JPH01303787A - 厚膜回路制御方式 - Google Patents
厚膜回路制御方式Info
- Publication number
- JPH01303787A JPH01303787A JP13515388A JP13515388A JPH01303787A JP H01303787 A JPH01303787 A JP H01303787A JP 13515388 A JP13515388 A JP 13515388A JP 13515388 A JP13515388 A JP 13515388A JP H01303787 A JPH01303787 A JP H01303787A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- paste
- main unit
- thick film
- drive mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- -1 resistors Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1241—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、ペースト状の各種の回路形成材料によって
、基板上に任意形状の塗膜を積層して電気回路を形成す
る際に、描画する厚膜ラインがほぼ同じ幅及び厚さにな
るように制御する厚膜回路制御方式に関する。
、基板上に任意形状の塗膜を積層して電気回路を形成す
る際に、描画する厚膜ラインがほぼ同じ幅及び厚さにな
るように制御する厚膜回路制御方式に関する。
[従来技術]
一般に、厚膜回路形成装置によって製造される電気回路
は、ノズルから吐出される回路形成材料の種類によって
導電体、抵抗体、非導電体等の種々の形状の厚膜が形成
され、これらの各膜層が積層されて回路を構成している
。第6図は、従来の厚膜回路形成装置の斜視図で、装置
のフレーム1に支持部材2が固着され、この支持部材2
の上部にモータ3がモータ保持部材4により保持されて
いる。
は、ノズルから吐出される回路形成材料の種類によって
導電体、抵抗体、非導電体等の種々の形状の厚膜が形成
され、これらの各膜層が積層されて回路を構成している
。第6図は、従来の厚膜回路形成装置の斜視図で、装置
のフレーム1に支持部材2が固着され、この支持部材2
の上部にモータ3がモータ保持部材4により保持されて
いる。
このモータ3の回転軸はカップリング5を介してベアリ
ングを収納したベアリング受け6によって支持されたボ
ールネジ7に接続され、このボールネジ7はノズル保持
部材8に嵌合されている。またノズル保持部材8はリニ
アスライド9によって支持部材2に対して上下に摺動で
きるように構成されている。このノズル保持部材8には
ノズル10が設けられ、このノズル10のノズル端11
から例えばセラミック基板12上に厚膜回路用塗料(以
下ペースト)13が吐出され、さらに、セラミック基板
12はXY力方向駆動されるステージ装置14上に載置
される。
ングを収納したベアリング受け6によって支持されたボ
ールネジ7に接続され、このボールネジ7はノズル保持
部材8に嵌合されている。またノズル保持部材8はリニ
アスライド9によって支持部材2に対して上下に摺動で
きるように構成されている。このノズル保持部材8には
ノズル10が設けられ、このノズル10のノズル端11
から例えばセラミック基板12上に厚膜回路用塗料(以
下ペースト)13が吐出され、さらに、セラミック基板
12はXY力方向駆動されるステージ装置14上に載置
される。
また支持部材2に固定された保持具15にノズル10と
並置してレーザを利用した基板12の高さセンサ16が
設けられている。
並置してレーザを利用した基板12の高さセンサ16が
設けられている。
このように構成された厚膜回路形成装置では。
ノズル10を設けたシリンジ17に充填したペーストを
、チューブ18より圧搾空気を供給することにより空気
圧でノズル10の先端より吐出するものであり、その際
、(1)ペースト吐出空気圧、(2) X Yステージ
移動速度、(3) X Yステージ移動加速度等の制御
