JPH01313523A - 官能化ポリフェニレンエーテルおよびその製造方法 - Google Patents
官能化ポリフェニレンエーテルおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野1
本発明は反応性末端基を持つポリフェニレンエーテルに
関する。
関する。
[従来技術1
ポリフェニレンエーテル(PPE)は、熱形状安定性お
よび、熱水、酸およびアルカリ溶液に対する耐久性が優
れた公知の分類の熱可塑性構造材料を形成する。酸化結
合によるこのものの製造は特許文献に詳細に説明されて
いる(米国特許第3.306.874号明細書、同第3
.306.875号明細書、ヨーロッパ特許第0.09
8.929号明細書、同第0.099,965号明細書
、同第0.122.394号明細書、同第0.137.
139号明細書並びにヨーロッパ特許出願公開第3,4
42,141号公報参照)。例えばポリアミド類とのブ
レンドの如き若干の用途にとって、この重合体は化学的
に非常に不活性であるという欠点を有し、そしてこれは
PPEが特定の最小量の反応性基を含有している場合に
望ましい。
よび、熱水、酸およびアルカリ溶液に対する耐久性が優
れた公知の分類の熱可塑性構造材料を形成する。酸化結
合によるこのものの製造は特許文献に詳細に説明されて
いる(米国特許第3.306.874号明細書、同第3
.306.875号明細書、ヨーロッパ特許第0.09
8.929号明細書、同第0.099,965号明細書
、同第0.122.394号明細書、同第0.137.
139号明細書並びにヨーロッパ特許出願公開第3,4
42,141号公報参照)。例えばポリアミド類とのブ
レンドの如き若干の用途にとって、この重合体は化学的
に非常に不活性であるという欠点を有し、そしてこれは
PPEが特定の最小量の反応性基を含有している場合に
望ましい。
原則として、官能性基をポリフェニレンエーテルに導入
することが以下の四つの可能性もたらす: ■、非官能化ポリフェニレンエーテルのフェノール性末
端基を適当な剤、例えば酸無水物、酸クロライドと反応
せしめる(ドイツ特許第2、505.329号明細書お
よびWo 86102,086号参照)。
することが以下の四つの可能性もたらす: ■、非官能化ポリフェニレンエーテルのフェノール性末
端基を適当な剤、例えば酸無水物、酸クロライドと反応
せしめる(ドイツ特許第2、505.329号明細書お
よびWo 86102,086号参照)。
■、ポリフェニレンエーテルのフェノールの2−および
6=位に存在するアルキル基が反応する。
6=位に存在するアルキル基が反応する。
1[[、2,6−ジアルキル化フェノールと4−位に官
能基を持つ相応するフェノールとの共重合を行う。この
ようにしてポリフェニレンエーテルの分子量を制御でき
ることは公知である(ドイツ特許出願公開第1,745
,201号明細書参照)。
能基を持つ相応するフェノールとの共重合を行う。この
ようにしてポリフェニレンエーテルの分子量を制御でき
ることは公知である(ドイツ特許出願公開第1,745
,201号明細書参照)。
IV、 2.6−ジアルキル化フェノールと、4−位に
官能基を持たない相応する官能化フェノールとの共重合
を実施する。
官能基を持たない相応する官能化フェノールとの共重合
を実施する。
■に従う方法はその用途において、非常に希薄な状態で
存在する反応性の小さいフェノール性末端基と反応する
ことができる化合物に制限されている。
存在する反応性の小さいフェノール性末端基と反応する
ことができる化合物に制限されている。
2−および6〜位に存在するアルキル基は化学反応を未
だ起こし難い。実地において、α−炭素原子の所の水素
原子を取り去ることができるハロゲンおよび強い酸化剤
を使用することに限られる。例えば特開昭61−66.
452号公報には、ポリフェニレンエーテルを溶融状態
で無水マレイン酸および過酸化物と反応させる方法が開
示されている。この方法は、酸無水物がか−る条件のも
とで揮発し且つ非常に毒性があるので問題がある。
だ起こし難い。実地において、α−炭素原子の所の水素
原子を取り去ることができるハロゲンおよび強い酸化剤
を使用することに限られる。例えば特開昭61−66.
