JPH01302738A - 自動生産指示システム - Google Patents

自動生産指示システム

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Publication number
JPH01302738A
JPH01302738A JP63131484A JP13148488A JPH01302738A JP H01302738 A JPH01302738 A JP H01302738A JP 63131484 A JP63131484 A JP 63131484A JP 13148488 A JP13148488 A JP 13148488A JP H01302738 A JPH01302738 A JP H01302738A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lots
production
post
processing
facility
Prior art date
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Pending
Application number
JP63131484A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Kira
吉良 英司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP63131484A priority Critical patent/JPH01302738A/ja
Publication of JPH01302738A publication Critical patent/JPH01302738A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は自動生産作業指示システムに係り、特に半導
体ウェーハ加工(プロセス)工程に適用されるものであ
る。
(従来の技術) この発明に係る半導体ウェーハ加工(プロセス)工程(
以下、ウェーハプロセスと略称する)は、従来の技術の
機械加工を中心とした製造工程や、プロセスを中心とし
た連続型製造工程とは全く隔絶した新規で、かつ、高度
に複雑な製造工程であるので、これと比較するのに適合
する従来の技術を引用するのは困難である。
このウェーハプロヤスは、半導体の薄い層をサンドイン
チ状に何層にも重ね、層のパターンによって回路の素子
や回路を形成する。これは第2図に示すように、−層ご
とに膜の形成101、レジスト塗布102.露光103
、現像104、エツチング105、ドープ済膜形成10
6.拡散107の玉顔を繰り返し達成されるものである
。そして、層の性質(品種)により玉顔に変化があり、
補間的な作業や検査の工程が入る。作業工程は200を
越えるが、繰返しにおける規則性は明瞭でなく、品種な
らびに工順により作業条件が異なる。加工は通常ウェー
ハ20〜50枚をまとめたロッド単位で処理を施す。
(発明が解決しようとする課題) ウェーハプロセス工程は、ジョブショップ型の生産工程
ではあるが、以下に主な問題点をあげると、 (a)工程数がきわめて多い (b)加工処理時間がバランスしていない。
(c)処理ルートが複雑である。玉顔が直線型でなく複
雑で、同一装置を何回も通る。しかも品種によって処理
順序が異なる。
上記問題点は、工程のラインバランスがきわめて悪いこ
との原因となり、工場内のロッドの分布が不均一になり
易く、特定の装置に待ちロッドが集中し易い傾向が見ら
れる。又、上記問題点を自動化する事によってラインバ
ランスを改善する試みは、複雑であるがゆえに、成功し
ている事例は少なく、まだ人手作業の域を脱していない
のが現状である。すなわち、待ちロッドの中から、(1
)どのロフトを、(2)どのマシンで、(3)どのよう
に行なうかは、作業者に委ねられている。このような生
産システム形態では、ラインバランスが、悪くなる事は
もとより、品種ごとの生産量が需要量(計画fi)と一
致しない場合が生じる欠点があった。これによりロッド
を中途から特急に仕立てたりするなど、運用上の例外処
理が頻繁に発生させざるを得ない状況にもなる。
本発明は、作業者が待ちロッドの中から、どのロッドを
作業すれば生産計画に適合し、かつラインバランスがと
れるかを自動作業指示する方法を提供することを目的と
する。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明の自動生産指示システムは、半導体ウェーハプロ
セス生産工程において、作業室単位でロッドの工程移動
を読取らせるロッド情報読取り器、前記読取り器によっ
て各ロッドが所在する工程を示す工程残ファイル、品種
毎に工程順が記されている品名マスターファイル、およ
び各工程毎に生産能力に対応した標準手持ち数ファイル
の3ファイルを備えるデータベースと、作業者に次のロ
ッドを指示する表示部と、前記全てを制御するコントロ
ーラとを具備し、工程間の情報に基づきラインバランス
をとりつつ、かつ生産計画に沿った生産システムを実行
させることを特徴とする。
(作 用) 作り過ぎを防ぐため、各工程毎に人と設備の能力に対応
した標準手持ち数を設定する。すなわち、前工程は後工
程の標準手持ち数が実工程残より少なくなった時のみ後
工程にロッ1−を移動させる仕組みをとり、工程の能力
をフル稼動させ、作り過ぎを防ぐ。待ちロッドの中から
の自動選択の方法は、空きM/Cで作業が出来る待ちロ
ッドの中から、そのぞれの後工程の中で標準手持ち数と
実工程残の差が大きいもの、すなわち、後工程からより
要求が強いロッドを選択する仕組みにする事により、ラ
インのバランスをとるようにする。このようにしてライ
ンバランスがとれる」二に生産計画に沿った生産を達成
する。
(実施例) 以下、この発明の一実施例につき第1図を参照して説明
する。作業室単位で、ロッドの工程移動を読みとるロッ
ド情報読取り器1.1は前記ロッド情報読み取り器1に
よって各ロッドが現在どの工程にあるかを示す工程残フ
ァイル、 12は品種毎に工j@が書かれている品名マ