要素をコントロール装置に入力して制御す待期時間(=
ペース汐勧り制御遅延時間)、(7)ペースト種別No
、(8)その他(基本の線幅、ハツチング時のピッチ、
ペンNo)等の制御要素をコントロール装置に入力して
制御する。
、チューブ18より圧搾空気を供給することにより空気
圧でノズル10の先端より吐出するものであり、その際
、(1)ペースト吐出空気圧、(2) X Yステージ
移動速度、(3) X Yステージ移動加速度等の制御
要素をコントロール装置に入力して制御す待期時間(=
ペース汐勧り制御遅延時間)、(7)ペースト種別No
、(8)その他(基本の線幅、ハツチング時のピッチ、
ペンNo)等の制御要素をコントロール装置に入力して
制御する。
[発明が解決しようとする課題]
ここで、この装置を利用して、基板12をXY力方向移
動して厚膜回路を形成する場合、第7図に示すように基
板12が平らな面では基板12の移動量りとノズル10
から吐出するペースト13の流量Mが同じであれば、厚
膜回路は同じ太さで形成されるが、第8図に示すように
1つの回路20の上にクロスガラス19を置いて、その
上に他の回路21を形成する場合は、゛ペースト13の
流量Mをクロスガラス19の傾斜に合わせてなければ、
形成された回路21の線幅は第9図に示すように要求さ
れる線幅に対して太い部分13aや細い部分13bが形
成されたり、また第10図に示すように要求される膜厚
に対して厚い部分13cや薄い部分13dが形成された
り、また時には断線部分が生じたりするという問題があ
った・ 本発明は、予め基板上の高さを検出し、ペーストの種類
、空気圧・速度によって異なるペーストの流量をxYZ
の駆動機構ににより流量が基板表面に一定になるように
パルスを分配して制御するようにした厚膜回路制御方式
を提供することを目的とするものである。
動して厚膜回路を形成する場合、第7図に示すように基
板12が平らな面では基板12の移動量りとノズル10
から吐出するペースト13の流量Mが同じであれば、厚
膜回路は同じ太さで形成されるが、第8図に示すように
1つの回路20の上にクロスガラス19を置いて、その
上に他の回路21を形成する場合は、゛ペースト13の
流量Mをクロスガラス19の傾斜に合わせてなければ、
形成された回路21の線幅は第9図に示すように要求さ
れる線幅に対して太い部分13aや細い部分13bが形
成されたり、また第10図に示すように要求される膜厚
に対して厚い部分13cや薄い部分13dが形成された
り、また時には断線部分が生じたりするという問題があ
った・ 本発明は、予め基板上の高さを検出し、ペーストの種類
、空気圧・速度によって異なるペーストの流量をxYZ
の駆動機構ににより流量が基板表面に一定になるように
パルスを分配して制御するようにした厚膜回路制御方式
を提供することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明の厚膜回路制御方式
では、厚膜回路用塗料を吐出するノズルと、該ノズルを
上下方向に駆動する駆動機構と、前記厚膜回路用塗料を
塗布される基板をXY力方向駆動する駆動機構と、該基
板の表面の凹凸状態を検知する高さセンサと、該高さセ
ンサを用いて前記基板の表面の高さを計測し、該検知し
た値をXY座標に対応して格納するメモリと、描画パタ
ーンデータと描画条件要素をコントローラから読み取っ
て前記メモリに記憶するメインユニットとからなり、該
メインユニットから前記描画パターンデータに基づいて
算出されたパルスを前記駆動機構に出力するものである
。
では、厚膜回路用塗料を吐出するノズルと、該ノズルを
上下方向に駆動する駆動機構と、前記厚膜回路用塗料を
塗布される基板をXY力方向駆動する駆動機構と、該基
板の表面の凹凸状態を検知する高さセンサと、該高さセ
ンサを用いて前記基板の表面の高さを計測し、該検知し
た値をXY座標に対応して格納するメモリと、描画パタ
ーンデータと描画条件要素をコントローラから読み取っ
て前記メモリに記憶するメインユニットとからなり、該
メインユニットから前記描画パターンデータに基づいて
算出されたパルスを前記駆動機構に出力するものである
。
[作用コ
本発明によれば、高さセンサを用いて予め基板の表面の
