JPH01312086A - エッチング廃液の再生処理法 - Google Patents

エッチング廃液の再生処理法

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Publication number
JPH01312086A
JPH01312086A JP14338188A JP14338188A JPH01312086A JP H01312086 A JPH01312086 A JP H01312086A JP 14338188 A JP14338188 A JP 14338188A JP 14338188 A JP14338188 A JP 14338188A JP H01312086 A JPH01312086 A JP H01312086A
Authority
JP
Japan
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soln
hydrogen peroxide
etching
etching waste
waste liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP14338188A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoji Takura
田蔵 友治
Akihiro Tsukada
明宏 塚田
Hatsue Uchida
内田 初江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Condenser Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Condenser Co Ltd filed Critical Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication of JPH01312086A publication Critical patent/JPH01312086A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、めっき工場や印刷配線基板製造工場から排出
される銅成分を多量に含んだ硫酸と過酸化水素を主成分
とするエツチング廃液を除銅処理し、再利用するだめの
再生処理法に関する。
従来の技術 従来の再生処理法は、エツチング廃液を0〜5°Cに冷
却し、銅分を硫酸銅として結晶化させて除去し、再生使
用する方法がとられていた。しかし、冷却工程を伴うた
めに、処理を行う作業性が悪く、処理コストも高いとい
う問題があった。
発明が解決しようとする課題 本発明は、エツチング廃液の処理方法において、従来よ
り安価で、かつ処理作業性に優れた方法を提供すること
を目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、硫酸と過酸化水素を主成分とする工ッヂング
液の使用湾廃液を用い、このエツチング廃液にシュウ酸
を添加して反5U’=をd3こし、廃液中に含有する銅
成分をシコウ酸銅の沈澱物として除去し、この後分解し
て不足状態にある過酸化水素を補充し、−]−ツヂンク
98狸液として再使用り−る]ッヂング廃液の再生処l
lj法である。
本発明は、P l−1= 1以下の強酸エツチング廃液
の除銅手段としてシュウ酸を適a添加覆ることにより、
銅分含有が5000 PP1=1と高いものを容易に銅
含有を5〜300 PPl−1にでき、分解した過酸化
水素の不W分を処理液に追加補充りることにJ、す■ツ
ヂング処理液として再利用が可能である。。
エツチング廃液の銅濃度は、通常11000−1000
0PPの範囲で変化するので、シュウ酸の添加量を廃液
1pに対し、005〜0.5モルの範囲で行うのがよい
。実験結果てはシュウ酸を0.2モルと一定量添加覆れ
ば、銅濃度が変化しても、処理液の′7M度は30〜2
50 PPMの範囲に入ることかわかった。
過酸化水素の補充量は、エツチング[gに液の使用され
た条件によって異なってくるが、通常の使用状態では、
使用覆る前の約半分帛が分解するので、新規使用前Jツ
ブング液の半分量を追加補充すればよい。
エツチング廃液に添71l したシ1つ酸は、僅かに9
8哩液中に溶解するが、再使用に支障がなく、複数回繰
り返りことにより、一定の温度(0,8g/fりになり
、実用上全く問題がない。
エツチング廃液にシュウ酸を添加し生成力る青色のシコ
ウ酸銅の沈澱物は通常使用されているフィルターを用い
分離覆ればよい。
また、ショウ酸銅沈澱物の凝集状態をよくするために、
0.0547/ρ〜01g/ρのポリアミド系等の凝集
剤の添加は有効である。ポリアミド系の凝集剤を添加す
るとよい。ポリアミド系の凝集剤か処理液中に微量含ま
れても、再使用の際に支障をきたさ4τい。
