JPH01302888A - レーザ出力装置 - Google Patents
レーザ出力装置Info
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- JPH01302888A JPH01302888A JP13151688A JP13151688A JPH01302888A JP H01302888 A JPH01302888 A JP H01302888A JP 13151688 A JP13151688 A JP 13151688A JP 13151688 A JP13151688 A JP 13151688A JP H01302888 A JPH01302888 A JP H01302888A
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- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 17
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10084—Frequency control by seeding
- H01S3/10092—Coherent seed, e.g. injection locking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
Landscapes
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明はレーザ出力装置に関する。
(従来の技術)
第2図はエキシマレーザ装置の概略構成図であって、こ
れは励起状態の原子と基底状態の原子とが結合したとき
にできる分子を用いたものである。なお、エキシマレー
ザは本質的に数Ions程度の短いパルス発振で出力さ
れる。同図に示すよ′うにエキシマレーザ媒質1を挟む
如く全反射ミラー2と出力ミラー3とが配置されたもの
となっている。ところが、このエキシマレーザは同図に
示すように発振スペクトルSP、が0.3nmと広く、
このため発振スペクトルSP1の幅を狭くして発振スペ
クトルを安定化することが行われている。第3図は発振
スペクトルの狭帯域化を図ったエキシマレーザ発振装置
の概略構成図であって、エキシマレーザ媒質1と高反射
ミラー2.出力ミラー3との間にエタロン、グレーティ
ング等の狭帯域化波長選択素子4が配置されるとともに
各絞り5゜6が配置されたものとなっている。このよう
な構成とすることにより発振されるレーザ光の発振スペ
クトルSP2は強制的に例えば0.005rvに狭帯域
化する。しかしながら、この装置では発振スペクトルは
狭帯化して安定したエキシマレーザを得ることができる
が、発振されるエキシマレーザ光の出力レベルはせいぜ
いIW程度となって、出力レベルが低下するという問題
がある。つまり、エキシマレーザをリソグラフィに使用
するに要求される性能は、平均出力、繰返し周波数、出
力安定性等があるが、このうち平均出力に対する性能が
得られなくなる。
れは励起状態の原子と基底状態の原子とが結合したとき
にできる分子を用いたものである。なお、エキシマレー
ザは本質的に数Ions程度の短いパルス発振で出力さ
れる。同図に示すよ′うにエキシマレーザ媒質1を挟む
如く全反射ミラー2と出力ミラー3とが配置されたもの
となっている。ところが、このエキシマレーザは同図に
示すように発振スペクトルSP、が0.3nmと広く、
このため発振スペクトルSP1の幅を狭くして発振スペ
クトルを安定化することが行われている。第3図は発振
スペクトルの狭帯域化を図ったエキシマレーザ発振装置
の概略構成図であって、エキシマレーザ媒質1と高反射
ミラー2.出力ミラー3との間にエタロン、グレーティ
ング等の狭帯域化波長選択素子4が配置されるとともに
各絞り5゜6が配置されたものとなっている。このよう
な構成とすることにより発振されるレーザ光の発振スペ
クトルSP2は強制的に例えば0.005rvに狭帯域
化する。しかしながら、この装置では発振スペクトルは
狭帯化して安定したエキシマレーザを得ることができる
が、発振されるエキシマレーザ光の出力レベルはせいぜ
いIW程度となって、出力レベルが低下するという問題
がある。つまり、エキシマレーザをリソグラフィに使用
するに要求される性能は、平均出力、繰返し周波数、出
力安定性等があるが、このうち平均出力に対する性能が
得られなくなる。
これに対してエキシマレーザ光の出力レベルを高めた技
術がある。第4図はかかる装置の構成図であって、注入
同期型と呼ばれるものである。この装置は2台のエキシ
マレーザ発振装置7,8を備えた構成で、第1のエキシ
マレーザ発振装置7から発振されたエキシマレーザ光を
全反射ミラー9.10で反射させて第2のエキシマレー
ザ発振装置8に注入同期するものである。なお、第1の
エキシマレーザ発振装置7はエキシマレーザ媒質11、
全反射ミラー12.出力ミラー13及び狭帯化波長選択
素子14から構成され、又第2のエキシマレーザ発振装
置8はエキシマレーザ媒質15、注入口導入ミラー16
及び出力ミラー17から構成されている。このような構
成であれば発振されるエキシマレーザ光の出力を例えば
50W以上の高出力にすることができるが、第1と第2
の各エキシマレーザ発振装置7.8の注入同期を取らな
ければならないので発振スペクトルが不安定となる。つ
まり、エキシマレーザ発振装置の発振時間は通常IO〜
40nsと短いため、エキシマレーザの注入同期を取ろ
うとしても放電ガスの劣化やエキシマレーザ媒質11.