452号公報には、ポリフェニレンエーテルを溶融状態
で無水マレイン酸および過酸化物と反応させる方法が開
示されている。この方法は、酸無水物がか−る条件のも
とで揮発し且つ非常に毒性があるので問題がある。
V、 Percec等は、鎖の上に統計的に分布したオ
キサゾリン基を有しているポリフェニレンエーテルの製
造方法を説明している。最初にPPEの側鎖を臭素化し
、次いで相転移触媒でのエーテル化を2−(p−ヒドロ
キシフェニル)オキサゾリンのナトリウム塩によって実
施している。この方法は二回の溶剤交換を必要としそし
て臭素不合生成物はもたらさない[Polymer B
ulletin 12.261〜268 (1984)
参照1゜フェノール類の酸化連結反応は、フェノールの
レドックス−ポテンシャルと触媒のそれとを注意深く互
いに調和させた場合にのみ、周知の通り多価の重合体生
成物をもたらす。この理由からおよび実際的考えによっ
て、実地においては殆ど専ら2.6−シメチルフエノー
ルを使用する。
キサゾリン基を有しているポリフェニレンエーテルの製
造方法を説明している。最初にPPEの側鎖を臭素化し
、次いで相転移触媒でのエーテル化を2−(p−ヒドロ
キシフェニル)オキサゾリンのナトリウム塩によって実
施している。この方法は二回の溶剤交換を必要としそし
て臭素不合生成物はもたらさない[Polymer B
ulletin 12.261〜268 (1984)
参照1゜フェノール類の酸化連結反応は、フェノールの
レドックス−ポテンシャルと触媒のそれとを注意深く互
いに調和させた場合にのみ、周知の通り多価の重合体生
成物をもたらす。この理由からおよび実際的考えによっ
て、実地においては殆ど専ら2.6−シメチルフエノー
ルを使用する。
官能性基はフェノールモノマーの酸化−ポテンシャルを
劇的に変化させる。
劇的に変化させる。
か−る官能性フェノール類が重縮合の際に一般に一緒に
組み入れられるかどうかは不確かである。従って、前記
の■および■のところに記載した如き共重合は原則とし
て問題があると見なすことができる。
組み入れられるかどうかは不確かである。従って、前記
の■および■のところに記載した如き共重合は原則とし
て問題があると見なすことができる。
下記式
で表されるp−置換フェノール類を加圧下に連結するこ
とによって得られるオルト−またはメタ結合したポリフ
ェニレンエーテルは、ドイツ特許出願公開第3,414
,882号明細書に開示されている。この場合Xはハロ
ゲン原子または、官能基も有していてもよいはヌ゛任意
の有機残基である。Xは例えば炭素原子数1〜20の置
換アルキル基、例えば芳香族オキサシリル残基である。
とによって得られるオルト−またはメタ結合したポリフ
ェニレンエーテルは、ドイツ特許出願公開第3,414
,882号明細書に開示されている。この場合Xはハロ
ゲン原子または、官能基も有していてもよいはヌ゛任意
の有機残基である。Xは例えば炭素原子数1〜20の置
換アルキル基、例えば芳香族オキサシリル残基である。
残基QSQ’およびQ”は水素原子または最高3の炭素
原子数の残基である。しかしながらこの縮合生成物はそ
のペテロ構造(著しい分岐度および高い不均一性)の為
におよび別の種類の連結の為に、p−結合した(分類上
の)ポリフェニレンエーテルと非常に離れた類似性しか
有していない。
原子数の残基である。しかしながらこの縮合生成物はそ
のペテロ構造(著しい分岐度および高い不均一性)の為
におよび別の種類の連結の為に、p−結合した(分類上
の)ポリフェニレンエーテルと非常に離れた類似性しか
有していない。
[発明の解決しようとする課題1
本発明の課題は、官能性末端基によってポリアミド類と
の良好な相容性を保証する充分に大きい分子量を持つポ
リフェニレンエーテルを提供することであった。
の良好な相容性を保証する充分に大きい分子量を持つポ
リフェニレンエーテルを提供することであった。
[発明の構成1
本発明者は、か−るポリフェニレンエーテルを見出した
。このポリフェニレンエーテルは、次式の官能性末端基 −(R)n−C−NRs−CHz−C1h−OHおよび
/またはを有している。この場合、P、は水素原子、炭
素原子数1〜8のアルキル基または炭素原子数2〜8の
ヒドロキシアルキル基である。Rは炭素原子数1〜12
の二価脂肪族残基であり、そしてnは0または1である
。
。このポリフェニレンエーテルは、次式の官能性末端基 −(R)n−C−NRs−CHz−C1h−OHおよび
/またはを有している。この場合、P、は水素原子、炭
素原子数1〜8のアルキル基または炭素原子数2〜8の
ヒドロキシアルキル基である。Rは炭素原子数1〜12
の二価脂肪族残基であり、そしてnは0または1である
。
特許請求の範囲第1項の官能化ポリフェニレンエーテル
は、二つの原則として異なる方法によって製造される。
は、二つの原則として異なる方法によって製造される。
最初の方法は、90〜99.8モルχの一般式(1)
で表される一種以上のフェノール類および0.2〜10
モルχの式(II) および/または で表される一種以上のフェノール類 より成る混合物を重縮合することを本質としている。二
つ目の方法は、式(I)のフェノール類の重縮合生成物
を式(If)のフェノールと平衡化することを本質とし
ている。
モルχの式(II) および/または で表される一種以上のフェノール類 より成る混合物を重縮合することを本質としている。二
つ目の方法は、式(I)のフェノール類の重縮合生成物
を式(If)のフェノールと平衡化することを本質とし
ている。
上記の両方の方法は、容易にポリアミドと相容する充分