凹凸を検知し、この検知した値を基板のXY座標に対応
するメモリに格納し、またコントローラから読み取った
描画パターンデータと描画条件要素によって、メインユ
ニットは基板をXYへ移動する駆動機構へそれぞれ移動
に対応したパルスを演算して分配し、各駆動機構を制御
するものである。
凹凸を検知し、この検知した値を基板のXY座標に対応
するメモリに格納し、またコントローラから読み取った
描画パターンデータと描画条件要素によって、メインユ
ニットは基板をXYへ移動する駆動機構へそれぞれ移動
に対応したパルスを演算して分配し、各駆動機構を制御
するものである。
[実施例]
まず、本発明の詳細な説明する前に原理を説明する。第
6図に示した厚膜回路形成装置において、ペーストの流
量Mmは第1図に示すように基板12のX方向の移動量
Mx、Y方向の移動量MY、X方向の移動量Mzの三次
元のベクトル量で近似される。このようにペース流量M
mの近似値を計算させながら同時に描画を行う方法は時
間がかかって実用的でなく、また基板上に描画するパタ
ーンに対応したペースト量を前もって計算させておいて
一度に描画する方法は、大容量のメモリを使用しなけれ
ばならないので、コストが高くなる。
6図に示した厚膜回路形成装置において、ペーストの流
量Mmは第1図に示すように基板12のX方向の移動量
Mx、Y方向の移動量MY、X方向の移動量Mzの三次
元のベクトル量で近似される。このようにペース流量M
mの近似値を計算させながら同時に描画を行う方法は時
間がかかって実用的でなく、また基板上に描画するパタ
ーンに対応したペースト量を前もって計算させておいて
一度に描画する方法は、大容量のメモリを使用しなけれ
ばならないので、コストが高くなる。
また、クロスガラス等を使用して、1つの線の上をクロ
スオーバーさせる場合は、ペーストのエツジの形状はペ
ースト種別に応じて微妙に異なり、直線で近似させると
、形成された回路の線幅や品質に差異がでてしまう。
スオーバーさせる場合は、ペーストのエツジの形状はペ
ースト種別に応じて微妙に異なり、直線で近似させると
、形成された回路の線幅や品質に差異がでてしまう。
従って1本発明では、第2図に示すようにペースト流量
Mはクロスガラスの高さの変位量に応じて、一定流量制
御用の一定周期Tに流量制御用遅延時間Dnを加えるこ
とによって補正する。すなわち、ペースト流量制御用補
正周期は、M=T+Dn・・・・・・ (1) ここで、D、、Dl、D 1o * D 16、・・・
、DVLはパルス出力一定周期時間を遅延させ、その分
ペーストの流量を多くする変数である。また、第3図(
a)に示すように、クロスガラス19のエツジの形状に
応じて、パルス分配周期tに対してクロスガラス19の
高さ2方向のパルス分配量が異なっている。そこで、第
3図(a)の一部拡大図の第3図(b)に示すようにク
ロスガラス19の傾斜の長さQに対するペースト流量m
は、Q<mである。
Mはクロスガラスの高さの変位量に応じて、一定流量制
御用の一定周期Tに流量制御用遅延時間Dnを加えるこ
とによって補正する。すなわち、ペースト流量制御用補
正周期は、M=T+Dn・・・・・・ (1) ここで、D、、Dl、D 1o * D 16、・・・
、DVLはパルス出力一定周期時間を遅延させ、その分
ペーストの流量を多くする変数である。また、第3図(
a)に示すように、クロスガラス19のエツジの形状に
応じて、パルス分配周期tに対してクロスガラス19の
高さ2方向のパルス分配量が異なっている。そこで、第
3図(a)の一部拡大図の第3図(b)に示すようにク
ロスガラス19の傾斜の長さQに対するペースト流量m
は、Q<mである。
従って、Qくmになるように空気圧及び基板12のM=
T+Dn十α・・・・・・ (2)次に、上記の式を考
慮して、第4図を参照すると、本発明の実施例の厚膜回
路形成装置では、メインユニット22はCPU、ROM
、RAMを設け、またメインユニット22に空気源23
が接続された空気圧電圧変換器24が接続され、さらに
空気圧電圧変換器24に電磁弁25を介してノズル10
のシリンジ17に接続されている。また、メインユニッ
ト22にはZ方向モータコントローラ26及びZ方向モ
ータドライバ27を介してZ方向モータ3が接続され、
