JPH0193113A - 縦型反応装置 - Google Patents
縦型反応装置Info
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- JPH0193113A JPH0193113A JP25103087A JP25103087A JPH0193113A JP H0193113 A JPH0193113 A JP H0193113A JP 25103087 A JP25103087 A JP 25103087A JP 25103087 A JP25103087 A JP 25103087A JP H0193113 A JPH0193113 A JP H0193113A
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- wafer
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 20
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体製造装置、特に縦型構造を有する反応装
置に関し、特にそのウエノ・回転機構に関するものであ
る。
置に関し、特にそのウエノ・回転機構に関するものであ
る。
従来の技術
縦型反応装置は垂直に立てた反応管１と、それを囲む加
熱用ヒータ２と、ウェノ・３を搭載するキャリア４と、
前記キャリア４ｔ−回転させる機構から成る。
熱用ヒータ２と、ウェノ・３を搭載するキャリア４と、
前記キャリア４ｔ−回転させる機構から成る。
また、縦型反応装置にはふたつのタイプがある。
それらを第６．築６図を用いて説明する。まず第５図に
示すタイプムは反応管１とヒータ２は反応装置の下部に
位置し、アーム５の先端にはモータ６とキャリア吊り下
げ回転軸７が設けられている。
示すタイプムは反応管１とヒータ２は反応装置の下部に
位置し、アーム５の先端にはモータ６とキャリア吊り下
げ回転軸７が設けられている。
前記回転軸７はフランジ８を貫通しておりその先端には
ウェハ搭載用キャリア４が吊り下げられている。前記ア
ーム６は上下自在に移動し、ウェハのセットされたキャ
リア４を反応管１の所定の位置に挿入するようになって
いる。また前記モータ６の回転は、吊り下げ回転軸７を
伝わりキャリア４を回転させることができるものである
。
ウェハ搭載用キャリア４が吊り下げられている。前記ア
ーム６は上下自在に移動し、ウェハのセットされたキャ
リア４を反応管１の所定の位置に挿入するようになって
いる。また前記モータ６の回転は、吊り下げ回転軸７を
伝わりキャリア４を回転させることができるものである
。
一方、第６図に示すタイプＢは、反応管１とヒータ６が
反応装置の上部に位置している。ウェハ３を搭載したキ
ャリア４はステージ９上に載置されている。フランジ８
にはモータ６が設けられており、フランジを貫通して成
る回転軸７の一方とモータ６の回転軸のそれぞれの端部
には歯車１０が設けられている。それぞれの歯車１０間
はベルト１１で接続されており、回転軸７の他の端部は
ステージ９と接続されている。
反応装置の上部に位置している。ウェハ３を搭載したキ
ャリア４はステージ９上に載置されている。フランジ８
にはモータ６が設けられており、フランジを貫通して成
る回転軸７の一方とモータ６の回転軸のそれぞれの端部
には歯車１０が設けられている。それぞれの歯車１０間
はベルト１１で接続されており、回転軸７の他の端部は
ステージ９と接続されている。
モー１６の回転は歯車１０とベルト１１に伝導したのち
回転軸７によってステージ９を回転させる。既ち、ステ
ージ上のウェハ及びキャリアを回転させることができる
のである。この場合のアームも上下自在に移動し反応管
の下方からウェハを挿入するようになっている。図に示
すｈ−１はキャリアの上下移動距離を示す。
回転軸７によってステージ９を回転させる。既ち、ステ
ージ上のウェハ及びキャリアを回転させることができる
のである。この場合のアームも上下自在に移動し反応管
の下方からウェハを挿入するようになっている。図に示
すｈ−１はキャリアの上下移動距離を示す。
発明が解決しようとする問題点
ム、Ｂどちらのタイプもウェハ回転機構は反応部の外に
位置しておりその分ウェハキャリアの移動距離は長く必
要になり反応装置として縦長で大きくなる。従来の一例
を第７図を用いて説明する。
位置しておりその分ウェハキャリアの移動距離は長く必
要になり反応装置として縦長で大きくなる。従来の一例
を第７図を用いて説明する。
これは反応管１が上方に位置するタイプＢのものであり
、反応管１とヒータ２が設置されている反応部と、反応
管挿入前にウェハをキャリアヘセットするためのスペー
スであるクリーンベンチ部、反応装置を駆動させるため
の駆動部から成る。フランジ８の下部にはモータ６、歯
車１ｏ等がアーム５に保護されるような形で設けられて
いるためアーム５を降下し、クリーンベンチ部でウェハ
セットの作業をする場合には、ウェハキャリアの移動距
離は第７図に示すｒｈＪすなわち、キャリア上端からア
ーム最下部迄の距離となるのである。
、反応管１とヒータ２が設置されている反応部と、反応
管挿入前にウェハをキャリアヘセットするためのスペー
スであるクリーンベンチ部、反応装置を駆動させるため
