JPH0166A - 2−アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents
2−アゼチジノン誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分骨)
本発明は、例えば抗菌剤および抗菌剤を製造する中間体
として有用な新規及び公知の2−アゼチジノン誘導体の
新規製造法に関する。
として有用な新規及び公知の2−アゼチジノン誘導体の
新規製造法に関する。
(従来の技術)
2−アゼチジノン誘導体の製造法は数多く知られている
が、α位に水素を有するアルジミン誘導体(If)から
の工業的製造法は知られていない。
が、α位に水素を有するアルジミン誘導体(If)から
の工業的製造法は知られていない。
(本発明の目的)
本発明は、α位に水素を有するアルジミン誘導体(II
)から2−アゼチジノン誘導体(I)の新規製造法を提
供するものである。
)から2−アゼチジノン誘導体(I)の新規製造法を提
供するものである。
(発明の構成)
本発明は一般式:
(式中、R1は水素、アリール(低級)アルキル基また
はイミノ保護基、R2は水素または低級アルキル基、R
3は水素、ハロゲンまたは有機基をそれぞれ意味する) で示されるアルジミン誘導体またはその塩類にジ低級ア
ルキルアルミニウムハライドの存在下、一般式: (式中、R4は水素または低級アルキル基、R5は水素
または適当な置換基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基、R6はエステル残基をそれぞれ意味する) で示されるカルボン酸エステル化合物のエノラートを反
応させることからなる一般式: (式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ
前と同じ意味) で示される2−アゼチジノン誘導体の製造法に関するも
のである。
はイミノ保護基、R2は水素または低級アルキル基、R
3は水素、ハロゲンまたは有機基をそれぞれ意味する) で示されるアルジミン誘導体またはその塩類にジ低級ア
ルキルアルミニウムハライドの存在下、一般式: (式中、R4は水素または低級アルキル基、R5は水素
または適当な置換基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基、R6はエステル残基をそれぞれ意味する) で示されるカルボン酸エステル化合物のエノラートを反
応させることからなる一般式: (式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ
前と同じ意味) で示される2−アゼチジノン誘導体の製造法に関するも
のである。
本発明に使用されるカルボン酸エステル化合物(m)の
エノラートとしては、例えばリチウムエノラート、ナト
リウムエノラート等のアルカリ金属エノラート等が挙げ
られ、ジ低級アルキルアルミニウムハライドとしては、
例えばジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムクロリド、ジメチルアルミニウムプロミド、ジエ
チルアルミニウムプロミド等が挙げられる。
エノラートとしては、例えばリチウムエノラート、ナト
リウムエノラート等のアルカリ金属エノラート等が挙げ
られ、ジ低級アルキルアルミニウムハライドとしては、
例えばジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムクロリド、ジメチルアルミニウムプロミド、ジエ
チルアルミニウムプロミド等が挙げられる。
この発明の反応は通常、例えばテトラヒドロフラン、ペ
ンタン等の反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中例え
ば、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスの存在下で
行なうのが好ましい。
ンタン等の反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中例え
ば、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスの存在下で
行なうのが好ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないしは
室温で行なわれることが多い。
室温で行なわれることが多い。
この発明で得られる2−アゼチジノン誘導体(1)には
新規および公知の化合物が含まれ、例えば抗菌剤として
有用であり、さらにその他の抗菌剤(例えば、カルバペ
ネム)を製造する中間体として有用である。
新規および公知の化合物が含まれ、例えば抗菌剤として
有用であり、さらにその他の抗菌剤(例えば、カルバペ
ネム)を製造する中間体として有用である。
本願発明の発明者等は、2−アゼデジノン誘導体(1)
の新規製造方法についての研究の結果、アルジミン誘導
体(I[)にジ低級アルキルアルミニウムハライドの存
在下、カルボン酸エステル化合物(DI)のエノラート
を反応させると、−挙に収率よく2−アゼチジノン誘導
体(1)が得られることを見いだし本願発明を完成した
。
の新規製造方法についての研究の結果、アルジミン誘導
体(I[)にジ低級アルキルアルミニウムハライドの存
在下、カルボン酸エステル化合物(DI)のエノラート
を反応させると、−挙に収率よく2−アゼチジノン誘導
体(1)が得られることを見いだし本願発明を完成した
。
本願発明で得られる2−アゼチジノン誘導体(!)の塩
類としては、例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などの無機
塩基との塩、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N′−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩などの有機塩基
との塩のような塩基との塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸付加塩、例えばぎ酸塩
、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸付加塩のような酸との塩等
が挙げられる。
類としては、例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などの無機
塩基との塩、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N′−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩などの有機塩基
との塩のような塩基との塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸付加塩、例えばぎ酸塩
、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸付加塩のような酸との塩等
が挙げられる。
この明細書において、以上および以下に使用されている
各種の置換基の定義を以下詳細に説明する。
各種の置換基の定義を以下詳細に説明する。
r低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
を意味するものとする。
「低級アルキル基、および1アリール(低級)アルキル
基」における「低級アルキル部分」の好適な例としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のよ
うな直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
基」における「低級アルキル部分」の好適な例としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のよ
うな直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
「アリール(低級)アルキル基」における「アリール部
分」の好適な例としては、フェニル、ナフチル等が挙げ
られる。
分」の好適な例としては、フェニル、ナフチル等が挙げ
られる。
「イミノ保護基、の好適な例としては、例えばホルミル
、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリ
クロロアセチル等の置換もしくは非置換アルカノイル基
、第3級ブトキシカルボニル、β、β、β−トリクロト
リトキシカルボニノ呟β−トリメチルシリルエトキシカ
ルボニルジルオキシカルボニル、パラニトロベンジルオ
キシカルボニル等のエステル化されたカルボキシル基等
のアシル基の他に、例えばトリメチルシリル、第3級ブ
チルジメチルシリル等のトリ(低級アルキル)シリル基
、p−ニトロベンジル基等が挙げられる。
、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリ
クロロアセチル等の置換もしくは非置換アルカノイル基
、第3級ブトキシカルボニル、β、β、β−トリクロト
リトキシカルボニノ呟β−トリメチルシリルエトキシカ
ルボニルジルオキシカルボニル、パラニトロベンジルオ
キシカルボニル等のエステル化されたカルボキシル基等
のアシル基の他に、例えばトリメチルシリル、第3級ブ
チルジメチルシリル等のトリ(低級アルキル)シリル基
、p−ニトロベンジル基等が挙げられる。
「ハロゲン、の好適な例としては、塩素、臭素、沃素、
フッ素等が挙げられる。
フッ素等が挙げられる。
1有機基」の好適な例としては、例えば前述した様な低
級アルキル基、例えばビニル、アリル、イソプロペニル
、2−ブテニノ呟 3−ブテニル等の炭素数2〜6個を
有する直鎖もしくは分枝鎖アルケニル基、例エバエチニ
ル、1−プロピニル、2−プロピニル、3−ブチニル、
4−ペンチニル等の炭素数2〜6個を有するアルキニル
基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アル
カノイル基、カルボキシル基、保護されたカルボキシル
基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、保護されたヒドロ
キシ(低級)アルキル基、例えばジメチルカルバモイル
、ジエチルカルバモイル等のり(低級)アルキルカルバ
モイル基等が挙げられる。
級アルキル基、例えばビニル、アリル、イソプロペニル
、2−ブテニノ呟 3−ブテニル等の炭素数2〜6個を
有する直鎖もしくは分枝鎖アルケニル基、例エバエチニ
ル、1−プロピニル、2−プロピニル、3−ブチニル、
4−ペンチニル等の炭素数2〜6個を有するアルキニル
基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アル
カノイル基、カルボキシル基、保護されたカルボキシル
基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、保護されたヒドロ
キシ(低級)アルキル基、例えばジメチルカルバモイル
、ジエチルカルバモイル等のり(低級)アルキルカルバ
モイル基等が挙げられる。
上記「ヒドロキシ(低級)アルキル基」および「保護さ
れたヒドロキシ(低級)アルキル基.における「低級ア
ルキル部分」の好適な例としては、前に例示されたもの
が挙げられる。
れたヒドロキシ(低級)アルキル基.における「低級ア
ルキル部分」の好適な例としては、前に例示されたもの
が挙げられる。
上記1保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基」にお
ける好適なヒドロキシル基の保護基としては、例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリ
ル、ピバロイル、クロロアセチル、ブロモアセチル等の
置換されていてもよいアルカノイル シカルボニル、β−トリメデルシリルエトキシカルボニ
ル等のエステル化されたカルボキシル基等のアシル基、
第3級ブチル、ベンジル、p−ニトロベンジル、トリチ
ル、β−メトキシエトキシメチル等の置換されていても
よいアルキル基、トリメチルシリル、第3級ブチルジメ
チルシリル等のシリル基、ジボラン、トリイソプロピル
ボランなどのホウ素基、2−テトラヒドロピラニル、4
−メトキシ−4−テトラヒドロピラニルなどのピラニル
基等の慣用のヒドロキシル基の保護基の他、ベンゾイル
、p−トルオイル、m−トルオイル、ナフトイル等のア
ロイル基等が挙げられる。
ける好適なヒドロキシル基の保護基としては、例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリ
ル、ピバロイル、クロロアセチル、ブロモアセチル等の
置換されていてもよいアルカノイル シカルボニル、β−トリメデルシリルエトキシカルボニ
ル等のエステル化されたカルボキシル基等のアシル基、
第3級ブチル、ベンジル、p−ニトロベンジル、トリチ
ル、β−メトキシエトキシメチル等の置換されていても
よいアルキル基、トリメチルシリル、第3級ブチルジメ
チルシリル等のシリル基、ジボラン、トリイソプロピル
ボランなどのホウ素基、2−テトラヒドロピラニル、4
−メトキシ−4−テトラヒドロピラニルなどのピラニル
基等の慣用のヒドロキシル基の保護基の他、ベンゾイル
、p−トルオイル、m−トルオイル、ナフトイル等のア
ロイル基等が挙げられる。
上記1保護されたカルボキシル基」の好適な例としては
、エステル化されたカルボキシル基が挙げられ、該「エ
ステル化されたカルボキシル基」の1工ステル部分」と
しては、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンデ
ルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステ
ル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル、例えばエ
チニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニ
ルエステル、例えばメトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、イソプロポキシメチルエステル、1−
メトキシエチルエステル、1−エトキシエチルエステル
等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えば
メチルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、イソプロピルチオメチル
エステル等の低級アルキルチオ(低級)アルキルエステ
ル、例えば2−アミノ−2−カルポキシエチルエステノ
呟 3−アミノ−3−カルボキシプロピルエステル等の
アミノおよびカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−第三級プトキシ力ルポニルアミノ−2−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルエチルエステル、3−第三級
ブトキシ力ルポニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロビルエステル等の低級アルフキジカルボ
ニルアミノ しくはトリ)フェニル(低級)アルフキジカルボニル置
換低級アルキルエステルのような保護されたアミンおよ
び保護されたカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−ヨードエチルエステル、2.2.2−ト’Jク
ロロエチルエステル等のモノ(もしくはジもしくはトリ
)ハロ(低級)アルキルエステル、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブ
チリルオキシメチルエステル、インブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、1−アセトキシプロピルエ
ステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエ
ステル、例えばメシルメチルエステル、2−メシルエチ
ルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アルキ
ルエステル、例えばベンジルエステル、4−メトキシベ
ンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル ル、トリチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3.5−ジ−第三級ブチルベンジルエス
テル等の1個または2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはジもしくはトリ)フェニル(低
級)アルキルエステルのような1個または2個以上の適
当な置換基を有していてもよいアリール(低級)アルキ
ルエステル、例えばフェニルエステル、トリルエステル
、第三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステ
ル等の1個または2個以上の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル、例えばフタリジルエステル等
の複素環エステル、例えばトリメチルシリルエステル、
トリエチルシリルエステル、第三級ブチル−ジメチルシ
リルエステル、イソプロピルジメチルシリルエステル、
フエニルジメチルシリルエステル等のトリ置換シリルエ
ステル等が挙げられる。
、エステル化されたカルボキシル基が挙げられ、該「エ
ステル化されたカルボキシル基」の1工ステル部分」と
