JPH0582041A - 液体金属イオン源 - Google Patents

液体金属イオン源

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JPH0582041A
JPH0582041A JP4065123A JP6512392A JPH0582041A JP H0582041 A JPH0582041 A JP H0582041A JP 4065123 A JP4065123 A JP 4065123A JP 6512392 A JP6512392 A JP 6512392A JP H0582041 A JPH0582041 A JP H0582041A
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JP
Japan
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liquid metal
cesium
ion source
needle
type emitter
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Pending
Application number
JP4065123A
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English (en)
Inventor
Keiji Sato
恵二 佐藤
Hiroyuki Suzuki
弘幸 鈴木
Yoshie Tamura
芳枝 田村
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 セシウムイオンを長時間安定的にかつ微小な
ビーム径にすることができる液体金属イオン源を得るこ
とである。 【構成】 液体金属1を収納するリザーバ2と、リザー
バ2内を通り、先端が鋭利で、その先端がリザーバから
突出しているニードル型エミッタ3よりなり、液体金属
1が0.3〜20原子%の酸素を含むセシウムである液
体金属イオン源。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、二次イオン質量分析計
や集束イオンビーム加工装置等に利用される高輝度、微
細径の集束イオンビームを発生させるための液体金属イ
オン源に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の液体金属を高電界によりイオン化
する液体金属イオン源は、例えば、実開昭63−101
452号公報に開示されている。その断面図を図1に示
す。液体金属1はリザーバ2に収納、保持される。一方
の先端が鋭利な針形状を有するニードル型エミッタ3
は、その鋭利な先端がリザーバ2から突出している。通
常、ニードル型エミッタ3の材質はタングステン(W)
が使われている。また、ニードル型エミッタ3の少なく
とも一部は、液体金属中に浸されている。リザーバ2の
周囲にはヒータ4が配置されており、リザーバ2内の金
属を加熱、溶融し、液体金属1にする。液体金属1は、
そのぬれ性によりニードル型エミッタ3の先端に供給さ
れる。ヒータ4は熱効率向上のため熱線を反射するリフ
レクタ5で覆われている。
【0003】リザーバ2内の液体金属1はそのぬれ性に
よりニードル型エミッタ3の表面を流れ、針形状の先端
に到達する。ニードル型エミッタ3の先端針形状に対向
して引き出し電極6が設けられ、エミッタ3と引き出し
電極6との間に2〜10kV程度のイオン引き出し電圧
が印加されている。その引き出し電圧により、ニードル
型エミッタ3の先端から液体金属イオンが発生する。ニ
ードル型エミッタのイオン源は、エミッタ3の先端へ、
エミッタの表面を液体金属が流れて供給されるため、液
体金属1のぬれ性が問題となる。つまり、ニードル型エ
ミッタ3に対して、ぬれ性の悪い液体金属1は、満足に
液体金属イオンが発生しないことになる。また、液体金
属イオン発生時の温度における、液体金属の蒸気圧が高
い場合、液体金属1がエミッタ3の先端部にて蒸発が多
量発生するため、イオン源装置の絶縁部に液体金属が蒸
着し、絶縁不良を起こしたり、装置内を汚す結果とな
り、実用に向かない。
【0004】しかし、イオンの発生源はエミッタ3の鋭
利な先端の局所的範囲であるため、微小な径の集束イオ
ンビームが得られる。他のエミッタの構造としては、図
4に示すようなキャピラリー型エミッタがある。キャピ
ラリー型エミッタ3aは細管状であり、その細管内を液
体金属1が流れ、キャピラリー型エミッタ3aの先端か
らイオンが発生する。この構造は液体金属1のぬれ性が
比較的悪くても、液体金属1はキャピラリー型エミッタ
3aの先端に液体金属1が供給されるため、ぬれ性が比
較的悪い液体金属に適応される。また、キャピラリー3
aの先端以外は、殆ど密閉されているため、比較的蒸気
圧の高いものにも使える。しかし、イオンの発生源は、
経時的に変位するため、ビーム径が変化し、また比較的
広い範囲から発生するため微小な径の集束イオンビーム
が得られにくい欠点がある。
【0005】ここで二次イオン質量分析計(SIMS)
のイオン銃のイオン種として、セシウムイオン(Cs)
が使われる。一次イオン種としてのセシウムイオンは、
陰性元素例えば、炭素(C)、酸素(O)、弗素
(F)、塩素(Cl)、硫黄(S)、セレン(Se)な
どの負の二次イオン収率(二次イオンイールド)が著し
く高く、二次イオン質量分析計のイオン銃のイオン種と
して適している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】セシウム金属イオン源
は、前述のように、SIMSにて陰性元素を分析すると
き二次イオン収率が高いため、非常に分析感度の高い分