スターファイル、13は各工程毎に生産能力に対応した
標準手持ち数ファイルで上記11.12.13で示され
るファイルを持つデータベース2、作業者に次にどのロ
ッドを流す事を指示する表示部3、前記全てをコントロ
ールするコントローラ4により構成する。作業室には作
業条件より複数の工程を処理する設備と作業者と複数の
待ちロッドが存在する。まず、ある設備(m/c)が作
業が終了し空きm/cとなったと仮定する6作業者は、
コントローラ4に対して空きm/cが存在する事を知ら
せると、コントローラ4は待ちロッドの中からm/cで
作業できるロッドをまず選択する。次に、前記選択され
たロッド毎に品名マスターファイル12によりそれぞれ
の後工程を調べ、その工程の実工程残(A)との工程残
ファイル11、その工程の標準手持ち数(B)を標準手
持ち数ファイル13により調べ、前記(B)−(A)を
、計算する。
すなわち(B)−(A)の値が大きいロッド程後工程か
らの要求度合が強いものである。(B)−(A)の値が
同じになったロッドが複数存在する時の優先度ルールは
、例えば、″先入れ先出し″等の各々の生産思想に合っ
た方法を組み込めば良い。コントローラ4は、(B)−
(A)の値の大きいロッドを作業者に対して表示部3を
使って自動指示するものである。
〔発明の効果〕
一例として200を越える工程をもち、多品種で各玉顔
が異なるウェーハプロセス製造工程で人が対応する場合
、各工程のラインバランスをとることは不可能に近い。
また、生産計画系から言えば、品種毎に計画系に沿った
流し方が望まれる。そこで、本発明は1作業待ちロッド
の中からどのロッドを選択するかを工程を連結した情報
から計算し、ラインバランス、生産計画系に沿った生産
を可能にする顕著な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかる一実施例の自動生産指示システ
ムの構成を示す図、第2図は半導体ウェーハプロセス工
程の流れの一部を説明するための図である。 1−−−−−−−−−−−一ロッド情報読取り器2−−
−−−−−−−−−−データベース3−−−−−−−−
−−−一表示部 4−−−−−−−−−−−−コントローラ11−−−−
−−−−−−−一工程残ファイル12−−−−−−−−
−−−一品名マスターファイル13−−−−−−−−−
−−一標準手持ち数ファイル代理人 弁理士 大 胡 
典 夫 l : ロッド・FlllI語にり老ト   2 コ 
“う゛−7N−スj;Aホ部         仝: 
コ〉とローラll;工1」残フフイ)し      1
2; 品名マスターフ7f+し13 : r準+as&
フフイ)し 第  1  図 第  2  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体ウェーハプロセス生産工程において、作業室単
    位でロッドの工程移動を読取らせるロッド情報読取り器
    、前記読取り器によって各ロッドが所在する工程を示す
    工程残ファイル、品種毎に工程順が記されている品名マ
    スターファイル、および各工程毎に生産能力に対応した
    標準手持ち数ファイルの3ファイルを備えるデータベー
    スと、作業者に次のロッドを指示する表示部と、前記全
    てを制御するコントローラとを具備し、工程間の情報に
    基づきラインバランスをとりつつ、かつ生産計画に沿っ
    た生産システムを実行させることを特徴とする自動生産
    指示システム。
JP63131484A 1988-05-31 1988-05-31 自動生産指示システム Pending JPH01302738A (ja)

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JP63131484A JPH01302738A (ja) 1988-05-31 1988-05-31 自動生産指示システム

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JP63131484A JPH01302738A (ja) 1988-05-31 1988-05-31 自動生産指示システム

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JPH01302738A true JPH01302738A (ja) 1989-12-06

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ID=15059061

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JP63131484A Pending JPH01302738A (ja) 1988-05-31 1988-05-31 自動生産指示システム

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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5945219A (ja) * 1982-09-06 1984-03-14 Yanmar Diesel Engine Co Ltd 農用トラクタ−のエンジン防振装置
JPS59208791A (ja) * 1983-05-12 1984-11-27 Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd 光電変換素子製造装置
JPS6084819A (ja) * 1983-10-14 1985-05-14 Mitsubishi Electric Corp 半導体製造装置
JPS61123150A (ja) * 1985-10-23 1986-06-11 Hitachi Ltd 製造装置
JPS62137874A (ja) * 1985-12-12 1987-06-20 Mitsubishi Electric Corp 光起電力素子の製造装置

Patent Citations (5)

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