しては、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンデ
ルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステ
ル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル、例えばエ
チニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニ
ルエステル、例えばメトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、イソプロポキシメチルエステル、1−
メトキシエチルエステル、1−エトキシエチルエステル
等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えば
メチルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、イソプロピルチオメチル
エステル等の低級アルキルチオ(低級)アルキルエステ
ル、例えば2−アミノ−2−カルポキシエチルエステノ
呟 3−アミノ−3−カルボキシプロピルエステル等の
アミノおよびカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−第三級プトキシ力ルポニルアミノ−2−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルエチルエステル、3−第三級
ブトキシ力ルポニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロビルエステル等の低級アルフキジカルボ
ニルアミノ しくはトリ)フェニル(低級)アルフキジカルボニル置
換低級アルキルエステルのような保護されたアミンおよ
び保護されたカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−ヨードエチルエステル、2.2.2−ト’Jク
ロロエチルエステル等のモノ(もしくはジもしくはトリ
)ハロ(低級)アルキルエステル、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブ
チリルオキシメチルエステル、インブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、1−アセトキシプロピルエ
ステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエ
ステル、例えばメシルメチルエステル、2−メシルエチ
ルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アルキ
ルエステル、例えばベンジルエステル、4−メトキシベ
ンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル ル、トリチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3.5−ジ−第三級ブチルベンジルエス
テル等の1個または2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはジもしくはトリ)フェニル(低
級)アルキルエステルのような1個または2個以上の適
当な置換基を有していてもよいアリール(低級)アルキ
ルエステル、例えばフェニルエステル、トリルエステル
、第三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステ
ル等の1個または2個以上の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル、例えばフタリジルエステル等
の複素環エステル、例えばトリメチルシリルエステル、
トリエチルシリルエステル、第三級ブチル−ジメチルシ
リルエステル、イソプロピルジメチルシリルエステル、
フエニルジメチルシリルエステル等のトリ置換シリルエ
ステル等が挙げられる。
「適当な置換基で置換されていてもよい低級アルキル基
」における適当な置換基としては、例えば、ヒドロキシ
ル基、前に例示した様な保護基で保護されたヒドロキシ
ル基、前に例示した様なハロゲン等が挙げられる。
」における適当な置換基としては、例えば、ヒドロキシ
ル基、前に例示した様な保護基で保護されたヒドロキシ
ル基、前に例示した様なハロゲン等が挙げられる。
「エステル残基」の好適な例としては、前に例示した様
なrエステル化されたカルボキシル基」におけるエステ
ル部分が挙げられる。
なrエステル化されたカルボキシル基」におけるエステ
ル部分が挙げられる。
以下、この発明を実施例により説明する。
1直五ユ
窒素置換した二ロフラスコにテトラヒドロフラン101
11をとり、ジイソプロピルアミン0. 161Q(
1.la+ a+ol)を加え、−78℃に冷却し、ブ
チルリチウム(ヘキサン溶液) 0. 69m11 (
1. 1m mol )を加え、10分後任温バスを
はずし、30分後再び一78℃にして、プロピオン酸エ
チルエステル0.13mQ( 1. lo+ mol
)を加えた.15分後、上記の様にして得られたプロピ
オン酸エチルエステルのリチウムエノラートを含む溶液
に、ジメチルアルミニウムクロリド(ヘキサン溶液)
1. 1mll ( 1. 1m mol )を加え、
さらに15分後任ーブチリデンフェネチルアミン0.
19111(1. 0111mol )を加え、1時間
後低温バスをはずし、1晩反応させた.水酸化ナトリウ
ム水溶液で反応を停止し、酢酸エチルで抽出、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、薄層クロマトグラフィー(lt[エ
チル:ヘキサン−1 : 2)で1−フェネチル−3−
メチル−4−プロピル−2−アゼチジノン(収率80.