またノズル10の近傍に設けられた高さセンサ16もメ
インユニット220入力側に接続されている。また、メ
インユニット22には、X方向モータコントローラ28
及びX方向モータドライバ29を介して基板12のX方
向モータ30が接続され、さらにメインユニット22に
は、Y方向モータコントローラ31及びY方向モータド
ライバ32を介して基板12のY方向モータ33が接続
されている。また、メインユニットの外部装置として、
オペレーションパネル34及びコントローラ35が接続
されている。
T+Dn十α・・・・・・ (2)次に、上記の式を考
慮して、第4図を参照すると、本発明の実施例の厚膜回
路形成装置では、メインユニット22はCPU、ROM
、RAMを設け、またメインユニット22に空気源23
が接続された空気圧電圧変換器24が接続され、さらに
空気圧電圧変換器24に電磁弁25を介してノズル10
のシリンジ17に接続されている。また、メインユニッ
ト22にはZ方向モータコントローラ26及びZ方向モ
ータドライバ27を介してZ方向モータ3が接続され、
またノズル10の近傍に設けられた高さセンサ16もメ
インユニット220入力側に接続されている。また、メ
インユニット22には、X方向モータコントローラ28
及びX方向モータドライバ29を介して基板12のX方
向モータ30が接続され、さらにメインユニット22に
は、Y方向モータコントローラ31及びY方向モータド
ライバ32を介して基板12のY方向モータ33が接続
されている。また、メインユニットの外部装置として、
オペレーションパネル34及びコントローラ35が接続
されている。
次に、本実施例の動作を第5図のフローチャートを用い
て説明する。まず、装置がスタートすると、高さセンサ
16で基板12の表面の高さが計測され、基板12のX
Y座標に対応してメインユニット22のRAMに記憶さ
れる(ステップ1)。次に、メインユニット22は描画
パターンデータと描画条件要素(ペースト種別、空気圧
、速度等)をコントローラ35から受信してRAMに格
納する(ステップ2)。また、メインユニット22はオ
ペレーションパネル34から入力されたペースト種別、
空気圧及び基板12の速度の3要素から構成されたペー
スト13の流量制御データベースの1つをコントローラ
から選択し、RAMに格納する(ステップ3)。
て説明する。まず、装置がスタートすると、高さセンサ
16で基板12の表面の高さが計測され、基板12のX
Y座標に対応してメインユニット22のRAMに記憶さ
れる(ステップ1)。次に、メインユニット22は描画
パターンデータと描画条件要素(ペースト種別、空気圧
、速度等)をコントローラ35から受信してRAMに格
納する(ステップ2)。また、メインユニット22はオ
ペレーションパネル34から入力されたペースト種別、
空気圧及び基板12の速度の3要素から構成されたペー
スト13の流量制御データベースの1つをコントローラ
から選択し、RAMに格納する(ステップ3)。
そして、メインユニット22は指定された空気圧を空気
圧電圧変換器24に設定しくステップ4)、また描画パ
ターンデータを膜厚回路形成装置の座標に変換しくステ
ップ5)、さらに、この座標で指定されたポイントに移
動するためのパルス数を算出する(ステップ6)。そし
て、指定された速度、加速度を実現させるため、移動総
パルス数をX。
圧電圧変換器24に設定しくステップ4)、また描画パ
ターンデータを膜厚回路形成装置の座標に変換しくステ
ップ5)、さらに、この座標で指定されたポイントに移
動するためのパルス数を算出する(ステップ6)。そし
て、指定された速度、加速度を実現させるため、移動総
パルス数をX。
Yにパルス分配し、周期当りのパルス数A及び必要とさ
れる周期数Bに換算する(ステップ7)。
れる周期数Bに換算する(ステップ7)。
次に、周期当りのパルス数Aである周期当りのXYのパ
ルス数をX及びY方向モータコントローラ28、31に
パルス数で指定し、X及びY方向モータドライバ29.
32よりX方向モータ30及びY方向モータ33を駆動
して基板12を移動する(ステップ8)。
ルス数をX及びY方向モータコントローラ28、31に
パルス数で指定し、X及びY方向モータドライバ29.