析計が得られる。しかし、液体セシウムは液体金属イオ
ン源のニードル型エミッタの材質、例えば、タングステ
ンとのぬれ性が良くないため、イオン源においてリザー
バ内の液体セシウムが、ニードル型エミッタの先端まで
順調に供給されない。また、セシウムは融点近傍での蒸
気圧が高く、その蒸発により、放電やセシウムがイオン
源の絶縁部に付着し短絡を起こす。つまり、特に高感度
分析のための高真空排気作動する場合、長時間安定に作
動するニードル型エミッタを持つセシウムの液体金属イ
オン源は実用化されなかった。
【0007】このため、セシウム金属イオン源はキャピ
ラリー型エミッタの液体金属イオン源が使われていた。
このキャピラリー型エミッタは前述のように、経時的に
ビーム径が変化し、また比較的広い範囲から発生するた
め微小な径の集束イオンビームが得られにくい欠点があ
る。そこで、本発明の目的は、ニードル型エミッタとの
ぬれ性をよくし、さらには、セシウムの蒸気圧を低減化
して、長期間安定に作動するセシウムをイオン種とする
ニードル型エミッタを有する液体金属イオン源を得るこ
とである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、液体金属が0.3〜20原子%の酸素を含
むセシウムよりなるニードル型エミッタ液体金属イオン
源である。
【0009】
【作用】セシウムは、酸素を含むことにより、あるい
は、セシウムの低級酸化物を含むことにより、液体金属
イオン源のニードル型エミッタの材料となるタングステ
ンとのぬれ性が良くなり、ニードル型エミッタの先端ま
で順調に供給される。また、その融点もセシウム単体金
属(28.6℃)の融点より低くなり、比較的(セシウ
ム単体金属と比べ)低い温度で、イオン発生させること
ができるため、蒸気圧を低く抑えることができる。
【0010】つまり、長期間安定に作動するセシウムを
イオン種とするニードル型エミッタを有する液体金属イ
オン源を得ることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図に基づいて説明す
る。 (実施例1)図1に本発明の液体金属イオン源の一実施
例を示す。構造的には、従来の液体金属イオン源のう
ち、ニードル型エミッタを有する液体金属イオン源と同
様であり、その構造についての説明は省略する。
【0012】液体金属1として、少量の酸素を含有(約
0.3原子%)させ、融点を27.5℃にしたセシウム
をイオン源のリザーバ2に供給し、さらにニードル型エ
ミッタ3を液体金属1で濡らして、ヒータ4により35
℃に加熱して、エミッタ3と引き出し電極6との間に5
kV程度のイオン引き出し電圧を印加した。このように
して、エミッタ3の先端からイオンを発生させた。この
場合、時々、ニードル型エミッタ3には部分的に液体セ
シウムが濡れていないことがあるので、途中でイオンの
発生が止まったが、比較的順調にイオンが発生した。
【0013】なお、比較のため、酸素を含まない市販の
純セシウム金属(融点28.6℃)を液体金属1とし
て、実施例1と同様な方法にてイオンの発生を試みた。
3回の試みに対して1回の割合でしかイオンが発生せ
ず、イオンが発生した場合でも、すぐに途中でイオンの
発生が途切れた。これは、液体セシウムがニードル型エ
ミッタ3の材質(タングステン)とのぬれ性が悪く、エ
ミッタ3の先端に液体セシウムが供給されないためと推
定される。
【0014】また、イオンの発生を促すために、液体金
属1の温度を100℃に加熱すると、液体金属イオン源
内で放電が起こった。なお、融点が27.5℃のセシウ
ム−酸素合金は、低酸素濃度側では、0.3原子%の酸
素を含むが、酸素量の測定よりも融点の測定が容易で正
確なため、含有酸素量を規定するよりも、融点で規定す
る方が実用的である。
【0015】(実施例2)実施例1と同じ液体金属イオ
ン源構造を、液体金属1としておよそ19.5原子%の
酸素を含むセシウムを使用した。その融点は約80℃で
ある。液体金属1の加熱温度は90℃で行い、その他の
条件は実施例1と同様である。本実施例では、途中でイ
オンの発生が止まることなく、順調にイオンが発生し
た。
【0016】ここで、液体金属1の温度を100℃に上
げると、液体金属イオン源が放電したり、回路の短絡が
生じることが多くなった。従って、液体金属1の融点は
100℃以下でなければならないことが分かる。なお、
質量分析により、発生イオンのイオン種を調べたとこ
ろ、セシウムイオンのほかに酸素イオンが発生している
ことが分かった。このことは、本発明の液体金属イオン
源は、セシウム金属イオンの他、酸素イオン源としても
利用できることを示し、本発明の大きな特徴ともなって
いる。
【0017】(実施例3)さらに、セシウムに含まれる
酸素の量が異なる場合についての実施例を示す。図2に
セシウムと酸素の部分状態図を示す。セシウムの低酸化
物として、Cs 7 O、Cs4 Oなどがあり、これら酸化
物とセシウムとの共晶により、5〜18原子%の酸素を
含むセシウムの融点は10℃以下になることがわかる。
【0018】また、表1にセシウムに含まれる各酸素量
と、それらの融点直上の温度における蒸気圧との関係を
示す。
【0019】
【表1】
【0020】表1により、融点直上の温度が低下するに
従い、その蒸気圧も低下することが分かる。また、この
成分範囲のセシウム酸化物は導電性を有している。図3
に本発明の液体金属イオン源の別の構造の断面図を示
す。酸素含有セシウム金属の液体金属1は、モリブデン
製のリザーバ2に保持され、タングステン製のニードル
型エミッタ3に供給される。リザーバ2は、冷却体7に
覆われており、冷却体7により、液体金属1の冷却およ
び温度制御が行われる。ニードル型エミッタ3の先端部
に対向して、引き出し電極6が設けられている。
【0021】図3の液体金属イオン源の構造に、表1に