5%)を単離した。
11をとり、ジイソプロピルアミン0. 161Q(
1.la+ a+ol)を加え、−78℃に冷却し、ブ
チルリチウム(ヘキサン溶液) 0. 69m11 (
1. 1m mol )を加え、10分後任温バスを
はずし、30分後再び一78℃にして、プロピオン酸エ
チルエステル0.13mQ( 1. lo+ mol
)を加えた.15分後、上記の様にして得られたプロピ
オン酸エチルエステルのリチウムエノラートを含む溶液
に、ジメチルアルミニウムクロリド(ヘキサン溶液)
1. 1mll ( 1. 1m mol )を加え、
さらに15分後任ーブチリデンフェネチルアミン0.
19111(1. 0111mol )を加え、1時間
後低温バスをはずし、1晩反応させた.水酸化ナトリウ
ム水溶液で反応を停止し、酢酸エチルで抽出、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、薄層クロマトグラフィー(lt[エ
チル:ヘキサン−1 : 2)で1−フェネチル−3−
メチル−4−プロピル−2−アゼチジノン(収率80.
5%)を単離した。
IR (neat) : 2950. 2880、17
45. 1455. 1405。
45. 1455. 1405。
740、 700 co+−1
’H NMR (CDC1a) :8 0.90 (b
t.3H.J=6.0Hz>。
t.3H.J=6.0Hz>。
1、02〜1.59 (m.4H)、 1.04. 1
.18 (d.3H。
.18 (d.3H。
J=9.0Hz)、 2.45〜3.81 (m、6
1(>、 7.21 (s。
1(>、 7.21 (s。
5H)
MS (m/e) : 231 (M”)この生成物は
’HNMRの8 1.04と1.18がほぼ60:40
にでていることがらシス体とトランス体の比はほぼ60
: 40であると予想できる。
’HNMRの8 1.04と1.18がほぼ60:40
にでていることがらシス体とトランス体の比はほぼ60
: 40であると予想できる。
犬直堡1
プロピオン酸エチルエステルのかわりにイソ酪酸メチル
エステルを使用し、実施例1と同様にして、 1−フェネチル−3,3−ジメチル−4−プロピル−2
−アゼチジノン(収率60.7%)を得た。
エステルを使用し、実施例1と同様にして、 1−フェネチル−3,3−ジメチル−4−プロピル−2
−アゼチジノン(収率60.7%)を得た。
IR(neat) : 2960.2870.1740
.1450.1415゜1120、740.700 a
m’ ’HNMR(CDCIs) :80.90 (bt、3
H,J=6.0Hz)。
.1450.1415゜1120、740.700 a
m’ ’HNMR(CDCIs) :80.90 (bt、3
H,J=6.0Hz)。
1.08 (s、3H)、 1.13 (s、3H3,
1,10〜1.65(m、4H)、 2.75〜3.8
0 (m、5H)、 7.20(s、 5H) MS (m/e) : 245 (M )この反応でジ
メチルアルミニウムクロリドを顔見ないと、上記化合物
は得られなかった。
1,10〜1.65(m、4H)、 2.75〜3.8
0 (m、5H)、 7.20(s、 5H) MS (m/e) : 245 (M )この反応でジ
メチルアルミニウムクロリドを顔見ないと、上記化合物
は得られなかった。
X厘勇1
プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使用し、実施
例1と同様にして1−ベンジル−3,3−ジメチル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率94.6%)を得
た。
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使用し、実施
例1と同様にして1−ベンジル−3,3−ジメチル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率94.6%)を得
た。
IR(neat) : 2950.287G、 174
5.1460.1400゜1120、730.690
am’ ’HNMR(CDC1a) ’ 80.84 (bt、
3H,J=6.0Hz>。
5.1460.1400゜1120、730.690
am’ ’HNMR(CDC1a) ’ 80.84 (bt、
3H,J=6.0Hz>。
1.19 (s、3H)、 1.25 (s、3H)、
1.10〜1.65(m、4H)、 3.08 (t
、lH,J=5.0Hz)、 a、ot(d、IH,J
=15.0Hz)、 4.64 (d、IH。
1.10〜1.65(m、4H)、 3.08 (t
、lH,J=5.0Hz)、 a、ot(d、IH,J
=15.0Hz)、 4.64 (d、IH。