の駆動部から成る。フランジ８の下部にはモータ６、歯
車１ｏ等がアーム５に保護されるような形で設けられて
いるためアーム５を降下し、クリーンベンチ部でウェハ
セットの作業をする場合には、ウェハキャリアの移動距
離は第７図に示すｒｈＪすなわち、キャリア上端からア
ーム最下部迄の距離となるのである。
このようにフランジ下部からアーム最下部迄のスペース
が反応装置の大きさ即ち高さに影響する。
が反応装置の大きさ即ち高さに影響する。
また、フランジ下部のクリーンベンチ部にモータ回転を
伝えるだめのゴムベルトを設していることから、ダスト
の原因となる。縦型反応装置は本来ウェハ大口径化に伴
うダスト軽減に効果が大きいと評価されているものであ
る。従ってダスト原因となるゴムベルトがクリーンベン
チ部に存在することは望しくない。さらに、ゴムの伸縮
変化で歯車とかみ合わなかったり、ゴムベルトと歯車間
にゴミをかみ、回転ムラを生じることがあることからこ
れらモータ、歯車、ゴムベルトの管理を要す。
伝えるだめのゴムベルトを設していることから、ダスト
の原因となる。縦型反応装置は本来ウェハ大口径化に伴
うダスト軽減に効果が大きいと評価されているものであ
る。従ってダスト原因となるゴムベルトがクリーンベン
チ部に存在することは望しくない。さらに、ゴムの伸縮
変化で歯車とかみ合わなかったり、ゴムベルトと歯車間
にゴミをかみ、回転ムラを生じることがあることからこ
れらモータ、歯車、ゴムベルトの管理を要す。
また、７ランジ下部にこれら回転機構が設けられている
場合には、メンテナンス作業が困難である。
場合には、メンテナンス作業が困難である。
問題点を解決するための手段
このような問題点を解決するため不発明では、ウェハ搭
載用キャリアもしくはステージ外周に永久磁石、炉体内
壁部に電磁石もしくはモータで回転させる永久磁石を設
け、炉体内壁部に設けた磁石をＳ極、Ｎ極切替ることで
キャリアもしくはステージに設けた永久磁石のＳ極、Ｎ
極を反発もしくは引き合わせ、移動することによりウェ
ハを回転させるようにしている。
載用キャリアもしくはステージ外周に永久磁石、炉体内
壁部に電磁石もしくはモータで回転させる永久磁石を設
け、炉体内壁部に設けた磁石をＳ極、Ｎ極切替ることで
キャリアもしくはステージに設けた永久磁石のＳ極、Ｎ
極を反発もしくは引き合わせ、移動することによりウェ
ハを回転させるようにしている。
作用
このようにして、磁石の引き合いもしくは反発によって
ダイレクトに回転させるか、または、炉体内部に主たる
回転機構を設けることで軸回転ではなく、ステージ全体
で安定した回転をさせるのである。
ダイレクトに回転させるか、または、炉体内部に主たる
回転機構を設けることで軸回転ではなく、ステージ全体
で安定した回転をさせるのである。
実施例
本発明の実施例について以下に述べる。
まず第一の実施例を第１．第２図を用いて説明する。
ウェハ３を搭載したキャリア４はステージ９の上に載置
されている。前記ステージの外周には永久磁石１２を設
けており、ステージの回転軸７は７ランジ８を貫通して
固定されている。一方、炉体内壁部のステージ外周と相
対する部分には電磁石１３が設けられており、電磁石１
３のＳ極、Ｎ極切替により、相対する永久磁石１２が引
き合いもしくは反発移動し、ステージが回転する。すな
わちウェハが回転するのである。（第１図参照）図に示
すｈ−１はキャリアの上下移動距離を示す。
されている。前記ステージの外周には永久磁石１２を設
けており、ステージの回転軸７は７ランジ８を貫通して
固定されている。一方、炉体内壁部のステージ外周と相
対する部分には電磁石１３が設けられており、電磁石１
３のＳ極、Ｎ極切替により、相対する永久磁石１２が引
き合いもしくは反発移動し、ステージが回転する。すな
わちウェハが回転するのである。（第１図参照）図に示
すｈ−１はキャリアの上下移動距離を示す。
第１図？Ｌ−１の断面を第２図に示す。
次に第二の実施例を第３．第４図を用いて説明する。
ステージ９の外周には第一の実施例同、様に永久磁石Ａ
Ｉ２を設けており、ステージの回転軸子はフランジ８を
貫通して固定されている。一方炉体内壁部のステージ外
周と相対する部分にも永久磁石Ｂ１４を設けている。永
久磁石Ｂ１４の外周部は歯車１４１Ｌ状に加工され、該
歯車１４１Ｌとモータ６の回転を伝える歯車１０はかみ
合わさっている。モータ６は反応部側に設けられ、この
モータ回転は歯車１０ ｓ １４ ＆を介し永久磁石Ｂ
１４を回転させる。この回転によってＳ極、Ｎ極が移動
し、それに伴い永久磁石Ｂ１４と相対する永久磁石Ａ１
４が引き合いもしくは反発移動してステージが回転する
。すなわちウェハが回転するのである。（第３図参照） 第３図ｂ−ｂ’の断面を第４図に示す。
Ｉ２を設けており、ステージの回転軸子はフランジ８を
貫通して固定されている。一方炉体内壁部のステージ外
周と相対する部分にも永久磁石Ｂ１４を設けている。永
久磁石Ｂ１４の外周部は歯車１４１Ｌ状に加工され、該
歯車１４１Ｌとモータ６の回転を伝える歯車１０はかみ
合わさっている。モータ６は反応部側に設けられ、この
モータ回転は歯車１０ ｓ １４ ＆を介し永久磁石Ｂ
１４を回転させる。この回転によってＳ極、Ｎ極が移動
し、それに伴い永久磁石Ｂ１４と相対する永久磁石Ａ１
４が引き合いもしくは反発移動してステージが回転する
