JPS61215367A - カルバペネム中間体の製造方法 - Google Patents
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-
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-
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- C07D477/02—Preparation
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-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカルバペネム(carbapenem)抗生物
質を製造する際に重要な中間体であり且つその成るもの
は公知である4−〔3−カルボキシ−3−ジアシー2−
オキソプロピル〕アゼチジンー2−オン類の新規な製造
方法に関する。
質を製造する際に重要な中間体であり且つその成るもの
は公知である4−〔3−カルボキシ−3−ジアシー2−
オキソプロピル〕アゼチジンー2−オン類の新規な製造
方法に関する。
4−アセトキシアゼチジノンがルイス(Lewis)酸
の存在下においてトリメチルシリルエノールエーテルと
反応して対応するC−C−結合した4−〔3−カルボキ
シ−3−ジアゾ−2−オキツブaピル〕アゼチジンー2
−オンを生成することは公知である〔ヨーロッパ特許出
!aE7&ozs号;シエイ・ティー・ブイナック(J
、 D、Buynak)等、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサエティ・ケミカル・コミュニケーショy (J
、 Chem、8oc、。
の存在下においてトリメチルシリルエノールエーテルと
反応して対応するC−C−結合した4−〔3−カルボキ
シ−3−ジアゾ−2−オキツブaピル〕アゼチジンー2
−オンを生成することは公知である〔ヨーロッパ特許出
!aE7&ozs号;シエイ・ティー・ブイナック(J
、 D、Buynak)等、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサエティ・ケミカル・コミュニケーショy (J
、 Chem、8oc、。
Chem、 Commun、 ) l 984.948
頁参照〕。
頁参照〕。
この方法は各々の場合に用いるトリメチルシリルエノー
ルエーテルの別個の且つ極めて手のこんだ製造を必要と
する。現在まで、その製造において有機金属基基、例え
ばn−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルア
ミドが用いられていたために、この製造方法は最も重要
な且つほとんど常に用いられるカルバペネムエステル保
護基、4−ニトロベンジルエステルと結合させることが
できない。加えて、現在まで、ジアゾエノールエーテル
の結合においてルイス酸としてハロゲン化亜鉛(1)の
みが用いられた。はとんどの場合に、このタイプの不均
一反応は高い反応温度及び長い反応時間を必要とし〔ヨ
ーロッパ特許出願筒78,026号; J、 D、Bu
ynak 、J、 Chern、 8oc、、Chem
。
ルエーテルの別個の且つ極めて手のこんだ製造を必要と
する。現在まで、その製造において有機金属基基、例え
ばn−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルア
ミドが用いられていたために、この製造方法は最も重要
な且つほとんど常に用いられるカルバペネムエステル保
護基、4−ニトロベンジルエステルと結合させることが
できない。加えて、現在まで、ジアゾエノールエーテル
の結合においてルイス酸としてハロゲン化亜鉛(1)の
みが用いられた。はとんどの場合に、このタイプの不均
一反応は高い反応温度及び長い反応時間を必要とし〔ヨ
ーロッパ特許出願筒78,026号; J、 D、Bu
ynak 、J、 Chern、 8oc、、Chem
。
Commun、 l 984.948;ピー・ジエイ・
ライダー(P、J、Re1der)等、テトラヘトCI
7−1/ターズ(Te t rahedron Le
t t、) 1982.379参照〕、これはよく知ら
れている如く、生成物が敏感であるために極めて不利な
効果をもたらす。
ライダー(P、J、Re1der)等、テトラヘトCI
7−1/ターズ(Te t rahedron Le
t t、) 1982.379参照〕、これはよく知ら
れている如く、生成物が敏感であるために極めて不利な
効果をもたらす。
加えて、反応を成功させるために、はとんどの場合にN
−保護基の前もって且つ別々の結合を必要とすることが
知られている〔エム・シオザキ(M、 5hiozak
i)等、ジャーナル・オプ・オーガニック・ケミストリ
ー(J、Org、 Chem、) 39.2399(1
983):M、5hiozaki等、テトラヘトo y
(Tetrahedron 40.1795(198
4)及びTetrahedron Lett、 198
4.2793;エイ・ジー・エム・パレット(A、G。
−保護基の前もって且つ別々の結合を必要とすることが
知られている〔エム・シオザキ(M、 5hiozak
i)等、ジャーナル・オプ・オーガニック・ケミストリ
ー(J、Org、 Chem、) 39.2399(1
983):M、5hiozaki等、テトラヘトo y
(Tetrahedron 40.1795(198
4)及びTetrahedron Lett、 198
4.2793;エイ・ジー・エム・パレット(A、G。
M、Barrett)、J、Org、 Chem、 4
9.1679(1984)参照〕。
9.1679(1984)参照〕。
また、4−アセトキシ−アゼチジノンとリチウム二ル−
トとの直接反応は乏しい収率を与え、そして同様に有機
金属化合物に対して敏感でないエステルを用いてのみ反
応を行い得ることが知られている〔ティー・カメタニ(
T、 Kame t a n i )等、ヘテロサイク
ルズ(Heterocycles) 14.1967
(1980) :T、Kametani等、J。
トとの直接反応は乏しい収率を与え、そして同様に有機
金属化合物に対して敏感でないエステルを用いてのみ反
応を行い得ることが知られている〔ティー・カメタニ(
T、 Kame t a n i )等、ヘテロサイク
ルズ(Heterocycles) 14.1967
(1980) :T、Kametani等、J。
Chem、 8oc、、パー*ン(Perkin)I
1981.2228参照〕。
1981.2228参照〕。
今回、一般式I
式中、
R1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし、
Btは水素を表わすか、随時置換されていてもよいアル
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いはN
HRlを表わし、ここで、R1は上記の意味を有し、 R3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいアル
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、ノ・ロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は=N−フェニルを表わすか、 −(”ORツ、−CO□R’、−CO−NRうR6、−
C8NR″R,8、−C(=NR1)NR,SR’
を表わすか、 −NR’R6、−NRI−COR’、−NR8−Co、
R,? 、−NR”−CR,5(=NR,6)、−NR
’−Co−NR’R6、−al−C8−NR5R’ 、
−NRI−C(=NR’)−asR”、−NR”−80
,B、?を表わすか、 −OR” 、 −0CORI 、−0CO−NR’R6
、−080,R丁。
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いはN
HRlを表わし、ここで、R1は上記の意味を有し、 R3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいアル
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、ノ・ロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は=N−フェニルを表わすか、 −(”ORツ、−CO□R’、−CO−NRうR6、−
C8NR″R,8、−C(=NR1)NR,SR’
を表わすか、 −NR’R6、−NRI−COR’、−NR8−Co、
R,? 、−NR”−CR,5(=NR,6)、−NR
’−Co−NR’R6、−al−C8−NR5R’ 、
−NRI−C(=NR’)−asR”、−NR”−80
,B、?を表わすか、 −OR” 、 −0CORI 、−0CO−NR’R6
、−080,R丁。
−08O3Rs%−0PO(OR5)OR6ヲ表ワスカ
、−8R’ 、 −8(0)nR’ (ここで、nは1
または2である〕、−8COR1,−80,OR’。
、−8R’ 、 −8(0)nR’ (ここで、nは1
または2である〕、−8COR1,−80,OR’。
−8o、NR’R’ 、 −8ON、−8CONHR”
を表わすか、或いは −PX(OR’)OR’ 、−PX(NR5R6) 、
、−PX(OR,l)NasR6を表わし、ここに各場
合において、 Rs及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを表わ
すか、随時置換されていてもよいアリールを表わすか、
随時置換されていてもよい複素環を表わすか、或いは随
時ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボキシ
ルに対する保護基を表わし、 R?はR3及びR6と同一の意味を有するが、但し、水
素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、セして R6はカルボキシルに対する保護基を表わすか、または
生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の4−〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジンー2−オン類は、ワン−ポット法(o
ne−pot process)において、一般式ぼ 式中、几1及びR3は上記の意味を有する、の4−アセ
トキシ−2−アゼチジノンを、不活性溶媒中で、塩基及
びシリル化剤の存在下において、一般式I 式中、R3及び几4は上記の意味を有する、の化合物と
反応させることによって得られることが見出された。
を表わすか、或いは −PX(OR’)OR’ 、−PX(NR5R6) 、
、−PX(OR,l)NasR6を表わし、ここに各場
合において、 Rs及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを表わ
すか、随時置換されていてもよいアリールを表わすか、
随時置換されていてもよい複素環を表わすか、或いは随
時ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボキシ
ルに対する保護基を表わし、 R?はR3及びR6と同一の意味を有するが、但し、水
素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、セして R6はカルボキシルに対する保護基を表わすか、または
生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の4−〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジンー2−オン類は、ワン−ポット法(o
ne−pot process)において、一般式ぼ 式中、几1及びR3は上記の意味を有する、の4−アセ
トキシ−2−アゼチジノンを、不活性溶媒中で、塩基及
びシリル化剤の存在下において、一般式I 式中、R3及び几4は上記の意味を有する、の化合物と
反応させることによって得られることが見出された。
式■の化合物が本発明における方法によって良好な収率
で得られることは極めて驚くべきことと云える。当該分
野の現状から、一般式Iの化合物が均一溶液において本
発明によるワン−ポット法によって製造し得ることは予
期されなかった。
で得られることは極めて驚くべきことと云える。当該分
野の現状から、一般式Iの化合物が均一溶液において本
発明によるワン−ポット法によって製造し得ることは予
期されなかった。
方法の簡単さ及び温和な条件は別として、本発明による
方法は加水分解に敏感な前駆物質の別々の手のこんだ製
造を必要としない利点を有している。加えて、また新規
方法は重要なニトロベンジル保護基の使用を可能にする
。同時に用いるシリル化剤が触媒として作用し、このた
めに他のルイス酸の使用を不必要とする。更に、また本
方法は、基Rsかへテロ原子を介して結合した置換基(
例えば−0CR,)である化合物■の製造に用いること
ができる。
方法は加水分解に敏感な前駆物質の別々の手のこんだ製
造を必要としない利点を有している。加えて、また新規
方法は重要なニトロベンジル保護基の使用を可能にする
。同時に用いるシリル化剤が触媒として作用し、このた
めに他のルイス酸の使用を不必要とする。更に、また本
方法は、基Rsかへテロ原子を介して結合した置換基(
例えば−0CR,)である化合物■の製造に用いること
ができる。
本発明における方法によって製造し得るアゼチジノン類
は一般に式(■)によって定義される。この式において
、 R1は好ましくは水素を表わすか、またはアミノ保護基
を表わし、 Btは好ましくは水素を表わすか、好ましくはフッ素、
塩素、臭素またはアジドを表わすか、好ましくはフェニ
ルを表わすか、好ましくはNHRI[ここで、R1は上
記の意味を有する〕を表わすか、好ましくは式 ここで、Xは酸素または硫黄を表わす、の基を表わすか
、或いは好ましくは炭素原子6個までを有し且つ随時フ
ッ素、塩素または基OR″で置換されていてもよい直鎖
状、分校鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを
表ねし、 R1は水素を表わすか、好ましくはトリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、 te
rt、−ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリルま
たはトリメチルシリルエトキシカルボニルを表わすか、
好ましくはベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2−
もしくは4−ニトロベンジル、2−4.t、<ハ4−ニ
トロベyジルオキシカルボニル、 tart。
は一般に式(■)によって定義される。この式において
、 R1は好ましくは水素を表わすか、またはアミノ保護基
を表わし、 Btは好ましくは水素を表わすか、好ましくはフッ素、
塩素、臭素またはアジドを表わすか、好ましくはフェニ
ルを表わすか、好ましくはNHRI[ここで、R1は上
記の意味を有する〕を表わすか、好ましくは式 ここで、Xは酸素または硫黄を表わす、の基を表わすか
、或いは好ましくは炭素原子6個までを有し且つ随時フ
ッ素、塩素または基OR″で置換されていてもよい直鎖
状、分校鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを
表ねし、 R1は水素を表わすか、好ましくはトリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、 te
rt、−ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリルま
たはトリメチルシリルエトキシカルボニルを表わすか、
好ましくはベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2−
もしくは4−ニトロベンジル、2−4.t、<ハ4−ニ
トロベyジルオキシカルボニル、 tart。
−ブチルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、
4−メトキシベンジル、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルを表ワすか、或いは好ましくはホルミル、アセ
チル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシカルボ
ニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエトキシ
メチル、(”2−()リメチルシリル)エトキシコメチ
ル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニル、
テトラヒドロピラニルまたはベンゾイルを表わし、 Bsは好ましくは水素を表わすか、好ましくは随時塩素
、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオ
ロメチルまたは(随時保護されていてもよい)ヒドロキ
シルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、好ま
しくはフッ素、塩素、臭素、シアノ、シアナトまたはア
ジドを表わすか、好ましくは各々随時メチル、アミノ(
随時保護されていてもよい)、フッ素、塩素、トリフル
オロメチルまたはヒドロキシルで置換されていてもよい
チェニル、フリル、イミダゾリル、チア/ジル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ
ペラジニルまたはピリミジルを表わすか、好ましくはS
−複素環(heterocyclyl )を表わし、該
複素環は各々随時メチル、アミノ、ヒドロキシルまたは
アセチルアミノで置換されていてもよいトリアゾリル、
テトラゾリル、チアジアゾリル、フリル、チェニル、ピ
リジルまたはピリミジルを意味を有するか、好ましくは
一〇〇R,!、−Co、R’、−CONHR’、7 ミ
ジ/ を表わスカ、好ましくは−NRIB”、ウレイド
、グアニジノを表わすか、好ましくは一0R−一〇〇〇
R’、080、R’、−0PO(ORI)、を表わすか
、好ましくは一8B’ 、 −8(0) rJL ’
(ここで、n=1または2〕、−8COR’ 、−8
CONHRI、−8=O,OR’、−80,NHR’、
−8ON を[わ−iか、或いは好ましくは−PO(O
R1)、、−PO(NR5R6) 、を表わし、ここに
各々の場合に、 R5及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル
または1個もしくはそれ以上のフッ素で置換されていて
もよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和
アルキルを表わすか、随時ニトロまたはメトキシで置換
されていてもよいフェニルを表わすか、フリル、チェニ
ルまたはピリジルを表わすか、或いはヒドロキシル、メ
ルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する保護基を
表わし、R7はR1及びR6と同一の意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、或いは好ましくは
炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル、フッ素、塩
素、フリル、チェニル、ピリジル、イミダゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリルまたは式 ノ基テ、−1たけ−Co、R’、−CONHR’、 シ
アノ、アミジノ、−NHR”、−NHCOCH,、グア
ニジノ、アシド、−0R5、−0COR5。
4−メトキシベンジル、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルを表ワすか、或いは好ましくはホルミル、アセ
チル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシカルボ
ニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエトキシ
メチル、(”2−()リメチルシリル)エトキシコメチ
ル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニル、
テトラヒドロピラニルまたはベンゾイルを表わし、 Bsは好ましくは水素を表わすか、好ましくは随時塩素
、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオ
ロメチルまたは(随時保護されていてもよい)ヒドロキ
シルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、好ま
しくはフッ素、塩素、臭素、シアノ、シアナトまたはア
ジドを表わすか、好ましくは各々随時メチル、アミノ(
随時保護されていてもよい)、フッ素、塩素、トリフル
オロメチルまたはヒドロキシルで置換されていてもよい
チェニル、フリル、イミダゾリル、チア/ジル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ
ペラジニルまたはピリミジルを表わすか、好ましくはS
−複素環(heterocyclyl )を表わし、該
複素環は各々随時メチル、アミノ、ヒドロキシルまたは
アセチルアミノで置換されていてもよいトリアゾリル、
テトラゾリル、チアジアゾリル、フリル、チェニル、ピ
リジルまたはピリミジルを意味を有するか、好ましくは
一〇〇R,!、−Co、R’、−CONHR’、7 ミ
ジ/ を表わスカ、好ましくは−NRIB”、ウレイド
、グアニジノを表わすか、好ましくは一0R−一〇〇〇
R’、080、R’、−0PO(ORI)、を表わすか
、好ましくは一8B’ 、 −8(0) rJL ’
(ここで、n=1または2〕、−8COR’ 、−8
CONHRI、−8=O,OR’、−80,NHR’、
−8ON を[わ−iか、或いは好ましくは−PO(O
R1)、、−PO(NR5R6) 、を表わし、ここに
各々の場合に、 R5及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル
または1個もしくはそれ以上のフッ素で置換されていて
もよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和
アルキルを表わすか、随時ニトロまたはメトキシで置換
されていてもよいフェニルを表わすか、フリル、チェニ
ルまたはピリジルを表わすか、或いはヒドロキシル、メ
ルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する保護基を
表わし、R7はR1及びR6と同一の意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、或いは好ましくは
炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル、フッ素、塩
素、フリル、チェニル、ピリジル、イミダゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリルまたは式 ノ基テ、−1たけ−Co、R’、−CONHR’、 シ
アノ、アミジノ、−NHR”、−NHCOCH,、グア
ニジノ、アシド、−0R5、−0COR5。
−080,R’ 、 −0PO(OR1)、 、 −
8RI 。
8RI 。
−80,R?、−8COR’ 、−80,OR’ 、
−8o、NHK’ 。
−8o、NHK’ 。
−PO(ORm)、 、−PO(NR’ R’) !
