JPH0166A - 2−アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents

2−アゼチジノン誘導体の製造法

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JPH0166A
JPH0166A JP63-33283A JP3328388A JPH0166A JP H0166 A JPH0166 A JP H0166A JP 3328388 A JP3328388 A JP 3328388A JP H0166 A JPH0166 A JP H0166A
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salts
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hydrogen
esters
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秋葉 欣哉
和田 眞
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分骨) 本発明は、例えば抗菌剤および抗菌剤を製造する中間体
として有用な新規及び公知の2−アゼチジノン誘導体の
新規製造法に関する。
(従来の技術) 2−アゼチジノン誘導体の製造法は数多く知られている
が、α位に水素を有するアルジミン誘導体(If)から
の工業的製造法は知られていない。
(本発明の目的) 本発明は、α位に水素を有するアルジミン誘導体(II
)から2−アゼチジノン誘導体(I)の新規製造法を提
供するものである。
(発明の構成) 本発明は一般式: (式中、R1は水素、アリール(低級)アルキル基また
はイミノ保護基、R2は水素または低級アルキル基、R
3は水素、ハロゲンまたは有機基をそれぞれ意味する) で示されるアルジミン誘導体またはその塩類にジ低級ア
ルキルアルミニウムハライドの存在下、一般式: (式中、R4は水素または低級アルキル基、R5は水素
または適当な置換基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基、R6はエステル残基をそれぞれ意味する) で示されるカルボン酸エステル化合物のエノラートを反
応させることからなる一般式: (式中、R1、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ
前と同じ意味) で示される2−アゼチジノン誘導体の製造法に関するも
のである。
本発明に使用されるカルボン酸エステル化合物(m)の
エノラートとしては、例えばリチウムエノラート、ナト
リウムエノラート等のアルカリ金属エノラート等が挙げ
られ、ジ低級アルキルアルミニウムハライドとしては、
例えばジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムクロリド、ジメチルアルミニウムプロミド、ジエ
チルアルミニウムプロミド等が挙げられる。
この発明の反応は通常、例えばテトラヒドロフラン、ペ
ンタン等の反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中例え
ば、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスの存在下で
行なうのが好ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないしは
室温で行なわれることが多い。
この発明で得られる2−アゼチジノン誘導体(1)には
新規および公知の化合物が含まれ、例えば抗菌剤として
有用であり、さらにその他の抗菌剤(例えば、カルバペ
ネム)を製造する中間体として有用である。
本願発明の発明者等は、2−アゼデジノン誘導体(1)
の新規製造方法についての研究の結果、アルジミン誘導
体(I[)にジ低級アルキルアルミニウムハライドの存
在下、カルボン酸エステル化合物(DI)のエノラート
を反応させると、−挙に収率よく2−アゼチジノン誘導
体(1)が得られることを見いだし本願発明を完成した
本願発明で得られる2−アゼチジノン誘導体(!)の塩
類としては、例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などの無機
塩基との塩、例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N′−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩などの有機塩基
との塩のような塩基との塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸付加塩、例えばぎ酸塩
、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸付加塩のような酸との塩等