15内の放電部における電気部品の劣化、さらに放電信
号系のジッター等によって注入同期を取るのが非常に困
難となる。
術がある。第4図はかかる装置の構成図であって、注入
同期型と呼ばれるものである。この装置は2台のエキシ
マレーザ発振装置7,8を備えた構成で、第1のエキシ
マレーザ発振装置7から発振されたエキシマレーザ光を
全反射ミラー9.10で反射させて第2のエキシマレー
ザ発振装置8に注入同期するものである。なお、第1の
エキシマレーザ発振装置7はエキシマレーザ媒質11、
全反射ミラー12.出力ミラー13及び狭帯化波長選択
素子14から構成され、又第2のエキシマレーザ発振装
置8はエキシマレーザ媒質15、注入口導入ミラー16
及び出力ミラー17から構成されている。このような構
成であれば発振されるエキシマレーザ光の出力を例えば
50W以上の高出力にすることができるが、第1と第2
の各エキシマレーザ発振装置7.8の注入同期を取らな
ければならないので発振スペクトルが不安定となる。つ
まり、エキシマレーザ発振装置の発振時間は通常IO〜
40nsと短いため、エキシマレーザの注入同期を取ろ
うとしても放電ガスの劣化やエキシマレーザ媒質11.
15内の放電部における電気部品の劣化、さらに放電信
号系のジッター等によって注入同期を取るのが非常に困
難となる。
このため、注入同期が十分に取れず、エキシマレーザ発
振装置8はフリーランニング状態となってそのスペクト
ルは広がってしまうことが多かった。
振装置8はフリーランニング状態となってそのスペクト
ルは広がってしまうことが多かった。
(発明が解決しようとする課題)
以上のように安定した発振スペクトルを得るために狭帯
域化波長選択素子や注入同期が行われているが、狭帯域
化波長選択素子を使用した場合は出力レベルが低下し、
一方注入同期を用いた場合は注入同期を取ることが非常
に困難となって安定した発振スペクトルを得ることがで
きない。
域化波長選択素子や注入同期が行われているが、狭帯域
化波長選択素子を使用した場合は出力レベルが低下し、
一方注入同期を用いた場合は注入同期を取ることが非常
に困難となって安定した発振スペクトルを得ることがで
きない。
そこで本発明は、安定した発振スペクトルで大出力のレ
ーザ光を出力できるレーザ出力装置を提供することを目
的とする。
ーザ光を出力できるレーザ出力装置を提供することを目
的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、エキシマレーザ発振系と、このエキシマレー
ザ発振系のレーザ発振時間よりもレーザ発振時間を長く
することが可能でかつエキシマレーザ発振系から放出さ
れるレーザ光と同一波長のレーザ光を放出する同期用レ
ーザ発振系と、この同期用レーザ発振系から放出される
レーザ光をエキシマレーザ発振系に注入同期制御する注
入同期制御手段とを備えて上記目的を達成しようとする
レーザ出力装置である。
ザ発振系のレーザ発振時間よりもレーザ発振時間を長く
することが可能でかつエキシマレーザ発振系から放出さ
れるレーザ光と同一波長のレーザ光を放出する同期用レ
ーザ発振系と、この同期用レーザ発振系から放出される
レーザ光をエキシマレーザ発振系に注入同期制御する注
入同期制御手段とを備えて上記目的を達成しようとする
レーザ出力装置である。
(作用)
このような手段を備えたことにより、エキシマレーザ発
振系に対して、このエキシマレーザ発振系のレーザ発振
時間よりも長くすることが可能でかつ同一波長のレーザ
光が同期用レーザ発振系から注入同期制御手段の制御に
よって注入同期される。
振系に対して、このエキシマレーザ発振系のレーザ発振
時間よりも長くすることが可能でかつ同一波長のレーザ
光が同期用レーザ発振系から注入同期制御手段の制御に
よって注入同期される。
(実施例)
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第1図は注入同期型のレーザ出力装置の構成図であって
、この装置はアレキサンドライトをレーザ媒質とした同
期用レーザ発振系20とエキシマレーザ発振系21とが
備えられ、同期用レーザ発振系20から放出されるレー
ザ光Qaが反射ミラー22.23で反射してエキシマレ
ーザ発振系21に注入同期されるようになっている。次
にこれらレーザ発振系20.21の構成について説明す
る。
、この装置はアレキサンドライトをレーザ媒質とした同
期用レーザ発振系20とエキシマレーザ発振系21とが
備えられ、同期用レーザ発振系20から放出されるレー
ザ光Qaが反射ミラー22.23で反射してエキシマレ
ーザ発振系21に注入同期されるようになっている。次
にこれらレーザ発振系20.21の構成について説明す
る。
先ず、同期用レーザ発振系20はアレキサンドライトレ
ーザヘッド(以下、単にヘッドと省略する)24と、そ
れぞれ透光性板体に誘電体多層膜をコーティングして形
成されたヘッド24の両側、に位置しかつヘッド24の
軸線上で相対向して配置され光共振器を構成する高反射
ミラー25及び出力ミラー26と、上記軸線上において
