JPH0158613B2 - - Google Patents

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JPH0158613B2
JPH0158613B2 JP1472181A JP1472181A JPH0158613B2 JP H0158613 B2 JPH0158613 B2 JP H0158613B2 JP 1472181 A JP1472181 A JP 1472181A JP 1472181 A JP1472181 A JP 1472181A JP H0158613 B2 JPH0158613 B2 JP H0158613B2
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JP
Japan
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ion
ion beam
alloy
melting point
field evaporation
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Expired
Application number
JP1472181A
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English (en)
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JPS57131360A (en
Inventor
Susumu Nanba
Kenji Gamo
Takeshi Ukegawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/221Ion beam deposition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はホウ素イオンビーム(以下「Bイオン
ビーム」という)が効率よく得られる液体金属を
用いた電界蒸発形イオン源に関する。
液体金属を用いた電界蒸発形イオン源は、微小
径イオンビームを形成するためのイオン源として
注目され、多くの開発研究が盛んにすすめられて
いる。液体金属を用いた電界蒸発形イオン源によ
つてイオンビームが得られる材料としては、1)
低融点であること、2)蒸気圧が低いこと、3)
エミツタチツプとよくぬれて反応しないことなど
の制限がある。そのため、限られたものしか得る
ことができず、これまで得られているイオン源は
Ga,Au,Inなどの低融点金属を用いたものがほ
とんどである。
一方、低融点合金を用いた電界蒸発形イオン源
がColly等によつて作られており、種々のイオン
種が得られることも報告されている〔Anal.
Chem.45(1973)1887〕。
本発明者等は、先に、イオンビーム露光による
超微細電子デバイスのマスクレスプロセスにとつ
て重要なBイオンビームを得るために、共晶合金
であるB―Pt―とAu―Geとを混合したB―Pt―
Au―Geの四元合金を用いた電界蒸発形イオン源
を提案した。2000〜2500℃の高融点金属であるB
に対して、前記四元合金は融点が700〜800℃と低
く、Bイオンビーム効率よく得られる。
本発明者等は更に、種々の低融点合金による電
界蒸発形イオン源について鋭意試験研究を試みた
結果、共晶合金であるNi―BとPt―Bとを混合
してつくつたNi―Pt―Bの三元合金を用いるこ
とにより、効率よくBイオンビームが長時間得ら
れることを見出した。
本発明の目的は、元素数が少なく、従つて製作
容易であり、しかも寿命の長い電界蒸発形イオン
源を提供することである。以下実施例により本発
明を詳しく説明する。Bの共晶合金であるNi―
B(融点:990℃)とPt―B(融点:830℃)を混
合して、Bの組成比40%のNi―Pt―B(ニツケル
―白金―ホウ素)の三元合金をつくり、エミツタ
チツプ0.3mmのW線を用いた電界蒸発形イオン源
によりBイオンビームを発生させた。
第1図にイオン源を引き出し電圧とイオン電流
の特性を示す。立ち上り電圧はほぼ4.4KVであ
り、他の合金のイオン源の場合と同様な特性を示
す。第2図は15゜の扇形電磁石をもつイオン注入
装置を用いて、イオンエネルギー50KeV、全イ
オン電流Is=100μAで測定したNi―Pt―Bイオン
源のイオンビームの質量スペクトルを示す。
Ni2 +とPt++のピークが重なつているために、B
イオンビームの全イオン電流に占める正確な割合
はわからないが、ほぼ30%程度である。また、イ
オン源の加熱コイルの温度は800〜850℃であり、
Ni―Pt―Bの三元合金はエミツタチツプとよく
ぬれて前記の四元合金と同様に効率よくBイオン
ビームが得られることがわかつた。さらに、Bの
組成比が20〜45%の範囲で種々変えて行つたが、
いずれもBイオンビーム強度は全イオンビーム強
度のほぼ30%に達し、安定したイオンビーム電流
が得られた。Bの組成比が20〜45%の範囲外で融
点が高くなり、イオンビームが不安定となる傾向
が認められた。本発明はNi―Pt―Bの三元合金
を用いた電界蒸発形イオン源であり、前記の四元
合金に比較して、元素が少ないので製作が容易で
あるばかりでなく、イオン源の寿命を数時間から
20時間以上にのばすことができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例で得られたイオン源の
引き出し電圧―イオン電流特性を示す。第2図は
本発明の実施で得られたイオンビームの質量スペ
クトルを示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ホウ素の組成比が20〜45%の範囲であるニツ
    ケル―白金―ホウ素の三元合金を用いた電界蒸発
    形イオン源。
JP1472181A 1981-02-03 1981-02-03 Electric field evaporation type ion source using liquid alloy Granted JPS57131360A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1472181A JPS57131360A (en) 1981-02-03 1981-02-03 Electric field evaporation type ion source using liquid alloy

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JP1472181A JPS57131360A (en) 1981-02-03 1981-02-03 Electric field evaporation type ion source using liquid alloy

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Publication Number Publication Date
JPS57131360A JPS57131360A (en) 1982-08-14
JPH0158613B2 true JPH0158613B2 (ja) 1989-12-12

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ID=11868988

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JP1472181A Granted JPS57131360A (en) 1981-02-03 1981-02-03 Electric field evaporation type ion source using liquid alloy

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59191225A (ja) * 1983-04-15 1984-10-30 Hitachi Ltd 液体金属イオン種合金
EP0472773A1 (de) * 1990-08-31 1992-03-04 Trw Repa Gmbh Befestigung eines schwenkbaren Verankerungsbeschlages in einem Sicherheitsgurtsystem

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Publication number Publication date
JPS57131360A (en) 1982-08-14

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