JPH0196179A - ジ又はテトラヒドロＨＭＧ−ＣｏＡ、還元酵素阻害剤形成のための新規水素添加法 - Google Patents

ジ又はテトラヒドロＨＭＧ−ＣｏＡ、還元酵素阻害剤形成のための新規水素添加法

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JPH0196179A
JPH0196179A JP63219647A JP21964788A JPH0196179A JP H0196179 A JPH0196179 A JP H0196179A JP 63219647 A JP63219647 A JP 63219647A JP 21964788 A JP21964788 A JP 21964788A JP H0196179 A JPH0196179 A JP H0196179A
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    • C07D309/30—Oxygen atoms, e.g. delta-lactones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ロバスタチン（ＬｏｖａｓＬａｔｉｎ）とその誘導体（
例えば、シンパスタチン（ＳｉｍｖａｓＬａｔｉｎ）は
強力なＨＭＧ−ＣｏＡ　（ヒドロキシメチルグリタリル
補酵素Ａ）還元酵素阻害剤である。ロバスタチンはモナ
ハン（Ｍｏｎａｇｈａｎ）らにより米国特許第４．２３
１．９３８号に記述されているように、アスペルギルス 酵により生産される。４ａ，５−ジヒドロロバスタチン
（ｉ） （ｉ） はロバスタチンと共にかなり低収率で同時生産され、ア
ルバースーションバーグ（八ｌｂｅｒｓ−ｓｈｏｎｂｅ
ｒｇ）らにより米国特許第４，２９４．８４６号に記述
されている。
しかしながら、この天然に存在する４ａ，５−ジヒドロ
メビノリンはＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤としてロバ
スタチンよりわずかに活性が強いように見える。より％
　ｒｆｔに生産されるロバスタチンをより活性のある４
ａ．５−ジヒドロ誘導体に変換する研究は公開された欧
州特許願第００３３５３７号に報告されているように接
触還元によりなされたが所望の縮合交換された４ａ，５
−ジヒドロロバスタチン生産の証拠は見出されなかった
。クオ（にｕｏ）ら（米国特許願第４，４９０，５４６
号及びジャーナル・オブ・オルガニック・ケ１、１１ヨ
：（Ｊ．　Ｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．　）　、４　８巻、１
９９１ページ（１９８３年）はロバスタチンの４ａ，５
二重結合に水素添加する方法を開示した。しかしながら
、この方法は５つの別の工程を必要とし、天然のトラン
ス異性体が約１０パーセント収率で生成する。その上所
望の生成物にはシス縮合ジヒドロ誘導体が混入している
。
バチエツト（　ＰａＬｃｈｅｔｔ）ら（米国特許第４．
３５１、８４４号）は３．４−ジヒドロロバスタチン・
アナログ（ｉｉ）　、　　３．　　５−ジヒドロロバス
タチン（ｉｉｉ）及びトランス縮合テトラヒドロ誘導体
（ｉｖ）は強力なＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤である
ことを認めた。
上記のバチエツトはロバスタチンを化合物（ｉｉ）に還
元するために芳香族溶媒中でトリス（トリフェニルホス
フィン）　クロロロジウムを使用する接触的水素添加方
法を記述している。又この方法はクオら（ジャーナル・
オブ・オルガニック・ケミストリー、４８巻、１９９１
ページ（　１９８３年））によっても記述されている。
このバチェットークオの方法は、芳香族溶媒中で大過剰
の高価なロジウム触媒（ロバスタチンに対して２２５〜
１００重伊パーセントの触媒）を必要とする。この方法
も約１０パーセントの異性体性３．５−ジヒドロロバス
タチン誘導体（ｉｉｉ）を生産し、これを分離するため
には数回の再結晶と調製用高速液体クロマトグラフを必
要とする。バチェットークオの方法をシンピノリン（５
ｙｎｖｉｎｏｌｉｎ）　　（シンパスタチン）に適用す
ると２０パーセントの異性体性３゜５−・ジヒドロシン
パスタチン誘導体が生産される。
上記のバチエツトらはロバスタチンを構造（ｉ　ｉ　ｉ
）の化合物に還元するための無水エタノール中でパラジ
ウム／炭酸カルシウムを使用する接触水素添加方法を記
述している。又この方法はり才ら（ジャーナル・オブ・
オルガニック・ケミスト丈：、４８巻、１９９１ページ
（１９８３年））によっても記述されている。このパラ
ジウム接触水素添加は３．５−ジヒドロロバスタチンと
共に汚染物質として変動量の３．４−ジヒドロ異性体（
ｉｉ）が収得されると記述されている。上記のクオらは
ニー塩化メチレン中てｔｃｒｔ−ブチルジメチルシリル
ロバスタチンをトリエチルシランで処理し、次にトリフ
ルオロ酢酸でプロトリシス１−ることに関する化合物（
ｉｉｉ）の別の合成法についても記述している。しかし
ながら、この方法はシリル化−説シリルを必要とし、低
収率で所望の３．５−ジヒドロ還元生成物が得られる結
果となる。
バチエツトらはロバスタチンから（ｉｖ）を製造１−る
接触水素添加方法を開示している。この方法は酢酸エチ
ル中で酸化白金上での水素添加を含む。しかしながら形
成される生成物は最良の場合、６０％のトランス及び４
０％のシス−テトラヒドロロバスタチンの混合物である
。所望のトランス異性体はシリカゲルクロマトグラフに
よる精製の後、この混合物から単離することができる。
スレチンジャー　（Ｓｌｅｔｚｉｎｇｅｒ）ら（米国特
許第４．５８４，３８９号）は水素添加用触媒として白
金／アルミナを使用することにより、還元生成物混合物
中のトランス／シス比率を改善した。この触媒を使用す
るとトランス縮合生成物の収率は６５％〜７５％に増加
したが、この方法は一部分還元されたジヒドロ副生物も
小計（１〜５％）生産し、このものはクロマトグラフ又
は結晶化のいずれによっても除去することが極めて困難
であった。
本発明は、且は二重結合の場合、Ｘは であり、ＴはＨであり、又均一金属触媒はＲｈ（Ａｒａ
ｒ’）３Ｚ　（式中、Ａｒはフェニル基又はナフチル基
又はＣ，〜３アルコキシフェニル基又はＣ！〜３アルコ
キシナフチル基であり、ＺはＣ１又はＢｒである。）で
あり、有機溶媒はアルコール性溶媒であり、又圧力は４
０〜８０℃の温度で２．８〜９８．４Ｋ　ｇ　／　ｃ　
ｍ　２（４０〜１４００ｐ　ｓ　ｉ　）であり、文旦は
二重結合の場合、Ｘは であり、ＴはＨであり、又均一金属触媒は１．５−シク
ロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホス
フィン）イリジウム（１）ヘキサフルオロホスフェイト
又はノルボルナジェン−４−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）ブタンロジウム（１）テトラフルオロボレイトであ
り、有機溶媒はジクロロメタン、クロロホルム又はクロ
ロベンゼンから選ばれ、又圧力は２５〜８０℃で１気圧
の水素であり、又 旦は二重結合の場合、ＸがＯＮ，　ＮＨ２又はＯＲ６で
あり、ＴはＬ−Ｃ４）１ｇ（ＯＨ，）　２Ｓｉであり、
均一金属触媒は１、５−シクロオクタジエン（ピリジン
）（トリシクロヘキシルホスフィン）イリジウム（Ｉ）
ヘキサフルオロホスフェイト又はノルボルナジェン−１
．４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンロジウム（
Ｉ）テトラフルオロボレイトであり、有機溶媒はアルコ
ール性溶媒であり、又圧力は室温で１気圧の水素であり
、又旦、旦及び旦がすべて単結合の場合、ＸはＯＨ，Ｎ
Ｈ□又はＯＲ６であり、Ｔはｔ−Ｃ４１Ｌ　（ＣＨａ）
２Ｓ１であり、均一金属触媒は１゜５−シクロオクタジ
エン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホスフィン）イ
リジウム（１）ヘキサフルオロホスフェイト又はノルボ
ルナジェン−、４−ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ンロジウム（１）テトラフルオロボレイトて゛あり、有
機溶媒はジクロロメタン、クロロホルム又はクロロベン
ゼンから選ばれ、圧力は約２５〜８０℃の温度で１．１
〜２．８Ｋｇ／ｃｍ２　（１５−４０ｐｓｉ）であるこ
とを条件として、構造式（ＩＩ）Ｋｓ　　　　　　Ｌ　
Ｊ−Ｌノ の化合物を均一＝・金属触媒と、有機溶媒中、２５〜８