J=15.0Hz>、 7.20 (s、5H)MS
(ffi/a) + 231 (M )衷1]I N−ブチリデンフェネチルアミンのかわりにN−ブチリ
デンベンジルアミンを使用し、実施例1と同様にして !−ベンジルー3−メチルー4−ブaピル−2−アゼデ
ジノン(収率69.2%)を得た。薄層クロマトグラフ
ィーでシス体およびトランス体を単離した(シス体ニド
ランス体−約75:25)。
(ffi/a) + 231 (M )衷1]I N−ブチリデンフェネチルアミンのかわりにN−ブチリ
デンベンジルアミンを使用し、実施例1と同様にして !−ベンジルー3−メチルー4−ブaピル−2−アゼデ
ジノン(収率69.2%)を得た。薄層クロマトグラフ
ィーでシス体およびトランス体を単離した(シス体ニド
ランス体−約75:25)。
IR(neat) + 2940.1745.1450
.1400.720゜700 am−’ IHNMR(CDCIs) : シス体、 S O,
84(bt、糺J=6.0Hz)、 1.20 (d、
3H,J=7.0Hz)、 1.10=1.65 (n
+、4H)、 3.21 (dq、IH,J=7.0゜
6.0Hz)、 3.47 (dt、IH,J=6.5
.6.0Hz)。
.1400.720゜700 am−’ IHNMR(CDCIs) : シス体、 S O,
84(bt、糺J=6.0Hz)、 1.20 (d、
3H,J=7.0Hz)、 1.10=1.65 (n
+、4H)、 3.21 (dq、IH,J=7.0゜
6.0Hz)、 3.47 (dt、IH,J=6.5
.6.0Hz)。
4.05 (d、IH,J=15.0Hz)、 4.6
0 (d、IH。
0 (d、IH。
J:15.0Hz)、 7.20’(s、5H)トラ’
/ス体、 l; 0.86 (bt、3H,J=6.0
Hz>。
/ス体、 l; 0.86 (bt、3H,J=6.0
Hz>。
1.23 (d、3H,J=7.0Hz)、 1.00
〜1.80 (m。
〜1.80 (m。
4H)、 2.75 (dq、IH,J=7.0.2.
0Hz)、 2.85=3.10 (m、IH)、 4
.02 (d、IH,、c15.0Hz)。
0Hz)、 2.85=3.10 (m、IH)、 4
.02 (d、IH,、c15.0Hz)。
4.60 (d、IH,J=15.0Hz)、 7.2
2 (s、5H)MS (m/e) + 217 (M
)K菖■1 プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ吉草酸エチルエステルおよ
びN−ブチリデンベンジルアミンを使用し、実施例1と
同様に反応して、1−ベンジル−3−イソプロピル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率S7.8%)を得
た。
2 (s、5H)MS (m/e) + 217 (M
)K菖■1 プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ吉草酸エチルエステルおよ
びN−ブチリデンベンジルアミンを使用し、実施例1と
同様に反応して、1−ベンジル−3−イソプロピル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率S7.8%)を得
た。
IR(CHCL3) j 2960.28g0.173
0.1455.1400゜1350 am−” ’HNMR(CDCIs) :8 G、、90 (bt
、3H,J=7.0Hz>。
0.1455.1400゜1350 am−” ’HNMR(CDCIs) :8 G、、90 (bt
、3H,J=7.0Hz>。
0.95 (d、3H,Jm7.0Hz)、 1.19
(d、3H。
(d、3H。
J=7.0Hz)、 1.15〜2.15 (a、5H
)、 2.82(dd、IH,J=9.0.6.0Hz
)、 3.47 (dt、IH。
)、 2.82(dd、IH,J=9.0.6.0Hz
)、 3.47 (dt、IH。
J=6.0.6.0Hz)、 4.10 (d、IH,
J=15.0Hz)。
J=15.0Hz)。
4.70 (d、LH,J=15.0Hz>、 7.2
0 (s、5H)MS (m/a) + 245 (M
)’HNMRからほとんどシス体と思われる。
0 (s、5H)MS (m/a) + 245 (M
)’HNMRからほとんどシス体と思われる。
以下、同様にして下記化合物を得た。
(1) 1−フェネチル−4−プロピル−2−アゼチ
ジノン(収率86.9%) IR(neat) : 2925.175G、 145
0.1400.740゜695 cm−1 1HNMR(CDCIs) ’ l; 0.90 (b
t、3H,J=7.0Hz>。
ジノン(収率86.9%) IR(neat) : 2925.175G、 145