CCCテ、R6、R6及びR?は上記の意味を有する〕
で置換されていてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の
飽和または不飽和アルキルを表わし、そして R4は好ましくはカルボキシル保護基または生体内で開
裂され得るエステル基を表わす。
CCCテ、R6、R6及びR?は上記の意味を有する〕
で置換されていてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の
飽和または不飽和アルキルを表わし、そして R4は好ましくはカルボキシル保護基または生体内で開
裂され得るエステル基を表わす。
一般式Iの化合物を製造する際の本発明によるワン−ポ
ット法は数種の個々の反応工程からなる。
ット法は数種の個々の反応工程からなる。
用いる出発物質が、
a ) (3R* 4 B ) 4−アセトキシ−
3−(1(m)−l−tert、−プチルジlfk’/
I)kオ命ジエチル〕アゼチジン−2−オン(IIにお
いて几!=H)及びアリル2−ジアゾ−3−オキソ−ペ
ンタエートまたは b) (3R,4R)−4−アセトキシ−3−CI
(R) −1−tert、−プチルジl f k ’/
IJ kオキシエチル)−1−(4−メトキシフェニ
ル)アゼチジン−2−オン(IにおいてR,’=H)及
び4−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−オキソブタノエ
ート、 である場合、 この反応過程は次のダイアグラムによって表わすことが
できる: 一般式■、itたは■の化合物において、RtlkLa
、 R1、Ba及びR7が随時置換されていてもよい
アルキルを表わす場合、該基は炭素原子10個まで、好
ましくは6個までを有する直鎖状、分校鎖状または環式
の飽和または不飽和アルキルを表わす。これに関する適
当な置換基は次のものである: a) メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
、ニトロ、シアノ、または各々随時保護されていてもよ
いヒドロキシル、メルカプトもしくはアミノ、ジメチル
アミノ、カルバモイル、アミジノ、スルホ、スルファモ
イルまたはハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは
臭素によって数個、好ましくは2個まで置換されていて
もよいフェニル、 b) 0、SまたはNよ)なる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6員の随時−緒に融合していてもよい複素環、好ま
しくはチェニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、インチアゾリル、チアゾリル、オキサシリル
、イソキサゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジ
アゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダ
ジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、キノキ
サリル、キナゾリル、プリニル、プでリジル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チ
オモルホリニル或いハ式の基、該複素環はまたフェニル
に対してすでに示したと同じ置換基をもつことができる
、C) ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素または臭素
、 d ) −COR9、−Co、R9、−Co−NR’
R”、−C(、、、NRIO)NRjRIG、 −〇N
、e) −NR+’几10.−NR”−CoR10,
−N(COR”)(Con、1G)−NR”−CO,R
11、−NRIO−CR9(=NRIO)、−NRIO
−CO−NRIOR’、−NR0−C(=NRIO)−
N几9几10−NR1180,R1+ 、−N8、 f ) −0R9,−OC’ORO、−0CO−NR
IOR9、−0SO□R+1、−080.R9、−0P
O(OR9)OR”、g ) −8R’ 、−8(0
)nR” [: nは1または2である]、−8CO
RI+、−8o、OR” 、−8o、NR,10RIG
或いは h) −PX(ORIO)OR’、−PX(NR11
80)、、−PX(OTLO)NR+OR@ 。
3−(1(m)−l−tert、−プチルジlfk’/
I)kオ命ジエチル〕アゼチジン−2−オン(IIにお
いて几!=H)及びアリル2−ジアゾ−3−オキソ−ペ
ンタエートまたは b) (3R,4R)−4−アセトキシ−3−CI
(R) −1−tert、−プチルジl f k ’/
IJ kオキシエチル)−1−(4−メトキシフェニ
ル)アゼチジン−2−オン(IにおいてR,’=H)及
び4−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−オキソブタノエ
ート、 である場合、 この反応過程は次のダイアグラムによって表わすことが
できる: 一般式■、itたは■の化合物において、RtlkLa
、 R1、Ba及びR7が随時置換されていてもよい
アルキルを表わす場合、該基は炭素原子10個まで、好
ましくは6個までを有する直鎖状、分校鎖状または環式
の飽和または不飽和アルキルを表わす。これに関する適
当な置換基は次のものである: a) メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
、ニトロ、シアノ、または各々随時保護されていてもよ
いヒドロキシル、メルカプトもしくはアミノ、ジメチル
アミノ、カルバモイル、アミジノ、スルホ、スルファモ
イルまたはハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは
臭素によって数個、好ましくは2個まで置換されていて
もよいフェニル、 b) 0、SまたはNよ)なる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6員の随時−緒に融合していてもよい複素環、好ま
しくはチェニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、インチアゾリル、チアゾリル、オキサシリル
、イソキサゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジ
アゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダ
ジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、キノキ
サリル、キナゾリル、プリニル、プでリジル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チ
オモルホリニル或いハ式の基、該複素環はまたフェニル
に対してすでに示したと同じ置換基をもつことができる
、C) ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素または臭素
、 d ) −COR9、−Co、R9、−Co−NR’
R”、−C(、、、NRIO)NRjRIG、 −〇N
、e) −NR+’几10.−NR”−CoR10,
−N(COR”)(Con、1G)−NR”−CO,R
11、−NRIO−CR9(=NRIO)、−NRIO
−CO−NRIOR’、−NR0−C(=NRIO)−
N几9几10−NR1180,R1+ 、−N8、 f ) −0R9,−OC’ORO、−0CO−NR
IOR9、−0SO□R+1、−080.R9、−0P
O(OR9)OR”、g ) −8R’ 、−8(0
)nR” [: nは1または2である]、−8CO
RI+、−8o、OR” 、−8o、NR,10RIG
或いは h) −PX(ORIO)OR’、−PX(NR11
80)、、−PX(OTLO)NR+OR@ 。
ここで、各々の場合に、
R・及びR1’は同一もしくは相異なるものであり、水
素を表わすか、炭素原子10個まで、好ましくは6個ま
でを有する直鎖状、分校鎖状または環式の飽和または不
飽和アルキルを表わすか、フェニルまたはベンジルを表
わすか、複素環または複素環−メチルを表わし、該複素
環ばb)に示した意味を有するか、或いは随時ヒドロキ
シル、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する
保護基を表わし、R”はRo及びRloと同じ意味する
が、但し、水素または保護基を表わさず、そして Xは酸素または硫黄を表わす。
素を表わすか、炭素原子10個まで、好ましくは6個ま
でを有する直鎖状、分校鎖状または環式の飽和または不
飽和アルキルを表わすか、フェニルまたはベンジルを表
わすか、複素環または複素環−メチルを表わし、該複素
環ばb)に示した意味を有するか、或いは随時ヒドロキ
シル、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する
保護基を表わし、R”はRo及びRloと同じ意味する
が、但し、水素または保護基を表わさず、そして Xは酸素または硫黄を表わす。
R2、几3、几6、R6及びR7が随時置換されていて
もよいアリールを表わす場合、該アIJ −ルは好まし
くは01〜C4−アルキル(好ましくはメチルまたはエ
チル)、01〜C6−アルコキシ(好ましくはメトキシ
)、01〜C6−アルキルチオ(好ましくはメチルチオ
)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリ
フルオロアチルチオ、ハロゲン(好ましくはフッ素、塩
素または臭素)、シアノ、ニトロ、アジド、ジメチルア
ミノ、アミノ、ヒドロキシル、メルカプト(各々の場合
に随時保護されていてもよい)、スルホ、スルファモイ
ル、アセトキシまたはカルバモイルで好ましくは一また
は二置換、そして場合によっては三置換されていてもよ
いフェニルを表わす。
もよいアリールを表わす場合、該アIJ −ルは好まし
くは01〜C4−アルキル(好ましくはメチルまたはエ
チル)、01〜C6−アルコキシ(好ましくはメトキシ
)、01〜C6−アルキルチオ(好ましくはメチルチオ
)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリ
フルオロアチルチオ、ハロゲン(好ましくはフッ素、塩
素または臭素)、シアノ、ニトロ、アジド、ジメチルア
ミノ、アミノ、ヒドロキシル、メルカプト(各々の場合
に随時保護されていてもよい)、スルホ、スルファモイ
ル、アセトキシまたはカルバモイルで好ましくは一また
は二置換、そして場合によっては三置換されていてもよ
いフェニルを表わす。
R1、R’ 、15 、R’ 及びR’ ;61M時置
換されていてもよい複素環を表わす場合、このものは好
ましくは0、S及びNよシなる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6−員の随時−緒に融合していてもよいヘテロサイ
クリルを表わし、殊に好ましくはチェニル、フリル、ピ
ロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
チアゾリル、ヘテトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリ
ル、キノリル、イソキノリル、キノキサリル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ベンゾチアゾリル
、ベンズイミダゾリル、プリニル、プテリジニル、モル
ホリニル、チオモルホリニル或いは式 の基を表わし、該複素環の置換基はアリールに対してす
でに示したものであり、そしてXは硫黄または酸素を表
わす。
換されていてもよい複素環を表わす場合、このものは好
ましくは0、S及びNよシなる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6−員の随時−緒に融合していてもよいヘテロサイ
クリルを表わし、殊に好ましくはチェニル、フリル、ピ
ロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
チアゾリル、ヘテトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリ
ル、キノリル、イソキノリル、キノキサリル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ベンゾチアゾリル
、ベンズイミダゾリル、プリニル、プテリジニル、モル
ホリニル、チオモルホリニル或いは式 の基を表わし、該複素環の置換基はアリールに対してす
でに示したものであり、そしてXは硫黄または酸素を表
わす。
R” 、R” 、n’ 及びR7<おいて、/N Oケ
アは好ましくはフッ素塩素または臭素を表わす。
アは好ましくはフッ素塩素または臭素を表わす。
几1がアミノ保護基である場合、該基はβ−ラクタム化
学においては普通のものである。殊に好ましいものとし
て挙げ得る例はビニル、アリル、tart。−フトキシ
カルボニル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2
−ニトロベンジルモジ<は4−ニトロベンジル、2−ニ
トロベンジルオキシカルボニルモt、<ハ4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシフェニル、ホル
ミル、ベンゾイル、アセチル、クロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチル、メチルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニル、トリメチルシリル
、トリエチルシリルもしくはトリフェニルシリル、te
rt、−ブチルジメチルシリル、2.4−ジメトキシベ
ンジル、2,4−ジメトキシオキシベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシメチルオ
キシフェニル、ビス(4−メトキシフェニル)メチル、
tert。
学においては普通のものである。殊に好ましいものとし
て挙げ得る例はビニル、アリル、tart。−フトキシ
カルボニル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2
−ニトロベンジルモジ<は4−ニトロベンジル、2−ニ
トロベンジルオキシカルボニルモt、<ハ4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシフェニル、ホル
ミル、ベンゾイル、アセチル、クロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチル、メチルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニル、トリメチルシリル
、トリエチルシリルもしくはトリフェニルシリル、te
rt、−ブチルジメチルシリル、2.4−ジメトキシベ
ンジル、2,4−ジメトキシオキシベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシメチルオ
キシフェニル、ビス(4−メトキシフェニル)メチル、
tert。
−ブトキシカルボニルメチル、アリルオキシカルボニル
メチル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシ
エトキシエチル、(2−()リメチルシリル)エトキシ
コメチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボ
ニルまたはテトラヒドロピラニルである。
メチル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシ
エトキシエチル、(2−()リメチルシリル)エトキシ
コメチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボ
ニルまたはテトラヒドロピラニルである。
また、基R1、R3及び几6〜R11におけるアミノ保
護基並びにヒドロキシル及びメルカプトの保護基なる用
語は同様な意味を有するOR4及びBs 、 Ba 、
Be及びR+1’がカルボキシル保護基を表わす場合
、これらのものはβ−ラクタム化学にbいては普通の保
護基を表わす。容重に除去される基は好ましいものとし
て次のものを挙げることができる:例えばメチル、エチ
ル、tert、−ブチル、デクル、2−クロロエチル、
2゜2.2−トリクロロエチル、シアノエチル、ジフェ
ニルメチル及びトリフェニルメチル、アセトキシメチル
、アリル、ベンジル、4−メトキシ7エ二ル、4−ニト
ロベンジル、2−ニトロベンジル、2.4−ジメトキシ
ベンジル、トリメチルシリルエチル、ジメチル−ter
t、−ブチルシリルエチル、トリメチルシリル、ジメチ
ル−t 6 r t、−ブチルシリル、アセトニル、1
−フェノキシエチルまたは2−メチル−2−プロペニル
。
護基並びにヒドロキシル及びメルカプトの保護基なる用
語は同様な意味を有するOR4及びBs 、 Ba 、
Be及びR+1’がカルボキシル保護基を表わす場合
、これらのものはβ−ラクタム化学にbいては普通の保
護基を表わす。容重に除去される基は好ましいものとし
て次のものを挙げることができる:例えばメチル、エチ
ル、tert、−ブチル、デクル、2−クロロエチル、
2゜2.2−トリクロロエチル、シアノエチル、ジフェ
ニルメチル及びトリフェニルメチル、アセトキシメチル
、アリル、ベンジル、4−メトキシ7エ二ル、4−ニト
ロベンジル、2−ニトロベンジル、2.4−ジメトキシ
ベンジル、トリメチルシリルエチル、ジメチル−ter
t、−ブチルシリルエチル、トリメチルシリル、ジメチ
ル−t 6 r t、−ブチルシリル、アセトニル、1
−フェノキシエチルまたは2−メチル−2−プロペニル
。
基R” 、R’ 、R’ 、R’ 及びR” Kおf
fるカルボキシル保護基なる用語は同様な意味を有する
。
fるカルボキシル保護基なる用語は同様な意味を有する
。
R′が生体内において容易に開裂され得るエステル基を
表わす場合、これは生体内において容易に加水分解され
て遊離カルボキシル基(R,4=H)を生成する製剤上
許容し得るエステル基を意味する。
表わす場合、これは生体内において容易に加水分解され
て遊離カルボキシル基(R,4=H)を生成する製剤上
許容し得るエステル基を意味する。
このタイプのエステル基R′はペニシリンノ分野におい
てはよく知られている。はとんどの場合に1これらの基
はβ−ラクタム化合物の吸収特性を改善する。加えて、
R4の性質は、式(I)の化合物に製剤上許容し得る特
性を与え、そして生体内で開裂した際、製薬学的に許容
し得るフラグメントを放出するようなものであるべきで
ある。このタイプの基R6はドイツ国特許出願公開明細
書第2.517,316号に見出すことができる。好ま
しhエステル基R6は次の式の基である:式中、 Bat及びR13は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、フェニルを表わすか、またはC,、C
,−アルキル、好ましくはメチルを表わし、 R+”及びR+1’は同一もしくは相異なるものであ夛
、水素を表わすか、または01〜C4−アルキル、好ま
しくはメチルを表わし、そしてRI6はC8〜C6−ア
ルキル、好ましくはC1〜C4−アルキルを表わす。
てはよく知られている。はとんどの場合に1これらの基
はβ−ラクタム化合物の吸収特性を改善する。加えて、
R4の性質は、式(I)の化合物に製剤上許容し得る特
性を与え、そして生体内で開裂した際、製薬学的に許容
し得るフラグメントを放出するようなものであるべきで
ある。このタイプの基R6はドイツ国特許出願公開明細
書第2.517,316号に見出すことができる。好ま
しhエステル基R6は次の式の基である:式中、 Bat及びR13は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、フェニルを表わすか、またはC,、C
,−アルキル、好ましくはメチルを表わし、 R+”及びR+1’は同一もしくは相異なるものであ夛
、水素を表わすか、または01〜C4−アルキル、好ま
しくはメチルを表わし、そしてRI6はC8〜C6−ア
ルキル、好ましくはC1〜C4−アルキルを表わす。
一般式■の化合物の成るものはすでに公知のものである
が、しかし異なる方法によって製造されていた〔ヨーロ
ッパ特許出願第78.026号;J。
が、しかし異なる方法によって製造されていた〔ヨーロ
ッパ特許出願第78.026号;J。
0、 Buynak等、J、Chem、 Soc、 、
Chem。
Chem。
Commun 、 1984.948; 米国特許第4
.444゜685号及び同第4.400.323号;デ
ィー・エイチ・チー(D、 Hoshth)等、Het
erocycles21.29(1984)参照〕。
.444゜685号及び同第4.400.323号;デ
ィー・エイチ・チー(D、 Hoshth)等、Het
erocycles21.29(1984)参照〕。
新規な、かくして同様に本発明に関する化合物は、
R1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし、
R1は水素を表わすか、ハロゲンを表わすか、アジドま
たはフェニルを表わす力)、NHR,1〔ここで、RI
は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ここで、Xは硫黄または酸素を表わす、の基を表わすか
、或いは随時フッ素、塩素または基0−R” で置換さ
れていてもよい直鎖状、分校鎖状または環式の飽和また
は不飽和アルキル(Ceまで)を表わし、 Bsは水素を表わすか、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、トリイソプロピルシリル、tert、−ブチル
ジメチルシリル、 トリフェニルシリル、トリメチルシ
リルエトキγカルボニルヲ表わすか、ベンジル、ベンジ
ルオキシカルボニル、2−41.<は4−ニトロベンジ
ル、2−41.<は4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、tert、−ブチルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルヲ表ワす力)、マたはホルミル
、アセチル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシ
カルボニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエ
トキシメチル、(2−()リメチルシリル)エトキシコ
メチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニ
ル、テトラヒドロピラニルもしくハベンゾイルを表わし
、 几1は随時塩素、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、トリフルオロメチルまたは(#L時保護されていて
もよい)ヒドロキシで置換されていてもよいアリール(
CS、C1゜)を表わすか、ハロゲン、シアノ、アジド
、シアナト、トリフルオロメチルまたはニトロを表ワス
カ、−CORI8.−CONB、”R1” t タハ−
C8NR11SR119を表わすか、アリルオキシカル
ボニルtたは4−ニトロベンジルオキシカルボニルを表
わすか、 −N319R+Im、ウレイド、グアニジノ
、アミジノ、−NRIaSO,R”Oを表ワスカ、−0
801R1O、−080,R′8 、 t タハ−0P
O(ORI@)OR,18を表わすか、 5RII。
たはフェニルを表わす力)、NHR,1〔ここで、RI
は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ここで、Xは硫黄または酸素を表わす、の基を表わすか
、或いは随時フッ素、塩素または基0−R” で置換さ
れていてもよい直鎖状、分校鎖状または環式の飽和また
は不飽和アルキル(Ceまで)を表わし、 Bsは水素を表わすか、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、トリイソプロピルシリル、tert、−ブチル
ジメチルシリル、 トリフェニルシリル、トリメチルシ
リルエトキγカルボニルヲ表わすか、ベンジル、ベンジ
ルオキシカルボニル、2−41.<は4−ニトロベンジ
ル、2−41.<は4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、tert、−ブチルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルヲ表ワす力)、マたはホルミル
、アセチル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシ
カルボニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエ
トキシメチル、(2−()リメチルシリル)エトキシコ
メチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニ
ル、テトラヒドロピラニルもしくハベンゾイルを表わし
、 几1は随時塩素、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、トリフルオロメチルまたは(#L時保護されていて
もよい)ヒドロキシで置換されていてもよいアリール(
CS、C1゜)を表わすか、ハロゲン、シアノ、アジド
、シアナト、トリフルオロメチルまたはニトロを表ワス
カ、−CORI8.−CONB、”R1” t タハ−
C8NR11SR119を表わすか、アリルオキシカル
ボニルtたは4−ニトロベンジルオキシカルボニルを表
わすか、 −N319R+Im、ウレイド、グアニジノ
、アミジノ、−NRIaSO,R”Oを表ワスカ、−0
801R1O、−080,R′8 、 t タハ−0P
O(ORI@)OR,18を表わすか、 5RII。
−8(0)nR10(ここで、n = 1または2〕、
−8COR”、−8CONHR”、 SO宜01’L
”−−8O,NRI’Rぎ+s、−8CNを表わすか、
−S−複素環を表わし、ここで該複素環は各々随時メチ
ル、アミノ、ヒドロキシルもしくはアセチルアミノで置
換されていてもよいトリアゾリル、テトラゾリルもしく
はチアジアゾリル、またはフリル、チェニル、ピリジル
もしくはヒリミシルを意味シ、−PO(OR+”)OR
1mを表わすか、或いは R′′及びR”は同一もしくは相異なるものであり、水
素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル(C6ま
で)を表わすか、フェニルまたはベンジル(随時ニトロ
、メチルまたはメトキシで置換されていてもよいフェニ
ル)を表わすか、或いはヒドロキシル、メルカプトま九
はアミノに対する保護基を表わし、そして R”はR′18及びI’LI”と同じ意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、 R′は水素を表わすか、メチル、エチル、tcrt、−
7”チル、テシル、 2−クロロエチル、2,2.2−
)IJクロロエチル、シアノエチル、ジフェニルメチル
もしくはトリフェニルメチル、アセトキシメチル、アリ
ル、ベンジル、4−メトキシベンジル、2.4−ジメト
キシベンジル、tart、−ブチルジメチルシリル、1
−フェノキシエチル、2−メチル−2−プロペニル、4
−4)ロベンジル、2−ニトロヘンシル、トリメチルシ
リルエチルまたはジメチル−tert、−ブチルシリル
エチルを表わすか、或いは式 %式%) 式■の化合物である。
−8COR”、−8CONHR”、 SO宜01’L
”−−8O,NRI’Rぎ+s、−8CNを表わすか、
−S−複素環を表わし、ここで該複素環は各々随時メチ
ル、アミノ、ヒドロキシルもしくはアセチルアミノで置
換されていてもよいトリアゾリル、テトラゾリルもしく
はチアジアゾリル、またはフリル、チェニル、ピリジル
もしくはヒリミシルを意味シ、−PO(OR+”)OR
1mを表わすか、或いは R′′及びR”は同一もしくは相異なるものであり、水
素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル(C6ま
で)を表わすか、フェニルまたはベンジル(随時ニトロ
、メチルまたはメトキシで置換されていてもよいフェニ
ル)を表わすか、或いはヒドロキシル、メルカプトま九
はアミノに対する保護基を表わし、そして R”はR′18及びI’LI”と同じ意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、 R′は水素を表わすか、メチル、エチル、tcrt、−
7”チル、テシル、 2−クロロエチル、2,2.2−
)IJクロロエチル、シアノエチル、ジフェニルメチル
もしくはトリフェニルメチル、アセトキシメチル、アリ
ル、ベンジル、4−メトキシベンジル、2.4−ジメト
キシベンジル、tart、−ブチルジメチルシリル、1
−フェノキシエチル、2−メチル−2−プロペニル、4
−4)ロベンジル、2−ニトロヘンシル、トリメチルシ
リルエチルまたはジメチル−tert、−ブチルシリル
エチルを表わすか、或いは式 %式%) 式■の化合物である。
式■の好ましい新規化合物は、
1(、lが水素またはアミノ保護基を表わし、R1が水
素、塩素、臭素、アジドを表わすか、NHRI(ここで
、R′は上記の意味を有する〕の基を表わすか、メチル
、エチル、イソプロピル、t e r t、−ブチルを
表わすか、或いは−CH−OR1丁、−C((”:H,
)、−OR+?またはCH3 CH,を表わし、 一〇−(C,Hll) −OR1丁 R+1?は水素を表わすか、3.4−ジメトキシフェニ
ルを表わすか、トリメチルシリルを表わすか、トリメチ
ルシリル、 tert、−ブチルジメチルシリルを表
わすか、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、tcrt、−ブトキシカルボニル
、アリルオキシカルボニルを表わすか、或いはホルミル
またはアセチルを表わし、 R″がフェニル、3.4−ジメトキシフェニルを表わす
か、塩素、臭素、シアノ、シアナト、アジドまたはCF
3を表わすか、−COR,I8、−CONRI・R+I
sを表わすか、アリルオキシカルボニルtたは4−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを表わすか、−NHRI8
.ウレイド、グアニジノ、アミジノ、−NH8O,R1
0を表ワスカ、−0S O、R”Oi タハ−0PO(
OR,l ” )OR+ ”ヲ表わスカ、−8−R18
,−8CORI8、−80.OR”、−8otNHRI
8.−8ON、 −8o、R,” −$ タけ一8CO
NH,を表わすか、−8−ピリジル、−3−ピリミジル
、−8−メチルテトラゾリル、−8−チアジアゾリル、
2−アミノチアジアゾリルを表わすか、或いは基 を表わし、 R,I 8及びR+1”は同一もしくは相異なるもので
あり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル
(C4iで)を表わすか、フェニル、ヘンシルtた1d
4−メチルフェニルヲ表ワスか、或いはヒドロキシル、
メルカプトまたはアミンに対する保護基を表わし、セし
てR”はR+”及びR+1”と同一の意味を有するが、
但し水素または保護基を表わさず、 R,4が水素を表わすか、メチル、エチル、tart。
素、塩素、臭素、アジドを表わすか、NHRI(ここで
、R′は上記の意味を有する〕の基を表わすか、メチル
、エチル、イソプロピル、t e r t、−ブチルを
表わすか、或いは−CH−OR1丁、−C((”:H,
)、−OR+?またはCH3 CH,を表わし、 一〇−(C,Hll) −OR1丁 R+1?は水素を表わすか、3.4−ジメトキシフェニ
ルを表わすか、トリメチルシリルを表わすか、トリメチ
ルシリル、 tert、−ブチルジメチルシリルを表
わすか、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、tcrt、−ブトキシカルボニル
、アリルオキシカルボニルを表わすか、或いはホルミル
またはアセチルを表わし、 R″がフェニル、3.4−ジメトキシフェニルを表わす
か、塩素、臭素、シアノ、シアナト、アジドまたはCF
3を表わすか、−COR,I8、−CONRI・R+I
sを表わすか、アリルオキシカルボニルtたは4−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを表わすか、−NHRI8
.ウレイド、グアニジノ、アミジノ、−NH8O,R1
0を表ワスカ、−0S O、R”Oi タハ−0PO(
OR,l ” )OR+ ”ヲ表わスカ、−8−R18
,−8CORI8、−80.OR”、−8otNHRI
8.−8ON、 −8o、R,” −$ タけ一8CO
NH,を表わすか、−8−ピリジル、−3−ピリミジル
、−8−メチルテトラゾリル、−8−チアジアゾリル、
2−アミノチアジアゾリルを表わすか、或いは基 を表わし、 R,I 8及びR+1”は同一もしくは相異なるもので
あり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル
(C4iで)を表わすか、フェニル、ヘンシルtた1d
4−メチルフェニルヲ表ワスか、或いはヒドロキシル、
メルカプトまたはアミンに対する保護基を表わし、セし
てR”はR+”及びR+1”と同一の意味を有するが、
但し水素または保護基を表わさず、 R,4が水素を表わすか、メチル、エチル、tart。
−ブチル、2,2.2−)リクロロエチル、71Jル、
アセトニル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジル
、4−メトキシベンシル、ベンジルまたはトリメチルシ
リルエチルを表わすか、或いは式 または−CH,0COC(OH8)。
アセトニル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジル
、4−メトキシベンシル、ベンジルまたはトリメチルシ
リルエチルを表わすか、或いは式 または−CH,0COC(OH8)。
の基を表わす、
化合物である。
アミノ保護基またはヒドロキシルもシくハメルカブトに
対する保護基なる用語はすでに上に示した意味を有する
。
対する保護基なる用語はすでに上に示した意味を有する
。
= エ エ エ エ エ エ エ工
工 = 工 = エ エ エ エ%%b
’1kkkbb% = 、 1.1Q 「 工 ■ :Cエ エ 工 工 === エ エ エ 工
工 工0: 工 閃 工 = エ エ エ エ
エ エ エ一般式冒の化合物は公知のものであ
るか、或いは文献から公知の方法によって製造すること
ができる〔ドイツ国特許出顕公開明細書19 04 4
01号;エイ・オイダ(A、0ida)等、ケム・ファ
ームーブA/ (Chem、 Pharm、 Bu I
1.29.2899(1981):エム・シオザキ(
M、 8hiozaki)等、Tetrahedron
39.2399(1983):M、 5hiozak
i等、Tetrahedron 40.1795(19
84)、ダブリュー・ジエイ・リーンザ(W、J、 L
eanza)等、Tetrahedron 39.2
505(1983)、ティー・カメタニ(T、Ka−m
ejani)等、J、Chem、8oc、Perkin
11981.2228ニジエイ・エル・ロバート(
J。
工 = 工 = エ エ エ エ%%b
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工 工0: 工 閃 工 = エ エ エ エ
エ エ エ一般式冒の化合物は公知のものであ
るか、或いは文献から公知の方法によって製造すること
ができる〔ドイツ国特許出顕公開明細書19 04 4
01号;エイ・オイダ(A、0ida)等、ケム・ファ
ームーブA/ (Chem、 Pharm、 Bu I
1.29.2899(1981):エム・シオザキ(
M、 8hiozaki)等、Tetrahedron
39.2399(1983):M、 5hiozak
i等、Tetrahedron 40.1795(19
84)、ダブリュー・ジエイ・リーンザ(W、J、 L
eanza)等、Tetrahedron 39.2
505(1983)、ティー・カメタニ(T、Ka−m
ejani)等、J、Chem、8oc、Perkin
11981.2228ニジエイ・エル・ロバート(
J。
L、Roberts)等、シンセテイク・コミュニケー
ショ7 (Synthet ic Commu、n1c
at 1ons) 13.797(1983)参照〕。
ショ7 (Synthet ic Commu、n1c
at 1ons) 13.797(1983)参照〕。
一般式Iの化合物は公知のものであるか、或いは文献か
ら公知の方法によって製造することができる〔ニス・シ
ュリア(S、Julia)等、コンブト・レント・アカ
ド・サイ(Compt、 Rend、 Acad。
ら公知の方法によって製造することができる〔ニス・シ
ュリア(S、Julia)等、コンブト・レント・アカ
ド・サイ(Compt、 Rend、 Acad。
Sc i、)、パリx(Paris)、セクタ:1y(
8ec−tion) C246,1890(1967)
、ヨーIff”7ハ特許出1i第7 &026号、ヨー
ロッパ特許第52.299号、アール・エム・ケロッグ
(R,、M。
8ec−tion) C246,1890(1967)
、ヨーIff”7ハ特許出1i第7 &026号、ヨー
ロッパ特許第52.299号、アール・エム・ケロッグ
(R,、M。
Kellogg)等、J、C0S、 Chem、 Co
mm、(1977)932参照〕。
mm、(1977)932参照〕。
不活性有機溶媒が希釈剤として適当である。これらの溶
媒には好ましくはエーテル類、例えばジメトキシエタン
、ジグリム、トリグリム、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテルまたはテトラブチルメチルエー
テル、ハロゲン化すれた炭化水素、例えばジクロロメタ
ン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,1.