な高分子量のポリフェニレンエーテルを驚く程容易にも
たらす。
な高分子量のポリフェニレンエーテルを驚く程容易にも
たらす。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明の方法の原料は式(I)
で表されるフェノール類である。この場合、R3および
R2は下記群の内の残基である:炭素原子数1〜10の
アルキル基、炭素原子数5〜10のシクロアルキル基、
炭素原子数6〜10のアリール基およびベンジル基。R
1およびR2は異なる意味を有していてもよい。しかし
ながらR,およびR2が同じ意味を有するのが好ましい
。アルキル基は第一一、第ニーまたは第三−アルキル基
である。これら両方の基の一方が第三アルキル基である
場合に、同時にもう一方の基も第三アルキル基であるべ
きでない。R3およびR4が水素原子であるかまたはR
1およびR,について前述したのと同じ意味を有する。
R2は下記群の内の残基である:炭素原子数1〜10の
アルキル基、炭素原子数5〜10のシクロアルキル基、
炭素原子数6〜10のアリール基およびベンジル基。R
1およびR2は異なる意味を有していてもよい。しかし
ながらR,およびR2が同じ意味を有するのが好ましい
。アルキル基は第一一、第ニーまたは第三−アルキル基
である。これら両方の基の一方が第三アルキル基である
場合に、同時にもう一方の基も第三アルキル基であるべ
きでない。R3およびR4が水素原子であるかまたはR
1およびR,について前述したのと同じ意味を有する。
Xはハロゲン原子、特に臭素原子、または水素原子であ
る。原料化合物としては2.6−シメチルフエノールが
特に有利である。しかし2−メチル−6−ニチルフエノ
ール、2.6−ジニチルフエノール、2−メチル−6−
第三ブチルフェノール、4−ブロモー2,6−シメチル
フエノール、4−ブロモ−2,6−ジフェニルフェノー
ル、2.3.6− トリメチルフェノール並びに2−ア
リル−6−メチルフェノールおよび2,6−ジベンジル
フェノールも良好に適している。
る。原料化合物としては2.6−シメチルフエノールが
特に有利である。しかし2−メチル−6−ニチルフエノ
ール、2.6−ジニチルフエノール、2−メチル−6−
第三ブチルフェノール、4−ブロモー2,6−シメチル
フエノール、4−ブロモ−2,6−ジフェニルフェノー
ル、2.3.6− トリメチルフェノール並びに2−ア
リル−6−メチルフェノールおよび2,6−ジベンジル
フェノールも良好に適している。
本発明の方法の別の原料化合物は、式(II)および/
または で表されるフェノール類である。
または で表されるフェノール類である。
残基 R3、R2、Q、およびR4は、R,、R,、R
1およびR4に付いて上述したのと同じ意味を有する。
1およびR4に付いて上述したのと同じ意味を有する。
これらの官能化フェノール類の製造は、自体公知の方法
に従って行うことができる。例えば: a) n=o、オキサゾリン、ヒドロキシエチルアミド
; 2.6−シメチルフエノールのナトリウム−または−カ
リウム塩のカルボキシル化、エタノールアミンとの直接
的またはメチルエステルを経る迂回しての反応;場合に
よっては、チオニルクロライドでの処理および続いての
重炭酸ナトリウム水溶液での処理によって閉環してオキ
サゾリンとする[ V、Percec等、J、Poly
m、sci、、Polym、Lett、Ed、22.5
23〜532 (1984)参照1゜ b) n=1、R=CH!あるいはC2H4、オキサゾ
リン、ヒドロキシエチルアミド; 4−アセト−あるいは4−プロピオ−2,6−シメチル
フエノールと硫黄およびアミンとのWillgerot
h−Kindlerに従う反応および上記の如く生じる
カルボン酸の後続の誘導反応[E、5chnenk、D
、Papa、 J、Org、Chem、 11、79
B (1946) ] 。
に従って行うことができる。例えば: a) n=o、オキサゾリン、ヒドロキシエチルアミド
; 2.6−シメチルフエノールのナトリウム−または−カ
リウム塩のカルボキシル化、エタノールアミンとの直接
的またはメチルエステルを経る迂回しての反応;場合に
よっては、チオニルクロライドでの処理および続いての
重炭酸ナトリウム水溶液での処理によって閉環してオキ
サゾリンとする[ V、Percec等、J、Poly
m、sci、、Polym、Lett、Ed、22.5
23〜532 (1984)参照1゜ b) n=1、R=CH!あるいはC2H4、オキサゾ
リン、ヒドロキシエチルアミド; 4−アセト−あるいは4−プロピオ−2,6−シメチル
フエノールと硫黄およびアミンとのWillgerot
h−Kindlerに従う反応および上記の如く生じる
カルボン酸の後続の誘導反応[E、5chnenk、D
、Papa、 J、Org、Chem、 11、79
B (1946) ] 。
c) n=1 、R=置換C2H4、オキサゾ−リン
、ヒドロキシエチルアミド; 2.6−シメチルフエノールと場合によっては置換され
たアクリル酸とのブレンステッド酸またはルイス酸の触
媒作用下での反応(パラ位での求電子的置換)および上
記の如く生じるカルボン酸の後続の誘導反応[L、 J
、Smi th等、J、Am、Chem、Soc、65
.282.287 (1943) ]。
、ヒドロキシエチルアミド; 2.6−シメチルフエノールと場合によっては置換され
たアクリル酸とのブレンステッド酸またはルイス酸の触
媒作用下での反応(パラ位での求電子的置換)および上
記の如く生じるカルボン酸の後続の誘導反応[L、 J
