JPH01315015A - 垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH01315015A JPH01315015A JP14716488A JP14716488A JPH01315015A JP H01315015 A JPH01315015 A JP H01315015A JP 14716488 A JP14716488 A JP 14716488A JP 14716488 A JP14716488 A JP 14716488A JP H01315015 A JPH01315015 A JP H01315015A
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 10
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
垂直磁気記録媒体の記録及び再生に使用される薄膜磁気
ヘッドの製造方法に関し、 主磁極層の厚さを極めて容易かつ正確に管理することが
可能となる薄膜磁気ヘッド製造方法の提供を目的とし、 主磁極層が形成されたベースの表面をめっき用の導電層
で覆い、主磁極層上で記録媒体対向端面から退避した位
置において磁極層をめっきで導電層上に盛上げ形成し、
記録媒体対向端面の側で磁極層から導電層の露出した部
分が含まれる主磁極層上の領域表面を主磁極層保護用の
非磁性金属層をめっきで形成して覆い、その後ベース上
で露出した前記導電層を取り除く、構成としている。
ヘッドの製造方法に関し、 主磁極層の厚さを極めて容易かつ正確に管理することが
可能となる薄膜磁気ヘッド製造方法の提供を目的とし、 主磁極層が形成されたベースの表面をめっき用の導電層
で覆い、主磁極層上で記録媒体対向端面から退避した位
置において磁極層をめっきで導電層上に盛上げ形成し、
記録媒体対向端面の側で磁極層から導電層の露出した部
分が含まれる主磁極層上の領域表面を主磁極層保護用の
非磁性金属層をめっきで形成して覆い、その後ベース上
で露出した前記導電層を取り除く、構成としている。
[産業上の利用分野]
本発明は、垂直磁気記録媒体の記録および再生に使用さ
れる薄膜磁気ヘッドの製造方法に間するものである。
れる薄膜磁気ヘッドの製造方法に間するものである。
この種の記録媒体では媒体表面に対して垂直な方向の磁
化により著しく高密度な磁気記録が行なわれるので、そ
の記録および再生に使用される磁気ヘッドには高い精度
が要求される。
化により著しく高密度な磁気記録が行なわれるので、そ
の記録および再生に使用される磁気ヘッドには高い精度
が要求される。
[従来の技術]
第2図には垂直磁気記録媒体の記録および再生に使用さ
れる薄膜磁気ヘッドの内部構造が示されており、同図に
おける左端面20が記録媒体対向端面とされている。
れる薄膜磁気ヘッドの内部構造が示されており、同図に
おける左端面20が記録媒体対向端面とされている。
そしてベース12はスライダ材22と、その上に形成し
た絶縁層24からなり、主磁極層10は絶縁層24上に
形成されている。
た絶縁層24からなり、主磁極層10は絶縁層24上に
形成されている。
この主磁極層10の図における左端面は記録媒体対向端
面20と面一に加工されており、主磁極層IO上で記録
媒体対向端面20から図において右側へ退避した位置に
磁極層16が盛上げられている。
面20と面一に加工されており、主磁極層IO上で記録
媒体対向端面20から図において右側へ退避した位置に
磁極層16が盛上げられている。
これにより主磁極は先端が薄く、これ以外が厚みをもっ
た形状とされており、厚みの増加で記録再生効率が高め
られている。
た形状とされており、厚みの増加で記録再生効率が高め
られている。
さらに磁極層11(3の上側にリターンヨーク26が設
けられており、磁極層16と接合されるリターンヨーク
26の後部を周回する導体コイル28は層間絶縁層30
内に埋設されている。
けられており、磁極層16と接合されるリターンヨーク
26の後部を周回する導体コイル28は層間絶縁層30
内に埋設されている。
これらの磁気ヘッド構成部材は保11N32により覆わ
れており、導体コイル28による磁束が記録媒体対向端
面20に左端面が露出した主磁極層10から不図示の垂
直磁気記録媒体へ向か)で媒体表面に対し垂直に入り、
その媒体からリターンヨーク26へ戻る磁気回路が形成
される。
れており、導体コイル28による磁束が記録媒体対向端
面20に左端面が露出した主磁極層10から不図示の垂
直磁気記録媒体へ向か)で媒体表面に対し垂直に入り、
その媒体からリターンヨーク26へ戻る磁気回路が形成
される。
ここで従来においては、第3図のようにして磁極層16
が形成されていた。
が形成されていた。
まず同図(A)のように主磁極層10が形成されたベー
