JPH0154872B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0154872B2
JPH0154872B2 JP55158823A JP15882380A JPH0154872B2 JP H0154872 B2 JPH0154872 B2 JP H0154872B2 JP 55158823 A JP55158823 A JP 55158823A JP 15882380 A JP15882380 A JP 15882380A JP H0154872 B2 JPH0154872 B2 JP H0154872B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnet
magnetic field
magnetoresistive
thin film
temperature compensation
Prior art date
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Expired
Application number
JP55158823A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5783074A (en
Inventor
Shuzo Abiko
Hiroichi Goto
Akira Niimi
Hirotsugu Takagi
Takeshi Sawada
Hiroshi Yoneda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Canon Electronics Inc
Original Assignee
Canon Inc
Canon Electronics Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc, Canon Electronics Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP55158823A priority Critical patent/JPS5783074A/ja
Priority to US06/317,386 priority patent/US4506220A/en
Publication of JPS5783074A publication Critical patent/JPS5783074A/ja
Publication of JPH0154872B2 publication Critical patent/JPH0154872B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気抵抗効果型薄膜磁気センサーに係
わり、さらに詳しくは温度補償付磁気抵抗効果型
薄膜磁気センサーに関するものである。
一般に、Ni―Fe合金や、Ni―Co合金などの磁
気抵抗効果素子を利用した薄膜磁気センサー
(MRセンサー)がよく知られているが、磁気抵
抗効果素子(MR素子)自体の抵抗に温度依存性
があり、温度補償が必要とされている。
従来のこの種の温度補償付薄膜磁気センサーの
構造を第1図に示す。第1図において、符号1で
示すものはガラス等から成る基板で、前述した合
金等から成る磁気抵抗効果を有する金属をその磁
気異方性が矢印5の方向を向くように薄膜堆積法
によつて付着させ、フオトリソグラフイ技術によ
つて整形し、磁気信号検出部のMR素子2とこれ
から一定距離はなれた温度補償用のMR素子3と
を同時に形成している。
MR素子2,3を形成した後、同じく薄膜堆積
法やフオトリソグラフイの技術により、MR素子
2,3に電気的に接続された電極4を形成し、
MRセンサーを得ている。
このようにして形成された磁気センサーは、そ
の後実装する時には必要に応じて保護膜を付着さ
せたり、カバーガラスを付けたり、端面を切断し
たり、研磨を行なうなどの種々の工程を経て完成
される。
このようにして形成されたMRセンサーを使用
した回路の簡単な一例を第2図に示す。
第2図においてMR1及びMR2は前述した検出
部のMRセンサー2と温度補償用のMRセンサー
3とに対応している。Ra,Rbは抵抗を示し、全
体としてブリツジ回路を構成している。
この第2図に示すブリツジ回路のバランス状態
は、次の(1)式によつて表わされる。
MR1×Rb=MR2×Ra (1) (1)式において、任意の温度においてMR1に信
号磁界が入らないとき、Vの電圧がOになり、信
号磁界がMR1に印加されると、検出部のみ抵抗
が変化し、電圧が変動し、出力が得られる。従つ
て信号磁界によつてMR2も抵抗値が変化すれば、
その分だけ正しい信号出力が得られなくなる。
このように、従来の温度補償付MRセンサー
は、外部の信号磁界に対して温度補償部の抵抗が
変化しないように検出部と温度補償部とのMRセ
ンサー2,3を離す必要がある。例えば、検出部
のMRセンサー2の幅をw,長さをl,MRセン
サー2,3間の間隔をpとした場合、w=20μm,
l=150μmのとき、間隔pは250μm以上を必要と
していた。
この結果、従来技術においては、(1)全体が大き
くなり、2温度補償の位置的精度が悪く、3温度
補償の時間的ずれが生じる、などの種々の欠点が
あつた。
本発明の目的は、以上のような従来の欠点を除
去し、温度補償精度の優れた薄膜磁気センサーを
提供するにある。
本発明においては、上記の目的を達成する為
に、磁界を発生する氷久磁石を温度補償部の磁気
抵抗効果素子の近傍に配置し、温度補償部の磁気
抵抗効果素子に対して磁気検出部の磁気抵抗効果
素子より強い磁界を与える構成を採用した。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳
細を説明する。
第3図は本発明の一実施例を説明するもので、
図において第1図と同一部分は同一符号をもつて
示し、その説明は省略する。
第3図に示す実施例においては、検出部のMR
素子2と、温度補償部分のMR素子3とはそれぞ
れの軸線方向が直交した状態で配置されている。
一般に、MR素子信号磁界と抵抗値の変化との
間の関係を線形に保つためにバイアス磁界HB(図
示省略)を必要とするが、この直流磁界を与える
ために本実施例においては破線9で示す氷久磁石
を設けている。
この氷久磁石9を温度補償部のMR素子3の上
方に設置すると、MR素子3は氷久磁石9によつ
て極めて強い磁界10を受ける。この磁界10
は、第3図において矢印10で示してある。この
強い磁界10の影響によつて温度補償部のMR素
子3に流れる電流を矢印8によつて誇張して示す
ようにMR素子3の軸線方向とは一致しない方向
に固定される。従つて、外部の信号磁界によつて
MR素子3の抵抗値は変化することはなく、温度
補償の優れた線形性のよいMRセンサーが得られ
る。
ところで、第3図に示した実施例において、
MR素子2に比較してかなり大きな氷久磁石9を
使用している。このため、それほど小型化でき
ず、氷久磁石9から出る磁界をMR素子2に対し
