JPH0157282B2 - - Google Patents
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- JPH0157282B2 JPH0157282B2 JP54018867A JP1886779A JPH0157282B2 JP H0157282 B2 JPH0157282 B2 JP H0157282B2 JP 54018867 A JP54018867 A JP 54018867A JP 1886779 A JP1886779 A JP 1886779A JP H0157282 B2 JPH0157282 B2 JP H0157282B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パターン等の被検査物の欠陥等を検
査する欠陥検査装置に関するものである。
査する欠陥検査装置に関するものである。
半導体やプリント板等の製造に当つては、所定
のパターンを有するホトマスクを使用する場合が
多い。斯る際、ホトマスクのパターンに欠陥が在
すると、製品に不良が生じてしまうので、ホトマ
スクのパターンの欠陥の検査は、大切な工程であ
る。
のパターンを有するホトマスクを使用する場合が
多い。斯る際、ホトマスクのパターンに欠陥が在
すると、製品に不良が生じてしまうので、ホトマ
スクのパターンの欠陥の検査は、大切な工程であ
る。
次に、従来提案されているパターンの欠陥検査
装置の一例を、第１，２及び３図を参照して説明
しよう。
装置の一例を、第１，２及び３図を参照して説明
しよう。
第１及び２図は、ホトマスクを顕微鏡で拡大し
て見た部分の部分図で、同図に於て、１及び１′
はガラス等の透明材より成るホトマスクであり、
２及び２′はホトマスク１及び１′上に、例えば金
属の蒸着により形成されたパターンを全体として
示し、３はホトマスク１及び１′の透明基板その
ものである透明部、４は蒸着材による不透明部を
夫々示す。
て見た部分の部分図で、同図に於て、１及び１′
はガラス等の透明材より成るホトマスクであり、
２及び２′はホトマスク１及び１′上に、例えば金
属の蒸着により形成されたパターンを全体として
示し、３はホトマスク１及び１′の透明基板その
ものである透明部、４は蒸着材による不透明部を
夫々示す。
第２図に於て、Ａ及びＢは蒸着材が不要に残存
している部分であり、Ｃ及びＤは、必要であるべ
き蒸着材が欠けている部分である。従つて、第２
図に示す如きパターン２′を有するホトマスク
１′は欠陥品である。一方、第１図に示すホトマ
スク１は、正常なものである。
している部分であり、Ｃ及びＤは、必要であるべ
き蒸着材が欠けている部分である。従つて、第２
図に示す如きパターン２′を有するホトマスク
１′は欠陥品である。一方、第１図に示すホトマ
スク１は、正常なものである。
扨て、第１及び第２図に示す如きホトマスク１
又は１′を検査するには、従来に於ては、例えば
第３図に示す如く、例えば透明な台５の所定位置
に、完全なパターンを有する（例えば第１図に示
す如きパターン２を有する）基準マスク６を配置
し、検査されるべき、即ち被検査マスク７（例え
ば第２図に示す如き欠陥マスク）を、台５の他の
所定位置に配置し、両者を双眼顕微鏡８で観察す
る。第３図に於て、９及び１０は基準マスク６及
び被検査マスク７用の対物レンズ、１１及び１２
は両マスク６及び７用のミラー、同じく１３及び
１４は両マスク６及び７用のハーフミラー、１５
は共通の接眼レンズであり、１６は基準マスク６
を照射する、例えば赤色光の光源、１７は被検査
マスク７を照射する赤の補色である、例えば緑色
光の光源である。従つて、光源１６及び１７から
出た光は、双眼顕微鏡８の台５、マスク６及び
７、レンズ９及び１０、ミラー１１及び１２、ハ
ーフミラー１３及び１４、更にレンズ１５を通つ
て観察眼１８に結像してマスクの検査が可能とな
る。
又は１′を検査するには、従来に於ては、例えば
第３図に示す如く、例えば透明な台５の所定位置
に、完全なパターンを有する（例えば第１図に示
す如きパターン２を有する）基準マスク６を配置
し、検査されるべき、即ち被検査マスク７（例え
ば第２図に示す如き欠陥マスク）を、台５の他の
所定位置に配置し、両者を双眼顕微鏡８で観察す
る。第３図に於て、９及び１０は基準マスク６及
び被検査マスク７用の対物レンズ、１１及び１２
は両マスク６及び７用のミラー、同じく１３及び
１４は両マスク６及び７用のハーフミラー、１５
