JPH0147027B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0147027B2 JPH0147027B2 JP5954685A JP5954685A JPH0147027B2 JP H0147027 B2 JPH0147027 B2 JP H0147027B2 JP 5954685 A JP5954685 A JP 5954685A JP 5954685 A JP5954685 A JP 5954685A JP H0147027 B2 JPH0147027 B2 JP H0147027B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- preliminary discharge
- preliminary
- gas laser
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は予備放電方式のガスレーザ発振装置に
関する。
関する。
ガスレーザ発振装置の一つであるTEA
（Tranversely Exicited Atomospheric
Pressure）CO2レーザやエキシマレーザではレー
ザガス媒体の動作圧力として大気圧以上の圧力を
用いるために、均一放電発生用の予備電離手段が
必要である。この手段の一つに荷電粒子および紫
外線を供給するコロナ放電が用いられている。コ
ロナ放電方式の予備電離手段を備えたTEACO2
レーザの一例を第４図に示す。すなわち、１は気
密容器でCO2、N2、He等の混合ガスからなるレ
ーザガス媒体が１気圧近傍の圧力に維持されて封
入されている。容器１内にはレーザガス媒体の雰
囲気下に主放電電極を構成しているかまぼこ状の
陰極２とこれとほぼ同形の陽極３とが対向して配
置され、パルス電圧を供給する電源４に接続され
ている。陰極２の陽極３側に対向する面には均等
のピツチになる数条のＶ溝５が長手方向へ互いに
平行になつて該設されている。これらＶ溝５には
ガラスパイプ６内に芯線７を納めた構造の予備放
電電極８がそれぞれ設けられている。予備放電電
極８はそれぞれ一本の単体品もしくは複数に分割
したもので構成されている。予備放電電極８の芯
線は一本の線にまとめられて陽極３に接続されて
いる。また、陰極２と陽極３との間には短いリー
ド線で短絡する形でピーキングキヤパシタ９が設
けられている。
（Tranversely Exicited Atomospheric
Pressure）CO2レーザやエキシマレーザではレー
ザガス媒体の動作圧力として大気圧以上の圧力を
用いるために、均一放電発生用の予備電離手段が
必要である。この手段の一つに荷電粒子および紫
外線を供給するコロナ放電が用いられている。コ
ロナ放電方式の予備電離手段を備えたTEACO2
レーザの一例を第４図に示す。すなわち、１は気
密容器でCO2、N2、He等の混合ガスからなるレ
ーザガス媒体が１気圧近傍の圧力に維持されて封
入されている。容器１内にはレーザガス媒体の雰
囲気下に主放電電極を構成しているかまぼこ状の
陰極２とこれとほぼ同形の陽極３とが対向して配
置され、パルス電圧を供給する電源４に接続され
ている。陰極２の陽極３側に対向する面には均等
のピツチになる数条のＶ溝５が長手方向へ互いに
平行になつて該設されている。これらＶ溝５には
ガラスパイプ６内に芯線７を納めた構造の予備放
電電極８がそれぞれ設けられている。予備放電電
極８はそれぞれ一本の単体品もしくは複数に分割
したもので構成されている。予備放電電極８の芯
線は一本の線にまとめられて陽極３に接続されて
いる。また、陰極２と陽極３との間には短いリー
ド線で短絡する形でピーキングキヤパシタ９が設
けられている。
上記の構成において、予備放電電極８は、主放
電部の幅いつぱいとなる数に設置されている。と
ころで、このような予備放電電極の配置では配置
中央部分の予備電離が強くなり、主放電域１０に
おける電流密度も上記中央部分が高くなる。この
ような主放電作用で得られたレーザビームの強度
分布は第５図に示すように山なりの強度部布とな
つてしまい、たとえばマーキング加工その他のレ
ーザ加工では加工ムラが生じてしまう問題があつ
た。
電部の幅いつぱいとなる数に設置されている。と
ころで、このような予備放電電極の配置では配置
中央部分の予備電離が強くなり、主放電域１０に
おける電流密度も上記中央部分が高くなる。この
ような主放電作用で得られたレーザビームの強度
分布は第５図に示すように山なりの強度部布とな
つてしまい、たとえばマーキング加工その他のレ
ーザ加工では加工ムラが生じてしまう問題があつ
た。
本発明は主放電部の電流密度を調整し、平坦な
強度分布をもつレーザビームが得られるガスレー
ザ発振装置を提供することを目的とする。
強度分布をもつレーザビームが得られるガスレー