ヘッド24と高反射ミラーとの間に配置された波長可変
狭帯域化発振ユニット(以下、狭帯域化ユニットと省略
する)27と、同じくヘッド24と出力ミラー26との
間にヘッド24から出力ミラー26に向かって配置され
たQスイッチ28及びセカンドハーモニジェネレーショ
ン素子(以下、SHG素子と省略する)29と、同じく
出力ミラー26と反射ミラー22との間に配置されたサ
ード/\−モニジェネレーション素子(以下、THGと
省略する)30と、高反射ミラー25を透過した光の波
長を反射ミラー31を介して検出する波長モニタ32と
、この波長モニタ32からの検出信号を受けて狭い帯域
化ユニット27を制御駆動するドライバ33及びヘッド
24の構成要素の1つである励起手段(図示せず)を印
加する電源34とを備えている。
ーザヘッド(以下、単にヘッドと省略する)24と、そ
れぞれ透光性板体に誘電体多層膜をコーティングして形
成されたヘッド24の両側、に位置しかつヘッド24の
軸線上で相対向して配置され光共振器を構成する高反射
ミラー25及び出力ミラー26と、上記軸線上において
ヘッド24と高反射ミラーとの間に配置された波長可変
狭帯域化発振ユニット(以下、狭帯域化ユニットと省略
する)27と、同じくヘッド24と出力ミラー26との
間にヘッド24から出力ミラー26に向かって配置され
たQスイッチ28及びセカンドハーモニジェネレーショ
ン素子(以下、SHG素子と省略する)29と、同じく
出力ミラー26と反射ミラー22との間に配置されたサ
ード/\−モニジェネレーション素子(以下、THGと
省略する)30と、高反射ミラー25を透過した光の波
長を反射ミラー31を介して検出する波長モニタ32と
、この波長モニタ32からの検出信号を受けて狭い帯域
化ユニット27を制御駆動するドライバ33及びヘッド
24の構成要素の1つである励起手段(図示せず)を印
加する電源34とを備えている。
次にエキシマレーザ発振系21は発振波長248.4±
0.2nIIlでレーザ発振時間30nsのエキシマレ
ーザ光を発振するもので、KrFのエキシマレーザ媒体
40の両端に注入口導入ミラー41及び出力ミラー42
が配置されている。注入口導入ミラー41は凹面鏡でそ
の中央部に注入口41aが形成され、又出力ミラー42
はエキシマレーザ媒体40側が凸面鏡に形成されている
。なお、43はエキシマレーザ媒質40を励起するため
のエキシマレーザ電源であって、エキシマレーザ媒体を
放電させ励起するものである。
0.2nIIlでレーザ発振時間30nsのエキシマレ
ーザ光を発振するもので、KrFのエキシマレーザ媒体
40の両端に注入口導入ミラー41及び出力ミラー42
が配置されている。注入口導入ミラー41は凹面鏡でそ
の中央部に注入口41aが形成され、又出力ミラー42
はエキシマレーザ媒体40側が凸面鏡に形成されている
。なお、43はエキシマレーザ媒質40を励起するため
のエキシマレーザ電源であって、エキシマレーザ媒体を
放電させ励起するものである。
又、主コントローラ44はアレキサンドライトレーザ発
振系20からレーザ光Qaが放出されてエキシマレーザ
発振系21に注入されている間にエキシマレーザ発振系
21においてエキシマレーザ光を発振させる機能を有す
るもので、励起光源電源34.Qスイッチ28及びエキ
シマレーザ電源43に動作タイミング信号をそれぞれ送
出するようになっている。なお、この主コントローラ4
4及び前記反射ミラー22.23によって注入同期制御
手段が構成されている。
振系20からレーザ光Qaが放出されてエキシマレーザ
発振系21に注入されている間にエキシマレーザ発振系
21においてエキシマレーザ光を発振させる機能を有す
るもので、励起光源電源34.Qスイッチ28及びエキ
シマレーザ電源43に動作タイミング信号をそれぞれ送
出するようになっている。なお、この主コントローラ4
4及び前記反射ミラー22.23によって注入同期制御
手段が構成されている。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
。主コントローラ44から動作タイミング信号が電源3
4に送出されると、この電源34はヘッド24を励起す
る。このとき、Qスイッチ28は閉状態にあって、ヘッ
ド24内のアレキサンドライトレーザ媒体(図示せず)
はボンピングされた状態にある。しかるに、この状態に
主コントローラ44から動作タイミング信号がQスイッ
チ28に送出されてQスイッチ28が開くと、これによ
り、ヘッド24からは発振波長745.5±50mのア
レキサンドライトレーザ光が放出可能となる。このレー
ザ光は狭帯域化ユニット27で波長745.5niにお
いて狭帯化され、かつSHG素子29で2倍高調波つま
り波長372.7nI11に一部変換されて出力ミラー
26を透過して出力される。そして、さらにこの波長3
72.7nmの光の2倍高調波光と変換されなかった7
45.5nmのレーザ光はTHG索子30を通ることに
よって3倍高調波つまり248.5nn+のアレキサン
ドライトレーザの3倍高調波光Qaに変換されてアレキ