2−)ジクロロエタン、ジクロロエタンまたはトリクロ
ロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸
エチル、トルエンまたはシクロヘキサンが含まれる。
媒には好ましくはエーテル類、例えばジメトキシエタン
、ジグリム、トリグリム、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテルまたはテトラブチルメチルエー
テル、ハロゲン化すれた炭化水素、例えばジクロロメタ
ン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,1.
2−)ジクロロエタン、ジクロロエタンまたはトリクロ
ロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸
エチル、トルエンまたはシクロヘキサンが含まれる。
本反応は一般に一30℃乃至+50℃の温度、好ましく
は室温で行われる。塩基として全ての第三アミンが適当
である。好ましいものとして挙げ得る塩基は次のもので
あるニトリエチルアミン、トリプロピルアミンもしくは
トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルモルホリン、N
−メチルピペリジン、】、5−ジアザビシクロ〔5,4
,0)ウンデク−5−エン(DBU)または1,5−ジ
アザビシクロ(4,3,0)−3−エン(DBN)。
は室温で行われる。塩基として全ての第三アミンが適当
である。好ましいものとして挙げ得る塩基は次のもので
あるニトリエチルアミン、トリプロピルアミンもしくは
トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルモルホリン、N
−メチルピペリジン、】、5−ジアザビシクロ〔5,4
,0)ウンデク−5−エン(DBU)または1,5−ジ
アザビシクロ(4,3,0)−3−エン(DBN)。
またルイス酸として作用し得る全てのシリル化剤がシリ
ル化剤及び触媒として適当である。これらのものには好
ましくは次のものが含まれるニトリアルキルシリルパー
フルオロアルカンスルホネート、トリアルキルシリルア
ルカンヌルホネート、トリアルキルシリルアリールスル
ホネ−)、トリアルキルシリルパーフルオロアルカノエ
ート、トリアルキルシリルアルカノエート、トリアルキ
ルシリルハライド、トリアルキルシリルバークロレ−)
、)lJフルキルシリルジフルオロホスフェート、トリ
アルキルシリルジクロロホスフェート、トリアルキルシ
リルフルオロスルホネート、N。
ル化剤及び触媒として適当である。これらのものには好
ましくは次のものが含まれるニトリアルキルシリルパー
フルオロアルカンスルホネート、トリアルキルシリルア
ルカンヌルホネート、トリアルキルシリルアリールスル
ホネ−)、トリアルキルシリルパーフルオロアルカノエ
ート、トリアルキルシリルアルカノエート、トリアルキ
ルシリルハライド、トリアルキルシリルバークロレ−)
、)lJフルキルシリルジフルオロホスフェート、トリ
アルキルシリルジクロロホスフェート、トリアルキルシ
リルフルオロスルホネート、N。
0−ビス(トリアルキルシリル)アセトアミド及びトリ
アルキルシリルシアナイド。殊に適当なものは次のもの
であるニトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネ
ート、トリメチルシリルノナフルオロブタンスルホネー
ト、トリメチルシリルトリフルオロアセテルト、トリメ
チルシリルバークロレート、トリメチルシリルブロマイ
ド、トリメチルシリルジフルオロホスフェート、トメチ
ルシリルフルオロスルホネート及びN、O−ビス(トリ
メチルシリル)トリフルオロアセトアミド。
アルキルシリルシアナイド。殊に適当なものは次のもの
であるニトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネ
ート、トリメチルシリルノナフルオロブタンスルホネー
ト、トリメチルシリルトリフルオロアセテルト、トリメ
チルシリルバークロレート、トリメチルシリルブロマイ
ド、トリメチルシリルジフルオロホスフェート、トメチ
ルシリルフルオロスルホネート及びN、O−ビス(トリ
メチルシリル)トリフルオロアセトアミド。
本方法を行うために1最初K
a) 化合物■の当量につき化合物l091〜11好ま
しくは0.5〜1当量、 b) 化合物Iの当量につきシリル化剤1〜2、好まし
くは1〜1.5当景及び C) シリル化剤の当量につき塩基(アミン)1.03
〜3、好ましくは1.05〜2当量を導入し、次に0゜
1〜24時間、好ましくは0.1〜12時間後、シリル
化剤が塩基(アミン)よシもやや過剰量、好ましくは触
媒的過剰量で存在するように十分な追加のシリル化剤を
加える必要がある。
しくは0.5〜1当量、 b) 化合物Iの当量につきシリル化剤1〜2、好まし
くは1〜1.5当景及び C) シリル化剤の当量につき塩基(アミン)1.03
〜3、好ましくは1.05〜2当量を導入し、次に0゜
1〜24時間、好ましくは0.1〜12時間後、シリル
化剤が塩基(アミン)よシもやや過剰量、好ましくは触
媒的過剰量で存在するように十分な追加のシリル化剤を
加える必要がある。
本方法を行う際に、上記のシリル化剤及び塩基(アミン
)の量比に加えて、化合物寥及び頁(例えばRI=H)
における遊離の、即ち、保護する各ヒドロキシル、メル
カプト及びアミノ基に対してシリル化剤及び塩基(アミ
ン)の追加の1当量を用いるべきである。
)の量比に加えて、化合物寥及び頁(例えばRI=H)
における遊離の、即ち、保護する各ヒドロキシル、メル
カプト及びアミノ基に対してシリル化剤及び塩基(アミ
ン)の追加の1当量を用いるべきである。
反応速度は実質的に用いる触媒の量、即ち、シリル化剤
の過剰量に依存する。この反応は0.1〜48時間、好
ましくは0.1〜24時間以内に起こる〇 一般式lの化合物は有効な抗生物質を合成する際の価値
ある中間体である〔なかでも、D、 H。
の過剰量に依存する。この反応は0.1〜48時間、好
ましくは0.1〜24時間以内に起こる〇 一般式lの化合物は有効な抗生物質を合成する際の価値
ある中間体である〔なかでも、D、 H。
8hih等、Heterocycles 21.29(
1984)参照〕。
1984)参照〕。
以下の実施例は本発明を説明するものであるが、しかし
本発明を限定するものではない。
本発明を限定するものではない。
A) 式頁の化合物の製造に対する実施例:製造実施例
1 トリエチルアミン55.4 s+7 (0,4モル、2
当量)を無水アセトニトリル4QQm中のアセト酢酸ア
リル2B、43f(0,2モル)及びp−)ルエンスル
ホニルアジド43.39p(o、z2モル、1.1当量
)のO″cKcK冷却液に滴下した。この混合物を0℃
で3,5時間攪拌し、次にケイソウ±502を加え、真
空下で蒸発させ、シリカゲル400?上でクロマトグラ
フィーにかけた(トルエン:酢酸エチル96:4)。表
題の化合物31.95’(95%)が淡黄色消として得
られた、Rf:0.36(トルエン:酢酸エチル9:1
)。
1 トリエチルアミン55.4 s+7 (0,4モル、2
当量)を無水アセトニトリル4QQm中のアセト酢酸ア
リル2B、43f(0,2モル)及びp−)ルエンスル
ホニルアジド43.39p(o、z2モル、1.1当量
)のO″cKcK冷却液に滴下した。この混合物を0℃
で3,5時間攪拌し、次にケイソウ±502を加え、真
空下で蒸発させ、シリカゲル400?上でクロマトグラ
フィーにかけた(トルエン:酢酸エチル96:4)。表
題の化合物31.95’(95%)が淡黄色消として得
られた、Rf:0.36(トルエン:酢酸エチル9:1
)。
IR(CHCIs) 2141 (Ny)、1714(
C=O)、1651cm−’ (C=O)。
C=O)、1651cm−’ (C=O)。
’H−NMR(200MHz%CDCI 、)δ2.5
0(s。
0(s。
3H,0H8)、4.76(m、2H1−CH,−CH
=CH,)、5、3−5.4 (m、 2 H,−CH
,−CI4=CH,)、5.9−6、1 (m、 I
H,−CH,−CH−=CH,)。
=CH,)、5、3−5.4 (m、 2 H,−CH
,−CI4=CH,)、5.9−6、1 (m、 I
H,−CH,−CH−=CH,)。
CrHsNtos (168,2)
計算値:C’50.OO)14.80 N16.66
実測値:C49,9H4,8N16゜6製造実施例2 a) xル各つxイラー(L、 We i 1er)
等によりジャーナル・オプ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティ(J、Am、 Chem、 Soc、 ) 9
6.1o82(1974) に記載された方法と同様
にして、3−オキソ酪酸アリル2B、43f(0,2モ
ル)及びヨウ化メチル15m1(0,24モル、1.2
当匍から製造し、粗製の生成物をシリカゲル700 f
上でクロマトグラフィーKかけ(トルエン:酢酸エチル
95. : 5 )、次に蒸留し、無色の液体として3
−オキソバレリアン酸アリル831(27%)が得られ
た、沸点84℃/14yHf、Rf :0.34(トル
エン:酢酸エチル9:1)。
実測値:C49,9H4,8N16゜6製造実施例2 a) xル各つxイラー(L、 We i 1er)
等によりジャーナル・オプ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティ(J、Am、 Chem、 Soc、 ) 9
6.1o82(1974) に記載された方法と同様
にして、3−オキソ酪酸アリル2B、43f(0,2モ
ル)及びヨウ化メチル15m1(0,24モル、1.2
当匍から製造し、粗製の生成物をシリカゲル700 f
上でクロマトグラフィーKかけ(トルエン:酢酸エチル
95. : 5 )、次に蒸留し、無色の液体として3
−オキソバレリアン酸アリル831(27%)が得られ
た、沸点84℃/14yHf、Rf :0.34(トル
エン:酢酸エチル9:1)。
IR(CHC+、)1741(C=O)、1714cn
L−’ (C=O)’ H−NMR(300MHz、
CDCl5)δ1.to(t%J13Hz、 3H,C
H,CH5)、’;L60 (q、 J=8Hz、2H
,CH,(”:H,)、3.48 (s、 2B、 C
H,)、4.65(m、 2H,CH,−CH=CH,
)、5.2−5.4 (m、 2H,CH=CH,)
、5.8−6.0 (m、 LH,CH,ゴ工=Cf(
、)。
L−’ (C=O)’ H−NMR(300MHz、
CDCl5)δ1.to(t%J13Hz、 3H,C
H,CH5)、’;L60 (q、 J=8Hz、2H
,CH,(”:H,)、3.48 (s、 2B、 C
H,)、4.65(m、 2H,CH,−CH=CH,
)、5.2−5.4 (m、 2H,CH=CH,)
、5.8−6.0 (m、 LH,CH,ゴ工=Cf(
、)。
C5HstOs (156,2)
計算値:C61,52H7゜74
実測値:C61,4H7,8
b) 製造方法1に述べた如くして、3−オキソバレリ
アン酸アリル8.3F(53,1ミリモル)から製造し
、粗製の生成物をシリカゲル130f上でクロマトグラ
フィー(かけ(トルエン:酢酸エチル96:4)、淡黄
白油として表題の化合物9.34F(97X)が得られ
た、Rf二0.5(トルエン:酢酸エチル9:l)。
アン酸アリル8.3F(53,1ミリモル)から製造し
、粗製の生成物をシリカゲル130f上でクロマトグラ
フィー(かけ(トルエン:酢酸エチル96:4)、淡黄
白油として表題の化合物9.34F(97X)が得られ
た、Rf二0.5(トルエン:酢酸エチル9:l)。
IR(CHCIs ) 2137 (Nz)、1712
(C=O)、1650cm−’ (C=O)。
(C=O)、1650cm−’ (C=O)。
’H−NMR(200MHz、CDCl 3)δ1.1
6(t。
6(t。
J=8Hz、3H,C)l、)、189(q、J=8H
z、2H,CH1CH8)、5.52 (m、 2 H
%CH,−CH=CH)、5.3−5.4 (m、 2
B%CH=CH,)、5゜9−6.1 (m、IH,C
H,−CH=CH,)。
z、2H,CH1CH8)、5.52 (m、 2 H
%CH,−CH=CH)、5.3−5.4 (m、 2
B%CH=CH,)、5゜9−6.1 (m、IH,C
H,−CH=CH,)。
CaH+oNzos (1812)
計算値:C3L74 H5,53N15.38実測値
:C52,I H5,5N14.8製造実施例3 トリエチルアミン35.0#l/(0,25モル、1.
8当量)を無水アセトニトリル280d中のアセト酢酸
4−ニトロベンジル3&1gF(0,14モル)及びp
−トルエンスルホニルアシ)” 30.40 t(0,
15モル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。
:C52,I H5,5N14.8製造実施例3 トリエチルアミン35.0#l/(0,25モル、1.
8当量)を無水アセトニトリル280d中のアセト酢酸
4−ニトロベンジル3&1gF(0,14モル)及びp
−トルエンスルホニルアシ)” 30.40 t(0,
15モル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。
この混合物を0℃で2時間攪拌し、生じた沈殿物を吸引
戸別し、エーテルで洗浄し、高真空下にてP2O,。上
で乾燥した。融点142℃の無色の結晶として表題の化
合物20.3 f (55%)が得られた。F液をシリ
カゲル400f上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、更に表題の化合物a3p(t7%)
が得られた、Rf:0.35()ルエン:酢酸エチル9
:1)。
戸別し、エーテルで洗浄し、高真空下にてP2O,。上
で乾燥した。融点142℃の無色の結晶として表題の化
合物20.3 f (55%)が得られた。F液をシリ
カゲル400f上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、更に表題の化合物a3p(t7%)
が得られた、Rf:0.35()ルエン:酢酸エチル9
:1)。
IR(KBr ) 2144 (Ny)、1709(C
=0)、1662(C=0)、1514 (NOI対称
)、1343c1rL’ (Not対称)。
=0)、1662(C=0)、1514 (NOI対称
)、1343c1rL’ (Not対称)。
’ H−NMR(200MHz、 DM80 )δ2.
44(s、3H,CH,)、5゜44 (s、2H,C
H,)、7.72(d、J=9Hz、2H,H芳香族)
、8.28(d、 J =9Hz、 2H,H芳香族)
。
44(s、3H,CH,)、5゜44 (s、2H,C
H,)、7.72(d、J=9Hz、2H,H芳香族)
、8.28(d、 J =9Hz、 2H,H芳香族)
。
CttH*N5Oa (263,2)
計算値:C50,20H3,45N15.96実測値:
C50,2H3,4N15.9製造実施例4 CH,0−OH,−C−C−C−(JL:)i3N。
C50,2H3,4N15.9製造実施例4 CH,0−OH,−C−C−C−(JL:)i3N。
2−ジアゾ−4−メトキシ−3−オキソ酪酸メチ!−
製造実施例1に述べ九如くして、4−メトキシアセト酢
酸メチル’2.92f(20ミリモル)から製造し、粗
製の生成物をシリカゲル900f上でクロマトグラフィ
ーにかけ(トルエン:酢酸エチル3:1)、淡黄色の油
として表題の化合物3.05F(89%)が得られ九、
R,f:0.35(トルエン:酢酸エチル3:1)。
酸メチル’2.92f(20ミリモル)から製造し、粗
製の生成物をシリカゲル900f上でクロマトグラフィ
ーにかけ(トルエン:酢酸エチル3:1)、淡黄色の油
として表題の化合物3.05F(89%)が得られ九、
R,f:0.35(トルエン:酢酸エチル3:1)。
IR(CHCI、) 2138 (Nt)、1711(
C=O)、16650−1 ((、=0)。
C=O)、16650−1 ((、=0)。
IH−NMR(25QMHz、CDcl 、 )δ14
B(s、3H%(”!0OCH8)、3.86 (s、
3H,OCH,)、453(s、 2H%C)(、)
。
B(s、3H%(”!0OCH8)、3.86 (s、
3H,OCH,)、453(s、 2H%C)(、)
。
c、H,N、O,(172,1)
計算値:C41,86H4゜68 N16.27実側
値:C42,I H4,7N16.6製造実施例5 4−ベンジルオキシ−2−ジアゾ−3−オキソ酪トリエ
チルアミン5.54 s7 (40ミリモル、2当量)
を無水アセトニトリル40−中の4−ベンジルオキシア
セト酢酸tert、−ブチル5.29f(20ミリモル
)及びp−トルエンスルホニルアジド4.34 f (
22ミリモル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。この
混合物を0℃で30分間攪拌し、ケイソウ±8fを加え
、真空下で蒸発させ、シリカゲル100P上でクロマト
グラフィーにかけた(トルエン:酢酸エチル95:5)
。無色の結晶として表題の化合物&98F(69%)が
得られた、融点68℃、Rf:0.31(トルエン:酢
酸エチル95:5)。
値:C42,I H4,7N16.6製造実施例5 4−ベンジルオキシ−2−ジアゾ−3−オキソ酪トリエ
チルアミン5.54 s7 (40ミリモル、2当量)
を無水アセトニトリル40−中の4−ベンジルオキシア
セト酢酸tert、−ブチル5.29f(20ミリモル
)及びp−トルエンスルホニルアジド4.34 f (
22ミリモル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。この
混合物を0℃で30分間攪拌し、ケイソウ±8fを加え
、真空下で蒸発させ、シリカゲル100P上でクロマト
グラフィーにかけた(トルエン:酢酸エチル95:5)
。無色の結晶として表題の化合物&98F(69%)が
得られた、融点68℃、Rf:0.31(トルエン:酢
酸エチル95:5)。
IR(KB r ) 2144 (Nt )、1700
、l 673cIft−’。
、l 673cIft−’。
’H−NMR(30QMHz%CDCI 、 )δ1.
51(S、9H%C(CHs)s ) 、 459 (
S、 2H%OHハ、4.67(3,2H%CH,)、
7.3−7.5 (m、 5H%Ph )。
51(S、9H%C(CHs)s ) 、 459 (
S、 2H%OHハ、4.67(3,2H%CH,)、
7.3−7.5 (m、 5H%Ph )。
011上1MN!o4 (290,3)計算値:C!6
LO6H6,23N9.65実測値:C5zx H6
,2N9.6製造実施例6 乾燥チオ酢酸カリウムλ40t(21,0ミリモル)を
無水アセトニトリル40m中の4−クロロアセト酢酸t
ert、−ブチA48SP(20,0ミリモル)の0℃
に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度で30分
間攪拌した。次にこのものをNaC1及び酢酸エチルの
混合物中に注ぎ、有機相を分離し、酢酸エチル2×30
dで抽出し、抽出液を水で洗浄し、Mg804上で乾燥
した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣をシリカゲル6(
l上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル95
:5)にかけた後、無色の油として表題の化合物3.
87 f (83%)が得られた、Rf:0.24(ト
ルエン:酢酸エチル95:5)。
LO6H6,23N9.65実測値:C5zx H6
,2N9.6製造実施例6 乾燥チオ酢酸カリウムλ40t(21,0ミリモル)を
無水アセトニトリル40m中の4−クロロアセト酢酸t
ert、−ブチA48SP(20,0ミリモル)の0℃
に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度で30分
間攪拌した。次にこのものをNaC1及び酢酸エチルの
混合物中に注ぎ、有機相を分離し、酢酸エチル2×30
dで抽出し、抽出液を水で洗浄し、Mg804上で乾燥
した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣をシリカゲル6(
l上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル95
:5)にかけた後、無色の油として表題の化合物3.
87 f (83%)が得られた、Rf:0.24(ト
ルエン:酢酸エチル95:5)。
IR(CHCIs) l 740 1710c!!1−
’ (C=0 )。
’ (C=0 )。
’H−NMR(250MHz、CDCl、)δ1.50
(8,9)1゜C(C!Hs)3)、Z42(s、3H
,0H3Co)、&53(3,2H,C!H,)、3.
