JPH01301869A - ニッチング促進添加剤 - Google Patents

ニッチング促進添加剤

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JPH01301869A
JPH01301869A JP13118988A JP13118988A JPH01301869A JP H01301869 A JPH01301869 A JP H01301869A JP 13118988 A JP13118988 A JP 13118988A JP 13118988 A JP13118988 A JP 13118988A JP H01301869 A JPH01301869 A JP H01301869A
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JP
Japan
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etching
additive
acetylene alcohol
acid
salt
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JP13118988A
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JPH0377877B2 (ja
Inventor
Takeshi Kono
武司 河野
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DKS Co Ltd
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Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、塩化第二鉄又は塩化第二鋼エツヂング剤水溶
液に添加してエツチング効果を向−1、促進するエツチ
ング促進添加剤に関するものである。
(従来の技術) 従来エツチング技術は産業用型r機器の急速な発展にと
もない広い需要対応と、さらに高度な精密処理対応が要
求されている。
エツチング速度は塩化第二鉄または塩化第二銅潤度とそ
のエツチング温度に起因することは知られている。しか
し、高濃度になると、逆にエツチング速度を低ドさせる
ことも知られ、その管理に多大の労力を要し、精密度を
要求される用途への展開は限界をイーYする。一方温度
には設備的な制約があり、例えば塩化ビニル製スプレー
設備の場合40〜50℃が、その限界で実用的濃度、塩
度しベルでのエツチング速度の向上が強く突望されてい
る。処理条件に限定のある場合、[」的効果を効率的に
発揮し得る手段として界面活性剤の添加が有用である。
界面活性剤はその湿潤、浸透作用からエツチング促進お
よび精密処理に有用である。
(発明が解決しようとする課題) しかしながらエツチング促進を目的とする界面活性剤は
比較的高濃度レベルの塩化第二鉄または塩化第二銅水溶
液に安定に溶解し、エツチング促進、精密処理の発現お
よび操作」二、問題となる発泡の抑制が要求される。
はとんどの7ニオン界而活性剤、ノニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤および両性界面活性剤はエツチング
液への溶解安定性が劣り溶解安定性に優れた一部アニオ
ン界面活性剤も、3?泡等の問題を有する。
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされ
たものである。すなわち、本発明は塩化第二鉄又は塩化
第二銅水溶液に(a)アセチレンアルコール又はそのア
ルキレンオキシド付加物及び(b)アルカンスルホン酸
、アルカンスルホン酸111、アルカノールスルホン酸
又はアルカノールスルホンM Ilmから成るエツチン
グ促進添加剤を0゜05〜5屯量%添加使用すること、
さらにはアセチレンアルコール又はそのアルキレンオキ
シド付加物をエツチング促進添加剤中5〜50重量%、
アルカンスルホン ルカノールスルホン酸又はアルカノールスルホン酸塩を
エツチング促進添加剤中50〜95重量%で構成する事
を特徴とするエツチング促進添加剤を新たに提供するも
のである。
(課題を解決するための手段) 本発明に使用するアセチレンアルコールあるいはアセチ
レンアルコールアルキレンオキシド付加物は分子内にア
セチレン結合(炭素三重結合)を持つ不飽和アルコール
、プロパルギルアルコール、ブチンジオール等が挙げら
れ、アルギレンオキシト付/III fh ハアセチレ
ンアルコールにエチレンオキシド、プロピレンオキシド
、ブチレンオキシド等を付加重合せしめ得られるもので
ある。
アルカンスルホン酸はメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸,プロパンスルホン酸,ブタンスルホン酸、デカン
スルホン酸等でアルカノールスルホン酸は2−ヒドロキ
シエタン−1−スルホン酸、2−ヒドロキシプロパン−
1−スルホン酸、1−ヒドロキシプロパン−2−スルホ
ン酸、4〜ヒドロキシブタン−1−スルホン酸,2−ヒ
ドロキシデカン−1−スルホン酸等でそれ等の塩はナト
リウム、カリウム等アルカリ金属イオン又はアンモニウ
ム等である。
(作用) 本発明エツチング促進添加剤を添加することにより多く
の界面活性剤には放られない優れた溶解安定性とともに
湿潤性、浸透性の向上が計られエツチングスピードの向
上,精密処理性の向−ヒがみられ、さらには界面活性剤
に基因する発泡は実用E問題とならない。
(実施例) 1、エツチング効果(1) In化第二tN50%水溶液に第1表に示すエツチング
促進添加剤を1.0%添加し40°Cに保持、15分後
の銅板テストピースのエツチング減量を次式により表わ
す。
2、エツチング効果(2) 塩化第二鉄50%水溶液に第2表に示すエツチング促進
添加剤を2.5%添加したエツチング液を45℃に保持
、スプレー圧2.5Kg/cm2にて噴−4 2 0分
後のステンレステストピース(アクリル系レジストを塗
布後所定パターン紫外線露光したlocmXlOcm片
)のエツチング性を以下基準により評価した。
基準 0  100%均質貫通孔が得られその仕上り性はスム
ーズ。
Q+−00%均質貫通孔が得られその仕上り性はほぼス
ムーズ。
Δ 80〜95%レベルの貫通孔が得られる。
× 75%以下レベルの貫通孔が得られる。
(以下余白) (発明の効果) 以上の結果より1本発明品はエツチング液への溶解安定
性と濡れ性改善をはかり、エツチング効率の向上と精密
処理をはかることができ、且つエツチング促進添加剤、
即ち、界面活性剤に起因する発泡を実用上1問題となら
ない程度まで抑制し、実用的、極めて優れたエツチング
促進添加剤を提供することができる。
特許出願人 第一工業製薬株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)アセチレンアルコール又はアセチレンアルコ
    ールアルキレンオキシド付加物及び (b)アルカンスルホン酸、アルカンスルホン酸塩、ア
    ルカノールスルホン酸又はアルカノールスルホン酸塩を
    必須成分とするエッチング促進添加剤 2、アセチレンアルコール又は、アセチレンアルコール
    アルキレンオキシド付加物がエッチング促進添加剤中5
    重量%以上50重量%以下で、アルカンスルホン酸、ア
    ルカンスルホン酸塩、アルカノールスルホン酸又はアル
    カノールスルホン酸塩がエッチング促進添加剤中50重
    量%以上95重量%以下であることを特徴とする請求項
    1記載のエッチング促進添加剤。 3、塩化第二鉄又は塩化第二銅水溶液に請求項1記載の
    添加剤を添加使用することを特徴とするエッチング処理
    法。
JP13118988A 1988-05-27 1988-05-27 ニッチング促進添加剤 Granted JPH01301869A (ja)

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JPH0377877B2 JPH0377877B2 (ja) 1991-12-11

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009149903A (ja) * 2006-04-27 2009-07-09 Intezyne Technologies Inc 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール)
US8557711B2 (en) 2003-12-03 2013-10-15 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Etching solution composition for metal films
WO2016006373A1 (ja) * 2014-07-08 2016-01-14 メック株式会社 エッチング剤および補給液

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8557711B2 (en) 2003-12-03 2013-10-15 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Etching solution composition for metal films
JP2009149903A (ja) * 2006-04-27 2009-07-09 Intezyne Technologies Inc 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール)
JP2011058001A (ja) * 2006-04-27 2011-03-24 Intezyne Technologies Inc 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール)
WO2016006373A1 (ja) * 2014-07-08 2016-01-14 メック株式会社 エッチング剤および補給液
JP2016017209A (ja) * 2014-07-08 2016-02-01 メック株式会社 エッチング剤および補給液

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