ス120表面がめつき用の導電層14て覆われ、次にめ
フきマスク用フォトレジスト34のパターンが形成され
る。
ス120表面がめつき用の導電層14て覆われ、次にめ
フきマスク用フォトレジスト34のパターンが形成され
る。
そのパターンでは主磁極層10上で磁極層Gが形成され
る領域の導電Jfl14が露出され、主磁極層10上の
記録媒体対向側先端となる薄肉部分の導電層14はフォ
トレジスト34により覆われる。
る領域の導電Jfl14が露出され、主磁極層10上の
記録媒体対向側先端となる薄肉部分の導電層14はフォ
トレジスト34により覆われる。
このようにしてフォトレジスト34のパターンが導電層
14上に形成されると、めっきにより第3図(B)の磁
極層16が盛上げ形成される。
14上に形成されると、めっきにより第3図(B)の磁
極層16が盛上げ形成される。
その後、フォトレジスト34のパターンが溶剤で除去さ
れ、不要となっためっき用の導電N14がイオンミリン
グなどにより除去される。
れ、不要となっためっき用の導電N14がイオンミリン
グなどにより除去される。
ところが、イオンミリングなどによりめっき用の導電層
14が除去される際には第3図(C)のように主磁極層
10の媒体対向側となる左側上面も膜減りし、リターン
ヨーク26や導体コイル28が形成されるその後のプロ
セスでも主磁極層lOの先端における厚さがさらに減少
する。
14が除去される際には第3図(C)のように主磁極層
10の媒体対向側となる左側上面も膜減りし、リターン
ヨーク26や導体コイル28が形成されるその後のプロ
セスでも主磁極層lOの先端における厚さがさらに減少
する。
この主磁極層10の先端膜減りにより、所定の性能を得
ることが困難となるので、主磁極層10の厚さはその目
減り分を予め見込んで決定されていた。
ることが困難となるので、主磁極層10の厚さはその目
減り分を予め見込んで決定されていた。
ところが主磁極層10の厚み減少分を正確に見込むこと
が困難であるので、この種の磁気ヘッドに要求される極
めて高い精度で主磁極層10の先端厚みを管理できず、
その結果、製品の歩留りが低下していた。
が困難であるので、この種の磁気ヘッドに要求される極
めて高い精度で主磁極層10の先端厚みを管理できず、
その結果、製品の歩留りが低下していた。
そこで、主磁極層110上にS i 02.A I 2
03などの材料が使用された床謹層を設ける提案が行な
われている。
03などの材料が使用された床謹層を設ける提案が行な
われている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、その種の保護層がスパッタ法や蒸着法に
より形成されるので、主砲lff!7ijloと盛上げ
磁極層16の段差部分を確実に被覆するためには工程の
複雑化を招く。したがって薄膜磁気ヘッドの製造工程数
が増加し、また製品の歩留りを十分に高めることが困難
となっていた。
より形成されるので、主砲lff!7ijloと盛上げ
磁極層16の段差部分を確実に被覆するためには工程の
複雑化を招く。したがって薄膜磁気ヘッドの製造工程数
が増加し、また製品の歩留りを十分に高めることが困難
となっていた。
本発明は上記従来の課題に鑑みてなされたものであり、
その目的は、主磁極層の厚さを極めて容易かつ正確に管
理できる垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
その目的は、主磁極層の厚さを極めて容易かつ正確に管
理できる垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明では第1図において
、主磁極層10が形成されたベース12の表面をまずめ
っき用の導電層14で覆う。
、主磁極層10が形成されたベース12の表面をまずめ
っき用の導電層14で覆う。
そして主磁極層lO上で記録媒体対向端面(20)から
退避した位置において、磁極層16をめっきて導電層1
4に盛上げて形成する。
退避した位置において、磁極層16をめっきて導電層1
4に盛上げて形成する。
さらに記録媒体対向端面(20)の側で磁極層16から
導電層14の露出した部分が含まれる主磁極層10上の
領域表面を主磁極層保護用の非磁性金属層18をめつぎ
て形成して覆う。
導電層14の露出した部分が含まれる主磁極層10上の
領域表面を主磁極層保護用の非磁性金属層18をめつぎ
て形成して覆う。
そしてベース12上で露出した前記導電層14をイオン
ミリングなどにより取り除く。
ミリングなどにより取り除く。
[作用コ
本発明では、ベース12上で露出した導電N14が取り
除かれる際に主磁極層IOが層18により筺謹され、ま
た層18に非磁性の金属を使用することにより、この層
18の形成をめっきにより容易に行える。
