JPH0146516B2 - - Google Patents

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JPH0146516B2
JPH0146516B2 JP60265183A JP26518385A JPH0146516B2 JP H0146516 B2 JPH0146516 B2 JP H0146516B2 JP 60265183 A JP60265183 A JP 60265183A JP 26518385 A JP26518385 A JP 26518385A JP H0146516 B2 JPH0146516 B2 JP H0146516B2
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JP
Japan
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group
compound
nitrobenzyloxycarbonyloxyethyl
formula
penem
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JP60265183A
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JPS61178987A (ja
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Arupejiani Maruko
Batsuteisuteiini Karuro
Bedesuki Anjero
Furansesuki Joanni
Fuotsurio Mauritsuio
Tsuariini Furanko
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Pfizer Italia SRL
Original Assignee
Farmitalia Carlo Erba SRL
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Publication date
Application filed by Farmitalia Carlo Erba SRL filed Critical Farmitalia Carlo Erba SRL
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Publication of JPH0146516B2 publication Critical patent/JPH0146516B2/ja
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D499/00Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D499/88Compounds with a double bond between positions 2 and 3 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D205/02Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
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    • C07D205/08Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/553Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07F9/568Four-membered rings
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 の化合物およびその医薬的に許容し得る塩に関す
る。 上記式中、Rは水素原子、低級アルキル、2,
2,2―トリクロロエチル、アセトニル、アリ
ル、ベンジル、p―ニトロベンジル、p―メトキ
シベンジル、フエニル、o―ニトロフエニル、ベ
ンズヒドリルまたは1―フエノキシエチルの基で
あるかあるいはアセトキシメチル基、ピバロイル
オキシメチル基またはフタリジル基または式
【式】または―CH2NHCOR3 (式中R3は1〜5個の炭素原子を有するアル
キル基またはたとえばフエニルまたはp―ニトロ
フエニルのようなアリール基を示す)の基を示
す。 英国特許第2043639号明細書には、一般式(1) のペネム―カルボン酸類およびそのエステル類が
記載されている。上記一般式(1)中、nは0または
1であり、R″は水素原子、1〜4個の炭素原子
を有するアルキル基、2,2,2―トリクロロエ
チル、ベンジル、アセトニル、p―ニトロベンジ
ル、p―メトキシベンジル、フエニル、p―ニト