が挙げられる。
この明細書において、以上および以下に使用されている
各種の置換基の定義を以下詳細に説明する。
r低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
「低級アルキル基、および1アリール(低級)アルキル
基」における「低級アルキル部分」の好適な例としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のよ
うな直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
「アリール(低級)アルキル基」における「アリール部
分」の好適な例としては、フェニル、ナフチル等が挙げ
られる。
「イミノ保護基、の好適な例としては、例えばホルミル
、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリ
クロロアセチル等の置換もしくは非置換アルカノイル基
、第3級ブトキシカルボニル、β、β、β−トリクロト
リトキシカルボニノ呟β−トリメチルシリルエトキシカ
ルボニルジルオキシカルボニル、パラニトロベンジルオ
キシカルボニル等のエステル化されたカルボキシル基等
のアシル基の他に、例えばトリメチルシリル、第3級ブ
チルジメチルシリル等のトリ(低級アルキル)シリル基
、p−ニトロベンジル基等が挙げられる。
「ハロゲン、の好適な例としては、塩素、臭素、沃素、
フッ素等が挙げられる。
1有機基」の好適な例としては、例えば前述した様な低
級アルキル基、例えばビニル、アリル、イソプロペニル
、2−ブテニノ呟 3−ブテニル等の炭素数2〜6個を
有する直鎖もしくは分枝鎖アルケニル基、例エバエチニ
ル、1−プロピニル、2−プロピニル、3−ブチニル、
4−ペンチニル等の炭素数2〜6個を有するアルキニル
基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アル
カノイル基、カルボキシル基、保護されたカルボキシル
基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、保護されたヒドロ
キシ(低級)アルキル基、例えばジメチルカルバモイル
、ジエチルカルバモイル等のり(低級)アルキルカルバ
モイル基等が挙げられる。
上記「ヒドロキシ(低級)アルキル基」および「保護さ
れたヒドロキシ(低級)アルキル基.における「低級ア
ルキル部分」の好適な例としては、前に例示されたもの
が挙げられる。
上記1保護されたヒドロキシ(低級)アルキル基」にお
ける好適なヒドロキシル基の保護基としては、例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリ
ル、ピバロイル、クロロアセチル、ブロモアセチル等の
置換されていてもよいアルカノイル シカルボニル、β−トリメデルシリルエトキシカルボニ
ル等のエステル化されたカルボキシル基等のアシル基、
第3級ブチル、ベンジル、p−ニトロベンジル、トリチ
ル、β−メトキシエトキシメチル等の置換されていても
よいアルキル基、トリメチルシリル、第3級ブチルジメ
チルシリル等のシリル基、ジボラン、トリイソプロピル
ボランなどのホウ素基、2−テトラヒドロピラニル、4
−メトキシ−4−テトラヒドロピラニルなどのピラニル
基等の慣用のヒドロキシル基の保護基の他、ベンゾイル
、p−トルオイル、m−トルオイル、ナフトイル等のア
ロイル基等が挙げられる。
上記1保護されたカルボキシル基」の好適な例としては
、エステル化されたカルボキシル基が挙げられ、該「エ
ステル化されたカルボキシル基」の1工ステル部分」と
しては、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンデ
ルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステ
ル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル、例えばエ
チニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニ
ルエステル、例えばメトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、イソプロポキシメチルエステル、1−
メトキシエチルエステル、1−エトキシエチルエステル
等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステル、例えば
メチルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステル、イソプロピルチオメチル
エステル等の低級アルキルチオ(低級)アルキルエステ
ル、例えば2−アミノ−2−カルポキシエチルエステノ
呟 3−アミノ−3−カルボキシプロピルエステル等の
アミノおよびカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−第三級プトキシ力ルポニルアミノ−2−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルエチルエステル、3−第三級
ブトキシ力ルポニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロビルエステル等の低級アルフキジカルボ
ニルアミノ しくはトリ)フェニル(低級)アルフキジカルボニル置
換低級アルキルエステルのような保護されたアミンおよ
び保護されたカルボキシ置換低級アルキルエステル、例
えば2−ヨードエチルエステル、2.2.2−ト’Jク
ロロエチルエステル等のモノ(もしくはジもしくはトリ
)ハロ(低級)アルキルエステル、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブ
チリルオキシメチルエステル、インブチリルオキシメチ
ルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイ
ルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、1−アセトキシプロピルエ
ステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエ
ステル、例えばメシルメチルエステル、2−メシルエチ
ルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アルキ
ルエステル、例えばベンジルエステル、4−メトキシベ
ンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル ル、トリチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3.5−ジ−第三級ブチルベンジルエス
テル等の1個または2個以上の適当な置換基を有してい
てもよいモノ(もしくはジもしくはトリ)フェニル(低
級)アルキルエステルのような1個または2個以上の適
当な置換基を有していてもよいアリール(低級)アルキ
ルエステル、例えばフェニルエステル、トリルエステル
、第三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、
メシチルエステル、クメニルエステル、サリチルエステ
ル等の1個または2個以上の適当な置換基を有していて
もよいアリールエステル、例えばフタリジルエステル等
の複素環エステル、例えばトリメチルシリルエステル、
トリエチルシリルエステル、第三級ブチル−ジメチルシ
リルエステル、イソプロピルジメチルシリルエステル、
フエニルジメチルシリルエステル等のトリ置換シリルエ
ステル等が挙げられる。
「適当な置換基で置換されていてもよい低級アルキル基
」における適当な置換基としては、例えば、ヒドロキシ
ル基、前に例示した様な保護基で保護されたヒドロキシ
ル基、前に例示した様なハロゲン等が挙げられる。
「エステル残基」の好適な例としては、前に例示した様
なrエステル化されたカルボキシル基」におけるエステ
ル部分が挙げられる。
以下、この発明を実施例により説明する。
1直五ユ 窒素置換した二ロフラスコにテトラヒドロフラン101
11をとり、ジイソプロピルアミン0. 161Q( 
1.la+ a+ol)を加え、−78℃に冷却し、ブ
チルリチウム(ヘキサン溶液) 0. 69m11 (
 1. 1m mol )を加え、10分後任温バスを
はずし、30分後再び一78℃にして、プロピオン酸エ
チルエステル0.13mQ( 1. lo+ mol 
)を加えた.15分後、上記の様にして得られたプロピ
オン酸エチルエステルのリチウムエノラートを含む溶液
に、ジメチルアルミニウムクロリド(ヘキサン溶液) 
1. 1mll ( 1. 1m mol )を加え、
さらに15分後任ーブチリデンフェネチルアミン0. 
19111(1. 0111mol )を加え、1時間
後低温バスをはずし、1晩反応させた.水酸化ナトリウ
ム水溶液で反応を停止し、酢酸エチルで抽出、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、薄層クロマトグラフィー(lt[エ
チル:ヘキサン−1 : 2)で1−フェネチル−3−
メチル−4−プロピル−2−アゼチジノン(収率80.
5%)を単離した。
IR (neat) : 2950. 2880、17
45. 1455. 1405。
740、 700 co+−1 ’H NMR (CDC1a) :8 0.90 (b
t.3H.J=6.0Hz>。
1、02〜1.59 (m.4H)、 1.04. 1
.18 (d.3H。
J=9.0Hz)、  2.45〜3.81 (m、6
1(>、  7.21 (s。
5H) MS (m/e) : 231 (M”)この生成物は
’HNMRの8 1.04と1.18がほぼ60:40
にでていることがらシス体とトランス体の比はほぼ60
 : 40であると予想できる。