サンドライトレーザ発振系20のレーザ光として出力さ
れる。
。主コントローラ44から動作タイミング信号が電源3
4に送出されると、この電源34はヘッド24を励起す
る。このとき、Qスイッチ28は閉状態にあって、ヘッ
ド24内のアレキサンドライトレーザ媒体(図示せず)
はボンピングされた状態にある。しかるに、この状態に
主コントローラ44から動作タイミング信号がQスイッ
チ28に送出されてQスイッチ28が開くと、これによ
り、ヘッド24からは発振波長745.5±50mのア
レキサンドライトレーザ光が放出可能となる。このレー
ザ光は狭帯域化ユニット27で波長745.5niにお
いて狭帯化され、かつSHG素子29で2倍高調波つま
り波長372.7nI11に一部変換されて出力ミラー
26を透過して出力される。そして、さらにこの波長3
72.7nmの光の2倍高調波光と変換されなかった7
45.5nmのレーザ光はTHG索子30を通ることに
よって3倍高調波つまり248.5nn+のアレキサン
ドライトレーザの3倍高調波光Qaに変換されてアレキ
サンドライトレーザ発振系20のレーザ光として出力さ
れる。
しかるに、このアレキサンドライトレーザ光Qaは各反
射ミラー22.23で反射してエキシマレーザ発振系2
1に注入口導入ミラー41を通して注入される。°とこ
ろで、前記Qスイッチ28が開状態により出力されるレ
ーザ光Qaのパルス幅は1μs (1000ns)とな
っている。従って、主コントローラ44はレーザ光Qa
が出力されてから1μs経過する以前にエキシマレーザ
電源43に対して動作タイミング信号を送出する。そこ
で、このタイミングに主コントローラ44から動作タイ
ミング信号がエキシマレーザ電源43に送出されると、
このエキシマレーザ電源43によってエキシマレーザ媒
質40が励起される。しかるに、エキシマレーザ発振系
21は注入されたアレキサンドライトレーザ光Qaによ
り注入同期されてレーザ光Qbを出力する。
射ミラー22.23で反射してエキシマレーザ発振系2
1に注入口導入ミラー41を通して注入される。°とこ
ろで、前記Qスイッチ28が開状態により出力されるレ
ーザ光Qaのパルス幅は1μs (1000ns)とな
っている。従って、主コントローラ44はレーザ光Qa
が出力されてから1μs経過する以前にエキシマレーザ
電源43に対して動作タイミング信号を送出する。そこ
で、このタイミングに主コントローラ44から動作タイ
ミング信号がエキシマレーザ電源43に送出されると、
このエキシマレーザ電源43によってエキシマレーザ媒
質40が励起される。しかるに、エキシマレーザ発振系
21は注入されたアレキサンドライトレーザ光Qaによ
り注入同期されてレーザ光Qbを出力する。
このように上記一実施例においては、レーザ発振時間が
比較的短いエキシマレーザ発振装置21に対してエキシ
マレーザ発振系21のレーザ発振時間よりも長くかつ同
一波長のアレキサンドライトレーザの3倍高調波光を同
期用レーザ発振系20から注入同期する構成としたので
、凸レーザ発振系20.21の放電タイミングを確実に
取ることができて最終的に出力されるレーザ光Qbの発
振スペクトルを安定化し、そのうえ、レーザ出力が大き
くできる。例えば、上記装置では発振スペクトル24g
、4nmで中心波長安定度±0.001nm 。
比較的短いエキシマレーザ発振装置21に対してエキシ
マレーザ発振系21のレーザ発振時間よりも長くかつ同
一波長のアレキサンドライトレーザの3倍高調波光を同
期用レーザ発振系20から注入同期する構成としたので
、凸レーザ発振系20.21の放電タイミングを確実に
取ることができて最終的に出力されるレーザ光Qbの発
振スペクトルを安定化し、そのうえ、レーザ出力が大き
くできる。例えば、上記装置では発振スペクトル24g
、4nmで中心波長安定度±0.001nm 。
スペクトル幅0.003n酊、さらに単発パルス出力エ
ネルギ250aj 、平均出力50W1発振繰返し数2
00Hzの出力レーザ光を得ることができる。又、放電
信号系におけるジッターの影響を少なくできる。
ネルギ250aj 、平均出力50W1発振繰返し数2
00Hzの出力レーザ光を得ることができる。又、放電
信号系におけるジッターの影響を少なくできる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。すなわち、
各レーザ発振系の組み合せを例えば、一方をエキシマレ
ーザとするとともに他方をTi”:Aノコ03又はTi
” : Be Aiz O−1の固体レーザ媒質を使用
してもよい。
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。すなわち、
各レーザ発振系の組み合せを例えば、一方をエキシマレ
ーザとするとともに他方をTi”:Aノコ03又はTi
” : Be Aiz O−1の固体レーザ媒質を使用
してもよい。
[発明の効果]
以上詳記したように本発明によれば、安定した発振スペ
クトルで大出力のレーザ光を出力できるレーザ出力装置
を提供できる。