、Smi th等、J、Am、Chem、Soc、65
.282.287 (1943) ]。
d)オキサゾリン、ヒドロキシエチルアミド;C)と同
様に別の不飽和のしかし非共役のカルボン酸あるいはそ
の誘導体を、これらがフェノールに求電子的に付加反応
□例えばイソプレンとアクリル酸とのディールス・アル
ダ−付加反応□をすることができる限り、使用すること
ができる(ヨーロッパ特許出願公開第106,799号
公報参照)。
様に別の不飽和のしかし非共役のカルボン酸あるいはそ
の誘導体を、これらがフェノールに求電子的に付加反応
□例えばイソプレンとアクリル酸とのディールス・アル
ダ−付加反応□をすることができる限り、使用すること
ができる(ヨーロッパ特許出願公開第106,799号
公報参照)。
もちろん、最初にN−(2−ヒドロキシエチル)アミド
基を持つポリフェニレンエーテルを製造し、次いで初め
て脱水剤の添加によって閉環してオキサゾリン環とする
ことも本発明の範囲内にある。逆に、オキサゾリン環に
高温のもとで水を、場合によってはアルカリ金属水酸化
物の触媒作用下に付加して開環することもできる。
基を持つポリフェニレンエーテルを製造し、次いで初め
て脱水剤の添加によって閉環してオキサゾリン環とする
ことも本発明の範囲内にある。逆に、オキサゾリン環に
高温のもとで水を、場合によってはアルカリ金属水酸化
物の触媒作用下に付加して開環することもできる。
最初にドイツ特許出願公開第1.745,201号明細
書と同様にエステル基含有共重合性単量体を使用し、次
いで生じたエステル基含有ポリフェニレンエーテルを溶
液状態または溶融状態でエタノールアミンで処理するこ
とも考えられる。しかしこのルートは、末端基の濃度が
低い為にアミド化がゆっくり且つ少なくとも完全に進行
するので、アミド化を既に共重合性単量体の場合に実施
するのよりも激しい条件を必要とするので有利でない。
書と同様にエステル基含有共重合性単量体を使用し、次
いで生じたエステル基含有ポリフェニレンエーテルを溶
液状態または溶融状態でエタノールアミンで処理するこ
とも考えられる。しかしこのルートは、末端基の濃度が
低い為にアミド化がゆっくり且つ少なくとも完全に進行
するので、アミド化を既に共重合性単量体の場合に実施
するのよりも激しい条件を必要とするので有利でない。
重縮合の際に用いる酸素含有ガスは一般に純粋な酸素ま
たは、酸素濃度を高めたりまたは少なくしてあってもよ
い空気である。大気圧のもとで実施するのが有利である
が、他の方法パラメーターに依存して減圧または過剰圧
を用いることも可能である。
たは、酸素濃度を高めたりまたは少なくしてあってもよ
い空気である。大気圧のもとで実施するのが有利である
が、他の方法パラメーターに依存して減圧または過剰圧
を用いることも可能である。
金属触媒としては、従来技術から公知の通例の金属塩、
例えば塩化銅(■)、臭化銅(n)または塩化マンガン
(II)を使用することができる。塩基性助触媒は一般
に第、−1第二または第三アミンあるいはジアミンある
いはこれらの混合物である。ハロゲン含有フェノール類
を使用する場合には、強塩基、例えば水酸化ナトリウム
またはナトリウム−メタノラードを添加することに意義
がある。
例えば塩化銅(■)、臭化銅(n)または塩化マンガン
(II)を使用することができる。塩基性助触媒は一般
に第、−1第二または第三アミンあるいはジアミンある
いはこれらの混合物である。ハロゲン含有フェノール類
を使用する場合には、強塩基、例えば水酸化ナトリウム
またはナトリウム−メタノラードを添加することに意義
がある。
官能化したポリフェニレンエーテルの粘度数JはDIN
53,728 ニ従って25°Cでりoロホルム溶液
[濃度0.5g/100 d (溶液)]として測定す
る。
53,728 ニ従って25°Cでりoロホルム溶液
[濃度0.5g/100 d (溶液)]として測定す
る。
[実施例1
実施■」」:
N−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルベンズアミドの製造: 270gの4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル安息香酸
メチルエステルを160°Cの浴温度で6時間300d
のエタノールアミンと一緒に、生じるメタノールの同時
的留去下に加熱する。過剰のエタノールアミンを減圧下
に除く。ガラス状の生成物を粉砕し、分級しく1mmの
ふるい)そして倉入°りに乾燥する(0.5Torr、
60°C)。収量307g(’H−NMR,CDl3
)。δ= 3.37(t; CHz); 3.55(t
;CUZ)。
5−ジメチルベンズアミドの製造: 270gの4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル安息香酸
メチルエステルを160°Cの浴温度で6時間300d
のエタノールアミンと一緒に、生じるメタノールの同時
的留去下に加熱する。過剰のエタノールアミンを減圧下
に除く。ガラス状の生成物を粉砕し、分級しく1mmの
ふるい)そして倉入°りに乾燥する(0.5Torr、
60°C)。収量307g(’H−NMR,CDl3
)。δ= 3.37(t; CHz); 3.55(t
;CUZ)。
C+ +81503N(209,27) :計算値 C
63,13、H7,24022,94、N 6.69 測定値 C62,54、H7,31 023,42、N 6.72゜ 実施±」」: 2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