除かれる際に主磁極層IOが層18により筺謹され、ま
た層18に非磁性の金属を使用することにより、この層
18の形成をめっきにより容易に行える。
[実施例]
以下、図面に基づいて本発明に係る方法の好適な実施例
を説明する。
を説明する。
第1図では実施例の方法が説明されており、まず同図(
A)のように主磁極層10がベース12上に形成される
。
A)のように主磁極層10がベース12上に形成される
。
この主磁極層10にはNiFe、CoZrなとの材料を
使用し、主磁極層10が形成されたベース12の表面を
′めつき用の導電層14て覆う。
使用し、主磁極層10が形成されたベース12の表面を
′めつき用の導電層14て覆う。
導電層14にはNiFeなどを使用し、導電層I4を形
成後、フォトレジスト 形成する。
成後、フォトレジスト 形成する。
その際には主磁極層10の上面領域となるめっき用導電
層14の表面のうち、記録媒体対向端面20例の主磁極
層lO先端部分をフ第1・レジスト34で覆い、磁極層
16を形成する部分はフォトレジスト34から露出させ
る。
層14の表面のうち、記録媒体対向端面20例の主磁極
層lO先端部分をフ第1・レジスト34で覆い、磁極層
16を形成する部分はフォトレジスト34から露出させ
る。
次に磁極層116が電解めっきにより同図(B)のよう
に盛上げ形成する。その磁IfflN1GにはNiFe
なとの材料が使用できる。
に盛上げ形成する。その磁IfflN1GにはNiFe
なとの材料が使用できる。
このときには記録媒体対向端面20の側となる主磁極層
10の先端部分上側ではめつき用の導電層14がフォト
レジスト34により覆われているので、フォトレジスト
34が溶剤により取り除かれると、その先端部分は露出
され、同図(B)のように主磁極層10上で記録媒体対
向端面20から退避した位置において磁極層16が導電
層14上に盛上げ形成される。
10の先端部分上側ではめつき用の導電層14がフォト
レジスト34により覆われているので、フォトレジスト
34が溶剤により取り除かれると、その先端部分は露出
され、同図(B)のように主磁極層10上で記録媒体対
向端面20から退避した位置において磁極層16が導電
層14上に盛上げ形成される。
そして同図(B)のようにフォトレジスト36がベース
12上に形成されており(フォトレジスタにはポジ型を
使用)主磁極層10の薄肉な先端部分を覆うめっき用導
電層14の表面及びこれに盛上げ形成された磁極層16
が露出する。
12上に形成されており(フォトレジスタにはポジ型を
使用)主磁極層10の薄肉な先端部分を覆うめっき用導
電層14の表面及びこれに盛上げ形成された磁極層16
が露出する。
このフォトレジスト36は磁極層用フォトレジスト34
のパターンに対して追加の露光及び現像を行なうことに
より形成できる。
のパターンに対して追加の露光及び現像を行なうことに
より形成できる。
このフォトレジスト36を形成後、同図(C)の非磁性
金属層18をめっきにより形成し、フォトレジスト3G
から露出していためっき用導電層14及び磁極till
(3の上面を非磁性金属F118で覆う。
金属層18をめっきにより形成し、フォトレジスト3G
から露出していためっき用導電層14及び磁極till
(3の上面を非磁性金属F118で覆う。
非磁性金属層18にはCuなどが使用でき、その形成後
にフォトレジスト36が除去される。
にフォトレジスト36が除去される。
最後にベース12上で露出していためっき用導電114
がイオンミリングで同図(D)のように除去されるが、
その際には非磁性金属層18がイオンミリング損耗する
ものの、記録媒体対向端面20111となる主磁極層1
0の薄肉な先端上面は非磁性金属N1Bで保護される。
がイオンミリングで同図(D)のように除去されるが、
その際には非磁性金属層18がイオンミリング損耗する
ものの、記録媒体対向端面20111となる主磁極層1
0の薄肉な先端上面は非磁性金属N1Bで保護される。
このため同図(D)のように主磁極層10の先端部分に
おける厚みが減少することはなく、以後のプロセスが行
なわれてもその厚みは当初のまま確保される。
おける厚みが減少することはなく、以後のプロセスが行
なわれてもその厚みは当初のまま確保される。
なお、金属層18には非磁性のものが使用されているの
で、ヘッドの性能に影響を与えることはない。
で、ヘッドの性能に影響を与えることはない。
以上説明したように本実施例によれば、イオンミリング
から主磁極層10の肉薄な先端部分損耗を防止する渫謹
層18に非磁性の金属材料が使用されたので、簡単なめ
っき工程を追加するのみで、その先端厚みを極めて容易
かつ正確に管理できる。
から主磁極層10の肉薄な先端部分損耗を防止する渫謹
層18に非磁性の金属材料が使用されたので、簡単なめ
っき工程を追加するのみで、その先端厚みを極めて容易