０℃の７１−度、水素ガスの圧力下で接触させるこ（式
中、ＴはＨ又Ｇｅｔ　ｔ　−Ｃ、Ｉｌ、＋（Ｃ１ｈ）２
ｓ１テあり、Ｘは ０］１、Ｎｌ２　、又はＯＲ６であり、Ｒ１はＨ又はＣ
１〜３アルキル基であり、Ｒ２はＨ又は０１〜３アルキ
ル基であり、Ｒ３はＣＩ〜５アルキル基、フェニル基、
又はＣ３〜７シクロアルキル基、もしくは（ａ、）０１
１又はｔ−Ｃ４Ｈ，（Ｍｅ）　２ＳｉＯ１（ｂ、）ハａ
ゲン、（Ｃ０）トリフルオロメチル基、（ｄ、）　ＣＩ
”　ｓアルコキシ基、（＋−）Ｃ＋〜、アルキルカルボ
ニルオキシ基、（ｒ、）フェニルカルボニルオキシ基、
（ｇ、）Ｃ＋〜３アルコキシカルボニル基、又は（ｈ、
）フェニルオキシ力ルホニル基から選ばれる基Ｙによっ
て置換されたＣ３〜５アルキル基又はフェニル基であり
、Ｒ，はＨ、にＩＩ：＋　、ＣＨ２０１＋　、　Ｃ１１
２０Ｓｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９又はＯＳｉ（Ｍｅ）２
ｔ−Ｃ４＋１９であり、Ｒ５はＲ４かＲ５のどちらか一
方がＣＨ　２０１＋若しくはに１１２０５　ｊ　（Ｍｅ
）　２　Ｆ、−Ｃ４Ｈ９の場合他方かＨであり、又Ｒ４
とＲ５のうち一つのみが０１１又は１つのみがＯＳｉ　
（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈｇであることができることを条
件として、Ｈ％ＣＩ（２０１１、Ｏｌｌ。
ＣＨ２０Ｓｉ　（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ１又はＯＳｉ（Ｍ
ｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９であり、Ｒ６はＣ１〜５アルキル基
、０３〜７シクロアルキル基、フェニルＣ６〜３アルキ
ル基、又は置換基はハロゲン、ＣＮ又はＣＦ３である置
換されたフェニルＣ６〜３アルキル基であり、ａ、ｂ、
ｃはａ、ｂ又はＣの一つのみは二重結合であることを条
件として二重結合又は単結合である。）の化合物の製造
法として叙述することができる。
この方法はＩＩの両方の二重結合の還元法又は且、旦又
は９が二重結合であるモノエン（１）が形成されるよう
な選択的還元法を提供する。
ロバスタチン、シンパスタチン又はその８−アシル又は
６−置換アナログのポリヒドロナフチル環の３．４二重
結合を選択的に還元するために、Ｘはアシル部分である
化合物（Ｉりがｆｉｌｌ（Ａｒ３Ｐ）３Ｚ触媒とアルコ
ール性溶媒と共に使用される。均一ロジウム触媒は３．
４位及び４ａ。
５位の二重結合を識別して錯体を形成することができ、
かくして３．４二爪結合のみの水素添加を許容する。こ
の発明の重要な点は、イソプロパノール又はエタノール
のようなアルコール性溶媒又はそのようなアルコールと
ベンゼン又はトルエンのような炭化水素との混合物は触
媒の寿命を増し、それによって高価なロジウム触媒の大
過剰を必要としなくする事実を出願人が発見したことで
ある。典型的には、この反応はオレフィン性基質に対し
て５重量パーセントの触媒で実施され、先行技術での還
元において極めて大過剰の触媒を必要とするのと対称的
である。予期しないことであったが、アルコール性共用
溶媒の含有は生産される１、４−ｉ元副生物（例えば（
ｉｉｔ）　）の量をも実質的に減少させる。この３．５
−ジヒドロ副生物の大量の生成は極めて有害であり、そ
れは所望の生成物と同時結晶化することができ、それに
よって最終生成物の純度を著しく落とす。従来は、この
副生物は冗長な高速液体クロマトグラフ法により除いて
いた。
この方法はデス−（α−メチルブチリル）−８−ヒドロ
キシ−ロバスタチン又はそのアナログのポリヒドロナフ
チル環の４ａ、５二重結合を選択的に還元するのに使用
することができる。この選択的還元において、Ｃ−８水
酸基、又はＯＲ若しくはＮ１１２のような同等の連結基
　（ｃｏｍｐａｒａｂｌｅｌｉｇａｔｉｎｇ　ｇｒｏｕ
ｐ）は、より立体的に妨害されている４ａ、５二重結合
に水素の供給を向けるのに利用される。この向けられた
水素伝達遂行に使用する試薬は均一イリジウム又はロジ
ウム触媒である。４ａ、５二重結合の還元で重要なこと
は触媒の活性を変更し、それによってテトラヒドロ誘導
体の形成を最小にするため、ジクロロメタン、クロロホ
ルム又はクロロベンゼンなどのような物質とイソプロパ
ノール又はエタノールのようなアルコールとの混合物の
ようなアルコール共用溶媒を利用することである。反応
混合物中のアルコール共用溶媒の含有は生成物の、テト
ラヒドロ誘導体に対する比率を３＝２から９＝１に増加
する。この方法は単一のジヒドロ生成物を産する。３，
４二重結合の還元からはジヒドロ生成物は得られないこ
とが認められている。その上、４．４ａ二重結合の形成
に導かれる二重結合の異性体化は認められていない。
又、この方法はロバスタチン、シンパスタチン又はその
Ｃ−８アシル又はＣ−６置換アナログのポリヒドロナフ
チル環の３．５位置に選択的に水素添加するのに用いる
ことができる。この選択性を得るためには、出発物質（
ＩＴ）のＸはアシル部分であり、触媒は均一イリジウム
又はロジウム触媒であり、溶媒はジクロロメタン、クロ
ロホルム、クロロベンゼン又は類似物質でなければなら
ない。ここに記述した均一イリジウム又はロジウム触媒
はＣ−８位にヒドロキシル配位部位が存在しない場合、
ここに記述した条件下で１．４還元のみ許容されるよう
に１．２及び１．４水素添加を識別することができる。
３．５−ジヒドロ生成物は他の如何なるジヒドロ兄外体
も混入することなく高収率で形成される。
又、この方法はデス（α−メチルブチリル）−Ｃ−８−
ヒドロキシ−ロバスタチン並びにＣ−８−アミノ、Ｃ−
８−アルコキシ及びＣ−６−置換アナログの両二重結合
を還元するのに使用することもできる。この発明により
トランス縮合テトラヒドロ生成物（例えば■）は本質的
に１００％収率で形成され、如何なるジヒドロ誘導体の
混入もない（１％未満）。
この発明はＲ４又はＲ５は保護されていないＣＨ□０１
１又はＯＨ部分である場合も実行することができるが、
しかしながらある場合は０１１をｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリル基のようなヒドロキシル保護基で保護するの
が好ましい。ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロ
ピルシリル基テトラヒドロピラニル基のような他の保護
基はこの発明の結果にＪＪ２　Ｍすることな（ｊｃｒｔ
−ブチルジメチルシリル基を置換することかできる。
必要に応じて、ＩＣ「［−プチルジメヂルシリル保護ｊ
、Ｉｌ：はラクトン部分の４−水酸基をマスクするのに
使用することもてきる。北に示したように、他のヒドロ
キシル保護」、（を同じ存効性で使用することができる
。
この発明の一つの実施態様は構造式（ＩＩ　）の化合物
をＲｈ（Ａｒ＋Ｐ）：＋Ｚ　（式中、Ａｒはフェニル基
又はナフチル基もしくはフェニル基又はナフチル基によ
って置換されたＣ０〜３アルコキシ基であり、ＺはＣ１
又はＢｒである。）とアルコール性溶媒中、２．８〜９
８．４Ｋｇ／ｃｍ２（４０〜１４００ｐｓｉ　）の圧力
の水素ガス下、４０〜８０℃の温度で接触させることか
ら成る、構造式（Ｉ　ａ）（式中、ＴはＨであり、Ｘは であり、Ｒ８はメチル基であり、Ｒ２はＨ又はＣＩ〜３
アルキル基であり、Ｒ３はＣＩ〜５アルキル基、フェニ
ル基又は０３〜７シクロアルキル基、もしくは基Ｙ（Ｙ
は（ａ）　０１１又はし−に４Ｈ９（Ｍｅ）　２ｓｉｏ
　、　　（ｂ）　　ハロゲン　（Ｆ、ＣＩ又は８ｍ）　
、　　（Ｃ）　　トリフルオロメチル基、（ｄ）Ｃ＋〜
３アルコキシ基、（ｅ）Ｃ１〜３アルキルカルボニルオ
キシ基、（ｆ）フェニルカルボニルオキシ基、（ｇ）Ｃ
＋〜３アルコキシカルボニル基、又は（］１）フェニル
オキシカルボニル基のようなハロゲン化トリアリールホ
スフィン・ロジウムによって二元されない基である。）
によって置換されたＣＩ−ｓアルキル基又はフェニル基
であり、Ｒ、はＨ，ＣＨ３、Ｃ１ｈ０１１　、０１１．
　ＣＨ□ＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９又はＯ５ｒ　（
Ｍｅ）　２　Ｌ−Ｃ４Ｈ９であり、Ｒ５は、Ｒ４かＲ５
のどちらか一方がＣＩＩ　２０　ＩＩ若しくはＣＨ２０
Ｓ１　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈ９の場合他方がＨであり
、Ｒ４とＲ５のうち一つのみが０■又は１つのみがＯＳ
ｉ（Ｍｅ）２−　ＣａＨ９であることができることを条
