JPH0145069Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0145069Y2 JPH0145069Y2 JP16163884U JP16163884U JPH0145069Y2 JP H0145069 Y2 JPH0145069 Y2 JP H0145069Y2 JP 16163884 U JP16163884 U JP 16163884U JP 16163884 U JP16163884 U JP 16163884U JP H0145069 Y2 JPH0145069 Y2 JP H0145069Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitter
- liquid metal
- crucible
- metal
- filled
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 20
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は液体金属イオン源のエミツタを製作す
るエミツタ製作装置に関する。
るエミツタ製作装置に関する。
［従来の技術］
近時、ボロンの共晶合金等のように融点の高い
任意の金属を充填したエミツタを製造するため、
高温で液体となつた金属が入れられた容器内にエ
ミツタを浸漬させる装置が提案されている。
任意の金属を充填したエミツタを製造するため、
高温で液体となつた金属が入れられた容器内にエ
ミツタを浸漬させる装置が提案されている。
［考案が解決しようとする問題点］
ところで上述した従来装置においては、液体金
属が入れられた容器内にエミツタを浸漬させて充
填する際に、該エミツタが加熱されない状態で浸
漬されるように構成されている。そのため、容器
内の液体金属の温度が一時的に低下し、該エミツ
タと液体金属の濡れ性が悪い状態で充填される。
この状態で液体金属が充填されたエミツタをイオ
ン源としてイオンビーム装置に装着して使用した
場合、液体金属がエミツタの先端部に向けて移送
される際にその流れが不安定、不連続となり、安
定したイオンビームを得ることができなかつた。
属が入れられた容器内にエミツタを浸漬させて充
填する際に、該エミツタが加熱されない状態で浸
漬されるように構成されている。そのため、容器
内の液体金属の温度が一時的に低下し、該エミツ
タと液体金属の濡れ性が悪い状態で充填される。
この状態で液体金属が充填されたエミツタをイオ
ン源としてイオンビーム装置に装着して使用した
場合、液体金属がエミツタの先端部に向けて移送
される際にその流れが不安定、不連続となり、安
定したイオンビームを得ることができなかつた。
本考案は以上の欠点を解消して、安定したイオ
ンビームを得ることのできるエミツタを製作する
ことのできる装置を提供することを目的としてい
る。
ンビームを得ることのできるエミツタを製作する
ことのできる装置を提供することを目的としてい
る。
［問題点を解決するための手段］
本問題点を解決するための本考案の構成は、イ
オン化される金属が充填されるエミツタと、該エ
ミツタを支持する手段と、該エミツタを加熱する
手段と、該金属を貯え上部に開口を有する坩堝
と、該坩堝を加熱して該金属を液体化する手段
と、該エミツタが該液体金属に浸漬されるように
該エミツタと坩堝を相対的に移動する手段とを備
えたことを特徴としている。
オン化される金属が充填されるエミツタと、該エ
ミツタを支持する手段と、該エミツタを加熱する
手段と、該金属を貯え上部に開口を有する坩堝
と、該坩堝を加熱して該金属を液体化する手段
と、該エミツタが該液体金属に浸漬されるように
該エミツタと坩堝を相対的に移動する手段とを備
えたことを特徴としている。
［実施例］
以下本考案の実施例を添付図面に基づいて詳述
する。
する。
第１図は本考案の一実施例装置であり、第２図
は一実施例装置に使用されるステージ移動手段で
ある。第１図において１は真空容器である。該真
空容器内には、ステージ２が設けられており、該
ステージ２上には、支柱３及び４が固定されてい
る。５はセラミツクコートされた坩堝で、該坩堝
５内には液体金属６が貯えられている。７は坩堝
５を支持すると共に坩堝５を加熱するためのヒー
タで、該ヒータ７は前記支柱３及び４に取り付け
られ、電源導入部８，９を介して加熱電源１０に
接続されている。１１は真空容器１に取り外し可
能に取り付けられた上蓋であり、１２は真空容器
１の下蓋である。１３はエミツタで、該エミツタ
１３は液体金属を充填するためのリザーバ１４を
有している。該上蓋１１にはエミツタ１３を支持
する絶縁碍子から成るエミツタホルダ１５が取り
付けられ、該エミツタ１３とエミツタホルダ１５
は取り外し可能に形成されている。１６はエミツ
タ１３に加熱電流を供給するためのエミツタ加熱
電源である。
は一実施例装置に使用されるステージ移動手段で
ある。第１図において１は真空容器である。該真
空容器内には、ステージ２が設けられており、該
ステージ２上には、支柱３及び４が固定されてい
る。５はセラミツクコートされた坩堝で、該坩堝
５内には液体金属６が貯えられている。７は坩堝
５を支持すると共に坩堝５を加熱するためのヒー
タで、該ヒータ７は前記支柱３及び４に取り付け
られ、電源導入部８，９を介して加熱電源１０に
接続されている。１１は真空容器１に取り外し可
能に取り付けられた上蓋であり、１２は真空容器
１の下蓋である。１３はエミツタで、該エミツタ
１３は液体金属を充填するためのリザーバ１４を
有している。該上蓋１１にはエミツタ１３を支持
する絶縁碍子から成るエミツタホルダ１５が取り
付けられ、該エミツタ１３とエミツタホルダ１５
は取り外し可能に形成されている。１６はエミツ
タ１３に加熱電流を供給するためのエミツタ加熱
電源である。
第２図は坩堝の上下移動機構部を詳細に示すた
めの図であり、図中１７はガイド支柱であり、１
８はガイド支柱１７に支点Ｐを中心として回転可
能に取り付けられたＬ字アームである。１９はＬ
字アーム１８の先端に設けられたコロである。２
０は案内棒２１に一体的に取り付けられ、案内棒
２１に案内されて上下方向に移動可能にされた移
動台であり、この移動台２０上にはステージ２が
載置されている。移動台２０の裏面は前記コロ１
９に接触しており、Ｌ字アームの回転はコロ１９
を介して移動台２０の移動に変換される。２２は
テコ材で、該テコ材２２は、移動棒２３により支
点Ｐを中心に回転できるようになつている。テコ
材２２と前記Ｌ字アーム１８とは接触しており、
テコ材２２の回転はＬ字アーム１８の回転に変換
されるようになつている。２４は第１図に示す真
空容器１内のエミツタ１３を観察するための覗き
窓である。
めの図であり、図中１７はガイド支柱であり、１
８はガイド支柱１７に支点Ｐを中心として回転可
能に取り付けられたＬ字アームである。１９はＬ
字アーム１８の先端に設けられたコロである。２
０は案内棒２１に一体的に取り付けられ、案内棒
２１に案内されて上下方向に移動可能にされた移
動台であり、この移動台２０上にはステージ２が
載置されている。移動台２０の裏面は前記コロ１
９に接触しており、Ｌ字アームの回転はコロ１９
を介して移動台２０の移動に変換される。２２は
テコ材で、該テコ材２２は、移動棒２３により支
点Ｐを中心に回転できるようになつている。テコ
材２２と前記Ｌ字アーム１８とは接触しており、
テコ材２２の回転はＬ字アーム１８の回転に変換
されるようになつている。２４は第１図に示す真
空容器１内のエミツタ１３を観察するための覗き
窓である。
以上のように構成された装置において、エミツ
タに液体金属を充填する場合について説明する。
先ず、エミツタ１３をエミツタホルダ１５に取り
付け、この状態で真空容器１内を図示外の排気装
置により10-6Torr程度に排気する。次に、エミ
ツタ１３をエミツタ加熱電源１６で加熱してそれ
ぞれ焼き出し洗浄を行なう。ここで、加熱電源１
０よりヒータ７に加熱電流を供給すると坩堝５内
部に貯られた高融点金属が熔融して液体金属にな
る。この状態で、真空容器１内を覗き窓２４より
観察しながら移動棒２３を矢印Ａ方向に移動する
と、テコ材２２と共にＬ字アーム１８が支点Ｐを
中心に矢印Ｂのよう回転するため、坩堝５は移動
台２０と共に第３図に示すような位置迄上昇す
る。そのため、リザーバ１４が液体金属６内に浸
漬され液体金属６の充填が行なわれる。この場
合、坩堝５内のリザーバ１４は予めエミツタ加熱
電源１６により加熱されているため、リザーバ１
４を液体金属６に浸漬した際に液体金属の温度が
低下することはなく、濡れ性が良い状態でリザー
バに液体金属を充填することができる。そのた
め、このように製作されたエミツタをイオン源と
して用いた場合には、液体金属のエミツタ先端部
への流れが安定し、安定したイオンビームを得る
ことができる。
タに液体金属を充填する場合について説明する。
先ず、エミツタ１３をエミツタホルダ１５に取り
付け、この状態で真空容器１内を図示外の排気装
置により10-6Torr程度に排気する。次に、エミ
ツタ１３をエミツタ加熱電源１６で加熱してそれ
ぞれ焼き出し洗浄を行なう。ここで、加熱電源１
０よりヒータ７に加熱電流を供給すると坩堝５内
部に貯られた高融点金属が熔融して液体金属にな
る。この状態で、真空容器１内を覗き窓２４より
観察しながら移動棒２３を矢印Ａ方向に移動する
と、テコ材２２と共にＬ字アーム１８が支点Ｐを
中心に矢印Ｂのよう回転するため、坩堝５は移動
台２０と共に第３図に示すような位置迄上昇す
る。そのため、リザーバ１４が液体金属６内に浸
漬され液体金属６の充填が行なわれる。この場
合、坩堝５内のリザーバ１４は予めエミツタ加熱
電源１６により加熱されているため、リザーバ１
４を液体金属６に浸漬した際に液体金属の温度が
低下することはなく、濡れ性が良い状態でリザー
バに液体金属を充填することができる。そのた
め、このように製作されたエミツタをイオン源と
して用いた場合には、液体金属のエミツタ先端部
への流れが安定し、安定したイオンビームを得る
ことができる。
［効果］
以上詳述したように本考案に基づく装置におい
ては、エミツタに液体金属が充填される際に、濡
れ性が良い状態で充填されるため、本考案により
安定したイオンビームを得ることができるエミツ
タを製作できるエミツタ製作装置が提供される。
ては、エミツタに液体金属が充填される際に、濡
れ性が良い状態で充填されるため、本考案により
安定したイオンビームを得ることができるエミツ
タを製作できるエミツタ製作装置が提供される。
第１図は本考案の一実施例装置の構成図、第２
図はステージ移動手段の構成図、第３図はステー
ジを移動した場合の状態図である。 １：真空容器、２：ステージ、３，４：支柱、
５：坩堝、６：液体金属、７：ヒータ、８，９：
電源導入部、１０：加熱電源、１１：上蓋、１
２：下蓋、１３：エミツタ、１４：リザーバ、１
５：エミツタホルダー、１６：エミツタ加熱電
源、１７：ガイド支柱、１８：Ｌ字マーク、１
９：コロ、２０：移動台、２１：案内棒、２２：
テコ材、２３：移動棒、２４：覗き窓。
図はステージ移動手段の構成図、第３図はステー
ジを移動した場合の状態図である。 １：真空容器、２：ステージ、３，４：支柱、
５：坩堝、６：液体金属、７：ヒータ、８，９：
電源導入部、１０：加熱電源、１１：上蓋、１
２：下蓋、１３：エミツタ、１４：リザーバ、１
５：エミツタホルダー、１６：エミツタ加熱電
源、１７：ガイド支柱、１８：Ｌ字マーク、１
９：コロ、２０：移動台、２１：案内棒、２２：
テコ材、２３：移動棒、２４：覗き窓。
Claims (1)
- イオン化される金属が充填されるエミツタと、
該エミツタを支持する手段と、該エミツタを加熱
する手段を、該金属を貯え上部に開口を有する坩
堝と、該坩堝を加熱して該金属を液体化する手段
と、該エミツタが該液体金属に浸漬されるように
該エミツタと坩堝を相対的に移動する手段とを備
えたエミツタ製作装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16163884U JPH0145069Y2 (ja) | 1984-10-25 | 1984-10-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16163884U JPH0145069Y2 (ja) | 1984-10-25 | 1984-10-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6176668U JPS6176668U (ja) | 1986-05-23 |
| JPH0145069Y2 true JPH0145069Y2 (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=30719540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16163884U Expired JPH0145069Y2 (ja) | 1984-10-25 | 1984-10-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0145069Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-10-25 JP JP16163884U patent/JPH0145069Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6176668U (ja) | 1986-05-23 |
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