90 (s、 2H,CH,) 。
(8,9)1゜C(C!Hs)3)、Z42(s、3H
,0H3Co)、&53(3,2H,C!H,)、3.
90 (s、 2H,CH,) 。
製造実施例7
ベンジルメルカプタン7.04m1(60ミリモルを無
水THF50ar中の水素化ナトリウム(液体パラフィ
ン中の80%)1.8F(60ミリモル)の懸濁液に室
温で徐々に滴下した。次に混合物を15分間攪拌し、続
いて0℃に冷却した。この温度で、THF23−中の4
−クロロアセト酢酸tart、−ブチルlo、57F(
55ミリモル)の溶液を1時間以内に加えた。水浴を除
去し、混合物を室温で更に1時間攪拌し、次にl0XH
CI2.3滴を添加して中和した。溶媒を真空下で蒸発
させ、エーテルを数回加え、抽出液を水で洗浄し、Mg
5O,上で乾燥した。エーテルを真空下で蒸発させて油
が得られ、このものをシリカゲル800f上でクロマト
グラフィー(トルエン)にかけてff製した。無色の油
状物として表題の化合物12.74F(83%)が得ら
れた、Rf:0.13(トルエン)。
水THF50ar中の水素化ナトリウム(液体パラフィ
ン中の80%)1.8F(60ミリモル)の懸濁液に室
温で徐々に滴下した。次に混合物を15分間攪拌し、続
いて0℃に冷却した。この温度で、THF23−中の4
−クロロアセト酢酸tart、−ブチルlo、57F(
55ミリモル)の溶液を1時間以内に加えた。水浴を除
去し、混合物を室温で更に1時間攪拌し、次にl0XH
CI2.3滴を添加して中和した。溶媒を真空下で蒸発
させ、エーテルを数回加え、抽出液を水で洗浄し、Mg
5O,上で乾燥した。エーテルを真空下で蒸発させて油
が得られ、このものをシリカゲル800f上でクロマト
グラフィー(トルエン)にかけてff製した。無色の油
状物として表題の化合物12.74F(83%)が得ら
れた、Rf:0.13(トルエン)。
IR(CHCI、) 1740−1710cm ’
(C=O1β−ケトエステル)。
(C=O1β−ケトエステル)。
’H−NMR(2QOMHz%CDCl 、)δ1−4
9(s。
9(s。
9H,C(C)I、)、)、3.22 (s 、 2
H,CH* )、3.52 (s、 2H,CH,C1
3,68(s、 2H,CH,)、7.33 (s、
5H%ph)。
H,CH* )、3.52 (s、 2H,CH,C1
3,68(s、 2H,CH,)、7.33 (s、
5H%ph)。
C,、H,、O,S (280,4)
計算値:C64,3H7゜2 5IL4実測値:C64
,3H7゜2 811゜3製造実施例8 −ブチル 製造実施例1に述べた如くして、4−クロロアセト酢酸
tert、−ブチルλ79F(14,5ミリモル)から
製造し、粗製の生成物をシリカゲル30f上で濾過しく
トルエン)、結晶として表題の化合物λ67f(84%
)が得られた、Rf=0.29()ルエン)、融点40
〜41℃。
,3H7゜2 811゜3製造実施例8 −ブチル 製造実施例1に述べた如くして、4−クロロアセト酢酸
tert、−ブチルλ79F(14,5ミリモル)から
製造し、粗製の生成物をシリカゲル30f上で濾過しく
トルエン)、結晶として表題の化合物λ67f(84%
)が得られた、Rf=0.29()ルエン)、融点40
〜41℃。
IR(CHCI 3) : 2140 (Nり、] 7
08 (C=0)、] 662cIn−’ 。
08 (C=0)、] 662cIn−’ 。
’H−NMR(300MHz %CDCI 、 )δ1
.54(s。
.54(s。
9H,Cσ’Hs)s)、4.60 (s、 2H%C
H,)。
H,)。
c、Hl、N、03C1(218,6)計算値:C43
,9H5,I Nlλ8実測値:C44,OH5,I
N13.3製造実施例9 N。
,9H5,I Nlλ8実測値:C44,OH5,I
N13.3製造実施例9 N。
4−アセチルチオ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸型造実
施例1に述べた如くして、4−アセチルチオアセト酢酸
tert、−ブチル6.97F(30,0ミ’)モル)
から、粗製の生成物をシリカゲル280を上でクロマト
グラフィーに力)けた後、油として表題の化合物3.4
8f(45%)が得られた、Rf:0.34()ルエン
:酢酸エチル95:5)。
施例1に述べた如くして、4−アセチルチオアセト酢酸
tert、−ブチル6.97F(30,0ミ’)モル)
から、粗製の生成物をシリカゲル280を上でクロマト
グラフィーに力)けた後、油として表題の化合物3.4
8f(45%)が得られた、Rf:0.34()ルエン
:酢酸エチル95:5)。
IR(CHCIm ) 2140 (Nt)、1705
(C=0)1656cWL ’。
(C=0)1656cWL ’。
’H−NMR(300MHz、 CDCl、)、1.5
5(s、9H,C(CH3)5 )、2.39 (s、
3H,C0CH,)、4.23(s、2H%CH8)
。
5(s、9H,C(CH3)5 )、2.39 (s、
3H,C0CH,)、4.23(s、2H%CH8)
。
C1゜H,、N、048 (258,3)計算値:0
46゜5 H5,5N10.8実測値:C46,5T
(5,4N11.3製造実施例10 製造実施例IR述べた如くして、4−ベンジルチオアセ
ト酢酸t e r t、−ブチル4.21 f (15
,0ミリモル)から、粗製の生成物をシリカゲル100
f上でクロマトグラフィー(トルエン)にかけた後、黄
色油として表題の化合物3.4f(749c)が得られ
た、Rf:0.28()ルエン)。
46゜5 H5,5N10.8実測値:C46,5T
(5,4N11.3製造実施例10 製造実施例IR述べた如くして、4−ベンジルチオアセ
ト酢酸t e r t、−ブチル4.21 f (15
,0ミリモル)から、粗製の生成物をシリカゲル100
f上でクロマトグラフィー(トルエン)にかけた後、黄
色油として表題の化合物3.4f(749c)が得られ
た、Rf:0.28()ルエン)。
IR(CHCI、 ) 2145 (Nt)、1705
.1635cm’’ H−NMR(250MHz、 C
DCl 、)δ1.52(s、9H,C(Ci’1s)
s ’)、3.58(s、2)J、 CH,)、3.7
7(s、2H,CH,)、7.3−7.4 (m、 5
H,Ph )。
.1635cm’’ H−NMR(250MHz、 C
DCl 、)δ1.52(s、9H,C(Ci’1s)
s ’)、3.58(s、2)J、 CH,)、3.7
7(s、2H,CH,)、7.3−7.4 (m、 5
H,Ph )。
Cs5HtsNtOsS(306,38)計算値:Cs
s、so H5,92810,46実測値:C59,
2H6,0810,5製造実施例11 3−オキソ−5−フタルイミドパレリアン酸アリアリル
アルコール14m中の3−オキソ−5−7タルイミドパ
レリアン酸エチルZ 89 f(10,0ミリモル)の
溶液を触媒量のp−トルエンスルホン酸水和物の存在下
において80℃に3日間加熱した。次に溶媒を真空下で
蒸発させ、残媒をシリカゲル170f上でクロマトグラ
フィー(トルエン:酢酸エチル4:1)によって精製し
た。無色の結晶として表題の化合物が得られ九、融点5
3〜55℃、Rf:0.40(トルエン:酢酸エチル4
: ] )。
s、so H5,92810,46実測値:C59,
2H6,0810,5製造実施例11 3−オキソ−5−フタルイミドパレリアン酸アリアリル
アルコール14m中の3−オキソ−5−7タルイミドパ
レリアン酸エチルZ 89 f(10,0ミリモル)の
溶液を触媒量のp−トルエンスルホン酸水和物の存在下
において80℃に3日間加熱した。次に溶媒を真空下で
蒸発させ、残媒をシリカゲル170f上でクロマトグラ
フィー(トルエン:酢酸エチル4:1)によって精製し
た。無色の結晶として表題の化合物が得られ九、融点5
3〜55℃、Rf:0.40(トルエン:酢酸エチル4
: ] )。
IR(CHCIg ) 1716crn’ (C=o)
。
。
’H−NMR(300MHz、 CDCIs) 3.0
1 (t%J=7Hz12H%CH,Co)、3.54
(s、 2H。
1 (t%J=7Hz12H%CH,Co)、3.54
(s、 2H。
(”OCH,(”’O)、4.0 (t%J=7Hz、
2B%CH,N)、4.65 (m、 2H,C)1
.−〇H=CH,)、5.2−5.4(m、2H,CH
=CH,)、5.8−6.0(m、IHlOH,−C)
l=cH,)、7,73.7.87(m、各々2H1H
芳香族)O C,、Hl、No、 (301,3’)計算値:C63
,78H5,02N4.64実測値:C63,8H5,
4N4.3 製造実施例12 THF10’lj中の4−ブロモ−3−オキソ酪酸アリ
ル(ドイツ国特許出願公開明細書第2,048゜470
号)の溶液をT)IF中の水素化ナトリウム300■(
10,0ミリモル)の−30℃に冷却した溶液に徐々に
滴下した。この混合物を一30℃で15分間攪拌し、次
にジエチルホスファイト0、65 M (5,02ミ1
7モル)を滴下した。冷却浴を除去し、混合物を室温で
30分間攪拌した。処理するために、混合物を酢酸エチ
ル及び飽和NaHCO3溶液の混合物中に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出を行い、飽和NaC1溶液で洗浄し、MgS
O4上で乾燥した。
2B%CH,N)、4.65 (m、 2H,C)1
.−〇H=CH,)、5.2−5.4(m、2H,CH
=CH,)、5.8−6.0(m、IHlOH,−C)
l=cH,)、7,73.7.87(m、各々2H1H
芳香族)O C,、Hl、No、 (301,3’)計算値:C63
,78H5,02N4.64実測値:C63,8H5,
4N4.3 製造実施例12 THF10’lj中の4−ブロモ−3−オキソ酪酸アリ
ル(ドイツ国特許出願公開明細書第2,048゜470
号)の溶液をT)IF中の水素化ナトリウム300■(
10,0ミリモル)の−30℃に冷却した溶液に徐々に
滴下した。この混合物を一30℃で15分間攪拌し、次
にジエチルホスファイト0、65 M (5,02ミ1
7モル)を滴下した。冷却浴を除去し、混合物を室温で
30分間攪拌した。処理するために、混合物を酢酸エチ
ル及び飽和NaHCO3溶液の混合物中に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出を行い、飽和NaC1溶液で洗浄し、MgS
O4上で乾燥した。
溶媒を真空下で蒸発させ、残渣をシリカゲル90?上で
クロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチルl:4)に
かけた後、油として表題の化合物705ダ(51%)が
得られた、Rf:0.30(トルエン:酢酸エチル1:
4)。
クロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチルl:4)に
かけた後、油として表題の化合物705ダ(51%)が
得られた、Rf:0.30(トルエン:酢酸エチル1:
4)。
IEL(CHCI、) 1735.1718.1640
,1250c!R−’ (P=0 )。
,1250c!R−’ (P=0 )。
’)]−NMR(300MHz、 CDCl、)δ1.
35(t。
35(t。
J=7.5Hz、 6H,(’7H3C)T、)、3.
26(d、J=23Hz、2B%PCI、Co)、3.
71(s、2H1COCH,CO)、4.17 (q、
J=7.5Hz、 4H1CH,CH,)、4.66
(m、 0H2−CH=CH,)、5.2−5.4
(m、 28%CH=CH,)、5.8−6.0 (m
、 I H。
26(d、J=23Hz、2B%PCI、Co)、3.
71(s、2H1COCH,CO)、4.17 (q、
J=7.5Hz、 4H1CH,CH,)、4.66
(m、 0H2−CH=CH,)、5.2−5.4
(m、 28%CH=CH,)、5.8−6.0 (m
、 I H。
CH,−目=cH,)。
製造実施例13
ル酪酸アリル
m−クロロ過安息香酸z59r(1s、oミリモル)を
ジクロロメタン10m中の2−シアソー3−オキソ−4
−フェニルチオ酪酸アリル1.38F(5,Oミリモル
)の0℃に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度
で1時間攪拌した。処理するために、このものを飽和N
aHCO3溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水で洗
浄し、Mg5O。
ジクロロメタン10m中の2−シアソー3−オキソ−4
−フェニルチオ酪酸アリル1.38F(5,Oミリモル
)の0℃に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度
で1時間攪拌した。処理するために、このものを飽和N
aHCO3溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水で洗
浄し、Mg5O。
上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、ffl製の生
成物をシリカゲル30f上で濾過(トルエン:゛酢酸エ
チル9:l)した後、表題の化合物883!(57X)
が得られた、Rf : 0.24 (トルxン:酢酸
エチル95:5)。
成物をシリカゲル30f上で濾過(トルエン:゛酢酸エ
チル9:l)した後、表題の化合物883!(57X)
が得られた、Rf : 0.24 (トルxン:酢酸
エチル95:5)。
エル(CHD Ig ) 2150 (Na )、17
16.1647.1328 (So、非対称)、116
0cm−’ (So、対称)。
16.1647.1328 (So、非対称)、116
0cm−’ (So、対称)。
’H−NMR(200MHz%cDcI、 )δ4.7
8(d、J= 7 Hz、 2 H%叩、−CH=CH
,)、4.88 (S、 2B。
8(d、J= 7 Hz、 2 H%叩、−CH=CH
,)、4.88 (S、 2B。
So、CH,(”O)、5.4−5.5 (m、 2
H,CH=CH,)。
H,CH=CH,)。
5.9−6.1 (m%IH,CH,−CH=CH,)
、7.55−7.75 (m13H,Ph )、8.0
2 (m、 2H,Ph )。
、7.55−7.75 (m13H,Ph )、8.0
2 (m、 2H,Ph )。
C,!H,,N、0.8 (308,3)計算値:C5
0,6483,92N9.09 S10.40実測値
:050.3 H3,9N8.9 810.4製造実
施例14 トルエン360m1中の4−二トロベンジルアルコール
55.3 f (0,36モル)及び3−オキソバレリ
アン酸エチル56.2 F (0,39モル)の懸濁液
を加熱沸騰させた。トルエン約3QQmを10時間にわ
たって留去し、次に混合物を冷却し、更にトルエン20
0mを加え、この操作をくり返し行った。冷却後、混合
物をケイソウ土を通して濾過し、これをトルエンで洗浄
し、濾過溶液を真空下で蒸発させた。油として表題の化
合物89F(98%)が得られた、Rf : 0.42
()ルエン:酢酸エチル4二1)。
0,6483,92N9.09 S10.40実測値
:050.3 H3,9N8.9 810.4製造実
施例14 トルエン360m1中の4−二トロベンジルアルコール
55.3 f (0,36モル)及び3−オキソバレリ
アン酸エチル56.2 F (0,39モル)の懸濁液
を加熱沸騰させた。トルエン約3QQmを10時間にわ
たって留去し、次に混合物を冷却し、更にトルエン20
0mを加え、この操作をくり返し行った。冷却後、混合
物をケイソウ土を通して濾過し、これをトルエンで洗浄
し、濾過溶液を真空下で蒸発させた。油として表題の化
合物89F(98%)が得られた、Rf : 0.42
()ルエン:酢酸エチル4二1)。
IR(CHC13’l、1751(C=O)、1722
(C=0)、1524(No、非対称)、1351cW
L−’(NO3対称)。
(C=0)、1524(No、非対称)、1351cW
L−’(NO3対称)。
’ HNMR(300MHz 、 ’CDCl s )
δ1.10(t。
δ1.10(t。
J=7.5Hz、3)!、 CH,CH,)、2.59
(q、J=7.5Hz、2H,CH5CH,)、3.
57(s、2H,C0CH,Co)、5.29 (s、
2H,Co、CH,)、7.53(d%J=9Hz、
2)i、 H芳香族)、8.20 (d、 J =9
Hz、 2H,H芳香族)。
(q、J=7.5Hz、2H,CH5CH,)、3.
57(s、2H,C0CH,Co)、5.29 (s、
2H,Co、CH,)、7.53(d%J=9Hz、
2)i、 H芳香族)、8.20 (d、 J =9
Hz、 2H,H芳香族)。
すでに述べた製造実施例と同様の方法において、また次
の4−置換されたアセト酢酸エステルが得られた(製造
実施例15〜21、第1表):これらのものから、製造
実施例1に述べた如くして、ジアゾ転位によって対応す
る化合物が得られた(製造実施例22〜34、第2表)
:N。
の4−置換されたアセト酢酸エステルが得られた(製造
実施例15〜21、第1表):これらのものから、製造
実施例1に述べた如くして、ジアゾ転位によって対応す
る化合物が得られた(製造実施例22〜34、第2表)
:N。
B)本発明における方法による式Iの化合物の製造実施
例 実施例1 (35ttR)−3−(:(IR)−1−tgrt。
例 実施例1 (35ttR)−3−(:(IR)−1−tgrt。
−プチルゾメチルシリルオキシエチル〕−4−〔3−ア
リルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−オキツプロ♂
ル〕アゼチジン−2−オントリエチルアミン7、2 m
(52ミリモル、2.6当量)を無水ジクロロメタン
190d中の(3R94R)−4−アセトキシ−3−[
:(IR)−1−を璽rt、−プテルゾメチルシリルオ
キシエチル〕アゼチゾン−2−オン〔ニス・オイダ(S
、 O4dd)等、 Chgtn、 phατ惧。
B聾IL、29 2899(1981) HM、 5
hiozaki等、Tatrahedrox59 25
99(1985)15,75f(20ミリモル)及び2
−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル4.57fC26ミリ
モル1,1.3当量)の0℃に冷却した溶液に加え、次
にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル9.
3 m (48ミリモル、′2−4当量)を滴下した。
リルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−オキツプロ♂
ル〕アゼチジン−2−オントリエチルアミン7、2 m
(52ミリモル、2.6当量)を無水ジクロロメタン
190d中の(3R94R)−4−アセトキシ−3−[
:(IR)−1−を璽rt、−プテルゾメチルシリルオ
キシエチル〕アゼチゾン−2−オン〔ニス・オイダ(S
、 O4dd)等、 Chgtn、 phατ惧。
B聾IL、29 2899(1981) HM、 5
hiozaki等、Tatrahedrox59 25
99(1985)15,75f(20ミリモル)及び2
−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル4.57fC26ミリ
モル1,1.3当量)の0℃に冷却した溶液に加え、次
にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル9.
3 m (48ミリモル、′2−4当量)を滴下した。
冷却浴を除去し、この混合物を室温で1時間攪拌し、ト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル1.55
1nl(8ミリモル、0.4当量)を加え、この混合物
を室温で更に0.5時間攪拌した。次に反応溶液を冷却
した飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し、合液した有機抽出液を飽和
NaC1溶液で洗浄し、MQSO,上で乾燥した。溶媒
を真空下で蒸発させ、残渣をシリカグル150fを通し
て濾過した(トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶
として表題の化合物6.4f(f31%)が得られた、
融点66℃、Rf:α53(トルエン:酢酸エチル7:
3)(α〕”、; = 59.2゜(Cα969、CH
Cl、)。
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル1.55
1nl(8ミリモル、0.4当量)を加え、この混合物
を室温で更に0.5時間攪拌した。次に反応溶液を冷却
した飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し、合液した有機抽出液を飽和
NaC1溶液で洗浄し、MQSO,上で乾燥した。溶媒
を真空下で蒸発させ、残渣をシリカグル150fを通し
て濾過した(トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶
として表題の化合物6.4f(f31%)が得られた、
融点66℃、Rf:α53(トルエン:酢酸エチル7:
3)(α〕”、; = 59.2゜(Cα969、CH
Cl、)。
I R(CHCl5) 2144 (Nt )、176
1(C=0.β−ラクタム)、1714.1649CI
IL−’。
1(C=0.β−ラクタム)、1714.1649CI
IL−’。
重H−NMR(250MHz、CDCl、) δ α
06(s 、6H、CH,Sイ)、0.88 <8 、
9K。
06(s 、6H、CH,Sイ)、0.88 <8 、
9K。
CM、C−Sイ)、1.23 (d、J=6Hz 、5
H。
H。
4cg)、2.90 (dd 、 J =2Hz 、
5Hz 。
5Hz 。
1H,H−5)、!A、03 (dd、J=10Hz。
17.51g 、 1H,CM、CO)、4.06 (
ddd 。
ddd 。
/ =5 Hz v 5 Hz 210 N g *
1Ht H4)、4.24 (d qt / =s H
g t b Hz * 1HtCH,堕)、4.78(
m、2M、叫−CH=CH)、5、!t−5,5(懲、
2H、CM−C7ft)、5.9−6.1(惰、 CH
R−!;J1=CH2)、6.07(b8.NH)2H
と共に。
1Ht H4)、4.24 (d qt / =s H
g t b Hz * 1HtCH,堕)、4.78(
m、2M、叫−CH=CH)、5、!t−5,5(懲、
2H、CM−C7ft)、5.9−6.1(惰、 CH
R−!;J1=CH2)、6.07(b8.NH)2H
と共に。
CI、H,、N、 0. S i (3q 5.5 )
計算値:(’54,66 N7.59 A’1α6
2実測値:C54,3N7.4 N1CJ、、4実
施例2 ■ (!i5,4R)−3−C(IR)−1−t+rt。
計算値:(’54,66 N7.59 A’1α6
2実測値:C54,3N7.4 N1CJ、、4実
施例2 ■ (!i5,4R)−3−C(IR)−1−t+rt。
−プチルソメチルシリルオキシエチル)−4−〔6−ジ
アゾ−3−p−ニトロペンシルオキシカルボニル−2−
オキソクロぎル〕アゼチジンー2−オン 実施例1に述べた如くして、(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−〔(IR)−1−tttrt。
アゾ−3−p−ニトロペンシルオキシカルボニル−2−
オキソクロぎル〕アゼチジンー2−オン 実施例1に述べた如くして、(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−〔(IR)−1−tttrt。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル〕アゼチソン−2
−オン1.44f(5,0ミリモル)及び4−二トロペ
ンソルー2−シアシー5−オキソ−ブタノエート1.7
1F(6,5モル)から、粗製の生成物をシリカダル5
5f上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル7
:3)にかけた後、粘性油として表題の化合物2.02
f(82%)が得られた、Rf”、r:1.55(トル
エン:酢酸エチル3:2)、((E〕”=44.75°
(CQ、373、CHCl、)。
−オン1.44f(5,0ミリモル)及び4−二トロペ
ンソルー2−シアシー5−オキソ−ブタノエート1.7
1F(6,5モル)から、粗製の生成物をシリカダル5
5f上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル7
:3)にかけた後、粘性油として表題の化合物2.02
f(82%)が得られた、Rf”、r:1.55(トル
エン:酢酸エチル3:2)、((E〕”=44.75°
(CQ、373、CHCl、)。
J R(CHCIs ) 2160 (Nz )、17
59(C=o、β−ラクタム)、1722.1655.