2−オキサゾリンの製造: 実施例1.1に従って得られた156.75gのアミド
を650−のジクロロメタン中で還流下に煮沸し、一方
3時間の間チオニルクロライド75mgを滴加する。更
に15時間の還流の後に反応混合物を5°Cに冷却し、
吸引濾過しそして沈澱物を200dの冷やしたメチレン
クロライドで洗浄する。
63,13、H7,24022,94、N 6.69 測定値 C62,54、H7,31 023,42、N 6.72゜ 実施±」」: 2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
2−オキサゾリンの製造: 実施例1.1に従って得られた156.75gのアミド
を650−のジクロロメタン中で還流下に煮沸し、一方
3時間の間チオニルクロライド75mgを滴加する。更
に15時間の還流の後に反応混合物を5°Cに冷却し、
吸引濾過しそして沈澱物を200dの冷やしたメチレン
クロライドで洗浄する。
乾燥後にこの物質を300 dの水に懸濁させそして、
400 dの水に67.2gの重炭酸ナトリウムを溶解
した溶液を強力な攪拌下にゆっくり滴加する(CO□が
発生する)。この混合物を2時間攪拌し、次いで5°C
に冷却し、沈澱物を吸引濾過しそして160dの氷水で
洗浄する。収量129.0g;融点184〜186℃、
’H−NMRCCDC1z): 6=3.87(t、
CHz); 4.42(t; CH2)。
400 dの水に67.2gの重炭酸ナトリウムを溶解
した溶液を強力な攪拌下にゆっくり滴加する(CO□が
発生する)。この混合物を2時間攪拌し、次いで5°C
に冷却し、沈澱物を吸引濾過しそして160dの氷水で
洗浄する。収量129.0g;融点184〜186℃、
’H−NMRCCDC1z): 6=3.87(t、
CHz); 4.42(t; CH2)。
c、、u、3o、N(191,25):計算値 C69
,0B 、H6,87016,73、N 7.33 測定値 C68,87、H6,82 017,04、N 7.26゜ 裏施開」J: 2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
酢酸を、公知の方法で[(J、Org、Chem、 1
1.798(1946)]]4−ア七トー2,6−シメ
チルフエノール硫黄およびモルホリンから製造する(W
illgeroth−Kindler反応)。融点14
7°C0この酸を実施例1.1と同様にメチルエステル
(融点95°C)を経て2−ヒドロキシエチルアミドに
転化する(黄褐色の油)。
,0B 、H6,87016,73、N 7.33 測定値 C68,87、H6,82 017,04、N 7.26゜ 裏施開」J: 2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
酢酸を、公知の方法で[(J、Org、Chem、 1
1.798(1946)]]4−ア七トー2,6−シメ
チルフエノール硫黄およびモルホリンから製造する(W
illgeroth−Kindler反応)。融点14
7°C0この酸を実施例1.1と同様にメチルエステル
(融点95°C)を経て2−ヒドロキシエチルアミドに
転化する(黄褐色の油)。
C+J+rOJ(223,30):計算値 C64,5
4、H7,69021,50、N 6.27 測定値 C63,67、H7,81 022,14、N 6.38 。
4、H7,69021,50、N 6.27 測定値 C63,67、H7,81 022,14、N 6.38 。
実1」[上1:
3−メチル−3−(ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)−酪酸を、公知の方法で[(J、Am、Chem
、Soc。
ニル)−酪酸を、公知の方法で[(J、Am、Chem
、Soc。
皿 、282.287(1943)] 2.6− ジメ
チルフェノール、β、β−ジメチルアクリル酸および三
塩化アルミニウムから四塩化エタン中で塩化水素の導入
下に製造する。融点89°C0これを実施例1.1と同
様にメチルエステル(融点83°C)を経て2−ヒドロ
キシエチルアミドに転化する(黄色の油)。
チルフェノール、β、β−ジメチルアクリル酸および三
塩化アルミニウムから四塩化エタン中で塩化水素の導入
下に製造する。融点89°C0これを実施例1.1と同
様にメチルエステル(融点83°C)を経て2−ヒドロ
キシエチルアミドに転化する(黄色の油)。
C+ 5H2303N(265,39) :計算値 C
67,88、H8,75018,09、N 5.28 測定値 C67,63、H8,78 018,36、N 5.21゜ 裏隻桝Lh 82のトルエン、1.41のメタノール、160gのモ
ルホリンおよび、31gの48χ濃度臭素酸と10gの
塩基性炭酸銅とより成る触媒溶液40gで組成される混
合物中に30°Cで空気を導入する(1,0001!、
/時)。20分の間に792gの2.6−ジメチルフェ
ノール(99,0モルχ)、12.53gの2− (4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−オキ
サゾリン(1,0モルχ)および900m1のトルエン
より成る混合物を滴加する。その後に更に70分間反応
させそしてこの反応を、2.30ffiの水および7g
のトリエタノールアミンより成る混合物の添加およびC
O□の10分間の導入(2,000I!、/時)によっ
て中止する。有機相を分離し、8gの2.6−ジー第三
ブチル−4−メチルフェノール、3I!、の水および9
gのトリエタノールアミンと混合しそして還流下に15