かつ正確に管理できる。
このため製造工程の複雑化を招くことなく製品の歩留ま
りを著しく高めることが可能となる。
りを著しく高めることが可能となる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、主磁極層先端用の
層が非磁性の金属材料でめっき形成できるため、極めて
高い精度が要求される主磁極層先端の厚みを容易かつ正
確に管理でき、したがって製造工程の複雑化を招くこと
なく製品の歩留まりを著しく高めることが可能となる。
層が非磁性の金属材料でめっき形成できるため、極めて
高い精度が要求される主磁極層先端の厚みを容易かつ正
確に管理でき、したがって製造工程の複雑化を招くこと
なく製品の歩留まりを著しく高めることが可能となる。
第1図は本発明が適用された実施例の説明図、第2図は
垂直磁化薄膜磁気ヘッドの内部構造説明図、 第3図は従来における薄膜磁気ヘッドの製造方法説明図
である。 10・・・主磁極層、 12拳 ・ ・ベース、 14・・・めっき用導電層、 16・・・盛上げ形成の磁極層、 18・・・非磁性金属層。
垂直磁化薄膜磁気ヘッドの内部構造説明図、 第3図は従来における薄膜磁気ヘッドの製造方法説明図
である。 10・・・主磁極層、 12拳 ・ ・ベース、 14・・・めっき用導電層、 16・・・盛上げ形成の磁極層、 18・・・非磁性金属層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 主磁極層(10)が形成されたベース(12)の表面を
めっき用の導電層(14)で覆い、主磁極層(10)上
で記録媒体対向端面から退避した位置において磁極層(
16)をめっきで導電層(14)上に盛上げ形成し、 記録媒体対向端面の側で磁極層(16)から導電層(1
4)の露出した部分が含まれる主磁極層(10)上の領
域表面を主磁極層保護用の非磁性金属層(18)をめっ
きで形成して覆い、 ベース(12)上で露出した前記導電層(14)を取り
除く、 ことを特徴とする垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14716488A JPH01315015A (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 | 垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14716488A JPH01315015A (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 | 垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01315015A true JPH01315015A (ja) | 1989-12-20 |
Family
ID=15424034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14716488A Pending JPH01315015A (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 | 垂直磁化型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01315015A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7748104B2 (en) | 2006-04-25 | 2010-07-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Structure and method for reduced corrosion of auxiliary poles during the fabrication of perpendicular write heads |
-
1988
- 1988-06-14 JP JP14716488A patent/JPH01315015A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7748104B2 (en) | 2006-04-25 | 2010-07-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Structure and method for reduced corrosion of auxiliary poles during the fabrication of perpendicular write heads |
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