件としてＨ、ＣＨ２０１１、ＯＨ，ＣＨ２０Ｓ１　（Ｍ
ｅ）　２　ｔ−Ｃ４）１９又はＯＳｉ　（Ｍｅ）２ｔ−
Ｃ４Ｈ９である。）の化合物の製造法である。
この実施態様の１つの種類は、Ｒ４かＲｓの少なくとも
１つはＨであることを条件としてＲ２はＨ又はＣＨ３で
あり、Ｒ３はＣｌ−１３Ｃ　ＩＩ□であり、Ｒ４は’Ｈ
、Ｃ１１３　、　ＣＨ２Ｏ１１又はＣｌ１２０Ｓｉ（Ｍ
ＣＨ２０Ｓｉ（、であり、Ｒ５はＨ，Ｃ１ｈ０１１又は
ＣＨ２０Ｓ１　（Ｍ（り　２ｔ−Ｃ４Ｈ９である化合物
（Ｉａ）を形成するために使用される方法である。
方法である。
この種類の例は（ａ）Ｒ２はＣＩ＋、　、Ｒ４はｅｌｌ
、、Ｒ５はＨｌ（ｂ）Ｒ２はＨ，Ｒ４はＣｌ１３．Ｒｓ
はＨｌ（Ｃ）Ｒ２はＣＩＩ＋　、　Ｒ４はＣＩ＋、、Ｏ
ｌｌ　、Ｒ５はＨｌ（ｄ）Ｒ２はＣｌ１３．　Ｒ４はＨ
，Ｒ５はＣＩＩ　２０　ｆｌ　、　（ｅ　）Ｒ２はＨ、
Ｒ、はに１１２０１１　、　ＲｓはＨｌ（ｆ）Ｒ２はＨ
，Ｒ４はＨ，Ｒ５はＣＨ２０Ｈ、（ｇ）　Ｒ２はＣＨ２
、Ｒ４はＣＨ２０Ｓｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈ３、Ｒ
６はＨ，（ｈ）Ｒ。
はＣ１＋３．Ｒ４はＨ，Ｒ５はＣＨ２０Ｓ１　（Ｍｅ）
２ｔ−Ｃ４Ｈｓの群から選ばれるような化合物（Ｉａ）
である。
この実施態様のロジウム触媒はハロゲン化トリス（トリ
アリール又は置換されたアリールホスフィン）ロジウム
、好ましくはトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウ
ム・プロミド又はクロリドであり、最も好ましいのはク
ロリドである。溶媒はイソプロパノール又はエタノール
又は面記アルコールとトルエン若しくはベンゼン若しく
は類似の炭化水素との混合物である。そのような混合物
の例はイソプロパノール：トルエンの５０　：　５０体
積パーセントの混合物である。好ましい溶媒はイソプロ
パノールである。基質に対する触媒の約５〜７５重量パ
ーセント、好ましくは約５〜２５パーセント、最も好ま
しくは約５パーセントのジエン基質とロジウム触媒を２
５°ないし８０℃、好ましくは４０℃の温度、２．８〜
９８．４Ｋｇ／ｃｍ２　（４０〜１４００ｐｓｉ）、好
ましくは４２．２〜９８．４Ｋｇ／ａｍ２　（６００〜
１４００ｐｓｉ）の圧力の水素ガス下で約２５時間アル
コール性溶媒に溶解した。標準方法で仕上げた後１、溶
媒を蒸発すると結晶が得られ、これを酢酸エチル／ヘキ
サンから再結晶させて１．４還元によるオレフィンの１
パーセント以下を含む生成物を得ることができる。
この発明の第二の実施態様は構造式（ｎ）の化合物を１
．５−シクロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘ
キシルホスフィン）イリジウム（１）ヘキサフルオロホ
スフェイト又はノルボルナジェン−、４−ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）ブタンロジウム（Ｉ）へキサフルオロ
ボレイトとアルコール性溶媒中、水素ガス圧力下で接触
させることから成る構造式（Ｉｃ） （式中、Ｔはし−Ｃ４Ｈ９（Ｍｅ）２Ｓｉであり、Ｘは
Ｏｌｌ、Ｎ　Ｉ＋　２又は旧ｔ６（式中、Ｒ６はＣ１〜
５アルキル基、０３〜７シクロアルキル基、フェニルＣ
５〜３アルキルＪ、（、又は置換基がハロゲン、ＣＦ３
又はＯＮである置換されたフェニルＣ３〜３アルキル基
である。）であり、Ｒ４はＨ、Ｇｌ＋３．　ＣＩ＋□Ｏ
５ｒ　（Ｍｆり　２ｔ−Ｃ，１１９又はＯＳｉ　（Ｍｅ
）　２　ｔ−Ｃ４ｆｔｇであり、Ｒ５は、Ｒ４かＲ１の
−・方かＣＩ＋２０Ｓｉ（Ｍｅ）２ｔ−に４＋１．の場
合他方がＨであり、Ｒ４とＲ５のうちの１つのみがＯＳ
ｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９であることができルコとを条
件として、Ｈ、ＧＩｈＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔｌｌ：４
Ｈ９またはＯｓ　ｉ　（Ｍｅ）　２　ｔ−Ｃ４Ｉ＋９で
ある。）の化合物の製造法である。
この実施態様の１つの種類はＸはＯＨである化合物（Ｉ
　ｃ）を形成するのに使用される方法である。この種類
の例は（ａ）Ｒ４はＣＨ３，Ｒ５はＨｌ（ｂ）ｔｔ＜は
ＣＩＩ２０ＳｉＣｌＩ２０ＳｉＣ、Ｏ９，Ｒ５はＨｌ（
Ｃ）Ｒ４はＨ、ＲはＧＨ２０Ｓｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ
ｇ　、（ｄ）　Ｒ４はＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ，ｆｔ９
、Ｒ５はＨｌ（ｅ）Ｒ＜はＨ１Ｒ５はＯＳｉ　（Ｍｅ）
　２ｔＪｌ：４１（９、（ｆ）Ｒ４はＣＨｌ　、　Ｒｓ
はＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ，Ｏ９の群から選ばれる
ような化合物（Ｉ　ｃ）である。
イリジウム触媒ｒｒ［（ＣＯＤ）ＰＣｙ３（ｐｙｒ）　
］　ｐＦ、、（ｃｏ。
＝１．５−シクロオクタジエン、ｐＣｙ、＝　トリシク
ロへキシルホスフィン、ｐｙｒ　＝ピリジン）はクラブ
トリー（Ｃｒａｂｔｒｅｅ）らの方法（ジャーナル・オ
ブ・オルガノメタリック・ケミストリー（，、０ｒｇａ
ｎｏｍｃｔ、　ＧｌｅＣｍ、）　、１３５巻、３９５ペ
ージ（１９７７年））により製造することができる。
ロジウム触媒［旧＋（ＮＩＩＤ）　（Ｄｌｒ’１ｌＯ５
−４］　ｒｌＦ、。
（ＮＢＤ＝　／　）Ｌ／ボルナジエン、Ｉ）ＩＰＩＩＯ
５−４＝　１　、４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブ
タン）はステイル（Ｓｔｉｌｌｅ）ら（ジャーナル・オ
ブ・オルガニック・ケミストリー、４７巻、４６８ペー
ジ（１９８２年））によって記述され、更にエバンス（
ＩＥｖａｎｓ）ら（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケ
ミカル・ソシエテ４−　（Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｃｍ、　
Ｓｏｃ、）　、１０６巻、３８６６ページ（１９８４年
））により詳しく述べられた方法により製造することが
できる。この実施態様のための水素添加方法はＣ−Ｓヒ
ドロキシ、エーテル又はアミノ官能基と錯体を形成する
ことができる上述のイリジウム又はロジウム触媒などを
使用することができ、好ましい触媒はイリジウム触媒で
ある。オレフィン性基質に対する触媒の相対的モルパー
セントは０．１〜１０モルパーセントとすることができ
、好ましくは約２．５モルパーセントである。この実施
態様のアルコール性溶媒はジクロロメタン、クロロホル
ム又はクロロベンゼンなどの物質とエタノール又はイソ
プロパノールのような低級アルキル鎖アルコールとの混
合物である。好ましい混合物はジクロロメタン及びイソ
プロパノールである。ハロゲン化炭化水素のアルコール
に対する相対的比率は体積で約２０＝１ないし約２＝１
とすることができ、好ましくは約６＝１である。アルコ
ールの当量のオレフィンの当量に対する相対的比率は０
．５：１ないし１０：１、このましくは３：１である。
オレフィン性基質と触媒を溶媒に溶解し、混合物を大気
圧の水素ガス下、室温で約２０時間通元する。反応混合
物を標準方法で仕上げ、４ａ、５−ジヒドロ誘導体とト
ランス・テトラヒドロ誘導体の９：１混合物を得る。こ
の混合物はクロマトグラフにより更に精製を行うが、Ｘ
がＯＨの場合、水酸基は最初にアシル化し、次いで２５
体積パーセントの酢酸エチル：ヘキサン混合物でフラッ
シュクロマトグラフを行う。
この発明の第三の実施態様は構造式（ＩＩ）の化合物を
１．５−シクロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロ
ヘキシルホスフィン）イリジウム（１）ヘキサフルオロ
ホスフェイト又はノルボルナジェン−、４−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）ブタンロジウム（Ｉ）へキサフルオ
ロボレイトと溶媒中で、大気圧の水素ガス下、２５〜８
０℃で接触させることから成る構造式（ｔｂ）（式中、
ＴはＨであり、Ｘは であり、Ｒ３はＣＨ３であり、Ｒ２はＨ又は６１〜３ア
ルキル基であり、Ｒ３はＣ，Ｘ、アルキル基、フェニル
基、又は０３〜フシクロアルキル基、もしくは基Ｙ（Ｙ
はここに記述の触媒によって還元されない基であり、そ
のような基Ｙの例は（ａ）ｔ−Ｃ４Ｈ，（Ｍｅ）２Ｓｉ