は共通の接眼レンズであり、１６は基準マスク６
を照射する、例えば赤色光の光源、１７は被検査
マスク７を照射する赤の補色である、例えば緑色
光の光源である。従つて、光源１６及び１７から
出た光は、双眼顕微鏡８の台５、マスク６及び
７、レンズ９及び１０、ミラー１１及び１２、ハ
ーフミラー１３及び１４、更にレンズ１５を通つ
て観察眼１８に結像してマスクの検査が可能とな
る。
扨て、今、被検査マスク７が、第２図に示す如
き欠陥品であるとすると、部分Ａ及びＢに就いて
は、光源１７よりの緑色光は、これ等部分Ａ及び
Ｂで遮断されるので、光源１６よりの赤色光のみ
が観察眼１８に来るので、これ等部分Ａ及びＢ
は、赤色に見える。一方、部分Ｃ及びＤに就いて
は、光源１６よりの赤色光は遮断されるが、光源
１７よりの緑色光は観察眼１８に到達するので、
これ等部分Ｃ及びＤは緑色に見える。その他の部
分、即ち透明部３に就いては、両光源１６及び１
７よりの赤及び緑色光が、同時に観察眼１８に到
達するので、略々白く見え、又、不透明部４に就
いては、赤及び緑色光の両者の通過が遮断される
ので、黒く見える。即ち、全てが白又は黒く見え
る場合は、被検査マスク７には欠陥が無く、少し
でも赤又は緑色に見える場合は、被検査マスク７
には、欠陥があることになる。
き欠陥品であるとすると、部分Ａ及びＢに就いて
は、光源１７よりの緑色光は、これ等部分Ａ及び
Ｂで遮断されるので、光源１６よりの赤色光のみ
が観察眼１８に来るので、これ等部分Ａ及びＢ
は、赤色に見える。一方、部分Ｃ及びＤに就いて
は、光源１６よりの赤色光は遮断されるが、光源
１７よりの緑色光は観察眼１８に到達するので、
これ等部分Ｃ及びＤは緑色に見える。その他の部
分、即ち透明部３に就いては、両光源１６及び１
７よりの赤及び緑色光が、同時に観察眼１８に到
達するので、略々白く見え、又、不透明部４に就
いては、赤及び緑色光の両者の通過が遮断される
ので、黒く見える。即ち、全てが白又は黒く見え
る場合は、被検査マスク７には欠陥が無く、少し
でも赤又は緑色に見える場合は、被検査マスク７
には、欠陥があることになる。
上述の、従来のパターン検査装置は、検査を１
個ずつ、目で行つているので、自動検査ができな
い欠点がある。今、この検査を自動的に行わんと
すれば、高価なカラーテレビカメラが必要とな
る。
個ずつ、目で行つているので、自動検査ができな
い欠点がある。今、この検査を自動的に行わんと
すれば、高価なカラーテレビカメラが必要とな
る。
従つて、本発明の主目的は、高価なカラーテレ
ビカメラを使用せず、安価な白黒テレビカメラを
用いて、被検査物の欠陥の検査等を自動的に行い
得るパターン欠陥検査装置を提供せんとするにあ
る。
ビカメラを使用せず、安価な白黒テレビカメラを
用いて、被検査物の欠陥の検査等を自動的に行い
得るパターン欠陥検査装置を提供せんとするにあ
る。
本発明による欠陥検査装置の特徴とするところ
は、基準物を通過した光と被検査物を通過した光
とを光学的に重ね合せ、該重ね合せた光を白黒テ
レビカメラにより画像信号となし、該画像信号を
処理して上記被検査物の欠陥等を検査する欠陥検
査装置に於て、上記画像信号の全べての立ち上り
及び立ち下がりに応じて信号を出力するように感
度を設定した第１の検出部と、上記画像信号中の
上記被検査物の欠陥に対応する中間レベルに対す
る立ち下がりでは信号を出力せずもその他の立ち
上り及び立ち下がりに対しては信号を出力するよ
うに感度を設定した第２の検出部とを設けると共
に、上記第１及び第２の検出部よりの出力信号が
共に供給される合成部を設け、該合成部は上記第
１及び第２の検出部が同時に信号を出力した時は
信号を出力せずも、上記第１の検出部のみが信号
を出力し上記第２の検出部が信号を出力しない時
は、前者の信号と同時に欠陥検出信号を出力する
ようになした点に在る。
は、基準物を通過した光と被検査物を通過した光
とを光学的に重ね合せ、該重ね合せた光を白黒テ
レビカメラにより画像信号となし、該画像信号を
処理して上記被検査物の欠陥等を検査する欠陥検
査装置に於て、上記画像信号の全べての立ち上り
及び立ち下がりに応じて信号を出力するように感
度を設定した第１の検出部と、上記画像信号中の
上記被検査物の欠陥に対応する中間レベルに対す
る立ち下がりでは信号を出力せずもその他の立ち
上り及び立ち下がりに対しては信号を出力するよ
うに感度を設定した第２の検出部とを設けると共
に、上記第１及び第２の検出部よりの出力信号が