1520 (NO,as、 )、1355cm−’
(NO,s、)’H−NMR(250Hz z 、CD
Cl、) δ0.006゜0.007 (a 、 6
H、CH35i )、0.86(g。
59(C=o、β−ラクタム)、1722.1655.
1520 (NO,as、 )、1355cm−’
(NO,s、)’H−NMR(250Hz z 、CD
Cl、) δ0.006゜0.007 (a 、 6
H、CH35i )、0.86(g。
9 H、CH2O−5i )、1.22 (d 、 J
=6Hz 。
=6Hz 。
3H、CHCH,)、2.97(dd、J=2Hz。
5 Hz 、 I H、H−5)、3.01 (dd
、 J=10Hz+ 17Hz、 1H,cH,CO
)、 五41(dd 、J=5Hz 、17Hz 、
1H、CH,CO)、4.04 (m、’IH,H−4
)、a、2o(dq、J=5Hg 、6Hz t 1H
、CH,CH)、5.38(s 、 2 H、C00C
H,)、7.57及びα28(d。
、 J=10Hz+ 17Hz、 1H,cH,CO
)、 五41(dd 、J=5Hz 、17Hz 、
1H、CH,CO)、4.04 (m、’IH,H−4
)、a、2o(dq、J=5Hg 、6Hz t 1H
、CH,CH)、5.38(s 、 2 H、C00C
H,)、7.57及びα28(d。
!=9Hz、各h 2 H、p−NO,−C,ll4)
。
。
実施例3
(55,4R)−5−C(1R−1−tgrt、−ブチ
ルツメチルシリルオキシエチル)−4−C(1R,5)
−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−1−メチ
ル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オン 無水ジクロロメタン48d中の(3R,4R)−4−ア
セトキシ−3−C(1R)−1−tart。
ルツメチルシリルオキシエチル)−4−C(1R,5)
−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−1−メチ
ル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オン 無水ジクロロメタン48d中の(3R,4R)−4−ア
セトキシ−3−C(1R)−1−tart。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕アゼチソン−2
−オンt23r(4,2sミリモル)及び2−ジアゾ−
3−オキソバレリアン酸アリル1.18F(6,5ミリ
モル、1.5当量)の0℃に冷却した溶液にトリエチル
アミン1.8tnt(13,0ミリモル、5当量)を加
え、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリ
ル2.31nt(12ミリモル、2.8当量)を滴下し
た。冷却浴を除去し、この混合物を室温で4時間攪拌し
、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.
4t/(2,0ミリモル、α5当量)を加え、混合物を
室温で更に1時間攪拌した。次に反応溶液を、冷却した
飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、飽和NaC1溶液で洗浄し、M
QSO,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣
をシリカグル60f上でクロマトグラフィーにかけた(
トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶の(1R,5
)−1−メチルシアステレオマ−の6:4混合物として
表題の化合物870wq(42%)が得られた、融点1
67℃、Rf:121(トルエン:酢酸エチル4:1)
。
−オンt23r(4,2sミリモル)及び2−ジアゾ−
3−オキソバレリアン酸アリル1.18F(6,5ミリ
モル、1.5当量)の0℃に冷却した溶液にトリエチル
アミン1.8tnt(13,0ミリモル、5当量)を加
え、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリ
ル2.31nt(12ミリモル、2.8当量)を滴下し
た。冷却浴を除去し、この混合物を室温で4時間攪拌し
、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.
4t/(2,0ミリモル、α5当量)を加え、混合物を
室温で更に1時間攪拌した。次に反応溶液を、冷却した
飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、飽和NaC1溶液で洗浄し、M
QSO,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣
をシリカグル60f上でクロマトグラフィーにかけた(
トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶の(1R,5
)−1−メチルシアステレオマ−の6:4混合物として
表題の化合物870wq(42%)が得られた、融点1
67℃、Rf:121(トルエン:酢酸エチル4:1)
。
I7?(fBr)2135(#、)、1761((’−
o、β−ラクタム)、1720 (C=0)、1657
cx−’。
o、β−ラクタム)、1720 (C=0)、1657
cx−’。
’H−NMR(250Hzz 、CDCl、)δα07
゜Q、08 (& 、 6H,CH3Sイ)、0.86
.α87(s 、 9H,CM、C−5i )、1.1
8 、1.20 Cd=1=7Hz 、 3KI 、
CH,CH)、1.22,1.2S(d 、 J =7
.5Hg 、 5H、CH,CHO5i )、2−82
.2.9BCdd、J=2Hz、5Hz。
゜Q、08 (& 、 6H,CH3Sイ)、0.86
.α87(s 、 9H,CM、C−5i )、1.1
8 、1.20 Cd=1=7Hz 、 3KI 、
CH,CH)、1.22,1.2S(d 、 J =7
.5Hg 、 5H、CH,CHO5i )、2−82
.2.9BCdd、J=2Hz、5Hz。
1H,H−s)、五58 五90(常、1H2CM、C
H)、五92(倶、1ff、#−4)、4.20(m
、 I H、CH3CHO5i )、4.7 s (m
* 2ElΩq、−CH=CH,)、5.3−5.4
(惧、2E、CH=旦h)、5.81,5.91(6a
、IH,##)、5.9−6.1 (m 、 I E
、 −CH,−CH=CH,)。
H)、五92(倶、1ff、#−4)、4.20(m
、 I H、CH3CHO5i )、4.7 s (m
* 2ElΩq、−CH=CH,)、5.3−5.4
(惧、2E、CH=旦h)、5.81,5.91(6a
、IH,##)、5.9−6.1 (m 、 I E
、 −CH,−CH=CH,)。
実施例4
4−(3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−
オキソグロビル)アゼチジン−2−オン実施例1に述べ
た如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジン(ドイツ
国特許第1,906,401−08.02.1969)
2.58F(20,0ミリモル)から、粗製の生成物を
シリカグル200?上でクロマトグラフィーにかけ(ト
ルエン:酢酸エチル1:3)、淡い結晶として表題の化
合物5.6Of<76%)が得られた、融点83℃、R
f:Q、26(トルエン:酢酸エチル1:4)。
オキソグロビル)アゼチジン−2−オン実施例1に述べ
た如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジン(ドイツ
国特許第1,906,401−08.02.1969)
2.58F(20,0ミリモル)から、粗製の生成物を
シリカグル200?上でクロマトグラフィーにかけ(ト
ルエン:酢酸エチル1:3)、淡い結晶として表題の化
合物5.6Of<76%)が得られた、融点83℃、R
f:Q、26(トルエン:酢酸エチル1:4)。
IR(KBr)(2150(#、)、1771(C,=
O,β−ラクタム)、1701.1634CIIL−1
゜ ”H−Nk(R(250Hzz 、CDCl、) δ2
.69(d d 、7 =I Hz 、14−5 Hz
+ I H−H−3β)、3.04(dd、J=1.
0Hz、18H2j1 H、C11x CO) 、3.
19 (d d d 、J=I Hz 。
O,β−ラクタム)、1701.1634CIIL−1
゜ ”H−Nk(R(250Hzz 、CDCl、) δ2
.69(d d 、7 =I Hz 、14−5 Hz
+ I H−H−3β)、3.04(dd、J=1.
0Hz、18H2j1 H、C11x CO) 、3.
19 (d d d 、J=I Hz 。
5Hz、 14.511z、 1H,H−5α)、
3.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、 1H
、CHICO)、4.01 (m、 1H,H−4
)、4.76(常、2H2CH,−CH=CH,)、5
.3−5.4 (常、2H,−CH4、)、5.9−6
.1 (m、1#、CH2−CH=CH,)、6.10
(b s 、 I H、HE )。
3.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、 1H
、CHICO)、4.01 (m、 1H,H−4
)、4.76(常、2H2CH,−CH=CH,)、5
.3−5.4 (常、2H,−CH4、)、5.9−6
.1 (m、1#、CH2−CH=CH,)、6.10
(b s 、 I H、HE )。
C,oH,1N、0. (237,2)計算値:C5
0,63H4,67#17.71実測値:C50,2H
4,7N16.8実施例5 4−(6−ジアゾ−5−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル−2−オキソプロピル)アゼチジンα) 実施例
1に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノ
ン646119(5,0ミリモル)及び2〜ソアゾー3
−オキソ酪酸4−ニトロベンツル1.711(6,5ミ
IJモル)から、粗製の生成物をシリカダル2フf上で
クロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル3
: 2 ) 、無色の結晶として表題の化合物1.12
F(67%)が得られた、融点104℃、Rf’、0.
29(−酢酸エチル)。
0,63H4,67#17.71実測値:C50,2H
4,7N16.8実施例5 4−(6−ジアゾ−5−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル−2−オキソプロピル)アゼチジンα) 実施例
1に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノ
ン646119(5,0ミリモル)及び2〜ソアゾー3
−オキソ酪酸4−ニトロベンツル1.711(6,5ミ
IJモル)から、粗製の生成物をシリカダル2フf上で
クロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル3
: 2 ) 、無色の結晶として表題の化合物1.12
F(67%)が得られた、融点104℃、Rf’、0.
29(−酢酸エチル)。
IR(KBr ) 2145 (A’t)、1767(
(’=0.β−ラクタム)、1969,1655゜15
2 B (NO,as、 )、1349cn−’ (
NO。
(’=0.β−ラクタム)、1969,1655゜15
2 B (NO,as、 )、1349cn−’ (
NO。
8暑。
’H−NMR(250MHz 、 CDCl3)δ2.
70(dd 、J=1Hz 、17.5Hz 、 1H
,H−3β)、108(dd、J=9.5Hz、 18
Hz。
70(dd 、J=1Hz 、17.5Hz 、 1H
,H−3β)、108(dd、J=9.5Hz、 18
Hz。
I H、CH,Co )、3.20 (d d d 、
J = 1.5Hz。
J = 1.5Hz。
5Hz 、 17.5ffg 、 ’IH,H−3cり
、′5.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、
1H,CH,CO)、4.04 (frLt 1H1H
−4)、5.42 <8 t 2H。
、′5.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、
1H,CH,CO)、4.04 (frLt 1H1H
−4)、5.42 <8 t 2H。
C00CH,) 、7.59及びa42 (d 、7=
1QHz。
1QHz。
各々2 Hs ’I) Not −Co”a )014
H1□N406 (532,3)計算値:C50,61
H五64N16.86実測値:050゜6 H五6
#16.76) 無水THF48−中の4−アセト
キシ−2−アゼチソノン646w9C5,0ミリモル)
及び2−ノアシー3−オキソ酪酸4−ニトロベンジル1
.71 y (6,sミ+)モル)の0℃に冷却した溶
液にエチルツインプロピルアミン2.52mj(IAO
ミリモル)、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル2.3m(12ミリモル)を加えた。冷却浴
を除去し、この混合物を室温で1時間攪拌し、次にトリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルQ、3d(
1,5ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間攪拌し
、実施例1に述べた如くして処理した。粗製の生成物を
シリカグル902上でクロマトグラフィー(酢酸エチル
)にかけた後、無色の結晶として表題の化合物9501
n?(57%)が得られた、融点106〜104℃。
H1□N406 (532,3)計算値:C50,61
H五64N16.86実測値:050゜6 H五6
#16.76) 無水THF48−中の4−アセト
キシ−2−アゼチソノン646w9C5,0ミリモル)
及び2−ノアシー3−オキソ酪酸4−ニトロベンジル1
.71 y (6,sミ+)モル)の0℃に冷却した溶
液にエチルツインプロピルアミン2.52mj(IAO
ミリモル)、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル2.3m(12ミリモル)を加えた。冷却浴
を除去し、この混合物を室温で1時間攪拌し、次にトリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルQ、3d(
1,5ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間攪拌し
、実施例1に述べた如くして処理した。粗製の生成物を
シリカグル902上でクロマトグラフィー(酢酸エチル
)にかけた後、無色の結晶として表題の化合物9501
n?(57%)が得られた、融点106〜104℃。
他の物理データは方法α)によって得られた物質と同一
であった。
であった。
実施例6
4−(3−シアシー1−メトキシ−3−メトキシカルボ
ニル−2−オキソプロピル)アゼチジン−実施例1に述
べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン64
6■(560ミリモル)及び2−ジアゾ−4−メトキシ
−3−オキソ酪酸メチル1.12F(6,5ミリモル)
から、室温で4時間後、粗製の生成物をシリカダル60
を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:
9)にかけた後、分離することができ表かったノアステ
レオマ−の5=1混合物として表題の化合物が得られた
。
ニル−2−オキソプロピル)アゼチジン−実施例1に述
べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン64
6■(560ミリモル)及び2−ジアゾ−4−メトキシ
−3−オキソ酪酸メチル1.12F(6,5ミリモル)
から、室温で4時間後、粗製の生成物をシリカダル60
を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:
9)にかけた後、分離することができ表かったノアステ
レオマ−の5=1混合物として表題の化合物が得られた
。
JR(CHCI、) 2150 (A’z)、1560
((’=0.β−ラクタム)、17201660信−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl、)、主
なノアステレオマJ 2−93 (d d 、/ =
4−5Hz *15Hz 、177.77−3)、 ′
5.07(dd、J=1.5Hz 、 15#’z
、 1H,H−3β)、五46(5、5H,0CH8
)、3.90 (813HICOOCH,)、3.9
5 (fi、 1H,H−4)、4,90(d 、J
=4.5Ez 、 1K 、CMづ’:H−OCH5)
、6.00 (6g 、 1H,HE)。
((’=0.β−ラクタム)、17201660信−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl、)、主
なノアステレオマJ 2−93 (d d 、/ =
4−5Hz *15Hz 、177.77−3)、 ′
5.07(dd、J=1.5Hz 、 15#’z
、 1H,H−3β)、五46(5、5H,0CH8
)、3.90 (813HICOOCH,)、3.9
5 (fi、 1H,H−4)、4,90(d 、J
=4.5Ez 、 1K 、CMづ’:H−OCH5)
、6.00 (6g 、 1H,HE)。
実施例7
4−(5−tart。−ブチルオキシカルボニル−1−
クロロ−3−シアシー2−オキソプロピル)トリエチル
アミン1.8td(IAOミ!jモル、2.6当量)及
びトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル2.
3d(12,0ミリモル、2.4当量)を、無水ジクロ
ロメタン45−中の4−アセトキシ−2−アゼチジノン
646ap(5,0ミリモル)及び4−クロロ−2−ジ
アゾ−5−オキノ酪酸tert、−ブチル1.42F(
6,5ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却
浴を除去し、混合物を室温で5時間攪拌し、次にトリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.31I!
7!(1,5ミリモル、0.5当量)を加え、この混合
物を室温で1時間攪拌した。処理するために、混合物を
冷却した飽和NaHCO3溶液及び酢酸エチルの混合物
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和Na
C1溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥した。
クロロ−3−シアシー2−オキソプロピル)トリエチル
アミン1.8td(IAOミ!jモル、2.6当量)及
びトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル2.
3d(12,0ミリモル、2.4当量)を、無水ジクロ
ロメタン45−中の4−アセトキシ−2−アゼチジノン
646ap(5,0ミリモル)及び4−クロロ−2−ジ
アゾ−5−オキノ酪酸tert、−ブチル1.42F(
6,5ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却
浴を除去し、混合物を室温で5時間攪拌し、次にトリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.31I!
7!(1,5ミリモル、0.5当量)を加え、この混合
物を室温で1時間攪拌した。処理するために、混合物を
冷却した飽和NaHCO3溶液及び酢酸エチルの混合物
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和Na
C1溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥した。
溶媒を真空下で蒸発させ、シリカグル40?上でクロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:1)にかけた
後、ノアステレオマ−(10:1)混合物として表題の
化合物426m!!(30%)が得られた、Rf二0.
35(トルエン:酢酸エテル1:1)。
トグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:1)にかけた
後、ノアステレオマ−(10:1)混合物として表題の
化合物426m!!(30%)が得られた、Rf二0.
35(トルエン:酢酸エテル1:1)。
IR(CHCI3) 3419 (NH)、2143
(Nt)、1770(C=0.β−ラクタム)、171
1゜1648二1゜ ”H−NMR(250MHz 、CDCl、)δ1.5
6(a 、 9H、C(CH3)、)、2.95 (d
d 、 J=1.5Hz 、15Hz 、 1H,H
−5β)、3.24(ddd 、 J=2.511z
、 5F12.15.51g +1H,H−3α)、4
.15 (fi、 1H,H=4>、5.20 (d
、J=9Hz 、 1H、CH−CHCI )、6.
05(be、1H,ME)。
(Nt)、1770(C=0.β−ラクタム)、171
1゜1648二1゜ ”H−NMR(250MHz 、CDCl、)δ1.5
6(a 、 9H、C(CH3)、)、2.95 (d
d 、 J=1.5Hz 、15Hz 、 1H,H
−5β)、3.24(ddd 、 J=2.511z
、 5F12.15.51g +1H,H−3α)、4
.15 (fi、 1H,H=4>、5.20 (d
、J=9Hz 、 1H、CH−CHCI )、6.
05(be、1H,ME)。
C,、H,4C1N、0. (287,7)計算値:(
’45.92 H4,91実測値:C46,2ff5
.1 実施例8 4−(1−ベンジルオキシ−3−tert。−ブトキシ
カルボニルオキシ−3−ジアゾ−2−オキソ実施例7に
述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン6
4.6119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルオキ
シ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸tert、−ブチル1
.89F(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ
カダル150y上でクロマトグラフィーにかけ、比〉9
:1における2種のノアステレオマ−の混合物として表
題の化合物が得られた、Rf:0.56(トルエン:酢
酸エテル1:9)。
’45.92 H4,91実測値:C46,2ff5
.1 実施例8 4−(1−ベンジルオキシ−3−tert。−ブトキシ
カルボニルオキシ−3−ジアゾ−2−オキソ実施例7に
述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン6
4.6119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルオキ
シ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸tert、−ブチル1
.89F(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ
カダル150y上でクロマトグラフィーにかけ、比〉9
:1における2種のノアステレオマ−の混合物として表
題の化合物が得られた、Rf:0.56(トルエン:酢
酸エテル1:9)。
IR(CIICE、) 2145 (A’t)、176
5(C=0.β−ラクタム)、1705、・1650c
IrL−1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
1,) δ1.50(819H、C(CH3)5)、
2.90Cddd。
5(C=0.β−ラクタム)、1705、・1650c
IrL−1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
1,) δ1.50(819H、C(CH3)5)、
2.90Cddd。
J=2Hz 、5Hz + 16Hz 、 1H,H−
3α)、109(dd、J=1Hz、16Hz、1H。
3α)、109(dd、J=1Hz、16Hz、1H。
H−5β)、五92(毒、1H,H−4)、4.4B、
4.72(AB、J=11Hz、2H。
4.72(AB、J=11Hz、2H。
OCH,Ph)、5.08 (d 、 J =4.5H
z 、 1H。
z 、 1H。
CHCHOCH2ph)、&03 (bs 、 1H,
NH)。
NH)。
実施例9
(3S、4R)−3−、C(IR)−1−アリルオキシ
カルボニルオキシエチル)−4−[3−アリルオキシカ
ルボニル−3−ノアシー2−オキソゲ実施例1に述べた
如くして、(5R,l?)−4−アセトキシ−3−C(
IR)−1−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕ア
ゼチジ/−2−オン447m!(1,74ミリモル)及
び2−ジアゾ−3−オキン酪酸アリル58Q?C2,2
6ミリモル)から、粗製の生成物を7リカrル50f上
でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル3:2)
にかけた後、油として表題の化合物226η(36%)
が得られた、Rf;cL26(トルエン:酢酸エチル5
:2)。
カルボニルオキシエチル)−4−[3−アリルオキシカ
ルボニル−3−ノアシー2−オキソゲ実施例1に述べた
如くして、(5R,l?)−4−アセトキシ−3−C(
IR)−1−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕ア
ゼチジ/−2−オン447m!(1,74ミリモル)及
び2−ジアゾ−3−オキン酪酸アリル58Q?C2,2
6ミリモル)から、粗製の生成物を7リカrル50f上
でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル3:2)
にかけた後、油として表題の化合物226η(36%)
が得られた、Rf;cL26(トルエン:酢酸エチル5
:2)。
JR(CHCI、) 2150 (Nt)、1755(
(’=0.β−ラクタム)、1720 1645傷−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl5)δ1
.44(d、I=6.5 Hg 、 3 H、CH,C
H)、&03Cdd 、J=9.5Hz 、18Hz
、CM、CO)、五〇8(鶏、H−6)2ffと共に、
3.44(dd。
(’=0.β−ラクタム)、1720 1645傷−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl5)δ1
.44(d、I=6.5 Hg 、 3 H、CH,C
H)、&03Cdd 、J=9.5Hz 、18Hz
、CM、CO)、五〇8(鶏、H−6)2ffと共に、
3.44(dd。
J=4.5Hz 、18Hz 、 1H、CH,Co)
、4.0 Cm、 1H,H−5)、4.62 (fi
、2H。
、4.0 Cm、 1H,H−5)、4.62 (fi
、2H。
づ’:H,−CII=:CM、 )、4.74 (m
、 2 H、−CM、−βH=CE、)、5.11 (
dq−J =l>511z 。
、 2 H、−CM、−βH=CE、)、5.11 (
dq−J =l>511z 。
7Hz 、IH、CM、CgO)、5.25−5.4
(’yyLt4H、CH=Ωh)、5.9−6.0(惧
、’lH,C互=CH,)、6.14 (ba 、 1
H,ME)。
(’yyLt4H、CH=Ωh)、5.9−6.0(惧
、’lH,C互=CH,)、6.14 (ba 、 1
H,ME)。
実施例10
4−(1−アセチルチオ−5−tart、−ブトキシカ
ルボニル−3−ジアゾ−2−オキソグロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン
64611F(5,0ミリモル)及び4−ア七チルチオ
ー2−ジアゾー5−オキソ酪酸tart、−ブチル1.