Ｏ−１（ｂ）　Ａロゲン（Ｆ％Ｃ１又はＢｒ）　、（Ｃ
）　　トリフルオロメチル基、（ｄ）Ｃ＋〜３アルコキ
シ基、（ｅ）Ｃ１〜３アルキルカルボニルオキシ基、（
ｆ）フェニルカルボニルオキシ基、（ｇ）Ｃ＋〜３アル
コキシカルボニル基、又は（ｈ）フェニルオキシカルボ
ニル基である。）で置換されたＣ１〜５アルキル基又は
フェニル基であり、Ｒ４はＨ％ＣＯ３，Ｃ１１２０Ｓｉ
（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈｇ又はＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−
Ｃ４Ｈ９であり、Ｒ５はＲ４又はＲ５の、−方がＣＩ＋
２０５１　（Ｍｅ）　２ｊ−Ｃ４Ｈ９の場合他方がＨで
あり、しとＲ５の一つのみがＯＳｉ（Ｍｅ）２Ｆｔ−に
４Ｈ．であることができることを条件としてＨ，ＣＩｔ
□ＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈ，。
又はＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈ９である。）の化
合物の製造法である。
この実施態様の１つの種類はＲ４又はＲ５の少なくとも
１つはＨであることを条件としてＲ２はＨ又はＣＩ＋、
であり、Ｒ３はＣＩ＋、＋ＣＨ２であり、Ｒ４は８％Ｃ
Ｈ３又はＣＨ，ＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ，であり、
Ｒ５はＨ又はＣＨ２０Ｓｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−１ｃ４Ｈ
９である化合物（Ｉｂ）を形成するのに使用される方法
である。この種類の例は（ａ）Ｒ２はＣＯ３、Ｒ４はＣ
Ｈ３，Ｒ５はＨｌ（ｂ）Ｒ２はＨ，Ｒ４はＯＨ３、Ｒは
Ｈ％　（Ｃ）　Ｒ２はＣＨ５Ｒ，はＣＨ２０Ｓｉ（Ｍｅ
ＣＨ２０Ｓｉ（、ＲｓはＯ５（ｄ）Ｒ２はＣＨ３、Ｒ４
はＨ，Ｒ５はＣＩＩ２０Ｓ　ｉ　（Ｍｅ＞　２　ｔ−Ｃ
４Ｈ、、（ｅ）Ｒ２はＨ，Ｒ４はＣＨ２０Ｓ　ｉ　（Ｍ
ｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｈ５Ｒ５はＨｌ（ｆ）Ｒ２はＨ，Ｒ４
はＨ、Ｒ、はＣＨ２ＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ４Ｉｔ
、＋の群から選ばれるような化合物（Ｉｂ）である。
コノ実施態様の触媒は［ｔｒ　（Ｃ０Ｄ）ＰＯＹ３（ｐ
ｙｒ）］ＰＦ６（ＣＯＤ　＝　１　、　５−シクロオク
タジエン、ｐｃｙ３＝トリシクロへキシルホスフィン、
ｐｙｒ＝ピリジン）又は［Ｒｈ　（ＮｎＤ）　（０１１
１１１０５−４）　］口Ｆ４（Ｎ［ｌＤ　＝ノルボルナ
ジェン、Ｄ１１３１１Ｏ５−４＝　１　、４ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）ブタン）であり、好ましくは［Ｉｒ
　（Ｃ０Ｄ）ＰＯＹ３（ｐ／ｒ）　］　ＰＦａである。
ジエンに対して触媒が０．１〜１０モルパーセント、好
ましくは２．５モルパーセントであるジエン基質とイリ
ジウム又はロジウム触媒をジクロロメタン、クロロホル
ム、クロロベンゼンなどの溶媒、好ましくはジクロロメ
タンに溶解する。溶液は大気圧の水素ガス下で２５〜８
０℃、好ましくは２５℃の温度で還元する。標準方法で
仕上げた後、溶媒を蒸発して所望の３．５−ジヒドロ誘
導体を得る。
この発明の第四の実ｂＫ態様は構造式（１１）の化合物
を１．５−シクロオクタジエン（トリシクロへキシルホ
スフィン）（ピリジン）イリジウム（１）へキサフルオ
ロ本スフエイト又はノルボルナジェン−、４−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ブタンロジウム（１）テトラフル
オロボレイトと有機溶媒中で、約２５〜８０℃の温度、
約１．１〜２．８　Ｋｇ／ｃｍ２（１５〜４０　ｐｓ　
ｉ　）の圧力の水素ガス下で接触させることから成る構
造式（Ｉｄ） （式中、ＴはＬ−Ｃ４Ｈ，（Ｃ１ｌ、、）２Ｓｉ、　Ｘ
は０１１、Ｎ１１２又はＯＲ（式中、ＲはＣ３〜、アル
キル基、０３〜７シクロアルキルコ、（、フェニル０１
〜３アルキル基もしくは置換基はハロゲン、ＣＦ３又は
ＣＮである置換されたフェニルＣ，Ｘ、アルキル基であ
り、Ｒ４はＨ％ＣＩＩ３　、　ＣＨ２０Ｓ１　（Ｍｅ）
　２ｔ−Ｃ４１ｓ又はＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９で
あり、Ｒ５はＲ４かＲ５のどちらか一方がＣ）１２０Ｓ
ｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ，Ｈ，の場合他方がＨであり、Ｒ４
とＲ５の一つのみが０５　ｊ　（Ｍｅ）　２　ｔ−Ｃ４
Ｈｓであることができることを条件としてＨ又はＣＨ，
ＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−ｃ４Ｈ，又は０５１　（Ｍｅ）２
Ｆｔ−Ｃ４Ｈ９である。）の化合物の製造法である。
この実施態様の一つの種類はＸはＯＨであり、Ｒ４はＨ
、ｅｌｆｓ　、　ＣＨ２０Ｓｉ（Ｍｅ）２ＣＨ２Ｏ５１
（又はＯＳｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ９であり、Ｒ５はＲ
４又はＲ５の一方がＧｌ＋２Ｏ５＋　（Ｍｅ）　２ｔ−
ｃ４ｔｌ＋の場合他方がＨであり、Ｒ４とＲ５の一つの
みがＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｇ、ＩＩ９であることが
できることを条件としてＨ，Ｃ１（２０Ｓｉ（Ｍｅ）２
ｔ−Ｃ４Ｉ＋　、又はＯＳｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−Ｃ，ｔ
ｌ、である化合物を形成するのに使用される方法である
。この種類の例は（ａ）Ｒ４はＣＨ３、Ｒ、はＨｌ（ｂ
）Ｒ４はＣｌＩ２０Ｓｉ　（Ｍｅ）　２ｔ−ｃ、Ｉ９、
ＲｓはＨ，（ｃ）Ｒ４はＨ１Ｒ５はＣ１ｈＯＳｉ（Ｍｅ
）２ｔ−Ｃ４ｆ１９、（ｄ）ｒｔ４はＯ５＋　（Ｍｅ）
　２　ｔ−［；　４ＩＩ　、、Ｒ５はＨ％　（ｅ）Ｒ４
はＨ％ＲｓはＯＳｉ　（Ｍｅ）　。
ｔ−Ｃ４Ｈ５（ｆ）Ｒ４はＣＨ３、ＲはＯＳｉ（Ｍｅ）
２ｔ−Ｃ４）１゜の群から選ばれるような化合物である
。
この実施態様の触媒は［Ｔｒ　（に００）　ＰＯＹ３　
（ｐｙｒ）　］ＰＦ６（ＣＯＤ　＝　１　、　５−シク
ロオクタジエン、ｐｃｙ。
＝トリシクロへキシルホスフィン、ｐｙｒ＝ピリジン）
又は［Ｒｈ　（ＮＢＤ）　（ＤＩ−ＰＨＯＳ　−４）　
］　ＢＦ、　　（ＮＢＤ＝ノルボルナジェン、ＤＩＰＩ
ＩＯＳ−４＝　１　、４−ビス（ジフェニルホスフィノ
）ブタン）であり、好ましくは［Ｉｒ　（ｃｏｏ）ｐｃ
ｙ３（ｐｙｒ）］　ＰＦｃである。有機溶媒はジクロロ
メタン又はクロロホルム又はクロロベンゼンなどの物質
であり、好ましくはジクロロメタンである。ジエン（Ｉ
Ｉ　）と基質に対して約０．５〜１０．０モルパーセン
ト、好ましく２．５モルパーセントである触媒とを２５
°〜８０℃、好ましくは２５℃の温度で、１．１〜２．
８Ｋｇ／ｃｍ”　　（１５〜４０ｐｓｉ）、好ましくは
２．８Ｋｇ／ｃｍ２　（４０ｐｓｉ）の圧力下で約２４
時開存機溶媒に溶解する。溶液を標準の方法で仕上げ、
溶媒を蒸発すると結晶状生成物が得られる。
出発物質のジエンであるＲ１はメチル基、Ｒ２は水素、
Ｒ３はエチル基、Ｒ４はメチル基、Ｒ５は水素であるロ
バスタチンは容易に入手することができるか又は米国特
許第４，２３、９３８号に開示された発酵法により製造
することができる。
Ｒ，はメチル基、Ｒ２は水素、Ｒ３はエチル基、Ｒ４は
メチル基、Ｒ５は水素であるシンパスタチンは米国特許
第４，５８２，９１５号又は１９８７年７月１０日に出
願し係属中の米国特許願第０７２０６６号に記述の方法
によりロバスタチンから製造することができる。
Ｘはアシル部分であり、Ｒ４及びＲ５はＣＨ２０ＩＩで
ある出発物質のジエンは、１９８７年５月１５日に出願
し、係属中の米国特許願第０４８１３６号に略述された
方法により製造される。Ｒ４及びＲ５は旧１である化合
物は米国特許第４，５１７゜３７３号の記述により製造
することができ、又６−ヒドロキシ誘導体は同第４，５
３７，８５９号により製造される。６−ヒドロキシメチ
ル基又は６−水酸基の保護は米国特許第４，４４４，７
８４号に略述した方法により実行することができる。
Ｘはアシル部分であり、Ｒ４とＲ，は共に水素であるジ
エンは、発酵性産物であるコンパクチン（ｃｏｍｐａｃ