共に供給される合成部を設け、該合成部は上記第
１及び第２の検出部が同時に信号を出力した時は
信号を出力せずも、上記第１の検出部のみが信号
を出力し上記第２の検出部が信号を出力しない時
は、前者の信号と同時に欠陥検出信号を出力する
ようになした点に在る。
上述の如き特徴を有する本発明による欠陥検査
装置の一例を、以下に述べる。
装置の一例を、以下に述べる。
第４図は、本発明による欠陥検査装置の一例を
示すブロツク線図である。同図に於て、符号９０
は欠陥検出器を全体として示す。この例に於ける
欠陥検出器９０は、第３図の観察眼１８に相当す
る、即ち被検査物及び基準物を撮像する、例えば
白黒テレビカメラ１９よりの撮像出力又は画像信
号を受け、それを処理するアナログ処理部９１
と、このアナログ処理部９１の出力を受ける第１
及び第２の検出部９２及び９３と、これ等検出部
９２及び９３の両出力を受ける合成部９４と、こ
の合成部９４の出力を受ける表示部９５とより成
る。
示すブロツク線図である。同図に於て、符号９０
は欠陥検出器を全体として示す。この例に於ける
欠陥検出器９０は、第３図の観察眼１８に相当す
る、即ち被検査物及び基準物を撮像する、例えば
白黒テレビカメラ１９よりの撮像出力又は画像信
号を受け、それを処理するアナログ処理部９１
と、このアナログ処理部９１の出力を受ける第１
及び第２の検出部９２及び９３と、これ等検出部
９２及び９３の両出力を受ける合成部９４と、こ
の合成部９４の出力を受ける表示部９５とより成
る。
扨て、上述の本発明の一例に於ては、アナログ
処理部９１は、白黒テレビカメラ１９よりの画像
信号を受け、この画像信号を適当なレベルにまで
増巾する機能及びその不用な成分を除去する機能
等を有する。第１の検出部９２及び第２の検出部
９３は、いずれも画像信号の時間的レベル変化を
とらえる。即ち、例えば第１の検出部９２の検出
感度を高感度に、第２の検出部９３の検出感度を
第１の検出部９２より低感度にしておく。合成部
９４は、例えば排他的論理回路の如き機能を有す
るもので、これは、第１の検出部９２と第２の検
出部９３との出力が一致した時は、出力を出さな
いが、いづれか一方の検出部が出力を出す時は出
力を出すと云う機能を有する。表示部９５は、合
成部９４より出力が供給された時に、即ち、被検
査物が欠陥品の時に、この合成部９４よりの信号
に基づいて欠陥の表示等をなすものである。
処理部９１は、白黒テレビカメラ１９よりの画像
信号を受け、この画像信号を適当なレベルにまで
増巾する機能及びその不用な成分を除去する機能
等を有する。第１の検出部９２及び第２の検出部
９３は、いずれも画像信号の時間的レベル変化を
とらえる。即ち、例えば第１の検出部９２の検出
感度を高感度に、第２の検出部９３の検出感度を
第１の検出部９２より低感度にしておく。合成部
９４は、例えば排他的論理回路の如き機能を有す
るもので、これは、第１の検出部９２と第２の検
出部９３との出力が一致した時は、出力を出さな
いが、いづれか一方の検出部が出力を出す時は出
力を出すと云う機能を有する。表示部９５は、合
成部９４より出力が供給された時に、即ち、被検
査物が欠陥品の時に、この合成部９４よりの信号
に基づいて欠陥の表示等をなすものである。
次に、上述した本発明の欠陥検査装置の一例の
動作を、第１及び２図に示した如きパターンの検
査に適用した場合を例に挙げ、説明しよう。この
場合、第４図に示す白黒テレビカメラ１９を、第
３図の観察眼１８の代りに配置する。テレビカメ
ラ１９よりの撮像出力、即ち画像信号は、被検査
パターン７が完全品であれば（例えば、第１図及
び２図に於て、ラインイで示す１水平期間に相当
する）第５図Ａに示す如く一定の白及び黒レベル
のみの波形であり、被検査パターン７に第２図の
部分Ａ又はＢの如き余分の突出部があると（例え
ば、第１及び２図に於て、ラインロで示す１水平
期間に相当する）、第６図Ａに示す如く、白及び
黒レベルの外にその中間のレベル（ハーフレベ
ル）A′を含む波形となり、又、被検査パターン
７に第２図の部分Ｃ又はＤに示す如き欠けた部分
があると（例えば、第１及び２図に於て、ライン
ヘで示す１水平期間に相当する）、第７図Ａに示
す如く、白及び黒レベルの外にその中間のレベル
（ハーフレベル）C′を含む波形となる。
動作を、第１及び２図に示した如きパターンの検
査に適用した場合を例に挙げ、説明しよう。この
場合、第４図に示す白黒テレビカメラ１９を、第
３図の観察眼１８の代りに配置する。テレビカメ