0.1400.740゜695 cm−1 1HNMR(CDCIs) ’ l; 0.90 (b
t、3H,J=7.0Hz>。
1.01〜1.89 (m、4H)、 2.30−3
.80 (m、7H)。
.80 (m、7H)。
7.20 (bs、 5H)
MS (m/a) : 217 (M”)(2) 1
−ベンジル−3−メチル−4−イソプロピル−2−アゼ
チジノン(収率81.5%)IR(neat) : 2
960.1750.1450.1385.720゜69
0 cm−1 1HNMR(CDC1a) ’ 80.71 (d、3
H,J=7.0Hz)。
−ベンジル−3−メチル−4−イソプロピル−2−アゼ
チジノン(収率81.5%)IR(neat) : 2
960.1750.1450.1385.720゜69
0 cm−1 1HNMR(CDC1a) ’ 80.71 (d、3
H,J=7.0Hz)。
0.95 (d、3H,J=7.0Hz)、 1.24
.1.27’ (d、3H,J=7.0Hz>、
1.75−2.04 (m、IH)。
.1.27’ (d、3H,J=7.0Hz>、
1.75−2.04 (m、IH)。
2.75〜3.40 (m、2H)、 4.00.4.
10 (d、IH。
10 (d、IH。
J=15.0Hz)、 4.74 (d、IH,J=1
5.0Hz)。
5.0Hz)。
7.23 (bs、5H)
MS (ta/e) : 217 (M ):1m ノ
生miハIHNMHノ81.24ト1.27かホtzs
o:2゜にでていることからシス体とトランス体の比は
ほぼ80:20であると予想できる。
生miハIHNMHノ81.24ト1.27かホtzs
o:2゜にでていることからシス体とトランス体の比は
ほぼ80:20であると予想できる。
火】01且
プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりに3−ヒドロキシ酪酸エチルエス
テルおよびN−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使
用し、実施例1と同様にして、1−ベンジル−3−(1
−ヒドロキシエチル)−4−プロピル−2−アゼチジノ
ンを得た。
ネチルアミンのかわりに3−ヒドロキシ酪酸エチルエス
テルおよびN−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使
用し、実施例1と同様にして、1−ベンジル−3−(1
−ヒドロキシエチル)−4−プロピル−2−アゼチジノ
ンを得た。
IR(neat) ’ 3450.2940.1720
.1455.1380゜1150、730.700cm
’ ’HNMR(CDCIs) : δ 0.9
2 (bt、3H,J=6.0Hz>。
.1455.1380゜1150、730.700cm
’ ’HNMR(CDCIs) : δ 0.9
2 (bt、3H,J=6.0Hz>。
2.28 (bs、IH)。
3.92〜4.30 (m、IH)
4、08 (d、 IHJ=15.0Hz)4、67(
d、 1B、 J=15.0Hz )7.28 (s、
5H) MS (m/e) : 247 (M )”HNMR
(7) 82.83(トランス体)と3.56(シス体
)の積分比により、この生成物のトランス体とシス体の
比を1=1と決定した。
d、 1B、 J=15.0Hz )7.28 (s、
5H) MS (m/e) : 247 (M )”HNMR
(7) 82.83(トランス体)と3.56(シス体
)の積分比により、この生成物のトランス体とシス体の
比を1=1と決定した。
東A男ユ
実施例4においてプロピオン酸エチルエステルのかわり
にプロピオン酸t−ブチルエステルを使用したところ、
シス体とトランス体の比が変化した。
にプロピオン酸t−ブチルエステルを使用したところ、
シス体とトランス体の比が変化した。
収率73χ
シス体ニドランス体−58: 42
’HNMHの82.75.2.85〜3.1O(トラン
ス体)δ3.21.3.47(シス体) の積分比により決定した比、なおHPLC(ヘキサン/
酢酸エチル= 2 / 1 、 Shim−Pack
CLC−5IL O,15mX6.0φ)の面積比によ
り決定した比は57:43に直撚1 実施例1においてプロピオン酸エチルエステルのかわり
にプロピオン酸t−ブチルエステルを用いたところ、シ
ス体とトランス体の比が変化した。
ス体)δ3.21.3.47(シス体) の積分比により決定した比、なおHPLC(ヘキサン/
酢酸エチル= 2 / 1 、 Shim−Pack
CLC−5IL O,15mX6.0φ)の面積比によ
り決定した比は57:43に直撚1 実施例1においてプロピオン酸エチルエステルのかわり
にプロピオン酸t−ブチルエステルを用いたところ、シ
ス体とトランス体の比が変化した。
収率?5!