32よりX方向モータ30及びY方向モータ33を駆動
して基板12を移動する(ステップ8)。
また、現在の座標をインデックスとして、高さの配列か
ら現在の高さを求め(ステップ9)、現在の高さよりZ
方向の移動パルス数を算出し、2方向モータコントロー
ラ26にパルス数で指定し、ノズルlOを上下動する(
ステップ10)。また、現在の高さを元に高さの変位量
を求め、選択されたデータベースより補正周期の時間D
n+αを求め。
ら現在の高さを求め(ステップ9)、現在の高さよりZ
方向の移動パルス数を算出し、2方向モータコントロー
ラ26にパルス数で指定し、ノズルlOを上下動する(
ステップ10)。また、現在の高さを元に高さの変位量
を求め、選択されたデータベースより補正周期の時間D
n+αを求め。
一定周期の時間Tに加える(ステップ11)。そして、
補正周期時間を加えた會Sn+αが経過するまで、それ
が経過したかどうかが判断され(ステップ12)、それ
が経過すると、次に必要とさツブ8)に戻り、必要な周
期が経過すると(ステップ13)、総べての制御が終了
する。
補正周期時間を加えた會Sn+αが経過するまで、それ
が経過したかどうかが判断され(ステップ12)、それ
が経過すると、次に必要とさツブ8)に戻り、必要な周
期が経過すると(ステップ13)、総べての制御が終了
する。
[発明の効果]
以上のように構成されているので、本発明は。
クロスガラス等を用いて既に形成されている回路の上を
クロスオーバーする場合、ペーストの膜厚と線幅を制御
することができ、ペーストの種別、基板の速度、空気圧
等の違いも対応させることができ、さらにメインユニッ
トのメモリが小容量であってもよく、さらに時間の短縮
等をはかることができ、コストが安くなるという利点が
ある。
クロスオーバーする場合、ペーストの膜厚と線幅を制御
することができ、ペーストの種別、基板の速度、空気圧
等の違いも対応させることができ、さらにメインユニッ
トのメモリが小容量であってもよく、さらに時間の短縮
等をはかることができ、コストが安くなるという利点が
ある。
第1図は本発明の詳細な説明する説明図、第2図は本発
明のペースト流量制御用補正周期を示した図、第3図(
a)はクロスガラスの高さに応じたパルス分配周期を示
した図、第3図(b)は第3図(a)の一部拡大図、第
4図は本発明の1実施例の厚膜回路制御方式のブロック
図、第5図は第4図のブロック図の動作を説明するフロ
ーチャート、第6図は従来の膜厚回路形成装置の斜視図
、第7図は第6図の厚膜回路形成装置の欠点を説明する
ための図、第8図は第6図の装置の欠点を説明する基板
の斜視図、第9図は第8図の一部の拡大図、第10図は
第9図の側面図である。 3・・・モータ、12・・・基板、13・・・厚膜回路
用塗料(ペースト) 、 22・・・メインユニット、
23・・・空気源、24・・・空気圧電圧変換器、25
・・・電磁弁、26・・・Z方向モータコントローラ、
27・・・Z方向モータドライバ、28・・・X方向モ
ータコントローラ、29・・・X方向モータドライバ、
30・・・X方向モータ、31・・・Y方向モータコン
トローラ、32・・・Y方向モータドライバ、33・・
・Y方向モータ、34・・・オペレーションパネル、3
5・・・コントローラ。
明のペースト流量制御用補正周期を示した図、第3図(
a)はクロスガラスの高さに応じたパルス分配周期を示
した図、第3図(b)は第3図(a)の一部拡大図、第
4図は本発明の1実施例の厚膜回路制御方式のブロック
図、第5図は第4図のブロック図の動作を説明するフロ
ーチャート、第6図は従来の膜厚回路形成装置の斜視図
、第7図は第6図の厚膜回路形成装置の欠点を説明する
ための図、第8図は第6図の装置の欠点を説明する基板
の斜視図、第9図は第8図の一部の拡大図、第10図は
第9図の側面図である。 3・・・モータ、12・・・基板、13・・・厚膜回路
用塗料(ペースト) 、 22・・・メインユニット、
23・・・空気源、24・・・空気圧電圧変換器、25
・・・電磁弁、26・・・Z方向モータコントローラ、
27・・・Z方向モータドライバ、28・・・X方向モ
ータコントローラ、29・・・X方向モータドライバ、
30・・・X方向モータ、31・・・Y方向モータコン
トローラ、32・・・Y方向モータドライバ、33・・
・Y方向モータ、34・・・オペレーションパネル、3
5・・・コントローラ。
Claims (1)
- 1.厚膜回路用塗料を吐出するノズルと、該ノズルを上
下方向に駆動する駆動機構と、前記厚膜回路用塗料を塗
布される基板をXY方向に駆動する駆動機構と、該基板
の表面の凹凸状態を検知する高さセンサと、該高さセン
サを用いて前記基板の表面の高さを計測し、該検知した
値をXY座標に対応して格納するメモリと、描画パター
ンデータと描画条件要素をコントローラから読み取って
前記メモリに記憶するメインユニットとからなり、該メ
インユニットから前記描画パターンデータに基づいて算
出されたパルスを前記駆動機構に出力することを特徴と
する厚膜回路制御方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13515388A JPH01303787A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 厚膜回路制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13515388A JPH01303787A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 厚膜回路制御方式 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01303787A true JPH01303787A (ja) | 1989-12-07 |
Family
ID=15145057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13515388A Pending JPH01303787A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 厚膜回路制御方式 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01303787A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0524179A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-02 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | 塗布描画装置 |
