JPH01301869A - ニッチング促進添加剤 - Google Patents
ニッチング促進添加剤Info
- Publication number
- JPH01301869A JPH01301869A JP13118988A JP13118988A JPH01301869A JP H01301869 A JPH01301869 A JP H01301869A JP 13118988 A JP13118988 A JP 13118988A JP 13118988 A JP13118988 A JP 13118988A JP H01301869 A JPH01301869 A JP H01301869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- additive
- acetylene alcohol
- acid
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- -1 acetylene alcohol Chemical compound 0.000 claims abstract description 12
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 abstract description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 238000005187 foaming Methods 0.000 abstract description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N isethionic acid Chemical compound OCCS(O)(=O)=O SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- KVGOXGQSTGQXDD-UHFFFAOYSA-N 1-decane-sulfonic-acid Chemical compound CCCCCCCCCCS(O)(=O)=O KVGOXGQSTGQXDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDKIWFRRJZZYRP-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypropane-2-sulfonic acid Chemical compound OCC(C)S(O)(=O)=O KDKIWFRRJZZYRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWLIPWXABAEXNY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxydecane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)CS(O)(=O)=O ZWLIPWXABAEXNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSXUNHYXJWDLDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(O)CS(O)(=O)=O HSXUNHYXJWDLDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEGPVWSPNYPPIK-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutane-1-sulfonic acid Chemical compound OCCCCS(O)(=O)=O YEGPVWSPNYPPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCS(O)(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetylene Natural products CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、塩化第二鉄又は塩化第二鋼エツヂング剤水溶
液に添加してエツチング効果を向−1、促進するエツチ
ング促進添加剤に関するものである。
液に添加してエツチング効果を向−1、促進するエツチ
ング促進添加剤に関するものである。
(従来の技術)
従来エツチング技術は産業用型r機器の急速な発展にと
もない広い需要対応と、さらに高度な精密処理対応が要
求されている。
もない広い需要対応と、さらに高度な精密処理対応が要
求されている。
エツチング速度は塩化第二鉄または塩化第二銅潤度とそ
のエツチング温度に起因することは知られている。しか
し、高濃度になると、逆にエツチング速度を低ドさせる
ことも知られ、その管理に多大の労力を要し、精密度を
要求される用途への展開は限界をイーYする。一方温度
には設備的な制約があり、例えば塩化ビニル製スプレー
設備の場合40〜50℃が、その限界で実用的濃度、塩
度しベルでのエツチング速度の向上が強く突望されてい
る。処理条件に限定のある場合、[」的効果を効率的に
発揮し得る手段として界面活性剤の添加が有用である。
のエツチング温度に起因することは知られている。しか
し、高濃度になると、逆にエツチング速度を低ドさせる
ことも知られ、その管理に多大の労力を要し、精密度を
要求される用途への展開は限界をイーYする。一方温度
には設備的な制約があり、例えば塩化ビニル製スプレー
設備の場合40〜50℃が、その限界で実用的濃度、塩
度しベルでのエツチング速度の向上が強く突望されてい
る。処理条件に限定のある場合、[」的効果を効率的に
発揮し得る手段として界面活性剤の添加が有用である。
界面活性剤はその湿潤、浸透作用からエツチング促進お
よび精密処理に有用である。
よび精密処理に有用である。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながらエツチング促進を目的とする界面活性剤は
比較的高濃度レベルの塩化第二鉄または塩化第二銅水溶
液に安定に溶解し、エツチング促進、精密処理の発現お
よび操作」二、問題となる発泡の抑制が要求される。
比較的高濃度レベルの塩化第二鉄または塩化第二銅水溶
液に安定に溶解し、エツチング促進、精密処理の発現お
よび操作」二、問題となる発泡の抑制が要求される。
はとんどの7ニオン界而活性剤、ノニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤および両性界面活性剤はエツチング
液への溶解安定性が劣り溶解安定性に優れた一部アニオ
ン界面活性剤も、3?泡等の問題を有する。