67f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ男
rル502上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エ
チル3:2)Kかけ、比2:1における211のシアス
テレオマ−〇混合物として表題の化合物548ay(2
1%)が得られた、Rf−0,22(トルエン:酢酸エ
チル3:2)。
ルボニル−3−ジアゾ−2−オキソグロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン
64611F(5,0ミリモル)及び4−ア七チルチオ
ー2−ジアゾー5−オキソ酪酸tart、−ブチル1.
67f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ男
rル502上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エ
チル3:2)Kかけ、比2:1における211のシアス
テレオマ−〇混合物として表題の化合物548ay(2
1%)が得られた、Rf−0,22(トルエン:酢酸エ
チル3:2)。
I R(CHCI、) 2140 (A’t )、17
65(Cm0.β−ラクタム)、1713 1641c
!L″″1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
l、)δ1.52゜1.53 (s 、 9M 、 (
ACHs)s )、2.58(a。
65(Cm0.β−ラクタム)、1713 1641c
!L″″1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
l、)δ1.52゜1.53 (s 、 9M 、 (
ACHs)s )、2.58(a。
3 H、C0CH,)、2.7− !h、1(m、2H
,H−5゜H−3’)、4.10 (?7L、 IH,
H−4)、5,45(d、J=6Hz)、5.58 (
d 、 / =5Hz 。
,H−5゜H−3’)、4.10 (?7L、 IH,
H−4)、5,45(d、J=6Hz)、5.58 (
d 、 / =5Hz 。
CM−CH5COCH,IHと共に、5.92,6.1
0(6g、IH,#H)6 実施例11 4−(1−ペンツルチオ−3−tart、−ブトキシカ
ルボニル−3−シアシー2−オキソプロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン
646119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルチオ
−2−ジアゾ−3−オキン酪酸tart、−ブチル1.
99f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカ
グル180を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸
エチル3:2)にかけた後、比3:1における2種のノ
アステレオマ−混合物の結晶として表題の化合物410
■(22%)が得られた、融点119℃、Rf:α31
(トルエン:酢酸エテル3:2)。
0(6g、IH,#H)6 実施例11 4−(1−ペンツルチオ−3−tart、−ブトキシカ
ルボニル−3−シアシー2−オキソプロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン
646119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルチオ
−2−ジアゾ−3−オキン酪酸tart、−ブチル1.
99f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカ
グル180を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸
エチル3:2)にかけた後、比3:1における2種のノ
アステレオマ−混合物の結晶として表題の化合物410
■(22%)が得られた、融点119℃、Rf:α31
(トルエン:酢酸エテル3:2)。
IR(CHCI、) 2140 (A’t)、1758
((’=0.β−ラクタム)、1705,1632cI
L−’。
((’=0.β−ラクタム)、1705,1632cI
L−’。
’H−NMR(250MHz 、CDCl、)δ1.5
6゜1.57 (# 、9H,C(CH3)、)、2.
52 (dd。
6゜1.57 (# 、9H,C(CH3)、)、2.
52 (dd。
7 =15Hg −1,5Hz * I Hs 3−
Hβ)、2.92(ddd、J−15Hz、4.5ff
g。
Hβ)、2.92(ddd、J−15Hz、4.5ff
g。
5Hz 、 1H,5−H)、&ヅB 、 3.89
CAD。
CAD。
7 = 14.5 Hz 、 21j1,5CHxP
A )、4.0(fi。
A )、4.0(fi。
1H、H−4) 、4−47 (d 、/ =10 H
z 。
z 。
CH3CN、Ph)、4.65Cd、J=8Hz。
9互SCH,Ph)、1Hと共に、5.62 、5.7
0(b s 、 I H、HE )、7.4 (m 、
5H、Ph)。
0(b s 、 I H、HE )、7.4 (m 、
5H、Ph)。
”la”llN5 O4S
計算値:(’57.58 H5,64#11.19S
&54 実測値:(’57.2 H5,6ff10.7a7 実施例12 (55,45>−5−C(1R)−1−tart。
&54 実測値:(’57.2 H5,6ff10.7a7 実施例12 (55,45>−5−C(1R)−1−tart。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−C(IR
)−3−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−ジ
アゾ−2−オキソグロビル〕アゼチジン−2−オン 及び (3S* 4S)−3−C(IR)−1−tert。
)−3−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−ジ
アゾ−2−オキソグロビル〕アゼチジン−2−オン 及び (3S* 4S)−3−C(IR)−1−tert。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル)−4−C(IS
)−5−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−シ
アシー2−オキンクロビル〕アゼ実施例7に述べた如く
して、(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((17
?)−1−tlデt。
)−5−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−シ
アシー2−オキンクロビル〕アゼ実施例7に述べた如く
して、(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((17
?)−1−tlデt。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル〕アゼチジン−2
−オン1.44F(5,0ミリモル)及び4−クロロ−
2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル1.32f(6,5
ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル240を上
でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル8
5:15)、無色の結晶として無極性の異性体171+
19(13%)が得られた、融点104℃、Rf:11
58(トルエン:酢酸エチル4:1)。
−オン1.44F(5,0ミリモル)及び4−クロロ−
2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル1.32f(6,5
ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル240を上
でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル8
5:15)、無色の結晶として無極性の異性体171+
19(13%)が得られた、融点104℃、Rf:11
58(トルエン:酢酸エチル4:1)。
IA(fBr)2145(A’tL 1769(C=
0.β−ラクタム)、1720,1662信−1゜重H
−NMR(300MHg 、 CDCl5)δ(LO8
(’ + 6 Ht CHB Ss )、Q、87 (
11、9H。
0.β−ラクタム)、1720,1662信−1゜重H
−NMR(300MHg 、 CDCl5)δ(LO8
(’ + 6 Ht CHB Ss )、Q、87 (
11、9H。
CH,C−5i)、1.20(d、J=6.3H,,3
y。
y。
惺CH)、&07うり、 1H,H−5)、4.08(
dd、J=2.3Hz 、4.3Hg 、IH、H−4
>、4.17 (dq 、 J =18Hz 、 6.
5Hz 、 1H。
dd、J=2.3Hz 、4.3Hg 、IH、H−4
>、4.17 (dq 、 J =18Hz 、 6.
5Hz 、 1H。
CH,CHO5i )、4.70 (d 、 7 =
5.8Hg 。
5.8Hg 。
2H、CE、−CH=CH,)、5.3−5.4(慣、
2H9CH=CH,)、5.50 (d −7=4.3
Hz + I H。
2H9CH=CH,)、5.50 (d −7=4.3
Hz + I H。
CHCI)、5.8−6.0(常、1H,−CE霊−9
互=CH,)、6.0(ha、1H,NH)。
互=CH,)、6.0(ha、1H,NH)。
加えて、無色の結晶として有極性異性体755Wq(3
5%)が得られた、融点107℃、Rf:0.27()
ルエン:酢酸エチル4:1)。
5%)が得られた、融点107℃、Rf:0.27()
ルエン:酢酸エチル4:1)。
IRCKBデ) 2140 (Nt)、176B (C
=0.β−ラクタム)、1720.1671cm−’。
=0.β−ラクタム)、1720.1671cm−’。
”H−NMR(500MHz 、CDCl、)δα08
゜Q、09 (s # 6 H* CHs 5 s )
、0.88(#。
゜Q、09 (s # 6 H* CHs 5 s )
、0.88(#。
9 H、CM、C−5< )、1.24 (d 、 J
=6.5Hz。
=6.5Hz。
5H、CH,CH)、3.08 (dd 、 1.=2
.5Hz 。
.5Hz 。
”1.4Hz 、、Lff、J7−3)、4.26(d
d、J=2Hz 、8.9Hz 、H−4)、4.5(
m。
d、J=2Hz 、8.9Hz 、H−4)、4.5(
m。
CM、CHO5i )2Hと共に、4.79(frL、
2J7゜CH,−CH=CII、 )、5.20 (d
、 J=8.9Hz 。
2J7゜CH,−CH=CII、 )、5.20 (d
、 J=8.9Hz 。
1H,CHCl)、5.3−5.4 (m 、2H、
CM=pH,)、5.86(bs、NH)、5.8−6
.0(常。
CM=pH,)、5.86(bs、NH)、5.8−6
.0(常。
−C1l、−CH=CH,) 2 Hと共に。
実施例15
(3S、4R)−3−((IR)−1−tart。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル)−4−((17
?)−5−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−
オキソ−1−フユニルプロビル〕ア及び <55 e 4R) −3−C(17?)−1−tar
t。
?)−5−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−
オキソ−1−フユニルプロビル〕ア及び <55 e 4R) −3−C(17?)−1−tar
t。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル)−4−((1s
)−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾル2−オ
キソ−1−ツエニルゾロビル〕ア実施例7に述べた如く
して、(5R,4R)−4−7七ト−+シー3−C(I
R)−1−6art。
)−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾル2−オ
キソ−1−ツエニルゾロビル〕ア実施例7に述べた如く
して、(5R,4R)−4−7七ト−+シー3−C(I
R)−1−6art。
−ブチルシンチルシリルオキシエチル〕アゼチジン−2
−オン1.44t(5,0ミリモル)及び2−ゾアゾー
3−オキソ−4−フェニル酪酸アリル1.59 f (
6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル23
02上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エ
チル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物20
0Wq(9%)が得られた、Rf:Q、′52(トルエ
ン:酢酸エチル4:1)。
−オン1.44t(5,0ミリモル)及び2−ゾアゾー
3−オキソ−4−フェニル酪酸アリル1.59 f (
6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル23
02上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エ
チル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物20
0Wq(9%)が得られた、Rf:Q、′52(トルエ
ン:酢酸エチル4:1)。
I R(CHCI3) 2140 (Nt )、176
0((’=O1β−ラクタム)、1720 t 165
0(X−’。
0((’=O1β−ラクタム)、1720 t 165
0(X−’。
翼H−NMR(300MHz 、 CDCLB )δ0
.07゜0.08 (8p 6Hr CHsS’ )、
D、8B(#。
.07゜0.08 (8p 6Hr CHsS’ )、
D、8B(#。
9H,CH,C−5j )、1.19 (d 、 J=
6.5H2゜5H,ぷH8CH)、λ68(常、1H,
H−3)、4.18(情、CH,CHO5i )、4.
24(dd。
6.5H2゜5H,ぷH8CH)、λ68(常、1H,
H−3)、4.18(情、CH,CHO5i )、4.
24(dd。
J=2.5Hz 、6.5Hz 、H−4)2Hと共に
、4.6−4.8<毒、2H1ΩFj、−CH=CH,
)、4.97(d、J=6.5Hz、1H1CHPh)
、5,2−5.4 (tFL 、 2H、CH=91り
、5.83(bS。
、4.6−4.8<毒、2H1ΩFj、−CH=CH,
)、4.97(d、J=6.5Hz、1H1CHPh)
、5,2−5.4 (tFL 、 2H、CH=91り
、5.83(bS。
HE)、5.8− &O(tn 、 CH,−CH=C
H,) 2Hと共に、7.35 (m、5H,Ph)
。
H,) 2Hと共に、7.35 (m、5H,Ph)
。
加えて、無色の結晶として有極性の表題化合物5301
+1i(22%)が得られた、融点159℃、Rf;α
21(トルエン;酢酸エチル4;1)。
+1i(22%)が得られた、融点159℃、Rf;α
21(トルエン;酢酸エチル4;1)。
IR(KBr ) 213 B (A’l)、1764
(C=0.β−ラクタム)、1725 t 1658I
IXm−’。
(C=0.β−ラクタム)、1725 t 1658I
IXm−’。
’H−NMR(300ME g 、 CDCl、)
δQ、01(8* 6 H* CHs Ss )、α2
5 (d 、J =6Hz r5H,□SCM)、0.
88 (s 、 9 H、CH,C−5i)、184
(fn* 1ff 、H−3)、4.09 (?3.I
H。
δQ、01(8* 6 H* CHs Ss )、α2
5 (d 、J =6Hz r5H,□SCM)、0.
88 (s 、 9 H、CH,C−5i)、184
(fn* 1ff 、H−3)、4.09 (?3.I
H。
CHμ’HO5i)、4.36 (d d + 7 =
2.3Hz −10,5Hz p H−4)、4.6
6(fn、づ’:H,−CH=CH,)、 4.75(
d、!=1 α5 Hz 、CHPん)、2Hと共に
、5.2−5.4 (m 、 2 H、CH=CH,)
、5.99−40(、(j7.づ’::H=CH,)、
5.94(bS。
2.3Hz −10,5Hz p H−4)、4.6
6(fn、づ’:H,−CH=CH,)、 4.75(
d、!=1 α5 Hz 、CHPん)、2Hと共に
、5.2−5.4 (m 、 2 H、CH=CH,)
、5.99−40(、(j7.づ’::H=CH,)、
5.94(bS。
NH)’IHと共に、ス54(倶、5H,Ph)。
実施例14
<55.45)−5−C(1R)−1−tart。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル)−4−[:(I
R)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル
−3−ジアゾ−2−オキソグロビル]及び (55,45)−5−〔C1R)−i−tert。
R)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル
−3−ジアゾ−2−オキソグロビル]及び (55,45)−5−〔C1R)−i−tert。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル]−4−〔(1S
)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル−
3−ジアゾ−2−オキソグロビル〕実施例7に述べた如
くして、(5R,4R)−4−アセトキシ−3−((I
R)−1−tart。
)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル−
3−ジアゾ−2−オキソグロビル〕実施例7に述べた如
くして、(5R,4R)−4−アセトキシ−3−((I
R)−1−tart。
−プチルゾメチルシリルオキシエチル〕アゼテソン−2
−オン2.70f(9,4ミリモル)及び4−アセチル
チオ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル2.96F(
12,2ミリモル)から、粗製の生成物をシリカグル6
50v上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸
エチル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物4
57η(15%)が得られ九、Rf:α40(トルエン
:酢酸エチル7:3)。
−オン2.70f(9,4ミリモル)及び4−アセチル
チオ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル2.96F(
12,2ミリモル)から、粗製の生成物をシリカグル6
50v上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸
エチル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物4
57η(15%)が得られ九、Rf:α40(トルエン
:酢酸エチル7:3)。
IR(CHCI、> 2135 (N、 )、1765
(C=0.β−ラクタム)、1715 t 163Bc
m−”*”H−NMR(25ONE g 、 CDCl
、)δQ、07゜(108(8$ 6H,CH,54)
、0.87 C819H、CM、C−5i )、1.2
2 (d 、 J=6.5Hz 。
(C=0.β−ラクタム)、1715 t 163Bc
m−”*”H−NMR(25ONE g 、 CDCl
、)δQ、07゜(108(8$ 6H,CH,54)
、0.87 C819H、CM、C−5i )、1.2
2 (d 、 J=6.5Hz 。
5H,βH,CH)、2.59 (8、5H、5COC
H,)、2.92 (m、IH,j7−3)、4.18
(m、ff−4)、4.23(常、CH,CHOSイ)
2Hと共に、4.75(常、2H,−9h−CH=CH
り、5.3−5、4 (fn + CI=9h)、5−
61 (d s / =4Hz +IH,CH3C0C
H5)、s、s−6,o(m。
H,)、2.92 (m、IH,j7−3)、4.18
(m、ff−4)、4.23(常、CH,CHOSイ)
2Hと共に、4.75(常、2H,−9h−CH=CH
り、5.3−5、4 (fn + CI=9h)、5−
61 (d s / =4Hz +IH,CH3C0C
H5)、s、s−6,o(m。
−CH,づ’:11=CH,)、5.98 (bs 、
ME)2Hと共に。
ME)2Hと共に。
加えて、油として有極性の表題化合物1.52(48%
)が得られた、Rf:0.36()ルエン:酢酸エチル
7:3)。
)が得られた、Rf:0.36()ルエン:酢酸エチル
7:3)。
JR(CIIC’l、 ) 5350 (HE)、21
40(N、)、1758((’=0.β−ラクタム)、
1715 s 1640cm−’。
40(N、)、1758((’=0.β−ラクタム)、
1715 s 1640cm−’。
’H−NMR(250MHz、CDCL、)δCLO7
(8、611、CM、54 )、0.88(j、9H。
(8、611、CM、54 )、0.88(j、9H。
CH,C−5i)、1.19 (d 、 J=6.5H
z 、 5B。
z 、 5B。
βH30H)、2.37 (8,5H,5COCH,)
、3.12(惧、 111.H−3)、4.20 (d
d。
、3.12(惧、 111.H−3)、4.20 (d
d。
J=2Hz 、 15Hz 、H−4)、4.20 (
?W+CH3CHO5イ)2Hと共に、4.75(毒、
2B。
?W+CH3CHO5イ)2Hと共に、4.75(毒、
2B。
二〇!、−CH=CH,)、5.3−5.4(惜、2H
1−CH=CH1)、5.42 (d 、J=7.5H
z 、 1H。
1−CH=CH1)、5.42 (d 、J=7.5H
z 、 1H。
CH3C0CH5)、5..80 (6g 、 1H,
ME)、5.85−6.0(慣、1H,CH,−イg=
CH,)。
ME)、5.85−6.0(慣、1H,CH,−イg=
CH,)。
実施例15
C55,45)−5−C<1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−((IR,5)−1−アセチルチオ−3−ア
リル〕オキシカルボニルー3−ノア無水ソクロロメタン
2〇−中の(3R,47?)−4−アセトキシ−3−(
(1R)−1−ヒドロキシエチル〕アゼチソン−2−オ
ン400η(2,3ミIJモル)及び4−アセチルチオ
−2−シアシー3−オキソ酪酸アリル720η(五〇ミ
リモル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミン1
.15m(a3ミリモル、3.6尚量)、次にトリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリル1゜51 m
(7,8ミリモル、&4当量)を加えた。
ル)−4−((IR,5)−1−アセチルチオ−3−ア
リル〕オキシカルボニルー3−ノア無水ソクロロメタン
2〇−中の(3R,47?)−4−アセトキシ−3−(
(1R)−1−ヒドロキシエチル〕アゼチソン−2−オ
ン400η(2,3ミIJモル)及び4−アセチルチオ
−2−シアシー3−オキソ酪酸アリル720η(五〇ミ
リモル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミン1
.15m(a3ミリモル、3.6尚量)、次にトリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリル1゜51 m
(7,8ミリモル、&4当量)を加えた。
冷却番を除去し、混合物を室温で4時間攪拌し、トリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル135μ1(
CL7ミリモル、0.3轟量)を加え、混合物を室温で
6時間攪拌し、実施例1に述べた如くして処理した。粗
製の生成物をシリカグル40f上でクロマトグラフィー
(酢酸エチル)にかけた後、分離することができなかっ
た2種のシアステレオマ−の混合物として表題の化合物
が得られた、Rf二0.31(酢酸エチル)。
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル135μ1(
CL7ミリモル、0.3轟量)を加え、混合物を室温で
6時間攪拌し、実施例1に述べた如くして処理した。粗
製の生成物をシリカグル40f上でクロマトグラフィー
(酢酸エチル)にかけた後、分離することができなかっ
た2種のシアステレオマ−の混合物として表題の化合物
が得られた、Rf二0.31(酢酸エチル)。
IR(CHCI、) 3380 (HE)、2150(
N、)、1758((:’=0.β−ラクタム)、17
20.1642(X−’。
N、)、1758((:’=0.β−ラクタム)、17
20.1642(X−’。
’H−NMR(250MHz 、 CDCl、 )δ1
.30゜1.52(d、I=6.5Hz、SH,呂CH
)、2.25.2.75Cb8.1H,OH)、2.4
0(s 、 5 H、5COCH3)、2.96.五1
4(情。
.30゜1.52(d、I=6.5Hz、SH,呂CH
)、2.25.2.75Cb8.1H,OH)、2.4
0(s 、 5 H、5COCH3)、2.96.五1
4(情。
1H,H−3)、4.14 (−+ 2H,H−4。
CH=CH1H)、5.25(常、 2 H、CH,−
CH=CH,)、5.3−5.4 (m 、 2H、C
H=CH,)、5.50 (d 、 J= 6Hz 、
CH3C0CR,)、5.45(d + 7 =4.
8Hz 、CH3COCR5)IHと共に、5.85−
<S、05 (m 、 1H、CH,−CH=CH,
)、6.15 (bs 、 1H,NH)。
CH=CH,)、5.3−5.4 (m 、 2H、C
H=CH,)、5.50 (d 、 J= 6Hz 、
CH3C0CR,)、5.45(d + 7 =4.
8Hz 、CH3COCR5)IHと共に、5.85−
<S、05 (m 、 1H、CH,−CH=CH,
)、6.15 (bs 、 1H,NH)。
実施例16
(35,4S)−5−((IR)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−[3−ジアゾ−3−p−ニトロペンツルオキ
シカルボニル−2−オキソプロピル〕(55,4R)−
5−C(1R)−1−tart。
ル)−4−[3−ジアゾ−3−p−ニトロペンツルオキ
シカルボニル−2−オキソプロピル〕(55,4R)−
5−C(1R)−1−tart。
−プチルソメチルシリルオキシエチル)−4−〔5−ジ
アゾ−3−p−ニトロペンツルオキシカルボニル−2−
オキソプロピル〕アゼチソンー2−オン10〜(α02
ミリモル)を、アセトニトリル中の三フッ化ホウ素エー
テラート五76μ!(003ミリモル、1.5当量)の
飽和溶液1−中に0℃で溶解し、混合物をこの温度で2
時間攪拌した。次に反応溶液をシリカダル/NaHCO
30,5fを通して濾過し、真空下で蒸発させ、表題の
化合物が得られた、Rf”、0.24 ()ルエン:酢
酸エチル1:9)。
アゾ−3−p−ニトロペンツルオキシカルボニル−2−
オキソプロピル〕アゼチソンー2−オン10〜(α02
ミリモル)を、アセトニトリル中の三フッ化ホウ素エー
テラート五76μ!(003ミリモル、1.5当量)の
飽和溶液1−中に0℃で溶解し、混合物をこの温度で2
時間攪拌した。次に反応溶液をシリカダル/NaHCO
30,5fを通して濾過し、真空下で蒸発させ、表題の
化合物が得られた、Rf”、0.24 ()ルエン:酢
酸エチル1:9)。
IRCCHCl、> 5419 (OH)、2142(
N2)、1768c!IL−’ (C=0 、β−ラ
クタム)。
N2)、1768c!IL−’ (C=0 、β−ラ
クタム)。
’H−NMR(250MHz 、CDCl、)J 1.