犬直堡1 プロピオン酸エチルエステルのかわりにイソ酪酸メチル
エステルを使用し、実施例1と同様にして、 1−フェネチル−3,3−ジメチル−4−プロピル−2
−アゼチジノン(収率60.7%)を得た。
IR(neat) : 2960.2870.1740
.1450.1415゜1120、740.700 a
m’ ’HNMR(CDCIs) :80.90 (bt、3
H,J=6.0Hz)。
1.08 (s、3H)、 1.13 (s、3H3,
1,10〜1.65(m、4H)、 2.75〜3.8
0 (m、5H)、 7.20(s、 5H) MS (m/e) : 245 (M )この反応でジ
メチルアルミニウムクロリドを顔見ないと、上記化合物
は得られなかった。
X厘勇1 プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使用し、実施
例1と同様にして1−ベンジル−3,3−ジメチル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率94.6%)を得
た。
IR(neat) : 2950.287G、 174
5.1460.1400゜1120、730.690 
am’ ’HNMR(CDC1a) ’ 80.84 (bt、
3H,J=6.0Hz>。
1.19 (s、3H)、 1.25 (s、3H)、
 1.10〜1.65(m、4H)、 3.08 (t
、lH,J=5.0Hz)、 a、ot(d、IH,J
=15.0Hz)、 4.64 (d、IH。
J=15.0Hz>、 7.20 (s、5H)MS 
(ffi/a) + 231 (M )衷1]I N−ブチリデンフェネチルアミンのかわりにN−ブチリ
デンベンジルアミンを使用し、実施例1と同様にして !−ベンジルー3−メチルー4−ブaピル−2−アゼデ
ジノン(収率69.2%)を得た。薄層クロマトグラフ
ィーでシス体およびトランス体を単離した(シス体ニド
ランス体−約75:25)。
IR(neat) + 2940.1745.1450
.1400.720゜700 am−’ IHNMR(CDCIs) : シス体、  S O,
84(bt、糺J=6.0Hz)、 1.20 (d、
3H,J=7.0Hz)、 1.10=1.65 (n
+、4H)、 3.21 (dq、IH,J=7.0゜
6.0Hz)、 3.47 (dt、IH,J=6.5
.6.0Hz)。
4.05 (d、IH,J=15.0Hz)、 4.6
0 (d、IH。
J:15.0Hz)、 7.20’(s、5H)トラ’
/ス体、 l; 0.86 (bt、3H,J=6.0
Hz>。
1.23 (d、3H,J=7.0Hz)、 1.00
〜1.80 (m。
4H)、 2.75 (dq、IH,J=7.0.2.
0Hz)、 2.85=3.10 (m、IH)、 4
.02 (d、IH,、c15.0Hz)。
4.60 (d、IH,J=15.0Hz)、 7.2
2 (s、5H)MS (m/e) + 217 (M
 )K菖■1 プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ吉草酸エチルエステルおよ
びN−ブチリデンベンジルアミンを使用し、実施例1と
同様に反応して、1−ベンジル−3−イソプロピル−4
−プロピル−2−アゼチジノン(収率S7.8%)を得
た。
IR(CHCL3) j 2960.28g0.173
0.1455.1400゜1350  am−” ’HNMR(CDCIs) :8 G、、90 (bt
、3H,J=7.0Hz>。
0.95 (d、3H,Jm7.0Hz)、 1.19
 (d、3H。
J=7.0Hz)、 1.15〜2.15 (a、5H
)、 2.82(dd、IH,J=9.0.6.0Hz
)、 3.47 (dt、IH。
J=6.0.6.0Hz)、 4.10 (d、IH,
J=15.0Hz)。
4.70 (d、LH,J=15.0Hz>、 7.2
0 (s、5H)MS (m/a) + 245 (M
 )’HNMRからほとんどシス体と思われる。
以下、同様にして下記化合物を得た。
(1)  1−フェネチル−4−プロピル−2−アゼチ
ジノン(収率86.9%) IR(neat) : 2925.175G、 145
0.1400.740゜695 cm−1 1HNMR(CDCIs) ’ l; 0.90 (b
t、3H,J=7.0Hz>。
1.01〜1.89 (m、4H)、  2.30−3
.80 (m、7H)。
7.20 (bs、  5H) MS (m/a) : 217 (M”)(2)  1
−ベンジル−3−メチル−4−イソプロピル−2−アゼ
チジノン(収率81.5%)IR(neat) : 2
960.1750.1450.1385.720゜69
0 cm−1 1HNMR(CDC1a) ’ 80.71 (d、3
H,J=7.0Hz)。
0.95 (d、3H,J=7.0Hz)、 1.24
.1.27’  (d、3H,J=7.0Hz>、  
1.75−2.04  (m、IH)。
2.75〜3.40 (m、2H)、 4.00.4.