ロフエニル、ベンズヒドリル、アセトキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチルまたはフタリジル基
あるいは式―CH(CH3)―COOC2H5または
CH2NHCOR2(式中、R2は1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基またはシクロアルキル基または
アリール基を表す)の基を示し、Zは水酸基、ア
ミノ基、カルバモイルオキシ基、メルカプト基ま
たはピリジウム基あるいは式OR1,OCOR1また
はSR3(式中、R1は1〜4個の炭素原子を有する
アルキル基を示し、そしてR3は5―メチル―1,
3,4―チアジアゾール―2―イル基、1―メチ
ル―1H―テトラゾール―5―イル基、1,2,
3―トリアゾール―5―イル基またはピラジニル
基を示す)の基を示しそしてR′は水素原子また
はC1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基また
はC1〜C4ヒドロキシアルキル基を示しそして上
記ヒドロキシアルキル基のアルコール官能分は遊
離されているか、あるいはp―ニトロベンジルオ
キシカルボニル基またはジメチル―第3ブチルシ
リル基により保護されている。 そこで、本発明者等は前記一般式(1)で示される
化合物のうちの1種である本発明化合物およびそ
れらの医薬的に許容しうる塩がβ―ラクタマーゼ
を生産するバクテリア菌株および嫌気性細菌に対
して高くしかも広汎なスペクトル活性を有する抗
菌剤として特に価値のあることを見出した。 本発明の代表的な化合物である(5R)―2―
カルバモイルオキシメチル―6(S)―〔1Rヒド
ロキシエチル〕―2―ペネム―3―カルボン酸は
以下の反応図式によつて製造される。図式中にお
いてPhはフエニル基を示し、PNBはp―ニトロ
ベンジル基を示しそしてPGは保護基、好適には
ジメチル―第3ブチルシリル、ジフエニル―第3
ブチル―シリル、2,2,2―トリクロロエトキ
シカルボニル、トリメチルシリル、ベンジル、p
―ブロモフエナシル、トリフエニルメチルおよび
ピラニル基の1種を示しそしてRはカルボキシ保
護基、好適には低級アルキル基またはp―ニトロ
ベンジル基を示す。 化合物(XII)から化合物()への変換には3
種の経路が存在する。化合物(XII)は化合物
()から得られる。 化合物()への経路は、保護基による化合物
()(英国特許第2043639号明細書に記載したよ
うにして製造した)の遊離ヒドロキシの保護、得
られた化合物()におけるスルホキシド官能基
の還元、得られた化合物()における両方の炭
素―炭素二重結合の加オゾン分解、得られた化合
物(a)におけるN―置換分のメタノリシスお
よび得られた化合物()と一般式CHOCOOR
(式中Rは前述したとおりである)のグリオキシ
ル酸エステルとの縮合からなる。 還元は無水のジメチルホルムアミドのような溶
液中において−40〜−20℃の温度で三臭化燐を使
用して実施することができる。加オゾン分解はジ
エチルエーテル、メタノールまたは好適にはジク
ロロメタンのような溶剤中において−80〜−50℃
の温度で行うことができる。メタノリシスは好適
にはシリカゲルまたは触媒量の強塩基例えばナト
リウムメトキシドの存在下で行うことができる。
化合物()とグリオキシル酸エステルとの縮合
はベンゼンまたはトルエンのような有機溶剤中に
おいて70〜100℃の上昇した温度で実施するのが
適当である。 化合物(XII)への化合物()の変換は化合物
()の塩素化および得られた化合物(XI)とト
リフエニルホスフインとの反応からなる。塩素化
はテトラヒドロフランのような不活性溶剤中にお
いて−20〜0℃で塩化チオニルを使用して行うの
が適当である。トリフエニルホスフインとの反応
はピリジンまたはルチジンのような塩基の存在下
においてテトラヒドロフランのような有機溶剤中
で30〜60℃好適には40℃で行うことができる。あ
るいはまた、それはシリカゲルの存在下において
周囲温度で数時間行うことができる。 化合物(XII)から化合物()への3つの経路
のそれぞれは3つの工程すなわち環化、保護基
PGの除去および所望のOCONH2基の導入からな
る。基OCONH2の導入は保護基の除去後に行う
のが当然でありそして3つの経路は環化を3つの
工程の第1、第2または第3工程のいずれにおい
て実施するかという点においてのみ相違する。環
化はベンゼン、トルエンまたはキシレンのような
不活性溶剤中において80〜150℃で窒素雰囲気下
で加熱することによつて行われる。保護基PGを
除去する条件は保護基PGの性質によつてきまつ
てくる。OCONH2基はトリクロロアセチルイソ
シアネートまたはクロロスルホニルイソシアネー
トのようなイソシアネートとの反応によつて導入
することができる。 更に、本発明には以下の特徴がある。5―位の
炭素原子のR配置は「抗菌活性に対する唯一の本
質的な立体化学的要件〔ジヤーナル・オブ・アメ
リカン・ケミカル・ソサイアテイ(J.Am.Chem.