ザ発振装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、予備放電電極を相
互の間隔が中央部になるに従つて広くなるように
して陰極近傍に配置したものである。
互の間隔が中央部になるに従つて広くなるように
して陰極近傍に配置したものである。
以下、実施例を示す図面に基いて本発明を説明
する。
する。
第１図は本発明の要部を示すもので、第４図と
共通する部分には同一符号を付している。すなわ
ち、陽極３と対向する陰極２の面にはたとえば図
示のように７個のＶ溝V1〜V7が該設されている。
ここで各Ｖ溝間の間隔を説明すると、中央部のＶ
溝V4を中心にしてこれに隣り合うＶ溝V3および
V5との間隔はそれぞれ距離D1にされている。ま
た、Ｖ溝V4と反対をなす側において、Ｖ溝V3，
V5とそれぞれ隣り合うＶ溝V2およびV6との間隔
はそれぞれ上記距離D1より小の距離D2にされて
いる。また、両端に位置するＶ溝D1，D7とそれ
ぞれ隣り合うＶ溝V2およびV6との間隔は上記距
離D2より小の距離D3にされている。以上のよう
にD1＞D2＞D3の関係になる。各Ｖ溝に予備放電
電極８が配置されている。これら配置においては
予備放電電極８の芯線６間の距離は上記各Ｖ溝の
間隔の距離に対応している。
共通する部分には同一符号を付している。すなわ
ち、陽極３と対向する陰極２の面にはたとえば図
示のように７個のＶ溝V1〜V7が該設されている。
ここで各Ｖ溝間の間隔を説明すると、中央部のＶ
溝V4を中心にしてこれに隣り合うＶ溝V3および
V5との間隔はそれぞれ距離D1にされている。ま
た、Ｖ溝V4と反対をなす側において、Ｖ溝V3，
V5とそれぞれ隣り合うＶ溝V2およびV6との間隔
はそれぞれ上記距離D1より小の距離D2にされて
いる。また、両端に位置するＶ溝D1，D7とそれ
ぞれ隣り合うＶ溝V2およびV6との間隔は上記距
離D2より小の距離D3にされている。以上のよう
にD1＞D2＞D3の関係になる。各Ｖ溝に予備放電
電極８が配置されている。これら配置においては
予備放電電極８の芯線６間の距離は上記各Ｖ溝の
間隔の距離に対応している。
以上の構成により、主放電域における予備電離
の強さは従来のように予備放電電極を均等に配置
した場合に比べて中央部分の強さが減じるため、
第２図に示すように平均的な分布を示す。したが
つて、主放電における電流密度分布は調整され、
第３図に示すような均一なエネルギ強度分布を有
するレーザ光を出力することができるようになつ
た。
の強さは従来のように予備放電電極を均等に配置
した場合に比べて中央部分の強さが減じるため、
第２図に示すように平均的な分布を示す。したが
つて、主放電における電流密度分布は調整され、
第３図に示すような均一なエネルギ強度分布を有
するレーザ光を出力することができるようになつ
た。
なお、上記上施例では予備放電電極を陰極の表
面近傍に設けたが、陰極としてメツシユ電極を用
い、その背面近傍に予備放電電極を設置しこれら
を上記実施例と同様の関係配置した場合でも同様
の効果を奏する。
面近傍に設けたが、陰極としてメツシユ電極を用
い、その背面近傍に予備放電電極を設置しこれら
を上記実施例と同様の関係配置した場合でも同様
の効果を奏する。
均一なエネルギ分布をもつたレーザ光が得られ
るため、加工のムラのない、エネルギの利用効率
の良い加工が可能となる。エネルギの利用効率の
良いということは比較的低いエネルギで所要の加
工ができることを意味している。レーザ出力エネ
ルギは電源回路の主コンデンサに蓄えられた電荷
量に比例するが、低いレーザ出力エネルギで所要
の加工ができれば、コンデンサの容量、充電用電
源の電圧および容量が節約でき、小型化できると
ともに、ギヤツプスイツチ、サイラトロンなどの
スイツチ素子への要求も緩和される。
るため、加工のムラのない、エネルギの利用効率
の良い加工が可能となる。エネルギの利用効率の
良いということは比較的低いエネルギで所要の加
工ができることを意味している。レーザ出力エネ
ルギは電源回路の主コンデンサに蓄えられた電荷
量に比例するが、低いレーザ出力エネルギで所要
の加工ができれば、コンデンサの容量、充電用電
源の電圧および容量が節約でき、小型化できると
ともに、ギヤツプスイツチ、サイラトロンなどの
スイツチ素子への要求も緩和される。
第１図は本発明の一実施例を示す要部側面図、
第２図は予備電離の強度分布図、第３図は本発明
で得られたレーザ光のエネルギ分布図、第４図は
従来例を示す構成図、第５図は従来例で得られた
レーザ光のエネルギ分布図である。 ２…陰極、３…陽極、８…予備放電電極、V1
〜V7…Ｖ溝。
第２図は予備電離の強度分布図、第３図は本発明
で得られたレーザ光のエネルギ分布図、第４図は
従来例を示す構成図、第５図は従来例で得られた
レーザ光のエネルギ分布図である。 ２…陰極、３…陽極、８…予備放電電極、V1