て影響させないようにすることは困難である。
第4図はこのような氷久磁石の構造を改良した
もので、本実施例にあつては温度補償部のMR素
子3は検出部のMR素子2と平行に形成されてい
るが、このMR素子2の上面に薄膜堆積法によつ
て氷久磁石11が形成されている。この氷久磁石
11の材料は、固有抵抗値の大きなフエライト系
が用いられる。
このように氷久磁石11を薄膜として形成し磁
化すると、MR素子3の部分が高透磁率の材料で
あるため、氷久磁石11の磁束を通す磁気回路と
して働き、外部にもれる磁束は極めてわずかとな
る。また、MR素子3の部分は氷久磁石11の磁
界によつてその磁化方向一定の方向を向き、信号
磁界で抵抗値が変化することがない。
他方、氷久磁石11の膜厚は0.5〜1μmである
ため、ここから磁束はそのほとんどがMR素子3
によつてシヤントされ、数μm離れた位置ですで
にバイアス磁界として機能をはない。MR素子2
に関しては、極めて近接して配置してもMR素子
2に対して何ら影響を与えることがない。
また、氷久磁石11の磁化の方向と、MR素子
3の磁化容易軸の方向を一致させることにより、
MR素子3の磁化方向を信号磁界に対して極めて
安定して固定することができ、MR素子2に対し
てバイアス磁界を与えないでよいなどの効果が得
られる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、氷久磁石を用いて温度補償部の抵抗効果素子
に対して磁気検出部の磁気抵抗効果素子より強い
磁界を与えているようにしているので、氷久磁石
の強い磁界による作用を温度補償部の抵抗効果素
子に積極的に与えることができ、温度補償部の磁
気抵抗効果素子が信号磁界に影響されるのを顕著
に減少させることが可能になる。また、本発明で
は、信号磁界を磁気検出部の磁気抵抗効果素子に
供給するための強磁性体よりなる磁路を形成する
必要がなくなるので構造が簡単となり、装置全体
を更に小型化することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のMRセンサーの構造を示す斜視
図、第2図は従来のMRセンサーを用いた回路
図、第3図は本発明の一実施例を示す平面図、第
4図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。 1……基板、2,3……MR素子、4……電
極、5,6……磁化容易方向、9……氷久磁石、
10……氷久磁石の磁界の方向。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 磁気検出部と温度補償部に磁気抵抗効果素子
    を形成した磁気抵抗効果型薄膜磁気センサーにお
    いて、磁界を発生する氷久磁石を温度補償部の磁
    気抵抗効果素子の近傍に配置し、温度補償部の磁
    気抵抗効果素子に対して磁気検出部の磁気抵抗効
    果素子より強い磁界を与えることを特徴とする磁
    気抵抗効果型薄膜磁気センサー。 2 前記氷久磁石は前記温度補償部の磁気抵抗効
    果素子上に薄膜堆積法によつて同一の形状をもつ
    て形成されていることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気センサ
    ー。 3 前記氷久磁石の磁化方向と前記温度補償部の
    磁気抵抗効果素子の磁化方向とを一致させたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の磁気抵
    抗効果型薄膜磁気センサー。
JP55158823A 1980-11-10 1980-11-13 Magneto-resistive effect type thin film magnetic sensor Granted JPS5783074A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55158823A JPS5783074A (en) 1980-11-13 1980-11-13 Magneto-resistive effect type thin film magnetic sensor
US06/317,386 US4506220A (en) 1980-11-10 1981-11-02 Temperature compensated magnetoresistive effect thin film magnetic sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55158823A JPS5783074A (en) 1980-11-13 1980-11-13 Magneto-resistive effect type thin film magnetic sensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5783074A JPS5783074A (en) 1982-05-24
JPH0154872B2 true JPH0154872B2 (ja) 1989-11-21

Family

ID=15680151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55158823A Granted JPS5783074A (en) 1980-11-10 1980-11-13 Magneto-resistive effect type thin film magnetic sensor

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JP (1) JPS5783074A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2013925A4 (en) 2006-04-28 2012-01-04 Microgate Inc THIN FILM THREE AXIS FLUXGATE AND IMPLEMENTATION FOR THIS
JP2018054460A (ja) * 2016-09-29 2018-04-05 大同特殊鋼株式会社 薄膜磁気センサ

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS444378Y1 (ja) * 1966-04-20 1969-02-18

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JPS444378Y1 (ja) * 1966-04-20 1969-02-18

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Publication number Publication date
JPS5783074A (en) 1982-05-24

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