分間煮沸する。再び分離した後に有機相を20fのメタ
ノールにて沈澱させ、メタノールで洗浄しそして乾燥す
る。収量734g ; J=46cm37 g 、Nの
分析値;計算0.16%、測定値0.18χ。
67,88、H8,75018,09、N 5.28 測定値 C67,63、H8,78 018,36、N 5.21゜ 裏隻桝Lh 82のトルエン、1.41のメタノール、160gのモ
ルホリンおよび、31gの48χ濃度臭素酸と10gの
塩基性炭酸銅とより成る触媒溶液40gで組成される混
合物中に30°Cで空気を導入する(1,0001!、
/時)。20分の間に792gの2.6−ジメチルフェ
ノール(99,0モルχ)、12.53gの2− (4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−オキ
サゾリン(1,0モルχ)および900m1のトルエン
より成る混合物を滴加する。その後に更に70分間反応
させそしてこの反応を、2.30ffiの水および7g
のトリエタノールアミンより成る混合物の添加およびC
O□の10分間の導入(2,000I!、/時)によっ
て中止する。有機相を分離し、8gの2.6−ジー第三
ブチル−4−メチルフェノール、3I!、の水および9
gのトリエタノールアミンと混合しそして還流下に15
分間煮沸する。再び分離した後に有機相を20fのメタ
ノールにて沈澱させ、メタノールで洗浄しそして乾燥す
る。収量734g ; J=46cm37 g 、Nの
分析値;計算0.16%、測定値0.18χ。
1上班LL
実施例2.1に記載した方法と同様にして77゜6gの
2,6−ジメチルフェノール(97,0モルχ)および
3.76gの2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)−2−オキサゾリン(3,0モルχ)より成
る混合物を重縮合する。J=21cm’/g 、 ’H
−NMR(CHCj!3); δ=4.05(t;
CHz); 4.43(t; cut)。Nの分析;計
算値0.34χ、測定値0.32χ。
2,6−ジメチルフェノール(97,0モルχ)および
3.76gの2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)−2−オキサゾリン(3,0モルχ)より成
る混合物を重縮合する。J=21cm’/g 、 ’H
−NMR(CHCj!3); δ=4.05(t;
CHz); 4.43(t; cut)。Nの分析;計
算値0.34χ、測定値0.32χ。
裏隻五り虹
実施例2.1に記載した方法と同様に77.6gの2.
6−ジメチルフェノール(97,0モル2)および4゜
10gのN−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルベンズアミド(3,0モル2)よ
り成る混合物を重縮合する。J=29cm’/g 、’
H−NMR(CDCl z) ; δ=3.63(t;
CHz); 3.85(t; CHz)。Nの分析値
;計算値0.34χ、測定値0.23χ。
6−ジメチルフェノール(97,0モル2)および4゜
10gのN−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルベンズアミド(3,0モル2)よ
り成る混合物を重縮合する。J=29cm’/g 、’
H−NMR(CDCl z) ; δ=3.63(t;
CHz); 3.85(t; CHz)。Nの分析値
;計算値0.34χ、測定値0.23χ。
裏廉炭り虹
実施例2.1に記載した方法と同様にして77゜6gの
2,6−ジメチルフェノール(97,0モルχ)および
4.37gのN−(2−ヒドロキシエチル)−2−(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−アセトア
ミド(実施例1.3参照)(3,0モルχ)より成る混
合物を反応させる。J・22cm’/g @ Nの分析
;計算値0.34χ、測定値0.32χ。
2,6−ジメチルフェノール(97,0モルχ)および
4.37gのN−(2−ヒドロキシエチル)−2−(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−アセトア
ミド(実施例1.3参照)(3,0モルχ)より成る混
合物を反応させる。J・22cm’/g @ Nの分析
;計算値0.34χ、測定値0.32χ。
裏施桝り針
実施例2.1に記載した方法と同様にして76゜0gの
2.6−ジメチルフェノール(95,0モルχ)および
8.7gのN−(2−ヒドロキシメチル)−3−メチル
−3=(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−a酸アジド(実施例1.4参照)(5,0モルχ)よ
り成る混合物を反応させる。J=18cm’/g o
Nの分析;計算値0.47χ、測定値0.45χ。
2.6−ジメチルフェノール(95,0モルχ)および
8.7gのN−(2−ヒドロキシメチル)−3−メチル
−3=(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−a酸アジド(実施例1.4参照)(5,0モルχ)よ
り成る混合物を反応させる。J=18cm’/g o
Nの分析;計算値0.47χ、測定値0.45χ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼および/または ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは炭素原子数1〜12の二価脂肪族残基であ