Soc.)第101巻第6306頁(1979年)〕であつて、そ
の配置を化合物()から化合物()まで正し
く保持する。炭素―硫黄結合はいずれの工程でも
妨害されない。 本発明を以下の例によつて説明する。以下の例
においてはp―ニトロベンジルに対してPNB、
そしてt―ブチル―ジメチルシリルに対して
TBDMSの略語を使用した。 例 1 4(R)―(1―t―ブチルジメチルシリルオ
キシメチルビニルチオ)―3(S―〔1(R)―
p―ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル〕―1―(1―メトキシカルボニル―2―
メチル―1―プロペニル)―アゼチジン―2―
オン―S―オキシド 4(R)―(1―ヒドロキシメチルビニルチオ)
―3(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル〕―1―(1―メトキ
シカルボニル―2―メチル―1―プロペニル)―
アゼチジン―2―オン―S―オキシド1.9gをジ
クロロメタン20mlに溶解する。トリエチルアミン
0.7ml、t―ブチルジメチルシリルクロライド640
mgおよびジメチルアミノピリジン20mgを窒素雰囲
気下で加える。室温で一夜撹拌した後、溶液を水
および塩化アンモニウム溶液で洗浄しそして溶剤
を蒸発する。残留物を溶離剤としてシクロヘキサ
ン/酢酸エチル(1:1)を使用してシリカゲル
上でクロマトグラフイー処理して標記化合物0.83
gを得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm):0.07(s,6H,Si
CH2) 0.88(s,9H,SiC(CH 33) 1.41(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 2.14(s,3H,【式】) 2.30(s,3H,【式】) 3.75(s,3H,COOCH 3) 3.7〜3.9(m,1H,H−6) 4.48(bs,2H,CH 2OSi) 5.25(s,2H,CH 2Ph) 5.1〜5.2(m,2H,H−5,CH3 CH) 5.85(bs,1H,【式】) 5.98(bs,1H,【式】) 7.4〜8.4(m,4H,PhNO2) I.R.(CH2Cl2),ν(cm-1): 1730 C=O不飽和エステル 1755 C=O OCOO 1780 C=O β−ラクタム 質量スペクトル(FD):m/e624 例 2 4(R)―(1―t―ブチルジメチルシリルオ
キシメチルビニルチオ)―3(S―〔1(R)―
p―ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル〕―1―(1―メトキシカルボニル―2―
メチル―1―プロペニル)―アゼチジン―2―
オン 無水のジメチルホルムアミド30ml中の4(R)
―(1―t―ブチルジメチルシリルオキシメチル
ビニルチオ)―3(S)―〔1(R)―p―ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1―
(1―メトキシカルボニル―2―メチル―1―プ
ロペニル)―アゼチジン―2―オン―S―オキシ
ド0.8gの溶液を−20℃に冷却しそして三臭化燐
0.25mlを加える。15分後に、混合物を酢酸エチル
でうすめ、NaHCO3の飽和溶液で2回それから
水で洗浄しそして乾燥(Na2SO4)する。溶剤を
蒸発して標記化合物0.7gを得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm): 0.05(s,6H,Si(CH 32) 0.90(s,9H,SiC(CH 33) 1.48(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 2.10(s,3H,【式】) 2.24(s,3H,【式】) 3.35(dd,J=2.5,7.0Hz,1H,H−6) 3.73(s,3H,COOCH 3) 4.08(t,J=2.0Hz,2H,CH 2OSi) 5.26(s,2H,CH 2Ph) 5.2〜5.35(m,3H,CH3 CH,H−5,
【式】) 5.56(d,J=2.0,1H,【式】) 7.4〜8.4(m,4H,PhNO2) 例 3 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3―(S)―〔1()―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―
1―メトキシ―オキサロイル―アゼチジン―2
―オン 4(R)―(1―t―ブチルジメチルシリルオ
キシメチルビニルチオ)―3(S)―〔1(R)―
p―ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル〕―1―(1―メトキシカルボニル―2―メチ
ル―1―プロペニル)―アゼチジン―2―オン
0.7gをジクロロメタン30mlおよびメタノール10
mlに溶解する。溶液を−78℃に冷却しそして酸素