。すなわちウェハが回転するのである。（第３図参照） 第３図ｂ−ｂ’の断面を第４図に示す。
上記実施例第一、第二は反応管１およびヒータ２が反応
装置の上部に位置するタイプについて述べたが、反応装
置の下部に位置するタイプについても、７ランジとウェ
ハキャリア間にステージに相当する部分、すなわち回転
体側に永久磁石を存する部分があれば、同じ作用をする
。
装置の上部に位置するタイプについて述べたが、反応装
置の下部に位置するタイプについても、７ランジとウェ
ハキャリア間にステージに相当する部分、すなわち回転
体側に永久磁石を存する部分があれば、同じ作用をする
。
また、本実施例第−１第二は、ステージ外周の永久磁石
人に相対する位置として炉体内壁部に電磁石もしくは、
第二の永久磁石Ｂを設けているが、前記永久磁石人に相
対する位置として７ランジ側に電磁石もしくは第二の永
久磁石Ｂを設けてもよい。
人に相対する位置として炉体内壁部に電磁石もしくは、
第二の永久磁石Ｂを設けているが、前記永久磁石人に相
対する位置として７ランジ側に電磁石もしくは第二の永
久磁石Ｂを設けてもよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、ウェハキャリアの移動距
離は７ランジ下部にモータ、歯車等の回転機構を有した
従来法に比べて、それら回転機構の削除された本発明の
方が短かい。従って反応装置として高さを抑えることが
でき小型化がはかれる。
離は７ランジ下部にモータ、歯車等の回転機構を有した
従来法に比べて、それら回転機構の削除された本発明の
方が短かい。従って反応装置として高さを抑えることが
でき小型化がはかれる。
また、７ランジ下部に回転機構を有しないためスッキリ
としておりメンテナンス作業がしやすい上、ダスト原因
のゴムベルト削除にてクリーン化がはかれる。
としておりメンテナンス作業がしやすい上、ダスト原因
のゴムベルト削除にてクリーン化がはかれる。
さらには、回転軸が短かく、炉体内部に主たる回転機構
を設けることで従来の軸回転ではなく、ステージ全体を
安定して回転させることができる。
を設けることで従来の軸回転ではなく、ステージ全体を
安定して回転させることができる。
第１図は本発明の第一の実施例の永久磁石と電磁石の組
み合わせによりウエノ・を回転させる反応装置の側断面
図、第２図は第１図のａ −ａ’線断面図、第３図は同
地の実施例のＡ、Ｂ２種の永久磁石を用い一方にモータ
からの回転を伝えて他の一方を引き合いもしくは反発さ
せることによりウェハを回転させる装置の側断面図、第
４図は第３図のｂ−ｂ’線断面図、第５図、第６図、第
７図は従来のモータ回転機構を有する反応装置の側断面
図である。 １・・・・・・反応管、２・・・・・・ヒータ、３・・
・・・・ウエノ為、４・・・・・・キャリア、５・・・
・・・アーム、６・・・・・・モータ、７・・・・・・
回転軸、８・・・・・・フランジ、９・・・・・・ステ
ージ、１ｏ・・・・・・歯車、１１・・・・・・ベルト
、１２・・・・・・永久磁石、１３・・・・・・電磁石
、１４・・・・・・歯車付永久磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名黛
二第 ５ 図 ３−−−ウニへ １−項んソ クー−−キ〒リア ５−−アー４ ６−１−タ
み合わせによりウエノ・を回転させる反応装置の側断面
図、第２図は第１図のａ −ａ’線断面図、第３図は同
地の実施例のＡ、Ｂ２種の永久磁石を用い一方にモータ
からの回転を伝えて他の一方を引き合いもしくは反発さ
せることによりウェハを回転させる装置の側断面図、第
４図は第３図のｂ−ｂ’線断面図、第５図、第６図、第
７図は従来のモータ回転機構を有する反応装置の側断面
図である。 １・・・・・・反応管、２・・・・・・ヒータ、３・・
・・・・ウエノ為、４・・・・・・キャリア、５・・・
・・・アーム、６・・・・・・モータ、７・・・・・・
回転軸、８・・・・・・フランジ、９・・・・・・ステ
ージ、１ｏ・・・・・・歯車、１１・・・・・・ベルト
、１２・・・・・・永久磁石、１３・・・・・・電磁石
、１４・・・・・・歯車付永久磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名黛
二第 ５ 図 ３−−−ウニへ １−項んソ クー−−キ〒リア ５−−アー４ ６−１−タ
Claims (2)
- （１）垂直に立てた反応管と、この反応管を囲む加熱部
と、ウェハ搭載用キャリアおよびステージと、ウェハ回
転機構と、反応ガス供給部および排気部を備え、前記ウ
ェハキャリアもしくはステージの外周部に永久磁石を、
また炉体内壁部に電磁石を設けて前記電磁石のＳ極、Ｎ
極の切替操作により、ダイレクトにウェハキャリアもし
くはステージを回転させるようにした縦型反応装置。 - （２）垂直に立てた反応管と、この反応管を囲む加熱部
と、ウェハ搭載用キャリアおよびステージと、ウェハ回
転機構と、反応ガス供給部および排気部を備え、前記ウ
ェハキャリアもしくはステージの外周部と、炉体内壁部
に永久磁石を設け、さらに前記炉体内壁部に設けた永久
磁石外周の一部にモータを設けることにより、前記モー
タの回転で前記内壁部の永久磁石を回転させ、Ｓ極、Ｎ
極の移動切替にて前記外周部の永久磁石を回転させるよ