ラ１９よりの撮像出力、即ち画像信号は、被検査
パターン７が完全品であれば（例えば、第１図及
び２図に於て、ラインイで示す１水平期間に相当
する）第５図Ａに示す如く一定の白及び黒レベル
のみの波形であり、被検査パターン７に第２図の
部分Ａ又はＢの如き余分の突出部があると（例え
ば、第１及び２図に於て、ラインロで示す１水平
期間に相当する）、第６図Ａに示す如く、白及び
黒レベルの外にその中間のレベル（ハーフレベ
ル）A′を含む波形となり、又、被検査パターン
７に第２図の部分Ｃ又はＤに示す如き欠けた部分
があると（例えば、第１及び２図に於て、ライン
ヘで示す１水平期間に相当する）、第７図Ａに示
す如く、白及び黒レベルの外にその中間のレベル
（ハーフレベル）C′を含む波形となる。
テレビカメラ１９の出力信号を処理するアナロ
グ処理部９１の出力を受ける第１の検出部９２及
び第２の検出部９３は、上述した如く、画像信号
のレベルの時間的変化をとらえ、且つ両者の検出
感度が異なる如く設定されているので、テレビカ
メラ１９の出力画像信号が、第５，６及び７図の
Ａに示す如き波形の場合は、第５，６及び７図の
Ｂ及びＣに示す如き検出パルス信号５b1，５b2，
５b3，５b4，６b1，６b2，６b3，６b4，６b5，７
b1，７b2，７b3，７b4，７b5及び５c1，５c2，５
c3，５c4，６c1，６c2，６c3，７c1，７c2，７c3
を夫々出力する。即ち、第１の検出部９２は、画
像信号の全べての立ち上り及び立ち下がりに応じ
てパルス信号を出力するも、第２の検出部９３
は、画像信号のハーフレベル部A′及びC′に対応
する部分ではパルス信号を出力せず、その他で
は、第１の検出部９２と同様にパルス信号を出力
する。
グ処理部９１の出力を受ける第１の検出部９２及
び第２の検出部９３は、上述した如く、画像信号
のレベルの時間的変化をとらえ、且つ両者の検出
感度が異なる如く設定されているので、テレビカ
メラ１９の出力画像信号が、第５，６及び７図の
Ａに示す如き波形の場合は、第５，６及び７図の
Ｂ及びＣに示す如き検出パルス信号５b1，５b2，
５b3，５b4，６b1，６b2，６b3，６b4，６b5，７
b1，７b2，７b3，７b4，７b5及び５c1，５c2，５
c3，５c4，６c1，６c2，６c3，７c1，７c2，７c3
を夫々出力する。即ち、第１の検出部９２は、画
像信号の全べての立ち上り及び立ち下がりに応じ
てパルス信号を出力するも、第２の検出部９３
は、画像信号のハーフレベル部A′及びC′に対応
する部分ではパルス信号を出力せず、その他で
は、第１の検出部９２と同様にパルス信号を出力
する。
第１及び第２の検出部９２及び９３の出力を受
ける合成部９４は、両検出部９２及び９３の出力
パルス信号が共に一致してある場合は、即ち、被
検査パターンが完成品の場合は、第５図Ｄに示す
如く出力を出さない。又、一方の検出部、この例
では、第２の検出部９３が出力パルス信号を出さ
ないで、他方の検出部、即ち第１の検出部９２の
みがパルス信号を出力している場合には、即ち被
検査パターンに欠陥がある場合には、第６及び７
図のＤに示す如く、欠陥検出信号としてのパルス
信号６d1，６d2及び７d1，７d2を夫々出力する。
即ち、被検査パターンの欠陥部Ａに対応する画像
信号の部分A′に於ては、第６図のＢ及びＣに示
す如く、第１の検出部９２はパルス信号６b1及び
６b2を出力しているが、第２の検出部９３はパル
ス信号を出力していない時に、合成部９４は、第
６図Ｄに示す如くパルス信号６d1，６d2を出力す
る。同様に、被検査パターンの欠陥部Ｃに相当す
る画像信号の部分C′に於ては、第７図Ｂ及びＣに
示す如く、第１の検出部９２はパルス信号７b1，
７b2を出力しているが、第２の検出部９３はパル
ス信号を出力していない時に、第７図Ｄに示す如
く、合成部９４はパルス信号７d1，７d2を出力す
る。即ち、被検査パターンに、第２図に於て、
Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤに示す如き欠陥がある場合の
み、合成部９４は、パルス信号を欠陥検出信号と
して出力する。従つて、この合成部９４の出力
を、例えばランプ又はブザー等の表示部９５に供
給し、被検査パターンが欠陥品である場合、欠陥
表示を自動的にすることができる。
ける合成部９４は、両検出部９２及び９３の出力
パルス信号が共に一致してある場合は、即ち、被
検査パターンが完成品の場合は、第５図Ｄに示す