中のオゾンを青色が現出するまで溶液中に導入す
る。Na2S2O5の水溶液と共に振盪しそして
Na2SO4上で乾燥した後、溶剤の蒸発によつて標
記化合物0.6gを得る。 例 4 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―ア
ゼチジン―2―オン 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシエチル〕−1―メ
トキシ―オキサロイル―アゼチジン―2―オン
0.6gをメタノール30mlにとかしそして数gのシ
リカゲルを加える。1時間撹拌した後、混合物を
過しそして溶剤を液から蒸発する。残留物を
シクロヘキサン/酢酸エチル(3:2)を使用し
てシリカゲル上でクロマトグラフイー処理して標
記化合物0.28gを得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm): 0.15(s,6H,Si(CH 32) 0.95(s,9H,SiC(CH 33) 1.45(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 3.42(dd,J=3.0,6.0Hz,1H,H−6) 4.25(s,2H,CH 2OSi) 5.26(s,2H,CH 2Ph) 5.1〜5.3(m,2H,CHCH3H―5) 6.70(bs,1H,NH) 7.4〜8.4(m,4H,PhNO2) I.R.(CH2Cl2),ν(cm-1): 1695 C=O 1750―OCOO― 1785β―ラクタム 例 5 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1
―(1―p―ニトロベンジルオキシカルボニル
―1―ヒドロキシメチル)―アゼチジン―2―
オン ベンゼン10ml中の4(R)―t―ブチルジメチ
ルシリルオキシアセチルチオ―3(S)―〔1
(R)―p―ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル〕―アゼチジン―2―オン0.34gおよ
びp―ニトロベンジルグリオキシレート0.34gを
還流温度に2時間保持する。溶剤の蒸発後、溶剤
としてシクロヘキサン/酢酸エチル(3:2)を
使用するシリカゲルカラムクロマトグラフイー処
理による残留物の精製によつて標記化合物0.27g
を得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm): 0.13(s,6H,Si(CH 32) 0.95(s,9H,SiC(CH 33) 1.47(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 3.52(m,1H,H―6) 4.27(s,2H,CH 2OSi) 4.0〜4.6(m,2H,CHOH,CHOH) 5.25(s,4H,2個のCH 2Ph) 5.1〜5.6(m,2H,CHCH3H―5) 7.3〜8.3(m,8H,2個のPh―NO2) 例 6 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1
―(1―p―ニトロベンジルオキシカルボニル
―1―クロロメチル)―アゼチジン―2―オン 無水のテトラヒドロフラン3ml中の4(R)―
t―ブチルジメチルシリルオキシアセチルチオ―
3(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル〕―1―(1―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニル―1―ヒドロキシメ
チル)―アゼチジン―2―オン0.27gの溶液を0
℃に冷却する。ピリジン0.045mlおよび塩化チオ
ニル0.03mlを加える。10分後に、混合物を過す
る。溶剤を蒸発して標記化合物0.3gを得る。こ
のものを次の工程に対してそのまま使用する。 例 7 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1
―(1―p―ニトロベンジルオキシカルボニル
―1―トリフエニルホスホラニリデンメチル)
―アゼチジン―2―オン 4(R)―t―ブチルジメチルシリルオキシア
セチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1―
(1―p―ニトロベンジルオキシカルボニル―1
―クロロメチル)―アゼチジン―2―オン0.3g
およびトリフエニルホスフイン0.45gをジクロロ
メタン5mlにとかしそしてシリカゲル2〜3gを
加える。溶剤の蒸発後、シリカゲルを乾燥し、室
温で一夜放置しそしてそれからシクロヘキサンで
洗浄して過剰のトリフエニルホスフインを除去す
る。シリカ上に吸着した生成物を溶離剤としてシ
クロヘキサン/酢酸エチル(3:2)を使用して
シリカゲル上でクロマトグラフイー処理して標記