ｔｉｎ）　（メバスタチン（ｍｅｖａｓｔａｔｉｎ）と
しても公知）（エンド外ジャーナル・オブ・アンチビオ
チフス（Ｊ、　ＡｎｔｉｂｉｏＬ、）　、２９巻、１３
４６ページ（１９７６年））から製造することができる
。
置換されたアシル」ルを持つ出発物質のジエンは標準技
術で製造したアシルクロリドを使用し、ホフマン（ｌｌ
ｏｆｆｍａｎ）らにより米国特許第４，４４４．７８４
号に記述の、又は１９８７年４月１５日に出願し係属中
の米国特許願第０３８５６０号に開示されたアシル化方
法により製造することができる。
Ｘは旧１であり、Ｒ４はＣＨ３である出発物質のジエン
は米国特許第４，４４４，７８４号に開示された加水分
解条件によりロバスタチンから容易に製造することがで
きる。ラクトン部分の４−ヒドロキシ官能基は米国特許
第４，４４４，７８４号に開示した方法により、ここに
ｔ−ブチルジメチルシリル群として例示した適当な保護
剤により保護することができる。ＸはＯＨであり、Ｒ４
又はＲ５はｅｌｆ２０Ｓｉ（Ｍｅ）２ｔ−Ｃ４Ｈ，であ
る出発物質ジエンは１９８７年５月１５日出願し係属中
の米国特許願第０４８１３６号に略述した方法と引き続
いてｔ−Ｃ４Ｈｇ　（Ｍｅ）　２ＳｉＣ１で保護するこ
とにより製造される。
る。
Ｘは旧（６である出発物質ジエンは米国特許第４．２８
２，１５５号に記述した方法により製造することができ
、Ｘは旧１２のオレフィンは米国特許第４，４７２，４
２６号に記述した方法により製造することができる。
Ｒ４またはＲ６はＯＳｉ（Ｍｅ）ｚｔ−Ｃ４Ｈ＋である
出発物質オレフィンは米国特許第４，５１７，３７３号
及び第４，５３７，８５９号の記述により製造すること
ができる。
ＸはＯＨである還元された生成物（１）はＣ−８水酸基
のエステル化と保護基の除去により種々な８−アシルオ
キシ誘導体を収得することにより容易に変換することが
できる。このエステル化はホフマンらにより米国特許第
４，４４４，７８４号に開示されたか又は１９８７年４
月１５日に出願し係属中の米国特許願第０３８５８０号
に記述されたアシル化方法により実行することができる
。
ＸがＮＨ２の生成物（Ｉ）は米国特許第４．４７２．４
２６号に例示された方法により８−アミド誘導体に変換
することができる。８−アミド誘導体はト記特許にＨＭ
Ｇ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤として開示されている。
ＸがＯＲ６である生成物（１）は米国特許第４゜２８２
．１５５号にＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤として開示
されている。
ｔｃｒＬ−ブチルジメチルシリル基はヒドロキシル保護
基として示されている。ＬｅｒＬ−ブチルジフェニルシ
リル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ト
リイソプロとルシリル基及びテトラヒドロピラニル基の
ような他のヒドロキシル保護基はこの発明の結果に影習
することな（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を書き
換え得ることは当業者にとって明白である。
次の実施例はこの発明を例証するものであり、添付の特
許請求の範囲に明らかにした発明を制限するようなもの
と考えるべきではない。
実施例１ ６　（Ｒ）−［２−［８（Ｓ）　−２，２−ジメチルブ
チリルオキシ’）　−２（Ｓ）、　　６　（Ｒ）−ジメ
チル−、２，３，４，６，７，８，８ａ　（Ｓ）−オク
タヒドロ−１（Ｓ）エチル］　−４（Ｒ）　−ヒドロキ
シ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランー２
−オンの製造 イソプロパノール（２５ｍＩＬ）中６　（Ｒ）　−［２
−［８（Ｓ）−（２，２−ジメチルブチリルオキシ−１
（Ｓ）、６（Ｒ）−ジメチル−１゜２．６，７，８．８
ａ　（Ｒ）−ヘキサヒドロ−１（Ｓ）］エチル］　−４
（Ｒ）−ヒドロキシ−３゜４．５．６−テトラヒドロ−
２Ｈ−ビランー２−オン（０，３０２ｇ、０．７２２ｍ
ｍｏｌ）及びトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウ
ム（Ｉ）クロリド（０，０１５ｇ、０．０１６　ｍｍｏ
　ｌ　）の溶液を４０℃、９８　、４〜４２　、２　Ｋ
、　ｇ　／　ｃ　ｍ　２（１４００〜６００ｐｓ　ｉン
の水素ガス下で２５時時間光した。溶液を真空下で蒸発
し、ジエチルエーテルに取り上げ、攪拌した。沈殿が生
成した。スラリーを２．５４ｃｍ（１インチ）のフロリ
シル（Ｆｌｏｒｉｓｉｌ＠　）　　（溶液中に残存する
すべての触媒錯体を保持するのに使用するケイ酸マグネ
シウムｒ過助材）床を通して真空下ｌＰＡし、３５ｍＩ
Ｌのジエチルエーテルで洗浄した。Ｆ液を真空下で蒸発
すると泡状ガラス状物となった。ジクロロメタン９１％
イソプロパノールで溶離する短距離シリカゲルクロマト
グラフ（５〜１０ｇシリカゲル／ｇ、粗生成物）で更に
精製した。適当な両分を蒸発して白色結晶状固形物を得
た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶して標記化
合物を白色針状物質として得た（　ｍ、ｐ、　１２３〜
１２３．５℃）、生成物は１％以下の“１．４還元”副
生物を含んでいた。
１１ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３　）δ５．３８
（ｍ、ＩＨ）、５．３２　（ｍ、ＩＨ）、４．５９（ｍ
、ＩＨ）、４．３４　（ｍ、ＩＨ）、２．７２（ｄｄ、
ＩＨ，Ｊ＝１７．７．５．４Ｈｚ）、２．６２（ｍ、２
Ｈ）、２．１７−２．３７　（ｍ。
２Ｈ）　、１．７３−２．１６　（ｍ、７Ｈ）、１．１
８−１．７２　（ｍ、９Ｈ）、１．’１５（ｓ、３Ｈ）
、１．１３　（ｓ、３Ｈ）、１．０７　（ｄ、３Ｈ。
Ｊ＝７．　５Ｈｚ）、　０．　８８　　（ｄ、　３Ｈ，
Ｊ＝７、　５Ｈｚ）、　　０．　８３　　（ｔ、　３Ｈ
％　Ｊ＝７．　５Ｈｚ）　　。
“、４還元”副生物のオレフィン診断シグナルは６５．
４２〜５．４９に多重線として表れる。
実施例２ ６　（Ｒ）−［２−８（Ｓ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）、
６（Ｒ）ジメチル−、２，４ａ　（Ｒ）、５．６，７，
８．８ａ　（Ｓ）−オクタヒドロ−１（Ｓ）］エチル］
　−４（Ｒ）　−ｔ、ｃｒＬ−ブチルジメチルシリルオ
キシ−３，４，５，６−２Ｈ−ビラン−２−オンの製造 無水ジクロロメタン（４，２ｍｆｔ）及びイソプロパノ
ール（０，７２ｍ、９．３６ｍｍｏｌ）中６　（Ｒ）　
−［２−［ｓ　（ｓ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）、６　（
Ｒ）−ジメチル−、２，６，７゜８．８ａ　（Ｒ）−ヘ
キサヒドロ−１（Ｓ）］エチル］　−４（Ｒ）　−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３，４，５，６−
２Ｈ−ビラン−２−オン（、３６ｇ、３．１２ｍｍｏｌ
）の溶液をアルゴンガスで短時間脱気した。１．５−シ
クロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホ
スフィン）イリジウム（１）ヘキサフルオロホスフェイ
ト（６２，５ｍｇ、２．５モルパーセント）を添加し、
混合物を大気圧の水素ガス下、室温で２１時間間通した
。
揮発物質を真空下で除き、得られる固形物を１５０ｍＪ
Ｚの温ジエチルエーテルに取り、２．５４ｃｍ（１イン
チ）のフロリシル（溶媒中に残存するすべての触媒錯体
を保持するのに使用するケイ酸マグネシウムｒ過助材）
床を通して真空下ｒ過し、２ｘ５０ｍｕの温ジエチルエ
ーテルで洗浄した。
揮発物質を再び真空下で蒸発して白色結晶状固形物を得
、標記化合物とトランス・テトラヒドロ誘導体の９：１
の混合物であることがＮＭＲで確認された。
’ＨＮＭＲ（３００Ｍ　Ｈｚ％　ＣＤ　Ｃ１ｓ　）δ５
．６２（ｄｄｄ、Ｊ＝２．５．４．９．９．５Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、５．３８　（ｄ、Ｊ＝９．５Ｈｚ、ＩＨ）、４、
　６７　　（ｍ、　　ＩＨ）、４．　２９　　（ｍ、　
ＩＨ）　　、４．　１　７　　（ｍ、　　ＩＨ）、　　
１．　０〜２．　１　　（ｍ、１　１Ｈ）、　０．　８
５　　（ｍ、　１２１−１）、　　０．　０６（Ｓ、　
６Ｈ）　　。
実施例３ ６　（Ｒ）−［２−［８（Ｓ）−（２−メチルブチリル