カチオン界面活性剤および両性界面活性剤はエツチング
液への溶解安定性が劣り溶解安定性に優れた一部アニオ
ン界面活性剤も、3?泡等の問題を有する。
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされ
たものである。すなわち、本発明は塩化第二鉄又は塩化
第二銅水溶液に(a)アセチレンアルコール又はそのア
ルキレンオキシド付加物及び(b)アルカンスルホン酸
、アルカンスルホン酸111、アルカノールスルホン酸
又はアルカノールスルホンM Ilmから成るエツチン
グ促進添加剤を0゜05〜5屯量%添加使用すること、
さらにはアセチレンアルコール又はそのアルキレンオキ
シド付加物をエツチング促進添加剤中5〜50重量%、
アルカンスルホン ルカノールスルホン酸又はアルカノールスルホン酸塩を
エツチング促進添加剤中50〜95重量%で構成する事
を特徴とするエツチング促進添加剤を新たに提供するも
のである。
たものである。すなわち、本発明は塩化第二鉄又は塩化
第二銅水溶液に(a)アセチレンアルコール又はそのア
ルキレンオキシド付加物及び(b)アルカンスルホン酸
、アルカンスルホン酸111、アルカノールスルホン酸
又はアルカノールスルホンM Ilmから成るエツチン
グ促進添加剤を0゜05〜5屯量%添加使用すること、
さらにはアセチレンアルコール又はそのアルキレンオキ
シド付加物をエツチング促進添加剤中5〜50重量%、
アルカンスルホン ルカノールスルホン酸又はアルカノールスルホン酸塩を
エツチング促進添加剤中50〜95重量%で構成する事
を特徴とするエツチング促進添加剤を新たに提供するも
のである。
(課題を解決するための手段)
本発明に使用するアセチレンアルコールあるいはアセチ
レンアルコールアルキレンオキシド付加物は分子内にア
セチレン結合(炭素三重結合)を持つ不飽和アルコール
、プロパルギルアルコール、ブチンジオール等が挙げら
れ、アルギレンオキシト付/III fh ハアセチレ
ンアルコールにエチレンオキシド、プロピレンオキシド
、ブチレンオキシド等を付加重合せしめ得られるもので
ある。
レンアルコールアルキレンオキシド付加物は分子内にア
セチレン結合(炭素三重結合)を持つ不飽和アルコール
、プロパルギルアルコール、ブチンジオール等が挙げら
れ、アルギレンオキシト付/III fh ハアセチレ
ンアルコールにエチレンオキシド、プロピレンオキシド
、ブチレンオキシド等を付加重合せしめ得られるもので
ある。
アルカンスルホン酸はメタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸,プロパンスルホン酸,ブタンスルホン酸、デカン
スルホン酸等でアルカノールスルホン酸は2−ヒドロキ
シエタン−1−スルホン酸、2−ヒドロキシプロパン−
1−スルホン酸、1−ヒドロキシプロパン−2−スルホ
ン酸、4〜ヒドロキシブタン−1−スルホン酸,2−ヒ
ドロキシデカン−1−スルホン酸等でそれ等の塩はナト
リウム、カリウム等アルカリ金属イオン又はアンモニウ
ム等である。
ン酸,プロパンスルホン酸,ブタンスルホン酸、デカン
スルホン酸等でアルカノールスルホン酸は2−ヒドロキ
シエタン−1−スルホン酸、2−ヒドロキシプロパン−
1−スルホン酸、1−ヒドロキシプロパン−2−スルホ
ン酸、4〜ヒドロキシブタン−1−スルホン酸,2−ヒ
ドロキシデカン−1−スルホン酸等でそれ等の塩はナト
リウム、カリウム等アルカリ金属イオン又はアンモニウ
ム等である。
(作用)
本発明エツチング促進添加剤を添加することにより多く
の界面活性剤には放られない優れた溶解安定性とともに
湿潤性、浸透性の向上が計られエツチングスピードの向
上,精密処理性の向−ヒがみられ、さらには界面活性剤
に基因する発泡は実用E問題とならない。
の界面活性剤には放られない優れた溶解安定性とともに
湿潤性、浸透性の向上が計られエツチングスピードの向
上,精密処理性の向−ヒがみられ、さらには界面活性剤
に基因する発泡は実用E問題とならない。
(実施例)
1、エツチング効果(1)
In化第二tN50%水溶液に第1表に示すエツチング
促進添加剤を1.0%添加し40°Cに保持、15分後
の銅板テストピースのエツチング減量を次式により表わ
す。
促進添加剤を1.0%添加し40°Cに保持、15分後
の銅板テストピースのエツチング減量を次式により表わ
す。
2、エツチング効果(2)
塩化第二鉄50%水溶液に第2表に示すエツチング促進
添加剤を2.5%添加したエツチング液を45℃に保持
、スプレー圧2.5Kg/cm2にて噴−4 2 0分
後のステンレステストピース(アクリル系レジストを塗
布後所定パターン紫外線露光したlocmXlOcm片
)のエツチング性を以下基準により評価した。
添加剤を2.5%添加したエツチング液を45℃に保持
、スプレー圧2.5Kg/cm2にて噴−4 2 0分
後のステンレステストピース(アクリル系レジストを塗
布後所定パターン紫外線露光したlocmXlOcm片
)のエツチング性を以下基準により評価した。
基準
0 100%均質貫通孔が得られその仕上り性はスム
ーズ。
ーズ。
Q+−00%均質貫通孔が得られその仕上り性はほぼス
ムーズ。
ムーズ。
Δ 80〜95%レベルの貫通孔が得られる。
× 75%以下レベルの貫通孔が得られる。
(以下余白)
(発明の効果)
以上の結果より1本発明品はエツチング液への溶解安定
性と濡れ性改善をはかり、エツチング効率の向上と精密
処理をはかることができ、且つエツチング促進添加剤、
即ち、界面活性剤に起因する発泡を実用上1問題となら
ない程度まで抑制し、実用的、極めて優れたエツチング
促進添加剤を提供することができる。
性と濡れ性改善をはかり、エツチング効率の向上と精密
処理をはかることができ、且つエツチング促進添加剤、
即ち、界面活性剤に起因する発泡を実用上1問題となら
ない程度まで抑制し、実用的、極めて優れたエツチング
促進添加剤を提供することができる。
特許出願人 第一工業製薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)アセチレンアルコール又はアセチレンアルコ
ールアルキレンオキシド付加物及び (b)アルカンスルホン酸、アルカンスルホン酸塩、ア
ルカノールスルホン酸又はアルカノールスルホン酸塩を
必須成分とするエッチング促進添加剤 2、アセチレンアルコール又は、アセチレンアルコール
アルキレンオキシド付加物がエッチング促進添加剤中5
重量%以上50重量%以下で、アルカンスルホン酸、ア
ルカンスルホン酸塩、アルカノールスルホン酸又はアル
カノールスルホン酸塩がエッチング促進添加剤中50重
量%以上95重量%以下であることを特徴とする請求項
1記載のエッチング促進添加剤。 3、塩化第二鉄又は塩化第二銅水溶液に請求項1記載の
添加剤を添加使用することを特徴とするエッチング処理