WO2006076609A2 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Cabot Corporation | Printable electronic features on non-uniform substrate and processes for making same |
US7572481B2 (en) | 2003-12-22 | 2009-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Pattern forming method and pattern forming apparatus |
USD829004S1 (en) | 2017-08-24 | 2018-09-25 | Paris Presents Incorporated | Brush |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5358991A (en) * | 1976-07-28 | 1978-05-27 | Bergwerksverband Gmbh | Method of separating hydrogen from gaseous mixtures containing hydrogen |
JPS5954237A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Hitachi Ltd | 基板ホルダ |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP13515388A patent/JPH01303787A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5358991A (en) * | 1976-07-28 | 1978-05-27 | Bergwerksverband Gmbh | Method of separating hydrogen from gaseous mixtures containing hydrogen |
JPS5954237A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Hitachi Ltd | 基板ホルダ |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0524179A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-02 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | 塗布描画装置 |
US7572481B2 (en) | 2003-12-22 | 2009-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Pattern forming method and pattern forming apparatus |
WO2006076609A2 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Cabot Corporation | Printable electronic features on non-uniform substrate and processes for making same |
WO2006076609A3 (en) * | 2005-01-14 | 2006-11-30 | Cabot Corp | Printable electronic features on non-uniform substrate and processes for making same |
USD829004S1 (en) | 2017-08-24 | 2018-09-25 | Paris Presents Incorporated | Brush |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101878071B (zh) | 液体材料的涂布装置以及涂布方法 | |
US5415693A (en) | Paste applicator | |
EP0403280A2 (en) | Apparatus for controlling material flow in a fluid dispensing process | |
US6025689A (en) | Positioning system | |
US5375064A (en) | Method and apparatus for moving a material removal tool with low tool accelerations | |
CN1757439B (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
CN110271010B (zh) | 机器人系统以及机器人的控制方法 | |
JP3492190B2 (ja) | ペースト塗布方法とペースト塗布機 | |
JPH01303787A (ja) | 厚膜回路制御方式 | |
US20060141131A1 (en) | Sealant drawing method, sealant drawing apparatus, and method and apparatus for manufacturing liquid crystal device | |
JP4601914B2 (ja) | 接着剤の塗布装置及び接着剤の塗布方法 | |
JP3520205B2 (ja) | ペースト塗布方法とペースト塗布機 | |
JP2752553B2 (ja) | ペースト塗布機 | |
TWI397755B (zh) | 用於滴落液晶的設備和方法 | |
JP5085985B2 (ja) | 基板スクリーン印刷装置 | |
JP3539891B2 (ja) | ペースト塗布機のノズル高さ位置決め方法 | |
JP3510124B2 (ja) | ペースト塗布方法及びペースト塗布機 | |
JPH08281173A (ja) | 接着剤塗布装置 | |
JPH11262711A (ja) | 塗布装置 | |
JP3470060B2 (ja) | ペースト塗布方法とペースト塗布機 | |
JPH06198238A (ja) | ペースト塗布機 | |
TW201927417A (zh) | 在多個電子基板上旋轉分配泵的陣列以藉由多個分配泵而同時地分配 | |
CN101847585B (zh) | 配线描绘装置和配线描绘方法 | |
KR100566408B1 (ko) | 반도체 제조 공정에서의 도포막 두께 제어 장치 및 그의제어 방법 | |
JPH10221698A (ja) | ペーストパターン形成装置および液晶パネル製造装置 |