処理液及び処JH+前液に過酸化水素の分解を制御する
尿素、アセ1〜アミド、リン酸塩、第2スズ塩等の安定
剤を微量添加することは有効である。
再生処即時に、シコウ酸処即後過酸化水素を補充するた
め、また、■ツブング作業1時に過酸化水素が分解し水
が生成しているため、硫酸の温度が低下するので、硫酸
も追加補充する必要がある3゜再生処理後に、通常の場
合エツチング廃液1ρに対し、98%硫酸を40〜45
g追加補充でればよい。
実施例 本発明の具体的な実施例を説明覆る。
実施例1 H2O25〜6%、硫酸 12%、銅濃度1200〜9
400 PPMのエツチング廃液1ρに対し、シュウ酸
を適量添加し、30分間攪拌反応せしめ、生成した青色
シコウ酸銅の沈澱物を濾過分離した処理液の銅S度を表
1に示−リ。
1ヅ下余白。
実施例2 1−1202 7%、1−12’SO411%、銅濃度
1800PPMの1ツヂング廃液を67Il受はタンク
に受(プ、2r1.容量の反応槽に2尻のエツチング廃
液を移す。攪拌しながらシュウ酸36 Kg(4(、)
 0モル)を添加し、さらに1時間攪拌を続け、ポリア
ミド系凝集剤50gを添加し、青色のシコウ酸銅沈澱物
を凝集させ、3T1.容量の濃縮槽に移し沈澱物と上澄
み液を分離し3ゴ容吊の混合槽に処理液を移す。(沈澱
物はカゴ型遠心分離機で分1ii1l iる)混合槽中
に35%過酸化水素を310Kg、98%硫酸を80K
g補充添加し混合する。さらにアセトアミドを509添
加し、6ボ容吊の処理液タンクに移す。
このようにして処理した再生エツチング液の]エツチン
グ能力は、新調製エツチング液と全く同等で、12回再
生処理を繰り返しても、エツチング能力が一定している
ことを確認した。
シュウ酸の添加量をエツチング廃液1ρに対して0.0
5−0.5モルの範囲にすることにより、エツチング廃
液の銅濃度が1200〜9400 PPMの範囲で変化
しても、処理液の銅濃度は、5〜300 PPMの範囲
に入ることが判る。
また、シュウ酸の添加量を0.20モルと一定量添加し
た場合、処理液の銅濃度が30〜250PPHの範囲に
エツチング廃液の銅濃度が変化しても入ることが判る。
シュウ酸の添加量をさらに増して0.75モルにするこ
とにより処理液の銅濃度は4.7〜88 PPMと小さ
くなるが、処理コストが高くなるので、シュウ酸の添加
量は0.20モル前後が適正である。
水準番号2〜5.8〜11.14〜17及び20〜23
の処理液に35%過酸化水素170g(t−12026
%補充に相当する)、98%硫酸を補充添加することに
より、エツチング能力が回復し、新規エツチング液のエ
ツチング能力と同等であることを確認した。
発明の効果 本発明のエツチング廃液の処理法は、以上に述べた如き
工程を経て行われるもので、簡単な操作で再生処理がで
き、新調差のエツチング液と同等の能力を有し、複数回
の再生処理を繰り返し行うことができる処理法である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)硫酸と過酸化水素を主成分とするエッチング廃液
    を用い、このエッチング廃液にシュウ酸を添加して反応
    をおこし、廃液中に含有する銅成分をシユウ酸銅の沈澱
    物として除去し、この後分解して不足状態にある過酸化
    水素を補充し、エッチング処理液として再使用すること
    を特徴とするエッチング廃液の再生処理法。
  2. (2)請求項1記載において、シユウ酸の添加量をエッ
    チング廃液の銅濃度に対応して変化させ、反応後の銅濃
    度を5〜300PPMの範囲に調整することを特徴とす
    るエッチング廃液の再生処理法。
  3. (3)請求項1項又は2項記載において、エッチング廃
    液1lに対し0.05〜0.5モル添加することを特徴
    とするエッチング廃液の再生処理法。
JP14338188A 1988-06-10 1988-06-10 エッチング廃液の再生処理法 Pending JPH01312086A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008125728A2 (en) 2007-04-13 2008-10-23 Yara Suomi Oy Method for the treatment and reuse of a stripper solution
CN104313583A (zh) * 2014-07-16 2015-01-28 东莞市广华化工有限公司 一种酸性蚀刻废液回收再利用的沉淀剂及其处理方法
KR20230091274A (ko) * 2021-12-16 2023-06-23 전남대학교산학협력단 황산 식각액 폐수로부터 유가금속 회수 및 유가금속이 회수된 식각액의 재사용 방법

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