化合物0.26gを得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm): 0.08,0.15(2個のs,6H,Si(CH 32) 0.89,0.93(2個のs,9H,SiC(CH 33) 1.35(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 4.1〜4.2(m.2H,CH 2OSi) 4.6〜5.0(m,1H,CHCH3) 5.20(bs,4H,2個のCH 2―Ph―NO2) 7.56(bs,15H,P(Ph3) 7.6〜8.4(m,8H,2個のPh―NO2) 例 8 4(R)―ヒドロキシアセチルチオ―3(S)―
〔1(R)―p―ニトロベンジオキシカルボニル
オキシエチル〕―1―(1―p―ニトロベンジ
ルオキシカルボニル―1―トリフエニルホスホ
ラニリデンメチル)―アゼチジン―2―オン 無水のテトラヒドロフラン2ml中の4(R)―
t―ブチルジメチルシリルオキシアセチルチオ―
3(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル〕―1―(1―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニル―1―トリフエニル
ホスホラニリデンメチル)―アゼチジン―2―オ
ン0.26gおよび酢酸0.07mlをテトラヒドロフラン
2ml中のテトラブチルアンモニウムフルオライド
0.18gの溶液で処理する。室温で1時間撹拌した
後に、混合物を酢酸エチルでうすめ、水、飽和
NaHCO3溶液および再び水で洗浄する。乾燥お
よび溶剤の蒸発後、残留物を溶離剤としてシクロ
ヘキサン/酢酸エチル(1:3)を使用するシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー処理によつて精
製して標記化合物0.13gを得る。 PMR(CDCl3),δ(ppm): 1.37(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 4.2(m,2H,CH 2OH) 4.9(m,1H,CH3 CH) 5.25(m,5H,2個のCH 2Ph,H―5) 7.55(s,15H,P(Ph3) 7.6〜8.4(m,8H,2個のPhNO2) 例 9 p―ニトロベンジル(5R)―2―ヒドロキシ
メチル―6(S)―〔1(R)――ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル〕―2―ペネ
ム―3―カルボキシレート キシレン10ml中の4(R)―ヒドロキシアセチ
ルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル〕―1―(1―
p―ニトロベンジルオキシカルボニル―1―トリ
フエニルホスホラニリデンメチル)―アゼチジン
―2―オン0.13gの溶液を窒素雰囲気下で1時間
還流する。溶剤を蒸発しそして分離用TLC(シリ
カゲル)により精製して標記化合物50mgを得る。 〔α〕D:+66゜(c=1.3,CHCl3) PMR(CDCl3),δ(ppm): 1.51(d,J=6.5,3H,CH 3CH) 3.55(bs,1H,OH) 3.97(dd,J=2.0,8.0Hz,1H,H―6) 4.68(s,2H,CH 2OH) 5.19(dq,J=6.5,8.0Hz,1H,CHCH3) 5.25〜5.45(m,4H,2個のCH 2Ph) 5.65(d,J=2.0Hz,1H,H―5) 7.4〜8.5(m,8H,2個のPhNO2) 質量スペクトル(F.D.)m/1559 UV:λnax(CH2Cl2):269nm(ε17000),
3236800) I.R.(CH2Cl2),ν(cm-1):1795,1755,1710 例 10 p―ニトロベンジル(5R)―2―t―ブチル
ジメチルシリルオキシメチル―6S)―〔1
(R)―p―ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル〕―2―ペネム―3―カルボキシ
レート キシレン15ml中の4(R)―t―ブチルジメチ
ルシリルオキシアセチルチオ―3(S)―〔1
(R)―p―ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル〕―1―(1―p―ニトロベンジルオ
キシカルボニル―1―トリフエニルホスホラニリ
デンメチル)―アゼチジン―2―オン0.15gの溶
液を、窒素雰囲気下で1時間還流温度で撹拌す
る。溶剤を蒸発しそして残留物を分離用TLC(シ
リカゲル)によつて精製して標記化合物70mgを得
る。 例 11 p―ニトロベンジル(5R)―2―ヒドロキシ
メチル―6(S)―〔1(R)――ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル〕―2―ペネ
ム―3―カルボキシレート p―ニトロベンジル(5R)―2―t―ブチル
ジメチルシリルオキシメチル―6(S)―〔1
(R)―p―ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル〕―2―ペネム―3―カルボキシレー
ト70mgを無水のテトラヒドロフラン1mlに溶解す
る。酢酸0.025mlおよびテトラヒドロフラン0.5ml
中のテトラブチルアンモニウムフルオライド68mg
の溶液を加える。混合物を室温で1時間撹拌し、
酢酸エチルでうすめ、水、飽和NaHCO3溶液そ
して再び水で洗浄する。溶剤を蒸発した後、残留
物を溶離剤としてシクロヘキサン/酢酸エチル
(3:7)を使用するシリカゲル分離用TLCによ
つて精製する。標記化合物30mgが得られる。物質
は例9で得られたものと同一(IRおよびNMRス
ペクトル)である。 例 12 p―ニトロベンジル(5R)―2―(N―トリ
クロロアセチルカルバモイルオキメチル)―6
(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル〕―2―ペネム―3―
カルボキシレート 0℃に冷却した精製アセトン1ml中のp―ニト
ロベンジル(5R)―2―ヒドロキシメチル―6
(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル〕―2―ペネム―3―カル
ボキシレート50mgの溶液に精製アセトン1ml中の
トリクロロアセチルイソシアネート0.06mlの溶液
を滴加する。20分後に溶剤を蒸発して粗製の標記
化合物100mgを得る。 PMR(CDCl3)δ(ppm): 1.50(d,J=6.0Hz,3H,CH 3CH) 4.00(dd,J=2.0,8.0Hz,1H,H―6) 5.1〜5.9(m,8H,H―5CHO、2個のCH
2Ph,CH 2OCO) 7.5〜8.4(m,8H,2個のPhNO2) 8.90(bs,1H,NH) 例 13 p―ニトロベンジル(5R)―2―カルバモイ
ルオキシメチル―6(S)―〔1R)―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―
2―ペネム―3―カルボキシレート 粗製のp―ニトロベンジル(5R)―2―(N
―トリクロロアセチルカルバモイルオキシメチ
ル)―6(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシエチル〕―2―ペネム―
3―カルボキシレート100mgをメタノール4mlに
溶解する。シリカゲル(40〜63μm)を加えそし
て混合物を室温で3時間撹拌しそして過する。
アセトンで洗浄する。液から溶剤を蒸発した
後、残留物を溶離剤としてシクロヘキサン/酢酸
エチル(3:7)を使用するシリカゲル分離用
TLCによつて精製して標記化合物33mgを得る。 〔α〕20 D+50゜(C=2.4、アセトン) PMR(CDCl3)δ(ppm): 1.48(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 3.95(dd,J=2.0,8.0Hz,1H,H−6) 4.85(bs,2H,NH 2) 5.1〜5.5(m,7H,CHCH3,2個のCH2Ph,
CH2OCO) 5.64(d,J=2.0Hz,1H,H―5) 7.4〜8.5(m,8H,2個のPhNO2) I.R.(KBr),ν(cm-1):1795,1750,1710 例 14 4(R)―(N―トリクロロアセチルカルバモ
イルオキシアセチルチオ)―3()―〔1(R)
―p―ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル〕―1―(1―p―ニトロベンジルオキ
シカルボニル―1―トリフエニルホスホラニリ
デンメチル)―アゼチジン―2―オン 4(R)―ヒドロキシアセチルチオ―3(S)―
〔1(R)―p―ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル〕―1―(1―p―ニトロベンジル
オキシカルボニル―1―トリフエニルホスホラニ
リデンメチル)―アゼチジン―2―オン120mgを
精製アセトン2mlにとかしそして0℃に冷却す
る。精製アセトン2ml中のトリクロロアセチルイ
ソシアネート0.1mlの溶液を滴加しそして混合物
を30分撹拌する。溶剤を蒸発して粗製の標記化合
物180mgを得る。 例 15 4(R)―カルバモイルオキシアセチルチオ―
3(S)―〔1(R)―p―ニトベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル〕―1―(1―p―ニ
トロベンジルオキシカルボニル―1―トリフエ
ニルホスホラニリデンメチル)―アゼチジン―
2―オン メタノール8ml中の粗製の4(R)―(N―ト
リクロロアセチルカルバモイルオキシアセチルチ
オ)―3(S)―〔1(R)―p―ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシエチル〕―1―(1―p
―ニトロベンジルオキシカルボニル―1―トリフ
エニルホスホラニリデンメチル)―アゼチジン―
2―オン180mgおよびシリカゲル(40〜63μm)の
混合物を室温で4時間撹拌する。混合物を過
し、アセトンで洗浄そして液を蒸発する。残留
物を溶離剤としてシクロヘキサン―酢酸エチル
(1:4)を使用するシリカゲル分離用TLCによ
つて標記化合物70mgを得る。 例 16 p―ニトロベンジル(5R)―2―カルバモイ
ルオキシメチル―6(S)―〔1R)―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―
2―ペネム―3―カルボキシレート キシレン8ml中の4(R)―カルバモイルオキ
シアセチルチオ―3(S)―〔1(R)―p―ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕―1
―(1―p―ニトロベンジルオキシカルボニル―
1―トリフエニルホスホラニリデンメチル)―ア
ゼチジン―2―オン70mgを窒素下で1時間還流温
度で加熱する。溶剤の蒸発後、残留物をシリカゲ
ル分離用TLCによつて精製して例13で得られた
ものと同一(IRおよびNMRスペクトル)な標記
化合物30mgを得る。 例 17 ナトリウム(5R)―2―カルバモイルオキシ
メチル―6(S)―〔1(R)―ドロキシエチ
ル〕―2―ペネム―3―カルボキシレート p―ニトロベンジル(5R)―2―カルバモイ
ルオキシメチル―6(S)―〔1(オキシカルボニ
ルオキシエチル〕―2―ペネム―3―カルボキシ
レート30mgを酢酸エチル3mlに溶解する。水2
ml、NaHCO34.2mgおよび5%パラジウム付木炭
45mgを加えそして混合物を室温で2時間水素添加
にうけしめる。珪藻土を通して過した後、水性
相を少量の冷酢酸エチルで洗浄し、ウオーターズ
Sep―Pak C18カートリツジを通して過しそし
て凍結乾燥する。残留物を溶離剤として水を使用
するウオーターズSep―Pak C18カートリツジ上
の逆相クロマトグラフイー処理によつて精製す
る。標記化合物8mgが得られる。 UV:λnax(H2O)259nm(ε3600),308(5400 PMR(D2O),δ(ppm): 1.31(d,J=6.5Hz,3H,CH 3CH) 3.91(dd,J=1.5,60Hz,1H,H―6) 4.25(m,1H,CHOH) 5.02,5.36(2個のd,2H,CH 2OCO) 5.66(d,J=1.5Hz,1H,H―5) 〔α〕20 D+143゜(c=0.97,H2O) 以下に本発明化合物の代表例であるナトリウム
(5R)―2―カルバモイルオキシメチル―6(S)
―(1R―ヒドロキシエチル)―2―ペネム―3
―カルボキシレート(FCE22101)についてその
生物活性を示す。 試験管内:MICは栄養培地中での連続希釈法
により測定された。 結果:β―ラクタマーゼの生産菌株に対しても
高度かつ広汎なスペクトル活性示す。嫌気性菌
(バクテロイデス、クロストリジウム
(Bacteroides,Clostridium))に対して適切な
抗菌活性を示す。 よく知られた第3世代のセフエム誘導体である
セフオタキシム(cefotaxime)との比較および
英国特許第2043639号明細書に記載されかつそこ
で試験されているペネム誘導体であるFCE20077
(後記注参照)およびFCE20445(後記注参照)と
の比較において本発明化合物であるFCE22101は
グラム陽性菌株および嫌気性菌に対して有意に高
い抑制作用を示し、β―ラクタマーゼに対するよ
り高い耐性を示す(以下の表1参照)。 生体内:ED50はマウスの腹腔(i.p.)内にスタ
フイロコツカスアウレススミス
(Staphylococcus aureus Smith)を注射し、
注射後2時間皮下(S.C.)経路での処理後に測
定された。セフオタキシムのED50が2.5mg/Kg
であるのに比して本発明化合物FCE 22101の
それは0.6mg/Kgであつた。 【表】 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル、2,
    2,2―トリクロロエチル、アセトニル、アリ
    ル、ベンジル、p―ニトロベンジル、p―メトキ
    シベンジル、フエニル、o―ニトロフエニル、ベ
    ンズヒドリルまたは1―フエノキシエチル基であ
    るかあるいはアセトキシメチル、ピバロイルオキ
    シメチルまたはフタリジル基、または式
    【式】または―CH2NHCOR3 (式中R3は1〜5個の炭素原子を有するアル
    キル基またはアリール基を示す)の基を示す〕の
    化合物またはその医薬的に許容し得る塩。 2 前記第1項記載の化合物において(5R)―
    2―カルバモイルオキシメチル―6(S)―〔1
    (R)ヒドロキシエチル〕―2―ペネム―3―カ
    ルボン酸またはその医薬的に許容し得る塩である
    化合物。 3 前記第1項記載の化合物においてナトリウム
    (5R)―2―カルバモイルオキシメチル―6(S)
    ―〔1(R)ヒドロキシエチル〕―2―ペネム―
    3―カルボキシレートである化合物。
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