35(d 、J=6.5Hz 、5H、CH,CM)、
1,62(ba、jH,□J7)、2.91 Cdd
、I=1.5Hz 、7.5ffz 、’IH、H−6
)、A22 (dd−1=7.5Hz 、19Hz 、
1H、CH,CO)、!1.35 (dd 、J=7
.5Hz 、19Hz 、 1H。
35(d 、J=6.5Hz 、5H、CH,CM)、
1,62(ba、jH,□J7)、2.91 Cdd
、I=1.5Hz 、7.5ffz 、’IH、H−6
)、A22 (dd−1=7.5Hz 、19Hz 、
1H、CH,CO)、!1.35 (dd 、J=7
.5Hz 、19Hz 、 1H。
CM、CO)、4,00 (m、 1E、H−5)、4
.20(dq、J=/h5Hz、7.5Hz、 1H*
cH,CHOH)、5.40 (8、2H、C00CH
,)、6.00(b s 、 1H,NH)、7.58
及び&3Q(d。
.20(dq、J=/h5Hz、7.5Hz、 1H*
cH,CHOH)、5.40 (8、2H、C00CH
,)、6.00(b s 、 1H,NH)、7.58
及び&3Q(d。
J−=9Hz、各k 2 Ht p−NOx (’1l
H4)。
H4)。
本実施例の化合物はチェナマイシン(を屓gsa−my
csn)の合成に対する中間体として用いられている〔
米国特許第4,29()、947号:ザルツマ/(Th
、 N、 Salzmann )等、J、 Ayn、
Cんam。Soa。
csn)の合成に対する中間体として用いられている〔
米国特許第4,29()、947号:ザルツマ/(Th
、 N、 Salzmann )等、J、 Ayn、
Cんam。Soa。
102 6163(1980))。
実施例17
■
CsS 、4R)−s−tart、−プチルソ)’f−
にシリルオキシメチル)−4−(3−アリルオキシカル
ボニル−5−ジアゾ−2−オキンクロビル〕無水ソクロ
ロメタン18−中の(3R,4R)−4−アセトキシ−
3−(tart、−ブチルツメチルシリルオキシメチル
〕アゼチジン−2−オン547wf(2,0ミリモル)
及び2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル43719(2
,61モル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミ
ンα72−(s、’z1モル)、次にトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリルQ、91m(4,8ミリ
モル)を加えた。冷却浴を除去し、混合物を室温で15
分間攪拌し、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチル
シリルα1211Lt(cL6ミリモル)を加え、混合
物を室温で更に15分間攪拌した。反応溶液を冷却した
飽和NαHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和NaCL溶液
で洗浄し、Mg5O,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカダル50f上でクロマトグラフィ
ーにかけた(トルエン:酢酸エチル4:1)。油として
表題の化合物462F(61%)が得られた、Rf:0
.11(トルエン;酢酸エチル4:1)。
にシリルオキシメチル)−4−(3−アリルオキシカル
ボニル−5−ジアゾ−2−オキンクロビル〕無水ソクロ
ロメタン18−中の(3R,4R)−4−アセトキシ−
3−(tart、−ブチルツメチルシリルオキシメチル
〕アゼチジン−2−オン547wf(2,0ミリモル)
及び2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル43719(2
,61モル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミ
ンα72−(s、’z1モル)、次にトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリルQ、91m(4,8ミリ
モル)を加えた。冷却浴を除去し、混合物を室温で15
分間攪拌し、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチル
シリルα1211Lt(cL6ミリモル)を加え、混合
物を室温で更に15分間攪拌した。反応溶液を冷却した
飽和NαHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和NaCL溶液
で洗浄し、Mg5O,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカダル50f上でクロマトグラフィ
ーにかけた(トルエン:酢酸エチル4:1)。油として
表題の化合物462F(61%)が得られた、Rf:0
.11(トルエン;酢酸エチル4:1)。
JR(CHCIs) 5580 (ME)、2150(
N、)、1760(Cm0.β−ラクタム)、1715
.1648cst−’。
N、)、1760(Cm0.β−ラクタム)、1715
.1648cst−’。
”H−NMR(250MHg 、 CDCl5)δG、
07(Jt 、 6H、C’H,Si )、α88(l
l19HtCM、C3s)、303 (m、 1H,H
−!l)、工11(dd 、7−10Hz 、18Hz
、 1H,CM、CO)、X40 (dd 、J=5
Hz 、1877g 、 1H。
07(Jt 、 6H、C’H,Si )、α88(l
l19HtCM、C3s)、303 (m、 1H,H
−!l)、工11(dd 、7−10Hz 、18Hz
、 1H,CM、CO)、X40 (dd 、J=5
Hz 、1877g 、 1H。
cg、co)、X95(情、H−4)、4.0(仇。
CH,O5i ) 5 Hと共に、4.76 Cm、2
H。
H。
ヨ、=にH=CH,)、5.3−閂、45(常、2H9
−cn=βI、)、5.9−6.1 (m 、 −CM
、−CH=CH,)、X01 (ha、NH)2Hと共
に。
−cn=βI、)、5.9−6.1 (m 、 −CM
、−CH=CH,)、X01 (ha、NH)2Hと共
に。
実施例18
<55 * 4R)−5−(tttrt、−プfsa)
)fルシリルオ會ジメチル)−4−[3−シアシー3−
p−ニトロペンシルオキシカルボエル−2−オΦソクロ
ビル〕アゼチヅンー2−オン 実施例17に述べた如くして、<3R,aR)−4−ア
セトキV−3−1: tart、−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル〕アゼチジン−2−オン930岬(3,
4ミリモル)及び2−ジアゾ−5−オキソ酪酸4−ニト
ロペンシル1.16F(4,42ミリモル、1.5当量
)から、粗製の生成物をシリカダル100f上でクロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エテル1:1.)にかけ
た後、無色の結晶として表題の化合物1.22F(65
%)が得られた、融点104℃、Rf:0.31(トル
エン:酢酸エチル1:1)。
)fルシリルオ會ジメチル)−4−[3−シアシー3−
p−ニトロペンシルオキシカルボエル−2−オΦソクロ
ビル〕アゼチヅンー2−オン 実施例17に述べた如くして、<3R,aR)−4−ア
セトキV−3−1: tart、−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル〕アゼチジン−2−オン930岬(3,
4ミリモル)及び2−ジアゾ−5−オキソ酪酸4−ニト
ロペンシル1.16F(4,42ミリモル、1.5当量
)から、粗製の生成物をシリカダル100f上でクロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エテル1:1.)にかけ
た後、無色の結晶として表題の化合物1.22F(65
%)が得られた、融点104℃、Rf:0.31(トル
エン:酢酸エチル1:1)。
IR(MEデ)3352 (7VH)、2139(N、
)、1755cc=0.β−ラクタム)、1713.1
660.1525<NO,α8.)、1349cm−’
(NO,a、)。
)、1755cc=0.β−ラクタム)、1713.1
660.1525<NO,α8.)、1349cm−’
(NO,a、)。
’H−NMR(500MHg 、CDCl2)δCLO
6(8,6H,CH,Ss)、0.86(#19H1c
g、csi)、2.98 (m−1# +H5)、3−
05(dd 、J=9Hz 、18Hz 、 1H,C
H,CO)、5.54 (dd 、 J=511 g
、 18Hz 、 1H。
6(8,6H,CH,Ss)、0.86(#19H1c
g、csi)、2.98 (m−1# +H5)、3−
05(dd 、J=9Hz 、18Hz 、 1H,C
H,CO)、5.54 (dd 、 J=511 g
、 18Hz 、 1H。
CH,CO)、189 (m、 1H,H−4)、A9
6(m、2H+CH,05i)、5.31(l y 2
HtCOOCH2)、5.93 (bj、 1H,ME
)、7.50(d 、J=9Hz 、2H,H芳香族)
、a23(d 、J=9Hz 、2H,p芳香族)。
6(m、2H+CH,05i)、5.31(l y 2
HtCOOCH2)、5.93 (bj、 1H,ME
)、7.50(d 、J=9Hz 、2H,H芳香族)
、a23(d 、J=9Hz 、2H,p芳香族)。
実施例7に述べた如くして、(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−((IR)−j−tsデt。
トキシ−3−((IR)−j−tsデt。
−ブチルツメチルシリルオキ7エチル〕アゼテゾン−2
−オンを対応するソアゾアセト酢酸エステルと反応させ
て次の化合物(実施例19〜24、第3表)が得られた
: (時間のコラムは、触媒量のトリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルの添加後、室温での攪拌時間を表
わす)。
−オンを対応するソアゾアセト酢酸エステルと反応させ
て次の化合物(実施例19〜24、第3表)が得られた
: (時間のコラムは、触媒量のトリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルの添加後、室温での攪拌時間を表
わす)。
C) カルバペネム抗生物質の製造に対する一般式■の
化合物の使用実施例 使用実施例1 (2S、SR,68)−2−アリルオキシカルボニル−
3,7−シオキソー6− ((I R)−1−tert
、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−7ザビ
シクロ320 ヘ タン 無水ジクロロメタン50−1中の(3S、4R)−3−
((I R)−tert、−ブチルツメチルシリルオキ
シエチル)−4−[3−アリルオキシカルボニル−3−
ノアシー2−オキシプロピル〕アセチジンー2−オン3
゜96g(10ミリモル)のf#液を酢酸ロジウム(I
[)40 mg(1モル%)の存在下において30分間
加熱還流させた。1反応溶液を少量のケイソウ土及びシ
リカゾルを通して、真空下で蒸発させた。無色の油とし
て表題の化合物3.5.(95%)が得られた、Rf:
0.46()ルエン:酢酸エチル7:3)。
化合物の使用実施例 使用実施例1 (2S、SR,68)−2−アリルオキシカルボニル−
3,7−シオキソー6− ((I R)−1−tert
、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−7ザビ
シクロ320 ヘ タン 無水ジクロロメタン50−1中の(3S、4R)−3−
((I R)−tert、−ブチルツメチルシリルオキ
シエチル)−4−[3−アリルオキシカルボニル−3−
ノアシー2−オキシプロピル〕アセチジンー2−オン3
゜96g(10ミリモル)のf#液を酢酸ロジウム(I
[)40 mg(1モル%)の存在下において30分間
加熱還流させた。1反応溶液を少量のケイソウ土及びシ
リカゾルを通して、真空下で蒸発させた。無色の油とし
て表題の化合物3.5.(95%)が得られた、Rf:
0.46()ルエン:酢酸エチル7:3)。
I R(CHCI:l)1766.1740 c+*−
’。
’。
’ H−N M R(250M Hz 、、CD CI
3 )δ0.06s。
3 )δ0.06s。
6 H、CHs S i )、0.87(s、9HSC
HsC−3i)、1.26(dSJ”6.5Hz、3H
,CHsCH)、2.44(dd、J=8Hz、19H
z、IH。
HsC−3i)、1.26(dSJ”6.5Hz、3H
,CHsCH)、2.44(dd、J=8Hz、19H
z、IH。
CH,CO)、2.88(dd、J=8Hz、19Hz
。
。
IH,CH2C0)、3.15(ddSJ=2Hz、5
Hz、IH,H−6)、4.16(dddSJ=2Hz
。
Hz、IH,H−6)、4.16(dddSJ=2Hz
。
8Hz、8Hz、IHlH−5)、4.33 (dq、
J =5 Hz、 6.5 Hz、 I
H% CHsC二EL)、 4.65(m、2H,CH
I−CH=CH,)、4.71 (s、 I H。
J =5 Hz、 6.5 Hz、 I
H% CHsC二EL)、 4.65(m、2H,CH
I−CH=CH,)、4.71 (s、 I H。
H−2)、5.25−5.4(m、2H,CH=CHz
)、5.8−6.0(+e、 IH,CH2−坦=CH
2)。
)、5.8−6.0(+e、 IH,CH2−坦=CH
2)。
使用実施例2
(5R,6S)−2−(,4−ピリジルチオ)−6−(
(I R)−1−tert、−ブチルツメチルシリルオ
キシエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン ア
リル無水THF100*7中の(2S、SR,6S)−
2−7リルオキンカルボニルー3.7−シオキンー6−
((IR)−1−tert、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−1−7ザビシクロ(3,2,0)へブタ
ン3゜68g(10ミリモル)の−78℃に冷却した溶
液に、1.5−ノアザシクロ〔5,4゜0〕ウンデク−
5−エン(DBU)1.94s−J (13ミリモル)
、そして20分後、無水トリフルオロメタンスルホン酸
2.2−j!(13ミリモル)を滴下した0次に混合物
を一78℃で30分間攪拌し、この溶液を真空下で、温
度を−2,0℃以上に上昇させずに、約40m/に濃縮
した。次に順次、DMF20mr、エチルジイソプロピ
ルアミン2.1m1(12ミリモル)及v4−メルカプ
トピリジン1.33g(12ミリモル)を加元、この混
合物を一20℃で1時間攪拌した0次に混合物を酢酸エ
チルで希釈し、そして冷却した飽和NaHCO,溶液中
に注いだ。酢酸エチルで抽出し、飽和NaCl溶液で洗
浄し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発さ
せ、残渣をシリカゾル600g上でクロマトグラフィー
(トルエン二酢酸エチル)にかけた後、粘性油として表
題の化合物3.1g(66%)が得られた、Rf:0.
30(トルエン:酢酸エチル7:3)。
(I R)−1−tert、−ブチルツメチルシリルオ
キシエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン ア
リル無水THF100*7中の(2S、SR,6S)−
2−7リルオキンカルボニルー3.7−シオキンー6−
((IR)−1−tert、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−1−7ザビシクロ(3,2,0)へブタ
ン3゜68g(10ミリモル)の−78℃に冷却した溶
液に、1.5−ノアザシクロ〔5,4゜0〕ウンデク−
5−エン(DBU)1.94s−J (13ミリモル)
、そして20分後、無水トリフルオロメタンスルホン酸
2.2−j!(13ミリモル)を滴下した0次に混合物
を一78℃で30分間攪拌し、この溶液を真空下で、温
度を−2,0℃以上に上昇させずに、約40m/に濃縮
した。次に順次、DMF20mr、エチルジイソプロピ
ルアミン2.1m1(12ミリモル)及v4−メルカプ
トピリジン1.33g(12ミリモル)を加元、この混
合物を一20℃で1時間攪拌した0次に混合物を酢酸エ
チルで希釈し、そして冷却した飽和NaHCO,溶液中
に注いだ。酢酸エチルで抽出し、飽和NaCl溶液で洗
浄し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発さ
せ、残渣をシリカゾル600g上でクロマトグラフィー
(トルエン二酢酸エチル)にかけた後、粘性油として表
題の化合物3.1g(66%)が得られた、Rf:0.
30(トルエン:酢酸エチル7:3)。
I R(CHCIs)1781 (C=O5β−ラクタ
ム)、1710cm−’(C=0、エステル)。
ム)、1710cm−’(C=0、エステル)。
’H−NMR(250MHz、CDCIj)δ0.02
.0.04(s、6H,CHsSi)、0.84(s、
9H。
.0.04(s、6H,CHsSi)、0.84(s、
9H。
CHs C−S ! )、1.10(d、J=6.5H
z、C旦ユCH)、2.86(ddSJ=11 Hz、
18Hz、 IH%H−1)、3.04(dd、J
=9Hz、18Hz。
z、C旦ユCH)、2.86(ddSJ=11 Hz、
18Hz、 IH%H−1)、3.04(dd、J
=9Hz、18Hz。
IH,H−1’)、3.48(ml 1g%H−6)、
4゜17 (−12g% H−5、CH,CH)、 4
.73(m。
4゜17 (−12g% H−5、CH,CH)、 4
.73(m。
2H,以±、−CH= CH)、5゜25(dd、J=
IHz、10.5Hz、I HSCH=CHコーシス)
、5゜47(dd、 J=I Hz、 17 Hz
、 I H,CH=C辻、−トランス)、5.9−6
.1(+m11 H,CHz−CH=CH,)、7.6
3(d、J”5.5Hz、2H。
IHz、10.5Hz、I HSCH=CHコーシス)
、5゜47(dd、 J=I Hz、 17 Hz
、 I H,CH=C辻、−トランス)、5.9−6
.1(+m11 H,CHz−CH=CH,)、7.6
3(d、J”5.5Hz、2H。
3.5−ピリジル−H)、8.62(d、J=5.5H
z、2H,2,6−ピリツルーH)。
z、2H,2,6−ピリツルーH)。
使用実施例3
OH
(SR,6S)−2−(4−ピリノルチオ)−6−((
I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルバペンー2〜エ
ム−3−カルボン 1ル 氷酢酸3.69mj(64,5ミリモル、10当量)及
びTHF中のテトラブチルアンモニウムフルオライドの
IM#液19.3鋤j (19,3ミリモル、3当量)
を、THF60117!中の(SR,6S)−2−(4
−ピリノルチオ)−6−[(I R)−1−tert、
−ブチルジメチルシリルオキシエチル]カルバベン−2
−エム−3−カルボン#I17リル2,97g(6,5
ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却浴を除
去し、反応溶液を室温で62時間放置した。処理するた
めに、このものを冷却した飽和N a HCO3溶液及
び酢酸エチルの混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
飽和NaHCO3及びNaC1溶液で洗浄し、Mg5O
,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残置をシリ
カゾル360g上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、油として表題の化合物472mg(
21%)が得られた、RGo。
I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルバペンー2〜エ
ム−3−カルボン 1ル 氷酢酸3.69mj(64,5ミリモル、10当量)及
びTHF中のテトラブチルアンモニウムフルオライドの
IM#液19.3鋤j (19,3ミリモル、3当量)
を、THF60117!中の(SR,6S)−2−(4
−ピリノルチオ)−6−[(I R)−1−tert、
−ブチルジメチルシリルオキシエチル]カルバベン−2
−エム−3−カルボン#I17リル2,97g(6,5
ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却浴を除
去し、反応溶液を室温で62時間放置した。処理するた
めに、このものを冷却した飽和N a HCO3溶液及
び酢酸エチルの混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
飽和NaHCO3及びNaC1溶液で洗浄し、Mg5O
,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残置をシリ
カゾル360g上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、油として表題の化合物472mg(
21%)が得られた、RGo。
24(トル・エン:酢酸エチル9:1)。
IR(CHCI、)3400(OH)、1776(C=
0、β−ラクタム)1720ct−’(C=O,エステ
ル)。
0、β−ラクタム)1720ct−’(C=O,エステ
ル)。
’H−NMR(250M82%CDCl5)#1.32
(d。
(d。
J=6.5Hz、3H,旦jic H)、2.78.2
゜90(dd%J=10Hz、18Hz、2H,H−1
)、3゜16(ddSJ=2.5Hz、7Hz、IH,
H−6)、4.2(+s、2H,H−5、CHs車止)
、4゜75.4.87(dd、J=7.5Hz、 1
4.5Hz、2H1CHコーCH=CH2)、5.30
(d、J=9Hz、IH,CH=C旦ニーシス)、5.
48(d、J=17Hz、IH,CH=CH2−トラン
ス)、5.9−6.1(閣、 I H,−c)It−
、≦:H=CH,)、 7.43(d、J=7Hz、2
H13,5−ピリツルーH)、8.64(d。
゜90(dd%J=10Hz、18Hz、2H,H−1
)、3゜16(ddSJ=2.5Hz、7Hz、IH,
H−6)、4.2(+s、2H,H−5、CHs車止)
、4゜75.4.87(dd、J=7.5Hz、 1
4.5Hz、2H1CHコーCH=CH2)、5.30
(d、J=9Hz、IH,CH=C旦ニーシス)、5.
48(d、J=17Hz、IH,CH=CH2−トラン
ス)、5.9−6.1(閣、 I H,−c)It−
、≦:H=CH,)、 7.43(d、J=7Hz、2
H13,5−ピリツルーH)、8.64(d。
J = 7 Hz、2H,2,6−ピリジルーH)。
使用実施例4
OH
(S R,65)−2−(4−ピリジルチオ)−6−(
(I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルパペム−2−
エム−3−カルボン ト1ウム 無水ジクロロメタン3.4鋤!中の(5R,6S)−2
−(4−ピリジルチオ)−6−((I R)−1−ヒド
ロキンエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン酸
7リル462論g(1,33ミリモル)の溶液に順次、
酢酸エチル中の0.5M2−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム2.8論j(1,4ミリモル)、トリフェニルホスフ
ィン35B(0,13ミリモル、0.1当量)及びテト
ラキス(トリフェニルホスフィン)−パラジウム(0)
35鋤g(0,03ミリモル)を加え、この混合物を室
温で1時間攪拌した1次に混合物を無水ア七トン20m
1で希釈した。沈澱物を吸引炉別し、エーテル50醜!
と共に0.5時間はげしく攪拌し、再び吸引炉別し、高
真空下にてP 40111上で乾燥した。無色の吸湿性
粉末として表題の化合物361mg(83%)が得られ
た。
(I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルパペム−2−
エム−3−カルボン ト1ウム 無水ジクロロメタン3.4鋤!中の(5R,6S)−2
−(4−ピリジルチオ)−6−((I R)−1−ヒド
ロキンエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン酸
7リル462論g(1,33ミリモル)の溶液に順次、
酢酸エチル中の0.5M2−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム2.8論j(1,4ミリモル)、トリフェニルホスフ
ィン35B(0,13ミリモル、0.1当量)及びテト
ラキス(トリフェニルホスフィン)−パラジウム(0)
35鋤g(0,03ミリモル)を加え、この混合物を室
温で1時間攪拌した1次に混合物を無水ア七トン20m
1で希釈した。沈澱物を吸引炉別し、エーテル50醜!