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13118988A JPH01301869A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | ニッチング促進添加剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13118988A JPH01301869A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | ニッチング促進添加剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01301869A true JPH01301869A (ja) | 1989-12-06 |
JPH0377877B2 JPH0377877B2 (ja) | 1991-12-11 |
Family
ID=15052100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13118988A Granted JPH01301869A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | ニッチング促進添加剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01301869A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009149903A (ja) * | 2006-04-27 | 2009-07-09 | Intezyne Technologies Inc | 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール) |
US8557711B2 (en) | 2003-12-03 | 2013-10-15 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Etching solution composition for metal films |
WO2016006373A1 (ja) * | 2014-07-08 | 2016-01-14 | メック株式会社 | エッチング剤および補給液 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP13118988A patent/JPH01301869A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8557711B2 (en) | 2003-12-03 | 2013-10-15 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Etching solution composition for metal films |
JP2009149903A (ja) * | 2006-04-27 | 2009-07-09 | Intezyne Technologies Inc | 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール) |
JP2011058001A (ja) * | 2006-04-27 | 2011-03-24 | Intezyne Technologies Inc | 化学的に異なる末端基を含むポリ(エチレングリコール) |
WO2016006373A1 (ja) * | 2014-07-08 | 2016-01-14 | メック株式会社 | エッチング剤および補給液 |
JP2016017209A (ja) * | 2014-07-08 | 2016-02-01 | メック株式会社 | エッチング剤および補給液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0377877B2 (ja) | 1991-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR900001290B1 (ko) | 부식액 조성물 | |
US3980587A (en) | Stripper composition | |
CN109735845B (zh) | 一种可阻止孔圈发白的微蚀液 | |
JPS61270381A (ja) | エツチング剤組成物 | |
JPS6219509B2 (ja) | ||
JPH0694596B2 (ja) | Nh4f/hf系の二酸化ケイ素エッチング液およびその製法 | |
JPH02125886A (ja) | 安定化過酸化水素組成物 | |
KR880011319A (ko) | 액체 알칼리성 농축 청정제 | |
JPH01301869A (ja) | ニッチング促進添加剤 | |
CN111206249A (zh) | 一种抗氯离子铜面微蚀剂及其制备方法 | |
US5219484A (en) | Solder and tin stripper compositions | |
JPS5892499A (ja) | スケ−ル除去剤 | |
EP1396557A1 (en) | Metal cleaning composition and process | |
JP2002256460A (ja) | アルミニウムおよびアルミニウム合金に用いるエッチングとデスマッティング用の組成物及びその方法 | |
CN113860914B (zh) | 去除白色鹅卵石锈黄斑的浸泡液及其制备方法、白色鹅卵石锈黄斑的去除方法 | |
CN109536961A (zh) | 蚀刻液及蚀刻液的制备方法 | |
US3557000A (en) | Alkali etchant composition for aluminum having extended bath life | |
US4549984A (en) | Liquid detergent composition | |
US3887405A (en) | Method and composition for cleaning copper surfaces | |
US3919100A (en) | Alkaline etchant compositions | |
JPS6379984A (ja) | エッチング組成物 | |
JPS6231070B2 (ja) | ||
US3362911A (en) | Chromic acid-sulfuric acid solutions containing chloride catalyst for dissolving metals | |
JPS63255381A (ja) | エツチング促進剤組成物 | |
JPS6156284A (ja) | 金属のエツチング用組成物 |