り、 nは0または1でありそして R_5は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基また
は炭素原子数2〜8のヒドロキシアルキル基である。] で表される少なくとも一つの官能性末端基を持つポリフ
ェニレンエーテル。 2)請求項1に記載のポリフェニレンエーテルを製造す
るに当たって、90〜99.8モル%の式( I )▲数
式、化学式、表等があります▼ で表される一種以上のフェノール類および0.2〜10
モル%の式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ および/または ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される一種以上のフェノール類 より成る混合物を公知のように重縮合し、その際上記各
式中の記号が以下の意味を有する:R_1およびR_2
は互いに同じかまたは異なっていてもよく、但しR_1
およびR_2が同時には第三アルキル基でないという条
件のもとで炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子
数5〜10のシクロアルキル基、ベンジル基およびアリ
ール基であり、R_3およびR_4が水素原子でありか
またはR_1およびR_2と同じ意味を有し、 Xは水素原子またはハロゲン原子でありそしてQ_1、
Q_2、Q_3およびQ_4は残基R_1、R_2、R
_3およびR_4と同じ意味を有する ことを特徴とする、上記ポリフェニレンエーテルの製造
方法。 3)請求項1に記載のポリフェニレンエーテルを製造す
るに当たって、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される一種以上のフェノール類を基礎とす重縮合生
成物を0.2〜10モル%の式(II)▲数式、化学式、
表等があります▼ および/または ▲数式、化学式、表等があります▼ で表されるフェノールと平衡条件のもとで反応させるこ
とを特徴とする、上記ポリフェニレンエーテルの製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|
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Family
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1098993A Pending JPH01313523A (ja) | 1988-04-21 | 1989-04-20 | 官能化ポリフェニレンエーテルおよびその製造方法 |
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---|---|
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EP (1) | EP0338208A1 (ja) |
JP (1) | JPH01313523A (ja) |
DE (1) | DE3813355A1 (ja) |
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DE4023232A1 (de) * | 1990-07-21 | 1992-01-23 | Huels Chemische Werke Ag | Thermoplastische formmassen auf basis modifizierter polyphenylether |
JPH09124913A (ja) * | 1995-11-06 | 1997-05-13 | Nippon G Ii Plast Kk | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
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US5880221A (en) * | 1997-02-14 | 1999-03-09 | General Electric Company | Redistribution of polyphenylene ethers and polyphenylene ethers with novel structure |
US7235192B2 (en) * | 1999-12-01 | 2007-06-26 | General Electric Company | Capped poly(arylene ether) composition and method |
US6812276B2 (en) * | 1999-12-01 | 2004-11-02 | General Electric Company | Poly(arylene ether)-containing thermoset composition, method for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
US6905637B2 (en) * | 2001-01-18 | 2005-06-14 | General Electric Company | Electrically conductive thermoset composition, method for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