10 (d、IH。
J=15.0Hz)、 4.74 (d、IH,J=1
5.0Hz)。
7.23 (bs、5H) MS (ta/e) : 217 (M ):1m ノ
生miハIHNMHノ81.24ト1.27かホtzs
o:2゜にでていることからシス体とトランス体の比は
ほぼ80:20であると予想できる。
火】01且 プロピオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりに3−ヒドロキシ酪酸エチルエス
テルおよびN−ブチリデンベンジルアミンをそれぞれ使
用し、実施例1と同様にして、1−ベンジル−3−(1
−ヒドロキシエチル)−4−プロピル−2−アゼチジノ
ンを得た。
IR(neat) ’ 3450.2940.1720
.1455.1380゜1150、730.700cm
’ ’HNMR(CDCIs)   :   δ  0.9
2  (bt、3H,J=6.0Hz>。
2.28 (bs、IH)。
3.92〜4.30 (m、IH) 4、08 (d、 IHJ=15.0Hz)4、67(
d、 1B、 J=15.0Hz )7.28 (s、
5H) MS (m/e)  : 247 (M )”HNMR
(7) 82.83(トランス体)と3.56(シス体
)の積分比により、この生成物のトランス体とシス体の
比を1=1と決定した。
東A男ユ 実施例4においてプロピオン酸エチルエステルのかわり
にプロピオン酸t−ブチルエステルを使用したところ、
シス体とトランス体の比が変化した。
収率73χ シス体ニドランス体−58: 42 ’HNMHの82.75.2.85〜3.1O(トラン
ス体)δ3.21.3.47(シス体) の積分比により決定した比、なおHPLC(ヘキサン/
酢酸エチル= 2 / 1 、 Shim−Pack 
CLC−5IL O,15mX6.0φ)の面積比によ
り決定した比は57:43に直撚1 実施例1においてプロピオン酸エチルエステルのかわり
にプロピオン酸t−ブチルエステルを用いたところ、シ
ス体とトランス体の比が変化した。
収率?5! シス体ニドランス体−50:50 1、)l NMRの81.04と6’1.18の強度比
により決定した比、なおHPLC(条件は実施例7と同
様)の面積比により決定した比もso : soであっ
た。
艶曳」 プロとオン酸エチルエステルおよびN−ブチリデンフェ
ネチルアミンのかわりにイソ酪酸メチルエステルおよび
N−ベンジリデンブチルアミンを使用し、実施例1と同
様にして 1−ブチル−3,3−ジメチル−4−フェニル−2−ア
ゼチジノン)収率(72,9%)を得た。
IR(neat) : 2950.2860.1760
.1460.1400゜1360、730.700 c
m−” IHNMR(CDCIs) :80.76 (s、3H
)、0.90(bt。
3H,J=7.0Hz)、 1.0(1〜1.68 (
m、 4H)、 1.40(s、3H)、 2.88 
(dt、IH,J:12.0.7.0Hz>。
3.59 (dt、LH,J=12.0. 7.0Hz
>、  4.31 (s。
LH)、  7.05〜7.45 (m、5H)MS 
(m/e) : 231 (M”)上記参考例から明白
な様に、本願発明で使用されるジ低級アルキルアルミニ
ウムハライドは、α位に水素のないアルジミン誘導体か
らの2−アゼチジノン誘導体の製造にも適用できる。
特許出願人   秋 葉 欣 哉 和1)眞 藤沢薬品工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素、アリール(低級)アルキル基ま
    たはイミノ保護基、R^2は水素または低級アルキル基
    、R^3は水素、ハロゲンまたは有機基をそれぞれ意味
    する) で示されるアルジミン誘導体またはその塩類にジ低級ア
    ルキルアルミニウムハライドの存在下、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^4は水素または低級アルキル基、R^5は
    水素または適当な置換基で置換されていてもよい低級ア
    ルキル基、R^6はエステル残基をそれぞれ意味する) で示されるカルボン酸エステル化合物のエノラートを反
    応させて、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5
    はそれぞれ前と同じ意味) で示される2−アゼチジノン誘導体またはその塩類を得
    ることを特徴とする2−アゼチジノン誘導体の製造法。
JP63-33283A 1987-02-20 1988-02-16 2−アゼチジノン誘導体の製造法 Pending JPH0166A (ja)

Priority Applications (1)

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JP63-33283A JPH0166A (ja) 1987-02-20 1988-02-16 2−アゼチジノン誘導体の製造法

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