如く出力を出さない。又、一方の検出部、この例
では、第２の検出部９３が出力パルス信号を出さ
ないで、他方の検出部、即ち第１の検出部９２の
みがパルス信号を出力している場合には、即ち被
検査パターンに欠陥がある場合には、第６及び７
図のＤに示す如く、欠陥検出信号としてのパルス
信号６d1，６d2及び７d1，７d2を夫々出力する。
即ち、被検査パターンの欠陥部Ａに対応する画像
信号の部分A′に於ては、第６図のＢ及びＣに示
す如く、第１の検出部９２はパルス信号６b1及び
６b2を出力しているが、第２の検出部９３はパル
ス信号を出力していない時に、合成部９４は、第
６図Ｄに示す如くパルス信号６d1，６d2を出力す
る。同様に、被検査パターンの欠陥部Ｃに相当す
る画像信号の部分C′に於ては、第７図Ｂ及びＣに
示す如く、第１の検出部９２はパルス信号７b1，
７b2を出力しているが、第２の検出部９３はパル
ス信号を出力していない時に、第７図Ｄに示す如
く、合成部９４はパルス信号７d1，７d2を出力す
る。即ち、被検査パターンに、第２図に於て、
Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤに示す如き欠陥がある場合の
み、合成部９４は、パルス信号を欠陥検出信号と
して出力する。従つて、この合成部９４の出力
を、例えばランプ又はブザー等の表示部９５に供
給し、被検査パターンが欠陥品である場合、欠陥
表示を自動的にすることができる。
更に、図示せずも、合成部９４の出力を増力し
て、検査装置を駆動し、欠陥品を自動的に振り分
けるようになすこともできる。
て、検査装置を駆動し、欠陥品を自動的に振り分
けるようになすこともできる。
上述の如く、本発明によれば、被検査パターン
に欠陥が在るか否かの検査を、自動的になし得る
と云う大なる効果があり、更に欠陥検出信号を利
用して、被検査パターンの完全品及び欠陥品を類
別することも、容易である。
に欠陥が在るか否かの検査を、自動的になし得る
と云う大なる効果があり、更に欠陥検出信号を利
用して、被検査パターンの完全品及び欠陥品を類
別することも、容易である。
尚、上述に於ては、透明基板上に形成した金属
蒸着層によるパターンの検査に、本発明を通用し
た場合を例に挙げ、説明したが、例えば不透明材
基板上にパターンを形成する場合に於ては、それ
に対する反射光を使用することにより、この後者
の場合にも、本発明を同様に適用できる。
蒸着層によるパターンの検査に、本発明を通用し
た場合を例に挙げ、説明したが、例えば不透明材
基板上にパターンを形成する場合に於ては、それ
に対する反射光を使用することにより、この後者
の場合にも、本発明を同様に適用できる。
第１及び２図は夫々完全及び欠陥パターンを有
する被検査物の上面図、第３図は従来のパターン
検査装置の略線図、第４図は本発明の一例のブロ
ツク線図、第５図、６図及び７図のＡ，Ｂ，Ｃ及
びＤはその説明に供する波形図である。 図に於て、１及び１′は被検査物、１９は白黒
テレビカメラ、９０は欠陥検出器、９１はアナロ
グ処理部、９２及び９３は第１及び第２の検出
部、９４は合成部、９５は表示部を夫々示す。
する被検査物の上面図、第３図は従来のパターン
検査装置の略線図、第４図は本発明の一例のブロ
ツク線図、第５図、６図及び７図のＡ，Ｂ，Ｃ及
びＤはその説明に供する波形図である。 図に於て、１及び１′は被検査物、１９は白黒
テレビカメラ、９０は欠陥検出器、９１はアナロ
グ処理部、９２及び９３は第１及び第２の検出
部、９４は合成部、９５は表示部を夫々示す。
Claims (1)
- １ 基準物を通過した光と被検査物を通過した光
とを光学的に重ね合せ、該重ね合せた光を直接白
黒テレビカメラにより画像信号となし、該画像信
号を受け、その全べての立ち上り及び立ち下がり
のレベル変化に応じて信号を出力するように感度
を設定した第１の検出部と、上記画像信号中を受
けその上記被検査物の欠陥に対応する中間のレベ
ル変化に対しては信号を出力せずもその他の立ち
上り及び立ち下がりのレベル変化に対しては信号
を出力するように感度を設定した第２の検出部と
を設けると共に、上記第１及び第２の検出部より
の出力信号が共に供給される合成部を設け、該合
成部は上記第１及び第２の検出部が同時に信号を
出力した時は信号を出力せずも、上記第１の検出
部のみが信号を出力し上記第２の検出部が信号を
出力しない時は、前者の信号と同時に欠陥検出信
号を出力するようになしたことを特徴とする欠陥
