サブミクロンシリカが０．０１〜０．０４μ
の範囲の粒径で約０．０２μ（２０×１０＾−＾７ｃｍ
）の平均粒径を有し、火炎加水分解により得られる疎水
性の極めて純粋な二酸化珪素エーロゾルを基にし、粒子
はその直径が１０〜４０μの範囲で、表面積各１００ｍ
＾２に約０．５ミリモルのシラノール基を有して親水性
であり、その表面上に２８〜３３Å＾２当り１個のシラ
ノール基を有し、グラム比表面積当り２００ｍ＾２の場
合グラム当り即ち１ミリモル当り約６．２×１０＾２＾
０のシラノール基があり、これから粒子当り約２０００
のシラノール基があることを特徴とする請求項６記載の
歯科用ミクロ充填複合材。 ８、硬化剤が２，３−ボルナンジオンとエチル−４−ジ
メチルアミノベンゾエートであることを特徴とする請求
項６記載の歯科用ミクロ充填複合材。 ９、硬化剤と硬化促進剤が次の組合せ： ２，３−ボルナンジオンとエチル−２−ジメチルアミノ
ベンゾエート、 ベンジルとエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、 ベンジルとエチル−２−ジメチルアミノベンゾエート、 ２−イソプロピルチオキサントンとエチル−４−ジメチ
ルアミノベンゾエート、 ２−イソプロピルチオキサントンとエチル−２−ジメチ
ルアミノベンゾエート、 ジベンジルケトンとエチル−４−ジメチルアミノベンゾ
エート、 ジベンジルケトンとエチル−２−ジメチルアミノベンゾ
エート、 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オンとエチル−２−ジメチルアミノベンゾエート
、 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン
−１−オンとエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート
、 ベンジルジメチルアセタールとエチル−４−ジメチルア
ミノベンゾエート、 ベンジルジメチルアセタールとエチル−２−ジメチルア
ミノベンゾエート、 ジメトキシアセトフェノンとエチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、 ジメトキシアセトフェノンとエチル−２−ジメチルアミ
ノベンゾエート、 ベンゾインメチルエーテルとエチル−４−ジメチルアミ
ノベンゾエート、 ベンゾインメチルエーテルとエチル−２−ジメチルアミ
ノベンゾエート、 から選ばれたことを特徴とする請求項６記載の歯科用ミ
クロ充填複合材。 １０、エトキシル化ビスフェノールＡ８０，００ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール２０．００ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．０１２５ ２，３−ボルナンジオン０．１８ エチル−４−ジメチルアミノ０．１８ ベンゾエート 疎水性サブミクロンシリカ５０．００ を主成分とする光硬化ペーストから成ることを特徴とす
る歯科用複合材。 １１、歯科用ミクロ充填複合材を製造するに当り、 エトキシル化ビスフェノールＡ８０．００ｐｂｗ ジメチルメタクリレート トリエチレングリコール２０．００ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．０１２５ 過酸化ベンゾイル１．５０ 疎水性サブミクロンシリカ５０．００ から成る第１ペーストを調製し、 エトキシル化ビスフェノールＡ８０．００ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール２０．００ ジメタクリレート ブチルヒドロキシトルエン０．０１２５ ２−ヒドロキシエチルｐ−トルイジン４．２５ 疎水性サブミクロンシリカ５０．００ から成る第２ペーストを調製し、 上記第１および第２ペーストを一緒に混合 し、得られた混合物を２（１／２）分以内で硬化させる
ことを特徴とする歯科用ミクロ充填複合材の製造方法。 １２、歯科用ミクロ充填複合材を製造するに当り、 エトキシル化ビスフェノールＡ８０．００ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール２０．００ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．０１２５ 過酸化ベンゾイル０．５５ 疎水性サブミクロンシリカ５０．００ から成る第１ペーストを調製し、 エトキシル化ビスフェノールＡ８０．００ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール２０．００ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．０１２５ ２，３−ボルナンジオン０．１８ エチル−４−ジメチルアミノ２０．００ ベンゾエート 疎水性サブミクロンシリカ５０．００ から成る第２ペーストを調製し、 上記第１および第２ペーストを同じ割合で 混合し、 混合物を歯科用硬化ユニットで活性化する ことを特徴とする歯科用ミクロ充填複合材の製造方法。 １３、歯科用ミクロ充填複合材を製造するに当り、 エトキシル化ビスフェノールＡ６７．７５ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール１６．９４ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．０２ ２，３−ボルナンジオン０．２０ エチル−４−ジメチルアミノ０．２０ ベンゾエート 疎水性サブミクロンシリカ１５．００ からペーストを調製し、 上記ペーストを歯科用の硬化可視光線に３０秒間曝露す
ることを特徴とする歯科用ミクロ充填複合材の製造方法
。 １４、歯科用ミクロ充填複合材を製造するに当り、 エトキシル化ビスフェノールＡ３６．００ｐｂｗ ジメタクリレート トリエチレングリコール１１．００ ジメタクリレート ブチル化ヒドロキシトルエン０．００２ ２，３−ボルナンジオン０．０５ エチル−４−ジメチルアミノ０．０５ ベンゾエート 疎水性サブミクロンシリカ５５．００ からペーストを調製し、 上記ペーストを歯科用の硬化光に３０秒間曝露すること
を特徴とする歯科用ミクロ充填複合材の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US118,154 | 1987-11-06 | ||
| US07/118,154 US4859716A (en) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | Microfilled dental composite and method for making it |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02101A true JPH02101A (ja) | 1990-01-05 |
| JP2791064B2 JP2791064B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=22376802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63279526A Expired - Lifetime JP2791064B2 (ja) | 1987-11-06 | 1988-11-07 | 歯科用ミクロ充填複合材 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4859716A (ja) |
| EP (1) | EP0315186B1 (ja) |
| JP (1) | JP2791064B2 (ja) |
| AT (1) | ATE88083T1 (ja) |
| AU (1) | AU609205B2 (ja) |
| CA (1) | CA1337368C (ja) |
| DE (1) | DE3880258T2 (ja) |
| ES (1) | ES2053682T3 (ja) |
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- 1988-11-04 ES ES88118406T patent/ES2053682T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-04 DE DE8888118406T patent/DE3880258T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-04 AT AT88118406T patent/ATE88083T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-11-04 CA CA000582250A patent/CA1337368C/en not_active Expired - Fee Related
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- 1988-11-07 AU AU24789/88A patent/AU609205B2/en not_active Ceased
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