と共に0.5時間はげしく攪拌し、再び吸引炉別し、高
真空下にてP 40111上で乾燥した。無色の吸湿性
粉末として表題の化合物361mg(83%)が得られ
た。
I R(KBr)3400(OH)、1755(C=0
゜β−ラクタム)、1600(COONm)、1576
.1392ea″″I。
゜β−ラクタム)、1600(COONm)、1576
.1392ea″″I。
’H−NMR(250MHz%DMSO)81.11(
d。
d。
J =6 Hz、 ’3 H、Cji、CH)、2.7
2.2.75(3,2H,H−1)、3.20(dd、
J=3Hz。
2.2.75(3,2H,H−1)、3.20(dd、
J=3Hz。
6Hz、 IH,I(−6)、 3.92(m、 1
8% H−5)、4.07(m、IH,cHz以比)、
7.33(d、J=6Hz、2H,3,5−ビリジルー
トI)、8.44(d。
8% H−5)、4.07(m、IH,cHz以比)、
7.33(d、J=6Hz、2H,3,5−ビリジルー
トI)、8.44(d。
J−6Hz、2H12,6−ピリツルーH)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を
表わし、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
^5R^6を表わすか、 −NR^5R^6、−NR^5−COR^6、−NR^
5−CO_2R^7、−NR^6−CR^5(=NR^
6)、−NR^6−CO−NR^5R^6、−NR^5
−CS−NR^5R^6、−NR^5−C(=NR^6
)−NR^5R^6、−NR^5−SO_2R^7を表
わすか、−OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR
^5R^6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5
、−OPO(OR^5)OR^6を表わすか、 −SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、nは1また
は2である〕、−SCOR^5、−SO_2OR^5、
−SO_2NR^5R^6、−SCN、−SCONH^
5を表わすか、或いは−PX(OR^5)OR^6、−
PX(NR^5R^6)_2、−PX(OR^5)NR
^5R^6を表わし、ここに各場合において、R^5及
びR^6は同一もしくは相異なるものであり、水素を表
わすか、随時置換されていてもよいアルキルを表わすか
、随時置換されていてもよいアリールを表わすか、随時
置換されていてもよい複素環を表わすか、或いは随時ヒ
ドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに
対する保護基を表わし、 R^7はR^3及びR^6と同一の意味を有するが、但
し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の4−〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジン−2−オン類を製造するにあたり、ワ
ン−ボット法において、一般式II▲数式、化学式、表等
があります▼(II) 式中、R^1及びR^3は上記の意味を有する、の4−
アセトキシ−2−アゼチジノンを、不活性溶媒中で、塩
基及びシリル化剤の存在下において、一般式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^3及びR^4は上記の意味を有する、の化合
物と反応させることを特徴とする上記一般式 I の4−
〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロピル〕
アゼチジン−2−オン類の製造方法。 2、R^1が水素を表わすか、またはアミノ保護基を表
わし、 R^2が水素を表わすか、フッ素、塩素、臭素またはア
ジドを表わすか、フェニルを表わすか、NHR^1〔こ
こで、R^1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでXは酸素または硫黄を表わす、 の基を表わすか、或いは炭素原子6個までを有し且つ随
時フッ素、塩素または基OR^3で置換されていてもよ
い直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アル
キルを表わし、R^3は水素を表わすか、トリメチルシ
リル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t
ert.−ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリル
またはトリメチルシリルエトキシカルボニルを表わすか
、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2−もしくは
4−ニトロベンジル、2−もしくは4−ニトロベンジル
オキシカルボニル、tert.−ブチルオキシカルボニ
ル、アリルオキシカルボニル、4−メトキシベンジル、
4−メトキシベンジルオキシカルボニルを表わすか、或
いはホルミル、アセチル、トリクロロアセチル、トリク
ロロエトキシカルボニル、2,4−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、メトキシメチル、メチルチオメチル
、メトキシエトキシメチル、〔2−(トリメチルシリル
)エトキシ〕メチル、2−(メチルチオメトキシ)エト
キシカルボニル、テトラヒドロピラニルまたはベンゾイ
ルを表わし、 R^3が水素を表わすか、随時塩素、ニトロ、メチル、
メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチルまたは(随
時保護されていてもよい)ヒドロキシルで置換されてい
てもよいフェニルを表わすか、フッ素、塩素、臭素、シ
アノ、シアナトまたはアジドを表わすか、各々随時メチ
ル、アミノ(随時保護されていてもよい)、フッ素、塩
素、トリフルオロメチルまたはヒドロキシルで置換され
ていてもよいチエニル、フリル、イミダゾリル、チアゾ
リル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、
ピリジル、ピペラジニルまたはピリミジルを表わすか、
S−複素環を表わし、該複素環は各々随時メチル、アミ
ノ、ヒドロキシルまたはアセチルアミノで置換されてい
てもよいトリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル
、フリル、チエニル、ピリジルまたはピリミジルを意味
するか、−COR^3、−CO_2R^5、−CONH
R^5、アミジノを表わすか、−NR^5R^6、ウレ
イド、グアニジノを表わすか、−OR^5、−OCOR
^5、OSO_2R^7、−OPO(OR^5)_2を
表わすか、−SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、
n=1または2〕、−SCOR^5、−SCONHR^
5、−SO_2OR^5、−SO_2NHR^5、−S
CNを表わすか、或いは−PO(OR^5)_2、−P
O(NR^5R^6)_2を表わし、ここに各々の場合
に、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、炭素原子6個までを有し且つ随時フェ
ニルまたは1個もしくはそれ以上のフッ素で置換されて
いてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不
飽和アルキルを表わすか、随時ニトロまたはメトキシで
置換されていてもよいフェニルを表わすか、フリル、チ
エニルまたはピリジルを表わすか、或いはヒドロキシル
、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する保護
基を表わし、R^7及びR^5及びR^6と同一の意味
を有するが、但し、水素または保護基を表わさず、或い
は炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル、フッ素、
塩素、フリル、チエニル、ピリジル、イミダゾリル、ト
リアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼ の基で、または−CO_2R^5、−CONHR^5、
シアノ、アミジノ、−NHR^5、−NHCOCH_3
、グアニジノ、アジド、−OR^5、−OCOR^3、
−OSO_2R^7、−OPO(OR^5)_2、−S
R^5、−SO_2R^7、−SCOR^5、−SO_
2OR^5、−SO_2NHR^5、−PO(OR^5
)_2、−PO(NR^5R^6)_2〔ここで、R^
5、R^6及びR^7は上記の意味を有する〕で置換さ
れていてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和また
は不飽和アルキルを表わし、そして R^4がカルボキシル保護基または生体内で開裂され得
るエステル基を表わす、 一般式 I の化合物を製造するための特許請求の範囲第
1項記載の方法。 3、一般式 I 、II及びIIIの化合物において、R^2、
R^3、R^5、R^6及びR^7が炭素原子10個ま
でを有し且つ a)メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチ
ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
ニトロ、シアノ、または各々随時保護されていてもよい
ヒドロキシル、メルカプトもしくはアミノ、ジメチルア
ミノ、カルバモイル、アミジノ、スルホ、スルファモイ
ルまたはハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは臭
素によつて数個置換されていてもよいフェニル、 b)O、SまたはNよりなる群からの同一もしくは相異
なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の5
〜6員の随時一緒に融合していてもよい複素環、該複素
環はフェニルに対してa)に示したと同じ置換基をもつ
ことができる、c)ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素
または臭素、 d)−COR^9、−CO_2R^9、−CO−NR^
9R^1^0、−C(=NR^1^0)NR^9R^1
^0、−CN、e)−NR^9R^1^0、−NR^9
−COR^1^0、−N(COR^9)(COR^1^
0)−NR^9−CO_2R^1^1、−NR^1^0
−CR^9(=NR^1^0)、−NR^1^0−CO
−NR^1^0R^9、−NR^9−C(=NR^1^
0)−NR^9R^1^0−NR^9SO_2R^1^
1、−N_3、f)−OR^9、−OCOR^9、−O
CO−NR^1^0R^9、−SO_2R^1^1、−
OSO_3R^9、−OPO(NR^1^0R^9)、
g)−SR^9、−S(O)nR^1^1〔nは1また
は2である〕、−SCOR^1^1、−SO_2OR^
9、−SO_2NR^1^0R^1^0或いは h)−PX(OR^1^0)OR^9、−PX(NR^
1^0R^9)_2、−PX(OR^9)NR^1^0
R^9、 ここで、各々の場合に、 R^9及びR^1^0は同一もしくは相異なるものであ
り、水素を表わすか、炭素原子10個までを有する直鎖
状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを
表わすか、フェニルまたはベンジルを表わすか、複素環
または複素環−メチルを表わし、該複素環はb)に示し
た意味を有するか、或いは随時ヒドロキシル、メルカプ
ト、アミノまたはカルボキシルに対する保護基を表わし
、 R^1^1はR^1^0及びR^9と同じ意味を有する
が、但し、水素または保護基を表わさず、そしてXは酸
素または硫黄を表わす、 よりなる群からの基で随時置換されていてもよい直鎖状
、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを表
わす特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4、R^2、R^3、R^5、R^6及びR^7がC_
1〜C_4−アルキル、C_1〜C_4−アルキルチオ
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフ
ルオロメチルチオ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アジド
、各々随時保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル
もしくはメルカプト、或いはジメチルアミノ、スルホ、
スルファモイル、アセトキシまたはカルバモイルで一、
二または三置換されていてもよいフェニルを表わす特許
請求の範囲第1項記載の方法。 5、R^2、R^3、R^5、R^6及びR^7がO、
S、及びNよりなる群からの同一もしくは相異なるヘテ
ロ原子1〜4個を有し且つC_1〜C_4−アルキル、
C_1〜C_4−アルコキシ、C_1〜C_4−アルキ
ルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
トリフルオロメチルチオ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、
アジド、各々随時保護されていてもよいアミノ、ヒドロ
キシルもしくはメルカプト、或いはジメチルアミノ、ス
ルホ、スルファモイル、アセトキシまたはカルバモイル
で一、二または三置換されている飽和または不飽和の5
〜6員の、随時一緒に融合していてもよい複素環を表わ
す特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、反応をジメトキシエタン、ジグリム、トリグリム、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、
tert.−ブチルメチルエーテル、ジクロロメタン、
トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,1,2−
トリクロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸エチル、
トルエンまたはシクロヘキサン中にて、−30℃乃至+
50℃の温度で、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ンもしくはトリブチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルモル
ホリン、N−メチルピペリジン、1,5−ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデク−5−オン(DBU)または
1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−3−エン
(DBN)の存在下において行う特許請求の範囲第1〜
5項のいずれかに記載の方法。 7、シリル化剤及び触媒として、トリアルキルシリルパ
ーフルオロアルカンスルホネート、トリアルキルシリル
アルカンスルホネート、トリアルキルシリルアリールス
ルホネート、トリアルキルシリルパーフルオロアルカノ
エート、トリアルキルシリルアルカノエート、トリアル
キルシリルハライド、トリアルキルシリルパークロレー
ト、トリアルキルシリルジフルオロホスフェート、トリ
アルキルシリルジクロロホスフェート、トリアルキルシ
リルフルオロスルホネート、N,O−ビス(トリアルキ
ルシリル)アセトアミド及びトリアルキルシリルシアナ
イドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第1〜6
項のいずれかに記載の方法。 8、シリル化剤として、トリメチルシリルトリフルオロ
メタンスルホネート、トリメチルシリルノナフルオロブ
タンスルホネート、トリメチルシリルトリフルオロアセ
テート、トリメチルシリルパークロレート、トリメチル
シリルプロマイド、トリメチルシリルジフルオロホスホ
スフェート、トリメチルシリルフルオロスルホネートま
たはN,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロア
セトアミドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
1〜7項のいずれかに記載の方法。 9)a)化合物IIIの当量につき化合物II 0.1〜1当量、 b)化合物IIIの当量につきシリル化剤1〜2当量、 c)シリル化剤の当量につき塩基1.01〜3当量 を導入し、0.1〜24時間後、塩基よりもやや過剰量
に存在するシリル化剤に対して十分な追加のシリル化剤
を加え、適当ならば上で導入したシリル化剤の量比とは
別に、化合物II及びIIIにおける遊離の、即ち、保護す
べき各ヒドロキシル、メルカプト及びアミノ基に対して
シリル化剤及び塩基の追加の1当量を導入することを特
徴とする特許請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の
方法。 10、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
、 R^2は水素を表わすか、ハロゲンを表わすか、アジド
またはフェニルを表わすか、NHR^1〔ここで、R^
1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Xは硫黄または酸素を表わす、 の基を表わすか、或いは随時フッ素、塩素または基O−
R^5で置換されていてもよい直鎖状、分枝鎖状または
環式の飽和または不飽和アルキル(C_6まで)を表わ
し、 R^5は水素を表わすか、トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリイソプロピルシリル、tert.−ブチ
ルジメチルシリル、トリフェニルシリル、トリメチルシ
リルエトキシカルボニルを表わすか、ベンジル、ベンジ
ルオキシカルボニル、2−もしくは4−ニトロベンジル
、2−もしくは4−ニトロベンジルオキシカルボニル、
tert.−ブチルオキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニルを表わすか、またはホルミル、アセ
チル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシカルボ
ニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエトキシ
メチル、〔2−(トリメチルシリル)エトキシ〕メチル
、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニル、テ
トラヒドロピラニルもしくはベンゾイルを表わし、 R^3は随時塩素、ニトロ、メチル、メトキシ、メチル
チオ、トリフルオロメチルまたは随時保護されていても
よいヒドロキシルで置換されていてもよいアリール(C
_6、C_1_0)を表わすか、ハロゲン、シアノ、ア
ジド、シアナト、トリフルオロメチルまたはニトロを表
わすか、−COR^1^7、−CONR^1^8R^1
^9または−CSNR^1^8R^1^9を表わすか、
アリルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルを表わすか、−NR^1^9R^1^8、
ウレイド、グアニジノ、アミジノ、−NR^1^8SO
_2R^2^0を表わすか、−OSO_2R^2^0、
−OSO_3R^1^8または−OPO(OR^1^9
)OR^1^8を表わすか、−SR^1^8、−S(O
)nR^2^0〔ここで、n=1または2〕、−SCO
R^1^8、−SCONHR^1^8、−SO_2OR
^1^8、−SO_2NR^1^9R^1^8、−SC
Nを表わすか、−S−複素環を表わし、ここで該複素環
は各々随時メチル、アミノ、ヒドロキシルもしくはアセ
チルアミノで置換されていてもよいトリアゾリル、テト
ラゾリルもしくはチアジアゾリル、またはフリル、チエ
ニル、ピリジルもしくはピリミジルを意味するか、−P
O(OR^1^9)OR^1^8を表わすか、或いは、
▲数式、化学式、表等があります▼またはベンジル を表わし、 R^1^8及びR^1^9は同一もしくは相異なるもの
であり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキ
ル(C_6まで)を表わすか、フェニルまたはベンジル
(フェニルは随時ニトロ、メチルまたはメトキシで置換
されていてもよいを表わすか、或いはヒドロキシル、メ
ルカプトまたはアミノに対する保護基を表わし、そして R^2^0はR^1^9及びR^1^8と同一の意味を
有するが、但し、水素または保護基を表わさず、 R^4は水素を表わすか、メチル、エチル、tert.
−ブチル、デシル、2−クロロエチル、2,2,2−ト
リクロロエチル、シアノエチル、ジフェニルメチルもし
くはトリフェニルメチル、アセトキシメチル、アリル、
ベンジル、4−メトキシベンジル、2,4−ジメトキシ
ベンジル、tert.−ブチルジメチルシリル、1−フ
ェノキシエチル、2−メチル−2−プロペニル、4−ニ
トロベンジル、2−ニトロベンジル、トリメチルシリル
エチルまたはジメチル−tert.ブチルシリルエチル
を表わすか、或いは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、 −CH_2−OCO−C(CH_3)_3、−CH(C
H_3)OCOOC_2H_3または−CH_2OCO
CH_3 の基を表わす、 の化合物。 11、R^1が水素またはアミノ保護基を表わし、R^
2が水素、塩素、臭素、アジドを表わすか、NHR^1
〔ここでR^1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
す▼ の基を表わすか、メチル、エチル、イソプロピル、te
rt.−ブチルを表わすか、或いは▲数式、化学式、表
等があります▼、−C(CH_3′)_2−OR^1^
7または▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 R^1^7は水素を表わすか、トリメチルシリル、te
rt.−ブチルジメチルシリルを表わすか、ベンジルオ
キシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル
、tert.−プトキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルを表わすか、或いはホルミルまたはアセチルを表
わし、 R^3がフェニルを表わすか、塩素、臭素、シアノ、シ
アナト、アジドまたはCF_3を表わすか、−COR^
1^8、−CONR^1^9R^1^8を表わすか、ア
リルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキシ
カルボニルを表わすか、−NHR^1^8、ウレイド、
グアニジノ、アミジノ、−NHSO_2R^2^0を表
わすか、−OSO_2R^2^0または−OPO(OR
^1^9)OR^1^8を表わすか、−S−R^1^8
、−SCOR^1^8、−SO_2OR^1^8、−S
O_2NHR^1^8、−SCN、−SO_2R^2^
0または−SCONH_2を表わすか、−S−ピリジル
、−S−ピリミジル、−S−メチルテトラゾリル、−S
−チアジアゾリル、2−アミノチアジアゾリルを表わす
か、或いは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、 R^1^8及びR^1^9は同一もしくは相異なるもの
であり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキ
ル(C_4まで)を表わすか、フェニル、ベンジルまた
は4−メチルフェニルを表わすか、或いはヒドロキシル
、メルカプトまたはアミノに対する保護基を表わし、そ
してR^2^0はR^1^8及びR^1^9と同一の意
味を有するが、但し水素または保護基を表わさず、 R^4が水素を表わすか、メチル、エチル、tert.
−ブチル、2,2,2−トリクロロエチル、アリル、ア
セトニル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジル、
4−メトキシベンジル、ベンジルまたはトリメチルシリ
ルエチルを表わすか、或いは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、−CH(CH_3
)OCOOC_2H_5または−CH_2OCOC(C
H_3)_3の基を表わす、 特許請求の範囲第10項記載の式 I の化合物。 12、カルバペネム抗生物質を製造するための、特許請
求の範囲第1項記載の方法によつて製造した式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
^5R^6を表わすか、−NR^5R^6、−NR^5
−COR^6、−NR^5−CO_2R^7、−NR^
6−CR^5(=NR^6)、−NR^6−CO−NR
^5R^6、−NR^5−CS−NR^5R^6、−N
R^5−C(=NR^6)−NR^5R^6、−NR^
5−SO_2R^7を表わすか、 −OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR^5R^
6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5、−OP
O(OR^5)OR^6を表わすか、−SR^5、−S
(O)nR^7〔ここで、nは1または2である〕、−
SCOR^5、−SO_2OR^5、−SO_2NR^
5R^6、−SCN、−SCONHR^5を表わすか、
或いは−PX(OR^5)OR^6、−PX(NR^5
R^6)_2、−PX(OR^5)NR^5R^6を表
わし、ここに各場合において、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを
表わすか、随時置換されていてもよいアリールを表わす
か、随時置換されていてもよいヘテロサイクリルを表わ
すか、或いは随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノま
たはカルボキシルに対する保護基を表わし、 R^7はR^5及びR^6と同一の意味を有するが、但
し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の化合物。 13、カルバペネム抗生物質を製造するための式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
^5R^6を表わすか、−NR^5R^6、−NR^5
−COR^6、−NR^5−CO_2R^7、−NR^
6−CR^5(=NR^6)、−NR^6−CO−NR
^5R^6、−NR^5−CS−NR^5R^6、−N
R^5−C(=NR^6)−NR^5R^6、−NR^
5−SO^2R^7を表わすか、 −OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR^5R^
6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5、−OP
O(OR^5)OR^6を表わすか、 −SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、nは1また
は2である〕、−SCOR^5、−SO_2OR^5、
−SO_2NR^5R^6、−SCN、−SCONHR
^5を表わすか、或いは −PX(OR^5)OR^6、 −PX(NR^5R^
6)_2、−PX(OR^5)NR^5R^6を表わし
、ここに各場合において、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを
表わすか、随時置換されていてもよいアリールを表わす
か、随時置換されていてもよい複素環を表わすか、或い
は随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボ
キシルに対する保護基を表わし、 R^7はR^5及びR^6と同一の意味を有するが、但
し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|
DE3509769.8 | 1985-03-19 | ||
DE19853509769 DE3509769A1 (de) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | Verfahren zur herstellung von carbapenemzwischenprodukten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61215367A true JPS61215367A (ja) | 1986-09-25 |
Family
ID=6265604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61059639A Pending JPS61215367A (ja) | 1985-03-19 | 1986-03-19 | カルバペネム中間体の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4841042A (ja) |
EP (1) | EP0195963A1 (ja) |
JP (1) | JPS61215367A (ja) |
KR (1) | KR860007213A (ja) |
DE (1) | DE3509769A1 (ja) |
DK (1) | DK123786A (ja) |
ES (1) | ES8705456A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5615038A (en) * | 1989-07-11 | 1997-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device with aberration compensation feature |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4960879A (en) * | 1988-03-23 | 1990-10-02 | Shionogi & Co., Ltd. | Process for carbapenem intermediates |
US5395931A (en) * | 1988-06-30 | 1995-03-07 | Merck & Co., Inc. | 6-amido-1-methyl-2-(substituted-thio)carbapenems |
EP0350211A3 (en) * | 1988-06-30 | 1990-07-25 | Merck & Co. Inc. | Novel 6-amido-1-methyl carbapenems |
US5138050A (en) * | 1988-06-30 | 1992-08-11 | Merck & Co., Inc. | 6-amido-1-methyl carbapenems |
US5051502A (en) * | 1990-06-06 | 1991-09-24 | University Of Notre Dame Du Lac | Rhodium catalyzed cyclization process for bicyclic β-lactams |
TW198035B (ja) * | 1991-05-29 | 1993-01-11 | Hoechst Ag | |
EP0775145A1 (en) * | 1994-08-02 | 1997-05-28 | The Procter & Gamble Company | Process for making quinolonyl lactam antimicrobials and novel intermediate compounds |
ATE190972T1 (de) * | 1994-08-02 | 2000-04-15 | Procter & Gamble | Verfahren zur herstellung von antimikrobiellen verbindungen |
JP2003277390A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Takasago Internatl Corp | アゼチジノン化合物の製造方法 |
CN105906529B (zh) * | 2016-06-07 | 2018-11-27 | 江西富祥药业股份有限公司 | 4-卤代-2-重氮-3-氧代-戊酸(4-硝基苯)甲酯及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4312871A (en) * | 1979-12-03 | 1982-01-26 | Merck & Co., Inc. | 6-, 1- And 2-substituted-1-carbadethiapen-2-em-3-carboxylic acids |
ATE10838T1 (de) * | 1980-02-28 | 1985-01-15 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 4-substituierte 2-oxoazetidin-verbindungen, verfahren zu deren herstellung und ihre verwendung zur antibiotika-herstellung. |
US4382949A (en) * | 1980-07-31 | 1983-05-10 | Schering Corporation | 2-(Amino acid-thio)-1-carbapen-2-em-3-carboxylic acids and congeners |
CA1190236A (en) * | 1981-10-23 | 1985-07-09 | Edward J.J. Grabowski | Antibiotic synthesis |
-
1985
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1986
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5615038A (en) * | 1989-07-11 | 1997-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device with aberration compensation feature |
Also Published As
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DK123786A (da) | 1986-09-20 |
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