クトルで大出力のレーザ光を出力できるレーザ出力装置
を提供できる。
第1図は本発明に係わるレーザ出力装置の一実施例を示
す構成図、第2図乃至第4図は従来装置の構成図である
。 20・・・同期用レーザ発振系、21・・・エキシマレ
ーザ発振系、22.23・・・反射ミラー、24・・・
アレキサンドライトレーザヘッド、25・・・高反射ミ
ラー、26・・・出力ミラー、27・・・波長可変狭帯
化発振ユニット、28・・・Qスイッチ、29・・・セ
カンドハーモニックジェネレーション素子(SHG素子
)、30・・・サードハーモニックジェネレーション素
子(THG素子)、31・・・反射ミラー、32・・・
波長モニタ、33・・・波長可変狭帯化発振ユニットド
ライバ、34・・・電源、40・・・エキシマレーザ媒
体、41・・・注入口導入ミラー、42・・・出力ミラ
ー、43・・・エキシマレーザ電源、44・・・主コン
トローラ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
す構成図、第2図乃至第4図は従来装置の構成図である
。 20・・・同期用レーザ発振系、21・・・エキシマレ
ーザ発振系、22.23・・・反射ミラー、24・・・
アレキサンドライトレーザヘッド、25・・・高反射ミ
ラー、26・・・出力ミラー、27・・・波長可変狭帯
化発振ユニット、28・・・Qスイッチ、29・・・セ
カンドハーモニックジェネレーション素子(SHG素子
)、30・・・サードハーモニックジェネレーション素
子(THG素子)、31・・・反射ミラー、32・・・
波長モニタ、33・・・波長可変狭帯化発振ユニットド
ライバ、34・・・電源、40・・・エキシマレーザ媒
体、41・・・注入口導入ミラー、42・・・出力ミラ
ー、43・・・エキシマレーザ電源、44・・・主コン
トローラ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- エキシマレーザ発振系と、このエキシマレーザ発振系の
レーザ発振時間よりもレーザ発振時間を長くすることが
可能でかつ前記エキシマレーザ発振系から放出されるレ
ーザ光と同一波長のレーザ光を放出する同期用レーザ発
振系と、この同期用レーザ発振系から放出されるレーザ
光を前記エキシマレーザ発振系に注入同期制御する注入
同期制御手段とを具備したことを特徴とするレーザ出力
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13151688A JPH01302888A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | レーザ出力装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13151688A JPH01302888A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | レーザ出力装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01302888A true JPH01302888A (ja) | 1989-12-06 |
Family
ID=15059872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13151688A Pending JPH01302888A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | レーザ出力装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01302888A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11298083A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-29 | Komatsu Ltd | 注入同期型狭帯域レーザ |
JP2007273558A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 波長変換レーザ装置 |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP13151688A patent/JPH01302888A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11298083A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-29 | Komatsu Ltd | 注入同期型狭帯域レーザ |
JP2007273558A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 波長変換レーザ装置 |
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