US6627704B2 (en) * | 1999-12-01 | 2003-09-30 | General Electric Company | Poly(arylene ether)-containing thermoset composition, method for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
US6352782B2 (en) * | 1999-12-01 | 2002-03-05 | General Electric Company | Poly(phenylene ether)-polyvinyl thermosetting resin |
US6878782B2 (en) * | 1999-12-01 | 2005-04-12 | General Electric | Thermoset composition, method, and article |
US6521703B2 (en) | 2000-01-18 | 2003-02-18 | General Electric Company | Curable resin composition, method for the preparation thereof, and articles derived thereform |
US6384176B1 (en) | 2000-07-10 | 2002-05-07 | General Electric Co. | Composition and process for the manufacture of functionalized polyphenylene ether resins |
US6878781B2 (en) * | 2001-03-27 | 2005-04-12 | General Electric | Poly(arylene ether)-containing thermoset composition in powder form, method for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
US6593391B2 (en) * | 2001-03-27 | 2003-07-15 | General Electric Company | Abrasive-filled thermoset composition and its preparation, and abrasive-filled articles and their preparation |
US20030215588A1 (en) * | 2002-04-09 | 2003-11-20 | Yeager Gary William | Thermoset composition, method, and article |
US6905941B2 (en) * | 2003-06-02 | 2005-06-14 | International Business Machines Corporation | Structure and method to fabricate ultra-thin Si channel devices |
US7226980B2 (en) | 2003-08-07 | 2007-06-05 | General Electric Company | Thermoset composition, method for the preparation thereof, and articles prepared therefrom |
US7148296B2 (en) * | 2003-10-03 | 2006-12-12 | General Electric Company | Capped poly(arylene ether) composition and process |
DE102008043863A1 (de) | 2007-11-19 | 2009-05-20 | Basf Se | Teilaromatische Polyamide mit hyperverzweigten Polyoxazolinen |
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DE3414882A1 (de) * | 1984-04-19 | 1985-10-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von substituierten polyarylethern |
-
1988
- 1988-04-21 DE DE3813355A patent/DE3813355A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-21 EP EP89102976A patent/EP0338208A1/de not_active Withdrawn
- 1989-04-07 US US07/334,488 patent/US5039781A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-20 JP JP1098993A patent/JPH01313523A/ja active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
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