示した試料番号2〜5の成分の試料を用いて、本発明を
実施した。各試料の液体金属1の温度は表1に示した温
度にてイオンの発生を行った。引き出し電圧も5kVと
した。試料番号2〜5の液体金属1のいづれも、ニード
ル型エミッタ3の先端部から100時間以上も長時間安
定してイオンが発生した。また、イオン電流値も安定し
ていた。特に、試料番号3と4のものが特に寿命が長か
った。
【0022】本実施例にても、質量分析計にて発生する
イオン種を調べたところ、セシウムイオンの他、酸素イ
オンも発生していた。なお、リザーバ2およびニードル
型エミッタ3の材質をモリブテン、タングステンの他
に、タンタル、白金、白金合金、ステンレス鋼などでも
同様の結果が得られた。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、以上説明したように、
液体金属イオン源の液体金属として、酸素を含むセシウ
ムを用いることより、セシウムのニードル型エミッタへ
のぬれ性が良くなり、順調に液体金属がニードル先端に
供給される。さらに、5〜18原子%の酸素を含むセシ
ウムは、融点が10℃以下になり、セウシム単体よりも
低い温度で、液体金属イオン源を作動させることができ
る。液体金属の温度を低くすることにより、液体金属が
蒸発する量が非常に少なくなり、イオン源装置の絶縁部
に液体金属が蒸着し、絶縁不良を起こしたり、装置内を
汚すことがなくなった。つまり、長時間安定作動するセ
シウムをイオン種とする優れた特徴を持つニードル型エ
ミッタの液体金属イオン源を得ることができた。
【0024】また、酸素イオン源としても使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の金属イオン源の断面図であ
る。
【図2】セシウムと酸素との部分状態図である。
【図3】本発明の他の実施例の金属イオン源の断面図で
ある。
【図4】従来のキャピラリー型エミッタを有する金属イ
オン源の断面図である。
【符号の説明】
1 液体金属 2 リザーバ 3 ニードル型エミッタ 3a キャピラリー型エミッタ 4 ヒータ 5 リフレクタ 6 引き出し電極 7 冷却体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リザーバと、前記リザーバに収納された
    液体金属と、前記リザーバ内の液体金属に少なくとも一
    部が浸され、一方の先端が鋭利な形状を有し、前記鋭利
    な先端が前記リザーバから突出しているニードル型エミ
    ッタよりなる液体金属イオン源において、前記液体金属
    が0.3〜20原子%の酸素を含むセシウムよりなるこ
    とを特徴とする液体金属イオン源。
JP4065123A 1991-03-22 1992-03-23 液体金属イオン源 Pending JPH0582041A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4065123A JPH0582041A (ja) 1991-03-22 1992-03-23 液体金属イオン源

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5899691 1991-03-22
JP3-58996 1991-03-22
JP4065123A JPH0582041A (ja) 1991-03-22 1992-03-23 液体金属イオン源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0582041A true JPH0582041A (ja) 1993-04-02

Family

ID=26400016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4065123A Pending JPH0582041A (ja) 1991-03-22 1992-03-23 液体金属イオン源

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JP (1) JPH0582041A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05275219A (ja) * 1992-11-20 1993-10-22 Hitachi Metals Ltd 鉄−希土類−窒素系永久磁石粉末およびそれを用いた磁石
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US5968289A (en) * 1996-12-05 1999-10-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Permanent magnetic material and bond magnet
US6290782B1 (en) 1998-03-27 2001-09-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic material and manufacturing method thereof, and bonded magnet using the same
US6468440B1 (en) 1998-03-27 2002-10-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnet powder and method for producing the same, and bonded magnet using the same

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