検査装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1886779A JPS55110904A (en) | 1979-02-20 | 1979-02-20 | Defect detecting device |
| US06/121,518 US4277802A (en) | 1979-02-20 | 1980-02-14 | Defect inspection system |
| CA345,974A CA1126856A (en) | 1979-02-20 | 1980-02-19 | Defect inspection system |
| DE19803006379 DE3006379A1 (de) | 1979-02-20 | 1980-02-20 | Defektpruefsystem |
| FR8003715A FR2449883A1 (fr) | 1979-02-20 | 1980-02-20 | Systeme de detection de defauts |
| GB8008765A GB2046433B (en) | 1979-02-20 | 1980-02-20 | Defect inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1886779A JPS55110904A (en) | 1979-02-20 | 1979-02-20 | Defect detecting device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55110904A JPS55110904A (en) | 1980-08-27 |
| JPH0157282B2 true JPH0157282B2 (ja) | 1989-12-05 |
Family
ID=11983481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1886779A Granted JPS55110904A (en) | 1979-02-20 | 1979-02-20 | Defect detecting device |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4277802A (ja) |
| JP (1) | JPS55110904A (ja) |
| CA (1) | CA1126856A (ja) |
| DE (1) | DE3006379A1 (ja) |
| FR (1) | FR2449883A1 (ja) |
| GB (1) | GB2046433B (ja) |
Families Citing this family (9)
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|---|---|---|---|---|
| US4345312A (en) * | 1979-04-13 | 1982-08-17 | Hitachi, Ltd. | Method and device for inspecting the defect of a pattern represented on an article |
| US4538909A (en) * | 1983-05-24 | 1985-09-03 | Automation Engineering, Inc. | Circuit board inspection apparatus and method |
| DE3612256C2 (de) * | 1986-04-11 | 1998-05-14 | Twi Tech Wissenschaftliche Ind | Verfahren und Einrichtung zur optoelektronischen Qualitätskontrolle |
| DE3937559A1 (de) * | 1989-09-02 | 1991-03-14 | Flachglas Ag | Verfahren zum ermitteln von optischen fehlern in scheiben aus einem transparenten material, insbesondere aus glas |
