JPH0137357B2 - - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 53
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 53
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 44
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 26
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/34—Edge-defined film-fed crystal-growth using dies or slits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24480284A JPS61122189A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 帯状シリコン結晶の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24480284A JPS61122189A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 帯状シリコン結晶の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61122189A JPS61122189A (ja) | 1986-06-10 |
JPH0137357B2 true JPH0137357B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1989-08-07 |
Family
ID=17124155
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24480284A Granted JPS61122189A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 帯状シリコン結晶の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61122189A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP24480284A patent/JPS61122189A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61122189A (ja) | 1986-06-10 |
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