オキシ）　−２（Ｓ）、　６　（Ｒ）−ジメチル−、２
，３，５，６，７，８，８ａ　（Ｓ）−オクタヒドロ−
１（Ｓ）］エチル］　−４（Ｒ）〜ヒドロキシー３．４
，５．６−チトラヒトロー２８−ビラン−２−オンの製
造 ジクロロメタン（１５ｍｎ）中口バスタチン（０，６３
ｇ、１．５６ｍｍｏｆ）の溶液をアルゴンガスで脱気し
た。１．５−シクロオクタジエン（ピリジン）（トリシ
クロヘキシルホスフィン）イリジウム（Ｉ）へキサフル
オロホスフェート（０，０３１３ｇ、２．５モルパーセ
ント）を添加し、溶液を室温で１気圧の水素ガス下で還
元した。水素摂取は最初の５０分間は極めて速やかであ
った。１時間と３７分後、反応を停止し、溶液を真空下
で蒸発して黄色油状物を得、これをジエチルエーテル（
５０ｍｆｌ）にとり、２．５４ｃｍ（１インチ）のフロ
リシル（溶液中に残存するすべての触媒錯体を保持する
のに使用するケイ酸マグネシウムｒ過助材）床を通して
ｒ過した。ｒ液を蒸発して標記化合物を淡黄色油状物と
して得た。
’ＩＩＮＭＩＩ　　（３００ＭＩｌｚ　　、ＣＤＣ１３
）δ５．４８（ｂｒｓ、ＩＨ）、５．２８　（ｍ、Ｉ　
Ｈ）　、　４．６３（ｍ、ＩＨ）、４．３５　（ｍ、Ｉ
Ｈ）、２．７４（ｄｄ、Ｊ＝１６．７Ｈｚ、ＩＨ）、２
．６１（ｄｄ、Ｊ＝１６．４１Ｈｚ、ＩＨ）、１．２２
−２．４５　（ｍ）、１．１２　（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、３
Ｈ）、１．０　（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、３Ｈ）、０．８７（
ｔ％　Ｊ＝７Ｈｚ、３Ｈ）、０．８２　（ｄ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ、３Ｈ）。
実施例４ ６　（Ｒ）−［２−［８（Ｓ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）
、６　（Ｓ）−ジメチル−、２，３，４゜４ａ　（Ｒ）
、５，６，７，８，８ａ　（Ｓ）−デカヒドロナフチル
−１（Ｓ）］エチル］　−４（Ｒ−ｔｅｒｔ−ブキルー
ジメチルシリルオキシー３，４゜５．６−テトラヒドロ
−２Ｈ−ピランー２−オンの製造 ジクロロメタン（１５ｍＩ！、）中６　（Ｒ）　−［２
−［８（Ｓ）−ヒドロキシ−２（Ｓ）、６（Ｒ）−シメ
チルー、２，３，４，４ａ　（Ｒ）、５゜６．７，８．
８ａ　（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）］エチ
ル］　−４（Ｒ−ｔｃｒｔ−ブチル−ジメチルシリルオ
キシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ビランー
２−オン（、３６５ｇ、３．１３ｍｍｏｌ）の溶液をア
ルゴンガスで短時間脱気した。［Ｉｒ　（Ｃｏｎ）　（
ｒ’ｃｙｓ）　（ｐｙｒ）　］　ＰＦ６（６２，５ｍｇ
、２．５モルパーセント）を添加し、溶液を室温で、２
．８　Ｋｇ／ｃｍ２　（４０ｐｓｉ）の圧力の水素ガス
下で２４時時間光した。溶液を真空下で蒸発して固形物
を得、これを５０ｍＩＬの温ジエチルエーテルにとり、
２．５４ｃｍ（１インチ）の７０リシル（溶媒中に残存
するすべての触媒錯体を保持するのに使用するケイ酸マ
グネシウムｒ過助材）床を通してｒ過し、４５ｍ１ｌｔ
ｆ）温ジエチルエーテルで洗浄し、真空下で蒸発して標
記化合物を淡クリーム色固形物として得た。
’ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ％　ＣＤ　Ｃ１３）δ４．６
６（ｍ、ＩＨ）、４．２８　（ｍ、ＩＨ）、４．０８（
ｍ、ＩＨ）、２．４７〜２．６８　（ｍ、２Ｈ）、０、
９２〜２．　１４　（ｍ）　、　０．８７（Ｓ、９Ｈ）
、０．８２　（ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ、３Ｈ）、Ｏ，Ｑ７（ｓ
、３Ｈ）、０．０５　（ｓ、３Ｈ）。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、￥ａ￥は二重結合の場合、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ＴはＨであり、 又均一金属触媒はＲｈ（Ａｒ＿３Ｐ）＿３Ｚ（式中、Ａ
    ｒはフェニル基又はナフチル基又はＣ＿１＿〜＿３アル
    コキシフェニル基又はＣ＿１＿〜＿３アルコキシナフチ
    ル基であり、ＺはＣｌ又はＢｒである。）であり、有機
    溶媒はアルコール性溶媒であり、又圧力は４０〜８０℃
    の温度で２．８〜９８．４Ｋｇ／ｃｍ＾２（４０〜１４
    ００ｐｓｉ）であり、又 ￥ｂ￥は二重結合の場合、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ＴはＨであり、又均一金属触媒は１，５−シク
    ロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホス
    フィン）イリジウム（ I ）ヘキサフルオロホスフェイ
    ト又はノルボルナジエン−１，４−ビス（ジフェニルホ
    スフィノ）ブタンロジウム（ I ）テトラフルオロボレ
    イトであり、有機溶媒はジクロロメタン、クロロホルム
    又はクロロベンゼンから選ばれ、又圧力は２５〜８０℃
    で１気圧の水素であり、 又￥ｃ￥は二重結合の場合、ＸがＯＨ、ＮＨ＿２又はＯ
    Ｒ＿６であり、Ｔはｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９（ＣＨ＿３）＿２
    Ｓｉであり、均一金属触媒は１，５−シクロオクタジエ
    ン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホスフィン）イリ
    ジウム（ I ）ヘキサフルオロホスフェイト又はノルボ
    ルナジエン−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブ
    タンロジウム（ I ）テトラフルオロボレイトであり、
    有機溶媒はアルコール性溶媒であり、又圧力は室温で１
    気圧の水素であり、 又￥ａ￥、￥ｂ￥及び￥ｃ￥がすべて単結合の場合、Ｘ
    はＯＨ、ＮＨ＿２又はＯＲ＿６であり、Ｔはｔ−Ｃ＿４
    Ｈ＿９（ＣＨ＿３）＿２Ｓｉであり、均一金属触媒は１
    ，５−シクロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘ
    キシルホスフィン）イリジウム（ I ）ヘキサフルオロ
    ホスフェイト又はノルボルナジエン−１，４−ビス（ジ
    フェニルホスフィノ）ブタンロジウム（ I ）テトラフ
    ルオロボレイトであり、 有機溶媒はジクロロメタン、クロロホルム又はクロロベ
    ンゼンから選ばれ、圧力は約２５〜８０℃の温度で１．
    １〜２．８Ｋｇ／ｃｍ＾２（１５〜４０ｐｓｉ）である
    ことを条件として、構造式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） の化合物を均一金属触媒と、有機溶媒中、 ２５〜８０℃の温度、水素ガスの圧力下で接触させるこ
    とから成る、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ＴはＨ又はｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９（ＣＨ＿３）＿２
    Ｓｉであり、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼ ＯＨ、ＮＨ＿２、又はＯＲ＿６であり、Ｒ＿１はＨ又は
    Ｃ＿１＿〜＿３アルキル基であり、Ｒ＿２はＨ又はＣ＿
    １＿〜＿３アルキル基であり、Ｒ＿３はＣ＿１＿〜＿５
    アルキル基、フェニル基、又はＣ＿３＿〜＿７シクロア
    ルキル基、もしくは（ａ．）ＯＨ又はｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９
    （Ｍｅ）＿２ＳｉＯ、（ｂ．）ハロゲン、（ｃ．）トリ
    フルオロメチル基、（ｄ．）Ｃ＿１＿〜＿３アルコキシ
    基、（ｅ．）Ｃ＿１＿〜＿３アルキルカルボニルオキシ
    基、（ｆ．）フェニルカルボニルオキシ基、（ｇ．）Ｃ
    ＿１＿〜＿３アルコキシカルボニル基、又は（ｈ．）フ
    ェニルオキシカルボニル基から選ばれる基Ｙによって置