〜V7…Ｖ溝。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 容器と、この容器内に充満されるガスレーザ
媒質と、このガスレーザ媒質中に配置される陰極
および陽極からなる主放電電極と、上記陰極の表
裏近傍に配置され主放電を惹起させる予備電離を
行う複数の予備放電電極とを備えたガスレーザ発
振装置において、予備放電電極は相互の間隔が中
央部になるに従つて広くなるように配置されてい
ることを特徴とするガスレーザ発振装置。 ２ 予備放電電極の間隔は中央に配置された予備
放電電極を中心にして左右対称になることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のガスレーザ発
振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5954685A JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5954685A JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219189A JPS61219189A (ja) | 1986-09-29 |
| JPH0147027B2 true JPH0147027B2 (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=13116362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5954685A Granted JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219189A (ja) |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP5954685A patent/JPS61219189A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61219189A (ja) | 1986-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4677638A (en) | Gas laser generator | |
| JPH0318752B2 (ja) | ||
| JPH0147027B2 (ja) | ||
| JPH0318753B2 (ja) | ||
| JP3154584B2 (ja) | 放電励起ガスレーザ装置 | |
| JPS6321882A (ja) | エキシマレ−ザ装置 | |
| JPS62163381A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPS56131983A (en) | Gas laser device | |
| JPS6292382A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JP2614231B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JP2772147B2 (ja) | パルスレーザ電極 | |
| JPS63228778A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH07183603A (ja) | パルスガスレーザ装置 | |
| JPS62243379A (ja) | 気体パルス・レ−ザ装置 | |
| RU1777526C (ru) | Электроразрядный лазер с диффузионным охлаждением | |
| JPH02240982A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPH05121812A (ja) | 高繰返しパルスレーザ電極 | |
| JPS63228776A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPS63228682A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPH05206553A (ja) | パルスレーザ電極 | |
| JPH0236579A (ja) | 放電励起ガスレーザ装置の紫外線予備電離電極 | |
| JPH07162060A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPS63133583A (ja) | 紫外光予備電離パルスガスレ−ザ装置 | |
| JPH05259555A (ja) | 高繰返しパルスレーザ電極 | |
| JP2001274493A (ja) | ガスレーザ装置 |