| US5648915A (en) * | 1995-11-20 | 1997-07-15 | Triangle Research & Development Corporation | Soft tissue damage assessment system |
| US6363296B1 (en) * | 1999-02-24 | 2002-03-26 | Infineon Technologies Ag | System and method for automated defect inspection of photomasks |
| EP1416308B1 (de) * | 2002-10-31 | 2006-12-27 | Leica Microsystems CMS GmbH | Vergleichendes optisches System |
| EP1416309B1 (de) * | 2002-10-31 | 2006-11-29 | Leica Microsystems CMS GmbH | Vergleichsmakroskop mit einem Beleuchtungssystem für Objekte |
| CN111604280A (zh) * | 2020-04-03 | 2020-09-01 | 广州超音速自动化科技股份有限公司 | 一种口罩坏件剔除方法、设备及存储介质 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE620045A (ja) * | 1961-07-11 | |||
| US4110048A (en) * | 1974-11-05 | 1978-08-29 | Kawasaki Steel Corporation | Method of and an apparatus for inspecting a traveling sheet material |
| JPS5271289A (en) * | 1975-12-11 | 1977-06-14 | Mitsubishi Electric Corp | Surface inspection device |
| DE2720865A1 (de) * | 1977-05-10 | 1978-11-23 | Philips Patentverwaltung | Anordnung zur untersuchung von objekten |
| JPS5419366A (en) * | 1977-07-14 | 1979-02-14 | Nippon Jidoseigyo Ltd | Device for inspecting fault of pattern |
-
1979
- 1979-02-20 JP JP1886779A patent/JPS55110904A/ja active Granted
-
1980
- 1980-02-14 US US06/121,518 patent/US4277802A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-02-19 CA CA345,974A patent/CA1126856A/en not_active Expired
- 1980-02-20 DE DE19803006379 patent/DE3006379A1/de active Granted
- 1980-02-20 FR FR8003715A patent/FR2449883A1/fr active Granted
- 1980-02-20 GB GB8008765A patent/GB2046433B/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1126856A (en) | 1982-06-29 |
| GB2046433B (en) | 1983-04-20 |
| FR2449883B1 (ja) | 1983-07-29 |
| JPS55110904A (en) | 1980-08-27 |
| FR2449883A1 (fr) | 1980-09-19 |
| GB2046433A (en) | 1980-11-12 |
| DE3006379A1 (de) | 1980-08-21 |
| DE3006379C2 (ja) | 1988-06-01 |
| US4277802A (en) | 1981-07-07 |
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