うにした縦型反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25103087A JP2502625B2 (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 縦型反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25103087A JP2502625B2 (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 縦型反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0193113A true JPH0193113A (ja) | 1989-04-12 |
| JP2502625B2 JP2502625B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=17216570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25103087A Expired - Fee Related JP2502625B2 (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 縦型反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502625B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0528031U (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-09 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
| WO1997003225A1 (en) * | 1995-07-10 | 1997-01-30 | Cvc Products, Inc. | Programmable ultraclean electromagnetic substrate rotation apparatus and method for microelectronics manufacturing equipment |
| US5840125A (en) * | 1990-01-19 | 1998-11-24 | Applied Materials, Inc. | Rapid thermal heating apparatus including a substrate support and an external drive to rotate the same |
| KR100731910B1 (ko) * | 2006-01-11 | 2007-06-25 | 코닉시스템 주식회사 | 진공챔버 내에서 사용하기 적합한 기판 스테이지 |
-
1987
- 1987-10-05 JP JP25103087A patent/JP2502625B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5840125A (en) * | 1990-01-19 | 1998-11-24 | Applied Materials, Inc. | Rapid thermal heating apparatus including a substrate support and an external drive to rotate the same |
| JPH0528031U (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-09 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
| WO1997003225A1 (en) * | 1995-07-10 | 1997-01-30 | Cvc Products, Inc. | Programmable ultraclean electromagnetic substrate rotation apparatus and method for microelectronics manufacturing equipment |
| US5871588A (en) * | 1995-07-10 | 1999-02-16 | Cvc, Inc. | Programmable ultraclean electromagnetic substrate rotation apparatus and method for microelectronics manufacturing equipment |
| KR100731910B1 (ko) * | 2006-01-11 | 2007-06-25 | 코닉시스템 주식회사 | 진공챔버 내에서 사용하기 적합한 기판 스테이지 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2502625B2 (ja) | 1996-05-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |