JPH0144392B2 - - Google Patents
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- JPH0144392B2 JPH0144392B2 JP16045281A JP16045281A JPH0144392B2 JP H0144392 B2 JPH0144392 B2 JP H0144392B2 JP 16045281 A JP16045281 A JP 16045281A JP 16045281 A JP16045281 A JP 16045281A JP H0144392 B2 JPH0144392 B2 JP H0144392B2
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Landscapes
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
フツ素水素酸などフツ素の化合物は電子工業、
金属工業を始めとして工業的にも実験室において
も広く多量に用いられている。
金属工業を始めとして工業的にも実験室において
も広く多量に用いられている。
ところで、フツ素およびフツ素化合物は人体に
極めて有害で、公害防止、安全衛生上その処理や
取り扱かいに対しては十分な配慮が必要な物質で
ある。廃液処理においてはこれを除去することが
義務ずけられ、現在はフツ素は排水基準として15
mg／と定められている。従来よりフツ素の処理
方法としては、消石灰や塩化カルシウムなどのカ
ルシウム塩を用い、比較的容解度の小さいフツ
化、カルシウムとして沈澱分離させることが知ら
れている。
極めて有害で、公害防止、安全衛生上その処理や
取り扱かいに対しては十分な配慮が必要な物質で
ある。廃液処理においてはこれを除去することが
義務ずけられ、現在はフツ素は排水基準として15
mg／と定められている。従来よりフツ素の処理
方法としては、消石灰や塩化カルシウムなどのカ
ルシウム塩を用い、比較的容解度の小さいフツ
化、カルシウムとして沈澱分離させることが知ら
れている。
しかし、フツ化カルシウムは、水に対して溶解
性があるうえ、共存するイオンの影響を受けやす
く、またフツ素が錯イオンを形成しやすいために
実際上排水基準値以下に処理することが非常に困
難である。このため処理工程上の種々の工夫によ
り、ようやく規制値を保つているのが現状であ
り、より確実な処理技術の開発が望まれている。
性があるうえ、共存するイオンの影響を受けやす
く、またフツ素が錯イオンを形成しやすいために
実際上排水基準値以下に処理することが非常に困
難である。このため処理工程上の種々の工夫によ
り、ようやく規制値を保つているのが現状であ
り、より確実な処理技術の開発が望まれている。
一方フツ素の規制値は上乗せ等により更に低い
値に押えられようとしており、これに応ずる方法
として活性アルミナなどの特殊な吸着剤、薬品添
加による吸着沈殿法などを用いた高度処理方法が
提案され、その実施化が試みられようとしている
が、これらの方法もその選択性やスラツジ量の増
大、処理のストアツプなどの点で実用上問題が多
い。
値に押えられようとしており、これに応ずる方法
として活性アルミナなどの特殊な吸着剤、薬品添
加による吸着沈殿法などを用いた高度処理方法が
提案され、その実施化が試みられようとしている
が、これらの方法もその選択性やスラツジ量の増
大、処理のストアツプなどの点で実用上問題が多
い。
本発明はこのような状況に鑑み、廃水中含まれ
たフツ素を高度に処理する全く新しい方法とを提
供するものである。すなわち本発明は、廃液中に
含まれたフツ素およびフツ素、化合物の除去に際
し、反応槽中に収容された廃液中に、ヘキサアル
キルジシロキサンを固体吸着剤に担持させて充填
し、反応槽内の廃液を酸性状態に保ちその中に空
気を吹込み、廃液中より飛散するフルオロトリア
ルキルシランを、アルカリ液と固体吸着剤とを収
容した吸収槽中に導びき、該吸収槽中でトリアル
キルシラノールとフツ素イオンとを生成させ、ト
リアルキルシラノールをヘキサアルキルジシロキ
サンとして固体吸着剤に吸着させるとともにアル
カリ液中にフツ素イオンを回収することを特徴と
するものである。次に本発明の原理を説明する。
たフツ素を高度に処理する全く新しい方法とを提
供するものである。すなわち本発明は、廃液中に
含まれたフツ素およびフツ素、化合物の除去に際
し、反応槽中に収容された廃液中に、ヘキサアル
キルジシロキサンを固体吸着剤に担持させて充填
し、反応槽内の廃液を酸性状態に保ちその中に空
気を吹込み、廃液中より飛散するフルオロトリア
ルキルシランを、アルカリ液と固体吸着剤とを収
容した吸収槽中に導びき、該吸収槽中でトリアル
キルシラノールとフツ素イオンとを生成させ、ト
リアルキルシラノールをヘキサアルキルジシロキ
サンとして固体吸着剤に吸着させるとともにアル
カリ液中にフツ素イオンを回収することを特徴と
するものである。次に本発明の原理を説明する。
酸性下において、ヘキサアルキルジシロキサン
例えばヘキサメチルシロキサンはフツ素イオンと
反応して低沸点化合物のフルオロトリメチルシラ
ンと、トリメチルシラノールとを生成する。
例えばヘキサメチルシロキサンはフツ素イオンと
反応して低沸点化合物のフルオロトリメチルシラ
ンと、トリメチルシラノールとを生成する。
（CH3）3Si−Ｏ−Si（CH3）3＋HF→（CH3）3SiF＋（CH3
）3SiOH…(1) トリメチルシランはアルカリ液中でトリメチル
シラノールとフツ素イオンとに分れる。
）3SiOH…(1) トリメチルシランはアルカリ液中でトリメチル
シラノールとフツ素イオンとに分れる。
（CH3）3SiFOH-
―――→
（CH3）3SiOH＋F- …(2)
(1)式および(2)式で生成したトリメチルシラノー
ルは瞬間的に２分子結合してヘキサメチルジシロ
キサンとなる。
ルは瞬間的に２分子結合してヘキサメチルジシロ
キサンとなる。
（CH3）3SiOH＋HOSi（CH3）3→（CH3）3Si−Ｏ−Si（CH
3）2＋H2O…(3) 本発明は上記の反応を有効に活用して廃液中の
フツ素イオンを除去し、廃液中に添加したヘキサ
メチルジシロキサンを液中に再生させて燥返し使
用できるようにしたものである。
3）2＋H2O…(3) 本発明は上記の反応を有効に活用して廃液中の
フツ素イオンを除去し、廃液中に添加したヘキサ
メチルジシロキサンを液中に再生させて燥返し使
用できるようにしたものである。
すなわち反応槽と回収槽とを配管で接続し、反
応槽内に、フツ素イオンを含む廃液を収容し、回
収槽中にはアルカリ液と固体吸着剤とを収容す
る。
応槽内に、フツ素イオンを含む廃液を収容し、回
収槽中にはアルカリ液と固体吸着剤とを収容す
る。
反応槽中の廃液を酸性状態に保ち、その液中
に、ヘキサメチルジシロキサンを、固体吸着剤
（例えば活性炭）に担持させて添加し、次いで液
中に空気を連続的に吹込む。これによつて反応槽
中では前記(1)の反応が生じ、生成した低沸点化合
物のフルオロトリメチルシランが空気と共に飛散
して回収槽のアルカリ液中に送り込まれる。
に、ヘキサメチルジシロキサンを、固体吸着剤
（例えば活性炭）に担持させて添加し、次いで液
中に空気を連続的に吹込む。これによつて反応槽
中では前記(1)の反応が生じ、生成した低沸点化合
物のフルオロトリメチルシランが空気と共に飛散
して回収槽のアルカリ液中に送り込まれる。
回収槽中では前記(2)の反応が生じ、フツ素イオ
ンがアルカリ液中に溶解し、反応が進むにしたが
つてフツ素の濃縮液となる。
ンがアルカリ液中に溶解し、反応が進むにしたが
つてフツ素の濃縮液となる。
一方、反応槽および回収槽中に生じたトリメチ
ルシラノールは前記(3)の反応によりヘキサメチル
ジシロキサンとなり、いずれも活性炭に吸収回収
される。したがつて反応槽内では活性炭に吸着さ
せたヘキサメチルジシロキサンがひきつづき前記
(1)の反応の進行に使用される。
ルシラノールは前記(3)の反応によりヘキサメチル
ジシロキサンとなり、いずれも活性炭に吸収回収
される。したがつて反応槽内では活性炭に吸着さ
せたヘキサメチルジシロキサンがひきつづき前記
(1)の反応の進行に使用される。
(1)〜(3)の反応の進行にしたがつて反応槽内の活
性炭に吸着されたヘキサメチルジシロキサンが消
失して回収槽内の活性炭に吸着されるヘキサメチ
ルジシロキサンの量が増大し、且つアルカリ液中
のフツ素イオンの量が増加して廃液中よりフツ素
及びフツ素化合物が除去されれる。反応槽及び回
収槽中に残る活性炭をそれぞれ入替え、回収槽内
に得られた、ヘキサメチルジシロキサンを吸着し
ている活性炭を前記(1)式の反応に使用し、反応槽
内の活性炭を回収槽内でのヘキサメチルジシロキ
サンの吸着用として使用する。あるいは、それぞ
れの槽内に活性炭を残したまま、反応槽を回収槽
に、また回収槽を反応槽に交替使用することもで
きる。
性炭に吸着されたヘキサメチルジシロキサンが消
失して回収槽内の活性炭に吸着されるヘキサメチ
ルジシロキサンの量が増大し、且つアルカリ液中
のフツ素イオンの量が増加して廃液中よりフツ素
及びフツ素化合物が除去されれる。反応槽及び回
収槽中に残る活性炭をそれぞれ入替え、回収槽内
に得られた、ヘキサメチルジシロキサンを吸着し
ている活性炭を前記(1)式の反応に使用し、反応槽
内の活性炭を回収槽内でのヘキサメチルジシロキ
サンの吸着用として使用する。あるいは、それぞ
れの槽内に活性炭を残したまま、反応槽を回収槽
に、また回収槽を反応槽に交替使用することもで
きる。
以上実施例ではヘキサメチルジシロキサンを用
いた例について説明したが、これに限らずメチル
基をエチル基その他のアルキル基に置換したヘキ
サアルキルジシロキサンを用いることも勿論でき
る。すなわち前記(1)式の反応ではフルオロトリア
ルキルシランとトリアルキルシラノールとが生成
され、またた(2)式の反応ではトリアルキルシラノ
ールとフツ素イオンとに遊離し、トリアルキルシ
ラノールが２分子結合してヘキサアルキルジシロ
キサンとなり、これが活性炭に吸着され、フツ素
イオンがアルカリ液中に回収されるのである。
いた例について説明したが、これに限らずメチル
基をエチル基その他のアルキル基に置換したヘキ
サアルキルジシロキサンを用いることも勿論でき
る。すなわち前記(1)式の反応ではフルオロトリア
ルキルシランとトリアルキルシラノールとが生成
され、またた(2)式の反応ではトリアルキルシラノ
ールとフツ素イオンとに遊離し、トリアルキルシ
ラノールが２分子結合してヘキサアルキルジシロ
キサンとなり、これが活性炭に吸着され、フツ素
イオンがアルカリ液中に回収されるのである。
本発明は以上のように、反応槽と回収槽とを用
い、前記(1)〜(3)の反応を有効に活用して廃液中に
含まれたフツ素又はフツ素化合物は除去するもの
で、固体吸着剤に担持させて反応槽内に添加した
ヘキサメチルジシロキサンは回収槽内に固体吸着
剤に担持された形で回収され、これをそのまま反
応槽内で使用できるため、成分に無駄が生ぜず、
処理に要する手数を簡略化でき、処理シテムの構
成上極めて有利であり、高度の処理を行なうこと
ができる効果を有するものである。以下に本発明
の実施例を示す。
い、前記(1)〜(3)の反応を有効に活用して廃液中に
含まれたフツ素又はフツ素化合物は除去するもの
で、固体吸着剤に担持させて反応槽内に添加した
ヘキサメチルジシロキサンは回収槽内に固体吸着
剤に担持された形で回収され、これをそのまま反
応槽内で使用できるため、成分に無駄が生ぜず、
処理に要する手数を簡略化でき、処理シテムの構
成上極めて有利であり、高度の処理を行なうこと
ができる効果を有するものである。以下に本発明
の実施例を示す。
（実施例）
反応槽内に、F-1000ppmを含む100mlの廃液を
収容し、該液中にヘキサメチルジシロキサン２ml
が吸着された活性炭３ｇは添加した。
収容し、該液中にヘキサメチルジシロキサン２ml
が吸着された活性炭３ｇは添加した。
一方回収槽内には0.1Nのアルカリ懸濁液100ml
を収容し、これに活性炭３ｇを添加した。
を収容し、これに活性炭３ｇを添加した。
反応槽内に硫酸（１：１）を５〜10ml加え、液
中に空気を送り込み、液中より生ずるガスを回収
槽内に導びいてアルカリ液中に吸収させ、３時間
経過後、反応槽内の廃液中のF-の濃度を測定し
たところ、2.1ppmであつた。
中に空気を送り込み、液中より生ずるガスを回収
槽内に導びいてアルカリ液中に吸収させ、３時間
経過後、反応槽内の廃液中のF-の濃度を測定し
たところ、2.1ppmであつた。
次に、反応槽内の活性炭と、回収槽内の活性炭
とを入替え、反応槽内に500ppmのF-を含む100
mlの廃液を収容し、硫酸（１：１）を５ml加えて
廃液中に通気し、反応槽からのガスを回収槽内の
0.1Nのアルカリを含む100mlの液中に吸収させ
た。３時間経過後、反応槽内のF-の濃度を測定
したところ1.8ppmであつた。
とを入替え、反応槽内に500ppmのF-を含む100
mlの廃液を収容し、硫酸（１：１）を５ml加えて
廃液中に通気し、反応槽からのガスを回収槽内の
0.1Nのアルカリを含む100mlの液中に吸収させ
た。３時間経過後、反応槽内のF-の濃度を測定
したところ1.8ppmであつた。
Claims (1)
- １ 廃液中に含まれたフツ素およびフツ素化合物
の除去に際し、反応槽中に収容された廃液中にヘ
キサアルキルジシロキサンを固体吸着剤に担持さ
せて充填し、反応槽内の廃液を酸性状態に保たせ
て液中に空気を吹込み、廃液中より飛散するフル
オロトリアルキルシランをアルカリ液と固体吸着
剤とを収容した吸収槽内に導びき、該吸収槽中で
トリアルキルシラノールとフツ素イオンを生成さ
せ、トリアルキルシラノールをヘキサアルキルジ
シロキサンとして固体吸着剤に吸着させるととも
にフツ素イオンをアルカリ液中に回収することを
特徴とするフツ素含有廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16045281A JPS5861883A (ja) | 1981-10-08 | 1981-10-08 | フツ素含有廃液の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16045281A JPS5861883A (ja) | 1981-10-08 | 1981-10-08 | フツ素含有廃液の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5861883A JPS5861883A (ja) | 1983-04-13 |
| JPH0144392B2 true JPH0144392B2 (ja) | 1989-09-27 |
Family
ID=15715235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16045281A Granted JPS5861883A (ja) | 1981-10-08 | 1981-10-08 | フツ素含有廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5861883A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11919788B2 (en) * | 2021-07-19 | 2024-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Methods of removing inorganic fluoride from compositions containing fluorinated organic compounds |
-
1981
- 1981-10-08 JP JP16045281A patent/JPS5861883A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| JP2015199067A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| US10562800B2 (en) | 2014-03-31 | 2020-02-18 | Daikin Industries, Ltd. | Method for processing fluorine-containing aqueous solution |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5861883A (ja) | 1983-04-13 |
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