    換されたＣ＿１＿〜＿５アルキル基又はフェニル基であ
    り、Ｒ＿４はＨ、ＣＨ＿３、ＣＨ＿２ＯＨ、ＯＨ、ＣＨ
    ＿７ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９又はＯＳｉ（
    Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であり、Ｒ＿５は、Ｒ＿４
    かＲ＿５のどちらか一方がＣＨ＿２ＯＨ若しくはＣＨ＿
    ２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の場合他方がＨ
    であり、又Ｒ＿４とＲ＿５のうち１つのみがＯＨ又は１
    つのみがＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であるこ
    とができることを条件として、Ｈ、ＣＨ＿２ＯＨ、ＯＨ
    、ＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９又はＯ
    Ｓｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であり、Ｒ＿６はＣ
    ＿１＿〜＿５アルキル基、Ｃ＿３＿〜＿７シクロアルキ
    ル基、フェニルＣ＿１＿〜＿３アルキル基、又は置換基
    はハロゲン、ＣＮ又はＣＦ＿３である置換されたフェニ
    ルＣ＿１＿〜＿３アルキル基であり、ａ、ｂ、ｃはａ、
    ｂ、又はｃの一つのみは二重結合であることを条件とし
    て二重結合又は単結合である。）の化合物の製造法。 ２、製造される化合物は式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） （式中、ＴはＨであり、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＿１はメチル基であり、Ｒ＿３はＣＨ＿３Ｃ
    Ｈ＿２である。）の化合物であり、均一金属触媒は Ｒｈ（Ａｒ＿３Ｐ）＿３Ｚ（式中、Ａｒはフェニル基又
    はナフチル基もしくはフェニル基又はナフチル基で置換
    されたＣ＿１＿〜＿３アルコキシ基であり、ＺはＣｌ又
    はＢｒである。）であり、有機溶媒はイソプロパノール
    又はエタノールであり、水素ガスは約４０℃の温度で４
    ２．２〜９８．４Ｋｇ／ｃｍ＾２（６００〜１４００ｐ
    ｓｉ）の圧力である請求項１記載の製造法。 ３、溶媒はイソプロパノールであり、触媒は基質（II）
    に対して５パーセント触媒の重量パーセント比にあるト
    リス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ I ）クロ
    リドであり、又製造される化合物 I （ａ）は（ａ．）
    Ｒ＿２はＣＨ＿３、Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＨ、（
    ｂ．）Ｒ＿２はＨ、Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＨ、（
    ｃ．）Ｒ＿２はＣＨ＿３、Ｒ＿４はＣＨ＿２ＯＨ、Ｒ＿
    ５はＨ、（ｄ．）Ｒ＿２はＣＨ＿３、Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿
    ５はＣＨ＿２ＯＨ、（ｅ．）Ｒ＿２はＨ、Ｒ＿４はＣＨ
    ＿２ＯＨ、Ｒ＿５はＨ、（ｆ．）Ｒ＿２はＨ、Ｒ＿４は
    Ｈ、Ｒ＿５はＣＨ＿２ＯＨ、（ｇ．）Ｒ＿２はＣＨ＿３
    、Ｒ＿４はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿
    ９、Ｒ＿５はＨ、（ｈ．）Ｒ＿２はＣＨ＿３、Ｒ＿４は
    Ｈ、Ｒ＿５はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ
    ＿９の群から選ばれる請求項２記載の製造法。 ４、製造される化合物は式 I （ｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） （式中、Ｔはｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９（Ｍｅ）＿２Ｓｉであり
    、ＸはＯＨ、ＮＨ＿２又はＯＲ＿６（式中、Ｒ＿６はＣ
    ＿１＿〜＿５アルキル基、Ｃ＿３＿〜＿７シクロアルキ
    ル基、フェニルＣ＿１＿〜＿３アルキル基、又は置換基
    がハロゲン、ＣＦ＿３又はＣＮである置換されたフェニ
    ルＣ＿１＿〜＿３アルキル基である。）であり、Ｒ＿４
    はＨ、ＣＨ＿３、ＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿
    ４Ｈ＿９又はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であ
    り、Ｒ＿５は、Ｒ＿４かＲ＿５の一方がＣＨ＿２ＯＳｉ
    （Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の場合他方がＨであり、
    Ｒ＿４、とＲ＿５のうちの一つのみがＯＳｉ（Ｍｅ）＿
    ２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であることができることを条件とし
    て、Ｈ、ＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９
    又はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９である。）の
    化合物であり、均一金属触媒は１，５−シクロオクタジ
    エン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホスフィン）イ
    リジウム（ I ）ヘキサフルオロホスフェイト又はノル
    ボルナジエン−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）
    ブタンロジウム（ I ）テトラフルオロボレイトであり
    、有機溶媒はジクロロメタン、クロロホルム又はクロロ
    ベンゼン及びエタノール又はイソプロパノールの混合物
    である請求項１記載の製造法。 ５、ＸはＯＨであり、触媒は１，５−シクロオクタジエ
    ン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホスフィン）イリ
    ジウム（ I ）ヘキサフルオロホスフェートであり、溶
    媒はジクロロメタン及びイソプロパノールの混合物であ
    り、製造される化合物 I （ｃ）は（ａ．）Ｒ＿４はＣ
    Ｈ＿３、Ｒ＿５はＨ、（ｂ．）Ｒ＿４はＣＨ＿２ＯＳｉ
    （Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、Ｒ＿５はＨ、（ｃ．）
    Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿５はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−
    Ｃ＿４Ｈ＿９、（ｄ．）Ｒ＿４はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ
    −Ｃ＿４Ｈ＿９、Ｒ＿５はＨ、（ｅ．）Ｒ＿４はＨ、Ｒ
    ＿５はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、（ｆ．）
    Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ
    ＿４Ｈ＿９の群から選ばれる請求項４記載の製造法。 ６、製造される化合物は式 I （ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） （式中、ＴはＨであり、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、Ｒ＿１はＣＨ＿３であり、Ｒ＿２はＨ又はＣ＿
    １＿〜＿３アルキル基であり、Ｒ＿３はＣ＿１＿〜＿５
    アルキル基、フェニル基、又はＣ＿３＿〜＿７シクロア
    ルキル基、もしくは基Ｙ（Ｙはここに記述した触媒によ
    って還元されず、そのような基Ｙの例は（ａ．）ｔ−Ｃ