シス体ニドランス体−50:50
1、)l NMRの81.04と6’1.18の強度比
により決定した比、なおHPLC(条件は実施例7と同
様)の面積比により決定した比もso : soであっ
た。
により決定した比、なおHPLC(条件は実施例7と同
様)の面積比により決定した比もso : soであっ
た。
艶曳」
プロとオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ベンジリデンブチルアミンを使用し、実施例1と同
様にして 1−ブチル−3,3−ジメチル−4−フェニル−2−ア
ゼチジノン)収率(72,9%)を得た。
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ベンジリデンブチルアミンを使用し、実施例1と同
様にして 1−ブチル−3,3−ジメチル−4−フェニル−2−ア
ゼチジノン)収率(72,9%)を得た。
IR(neat) : 2950.2860.1760
.1460.1400゜1360、730.700 c
m−” IHNMR(CDCIs) :80.76 (s、3H
)、0.90(bt。
.1460.1400゜1360、730.700 c
m−” IHNMR(CDCIs) :80.76 (s、3H
)、0.90(bt。
3H,J=7.0Hz)、 1.0(1〜1.68 (
m、 4H)、 1.40(s、3H)、 2.88
(dt、IH,J:12.0.7.0Hz>。
m、 4H)、 1.40(s、3H)、 2.88
(dt、IH,J:12.0.7.0Hz>。
3.59 (dt、LH,J=12.0. 7.0Hz
>、 4.31 (s。
>、 4.31 (s。
LH)、 7.05〜7.45 (m、5H)MS
(m/e) : 231 (M”)上記参考例から明白
な様に、本願発明で使用されるジ低級アルキルアルミニ
ウムハライドは、α位に水素のないアルジミン誘導体か
らの2−アゼチジノン誘導体の製造にも適用できる。
(m/e) : 231 (M”)上記参考例から明白
な様に、本願発明で使用されるジ低級アルキルアルミニ
ウムハライドは、α位に水素のないアルジミン誘導体か
らの2−アゼチジノン誘導体の製造にも適用できる。
特許出願人 秋 葉 欣 哉
和1)眞
藤沢薬品工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素、アリール(低級)アルキル基ま
たはイミノ保護基、R^2は水素または低級アルキル基
、R^3は水素、ハロゲンまたは有機基をそれぞれ意味
する) で示されるアルジミン誘導体またはその塩類にジ低級ア
ルキルアルミニウムハライドの存在下、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素または低級アルキル基、R^5は
水素または適当な置換基で置換されていてもよい低級ア
ルキル基、R^6はエステル残基をそれぞれ意味する) で示されるカルボン酸エステル化合物のエノラートを反
応させて、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5
はそれぞれ前と同じ意味) で示される2−アゼチジノン誘導体またはその塩類を得
ることを特徴とする2−アゼチジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-33283A JPH0166A (ja) | 1987-02-20 | 1988-02-16 | 2−アゼチジノン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3853887 | 1987-02-20 | ||
JP62-38538 | 1987-02-20 | ||
JP63-33283A JPH0166A (ja) | 1987-02-20 | 1988-02-16 | 2−アゼチジノン誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6466A JPS6466A (en) | 1989-01-05 |
JPH0166A true JPH0166A (ja) | 1989-01-05 |
Family
ID=
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