    ＿４Ｈ＿９（Ｍｅ）＿２ＳｉＯ−、（ｂ．）ハロゲン（
    Ｆ、ＣｌまたはＢｒ）、（ｃ．）トリフルオロメチル基
    、（ｄ．）Ｃ＿１＿〜＿３アルコキシ基、（ｅ．）Ｃ＿
    １＿〜＿３アルキルカルボニルオキシ基、（ｆ．）フェ
    ニルカルボニルオキシ基、（ｇ．）Ｃ＿１＿〜＿３アル
    コキシカルボニル基、又は（ｈ．）フェニルオキシカル
    ボニル基である。）によって置換されたＣ＿１＿〜＿５
    アルキル基又はフェニル基であり、Ｒ＿４はＨ、ＣＨ＿
    ３、ＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９又は
    ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であり、Ｒ＿５は
    Ｒ＿４又はＲ＿５の一方がＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２
    ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の場合他方がＨであり、Ｒ＿４とＲ＿
    ５のうちの一つのみがＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ
    ＿９であることができることを条件としてＨ、ＣＨ＿２
    ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９又はＯＳｉ（Ｍｅ
    ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であり、均一金属触媒は１，５
    −シクロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘキシ
    ルホスフィン）イリジウム（ I ）ヘキサフルオロホス
    フェイト又はノルボルナジエン−１，４−ビス（ジフェ
    ニルホスフィノ）ブタンロジウム（ I ）テトラフルオ
    ロボレイトであり、有機溶媒はジクロロメタン、クロロ
    ホルム又はクロロベンゼンであり、温度は約２５℃であ
    る請求項１記載の製造法。 ７、Ｒ＿３はＣＨ＿３ＣＨ＿２であり、Ｒ＿４はＨ、Ｃ
    Ｈ＿３又はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿
    ９であり、Ｒ＿５は、Ｒ＿４かＲ＿５の少なくとも一つ
    がＨであることを条件としてＨ又はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍ
    ｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であり、触媒は１，５−シク
    ロオクタジエン（ピリジン）（トリシクロヘキシルホス
    フィン）イリジウム（ I ）ヘキサフルオロホスフエイ
    トであり、有機溶媒はジクロロメタンであり、ジエンに
    対する触媒のモルパーセントは２，５パーセントであり
    、製造される化合物 I （ｂ）は（ａ．）Ｒ＿２はＣＨ
    ＿３、Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＨ、（ｂ．）Ｒ＿２
    はＨ、Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＨ、（ｃ．）Ｒ＿２
    はＣＨ＿３、Ｒ＿４はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−
    Ｃ＿４Ｈ＿９、Ｒ＿５はＨ、（ｄ．）Ｒ＿２はＣＨ＿３
    、Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿５はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ
    −Ｃ＿４Ｈ＿９、（ｅ．）Ｒ＿２はＨ、Ｒ＿４はＣＨ＿
    ２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、Ｒ＿５はＨ、
    （ｆ．）Ｒ＿２はＨ、Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿５はＣＨ＿２Ｏ
    Ｓｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の群から選ばれる請
    求項６記載の製造法。 ８、製造される化合物は式 I （ｄ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） （式中、Ｔはｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９（ＣＨ＿３）＿２Ｓｉで
    あり、ＸはＯＨ、ＮＨ＿２又はＯＲ＿６ （式中、Ｒ＿６はＣ＿１＿〜＿５アルキル基、Ｃ＿３＿
    〜＿７シクロアルキル基、フェニルＣ＿１＿〜＿３アル
    キル基、又は置換基がハロゲン、ＣＦ＿３又はＣＮであ
    る置換されたフェニルＣ＿１＿〜＿３アルキル基である
    。）であり、Ｒ＿４はＨ、ＣＨ＿３、ＣＨ＿２ＯＳｉ（
    Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９又はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ
    −Ｃ＿４Ｈ＿９であり、Ｒ＿５は、Ｒ＿４かＲ＿５の一
    方がＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の場
    合他方がＨであり、又Ｒ＿４とＲ＿５の一つのみがＯＳ
    ｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９であることができるこ
    とを条件としてＨ、ＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ
    ＿４Ｈ＿９又はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９で
    あり、均一金属触媒は１，５−シクロオクタジエン（ピ
    リジン）（トリシクロヘキシルホスフィン）イリジウム
    （ I ）ヘキサフルオロホスフェイト又はノルボルナジ
    エン−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンロ
    ジウム（ I ）テトラフルオロボレイトであり、有機溶
    媒はジクロロメタン、クロロホルム又はクロロベンゼン
    であり、温度は約２５℃である請求項１記載の製造法。 ９、ＸはＯＨであり、溶媒はジクロロメタンであり、触
    媒は１，５−シクロオクタジエン（トリシクロヘキシル
    ホスフィン）（ピリジン）イリジウム（ I ）ヘキサフ
    ルオロホスフェイトであり、水素ガスは２．８Ｋｇ／ｃ
    ｍ＾２（４０ｐｓｉ）の圧力であり、温度は約２５℃で
    あり、製造される化合物 I （ｄ）は （ａ．）Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＨ、（ｂ．）Ｒ＿
    ４はＣＨ＿２ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２Ｆｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、
    Ｒ＿５はＨ、（ｃ．）Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿５はＣＨ＿２Ｏ
    Ｓｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、（ｄ．）Ｒ＿４は
    ＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９、Ｒ＿５はＨ、（
    ｅ．）Ｒ＿４はＨ、Ｒ＿５はＯＳｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ
    ＿４Ｈ＿９、（ｆ．）Ｒ＿４はＣＨ＿３、Ｒ＿５はＯＳ
    ｉ（Ｍｅ）＿２ｔ−Ｃ＿４Ｈ＿９の群から選ばれる請求
    項８記載の製造法。
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