JPH01301359A - インクジェツト記録紙用耐光性向上剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はインクジェット記録紙用耐光性向上剤に関する
。

［従来の技術］ インクジェット記録紙に用いられる耐光性向上剤として
リンタングステン酸、リンモリブデン酸などの金属酸化
物、塩化第ニクロムなどの金属塩化物およびタンニン酸
のうち少なくとも一つ（例えば特開昭５７−８７９８７
号公報）並びに２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾ
フェノン、フェニルサリチル酸などの紫外線吸収剤（例
えば特開昭５７−８７９８８号公報）がある。

［発明が解決しようとする問題点コ しかし上述の耐光性向上剤は記録用紙を黄変させたり、
印字したインクの色相を変化させたり、インクの邑によ
っては、耐光性向上効果に乏ひい。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らは、記録用紙を黄変色させず、印字したイン
クの色相を変化させず、またどのインクの邑にも耐光性
を向上させる耐光性向上剤について鋭意検討した結果本
発明に到達した。

すなわち本発明は有機スルホン酸塩および／または有機
硫酸エステル塩の少なくとも一種を含有することを特徴
とするインクジェット記録紙用耐光性向上剤並びにこれ
らの少なくとも一種とモノカルボン＃Ｃｕ塩および／ま
たはモノカルボン酸Ｎｉ塩を組み合イつぜてなることを
特徴とするインクジェット記録紙用耐光性向上剤である
。

本発明における有機スルホン酸塩および／または有機硫
酸エステル塩としては、芳香族スルホン酸塩並びに、脂
肪族スルホン酸塩および脂肪族硫酸エステル塩が挙げら
れる。

芳香族スルホン酸塩としては一般式 ％式％（１） ［式中、Ａｒはベンゼン核またはナフタリン核、Ｘは水
素、炭素数８以下の炭化水素基、ハロゲン原子、二１・
ａ基、ニトロソ基、Ｎ　Ｉ−Ｉ　Ｒ＋基（Ｙ（１は水素
、ヒドロキシル基、アミノ基または炭素数８以下の炭化
水素基）　、Ｎ　（Ｒ２）２基（Ｒ２は炭素数８以下の
炭化水素基）、ＯＲ３基、ＳＹ＜３基（ｆ＜３は水素ま
たは炭素数８以下の炭化水素基ＬＣＩＩＯ基またはＣＯ
Ｉ＜ａ基（Ｒ４はヒドロキシル基または炭素数８以下の
炭化水素基）、Ｙは５０３、ＣＩＩ３　Ｓ　０３または
Ｃ２１−Ｉ５　Ｓ　Ｏａ、ＭはＩ族、■族、ＩＶ族、■
１族または■族の金属、アンモニウムまたはアミンカチ
オン、ｋ　、ＩＩＩは１〜３の整数、ｐは１〜４の整数
である。］で示される化合物が挙げられる。

一般式（１）において、Ｘ、　Ｒ＋、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４
の炭素数８以下の炭化水素基としては鎖式炭化水素基（
炭素数８以下の直鎖または分岐を有するアルキル基また
はアルケニル基たとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等のアルキル
基、プロペニル、イソプロペニル、２−ブテニル、１，
３−ブタジェニル基などのアルケニル基など）および環
式炭化水素基（フェニル、０−トリル、２，３−キシリ
ル、ベンジル、フェネチル、スチリル基など）が挙げら
れる。

ハロゲン原子としてはＣＩ、Ｂｒ、　Ｆ、１が挙げられ
る。

ＭとしてはＩ族（Ｎａ、　Ｋ、Ｃｕなど）、■族（Ｍｇ
、Ｃａ、Ｚｌｌなど）　、ｉｖ族（Ｔｉ　、Ｚｒ、Ｓｎ
など）　、Ｖｌ族（Ｃｒ、Ｍｕ、Ｗなど）　、■ｎ族（
Ｆｅ、　Ｃｏ、Ｎｉなど）の金属があげられる。アミン
カチオンを形成するアミンとしてはメチルアミン、エチ
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
等が挙げられる。Ｍのうち好ましくは金属であり、特に
好ましくはＮａ。

Ｃａｔ　ｒｌｇ、　Ｋ、Ｃｕ５Ｚｎｔ’１ｒｔＣｒ、Ｆ
ｅｔｃｏおよびＮｉである。

芳香族スルホン酸塩としては、下記が挙げられる。但し
塩はＮａ、に、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、ＣｏまたはＮｉ塩を
示す。

（１）ベンゼンスルホン酸塩： ベンゼンスルホン酸塩、ベンゼン−１，３−ジスルホン
酸塩等。

（２）アルギル基またはアルケニル基の置換基を有する
ベンゼンスルホン酸塩： ＋＞−トルエンスルホン酸塩、２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸塩、１１１−キシレンスルホン酸塩、エチ
ルベンゼンスルホン酸」１、ジエチルベンゼンスルホン
酸塩、トリエチルベンゼンスルホン酸塩、スチレンスル
ホン酸塩、イソプロペニルベンゼンスルホン酸塩、イソ
プロピルベンゼンスルホンＭ１７ｊ、１．２，３１−ジ
メチルベンゼンスルホン酸塩等。

（３）ヒドロキシル基またはメルカプト基の置換基を有
するベンゼンスルホン酸塩： フェノール−２−スルホン酸塩、アニソール−〇−スル
ホン酸塩、フエネト−ルー０−スルホン酸塩、アニソー
ル−１■−スルホン酸塩、フェノール−２，４−ジスル
ホン酸塩、フェノール−２，４，Ｇｌ−ジスルホン酸塩
、２−オキシトルエン−４−スルホン酸塩、３−オキシ
トルエン−６−スルホン酸塩、４−オギシトルエンー３
−スルホン酸塩、ピロカテキン−４−スルホン酸塩、１
，２−ジオキシベンゼン−３，５−ジスルホン酸塩、レ
ゾルシン−４−スルホン酸塩、レゾルシン−４，Ｇ−ジ
スルホン酸塩、ヒドロキノンスルホン酸塩、１，２．３
１−リオキシベンゼンスルホン酸塩、チオフェノール−
４−スルホン酸塩、チオアニソール−４−スルホン酸塩
、チオフェネトールー４−スルホン酸塩等。

（４）二１・ａ基またはニトロソ基の置換基を有するベ
ンゼンスルホン酸塩： Ｏ−二トロベンゼンスルホン酸塩、１１１−二トロベン
ゼンスルホン酸塩、１〕−二トロベンゼンスルホン酸塩
、ニトロベンゼン−２，４−ジスルホン酸塩、訃二１・
１１１トルエン−３−スルホン酸塩、２−二１・ロトル
エンー５−スルホン酸塩、３−二トロトルエンー５−ス
ルホン酸塩；３−二１・ロー０−キシレン−４−スルホ
ン酸塩、５−二Ｉ・ロー■１−キシレンー４−スルｉＪ
（ン酸塩、３−二１・ローｐ−キシレン−２−スルホン
酸塩、６−二トローｐ−キシレン−２−スルホン酸塩、
ニトロメシチレンスルホン酸塩、２．４−ジニトロベン
ゼンスルホン酸塩、２，４．Ｇ−１−リニトロベンゼン
スルホン酸塩、１，３−ジニトロベンゼン−２，５−ジ
スルホン酸塩、３−二トロベンゼンスル小ン酸塩、３−
二トロソベンセンスルホン酸塩等。

（５）アミカ基の置換基を有するベンゼンスルホン酸塩
： オリタニル酸、メチルアニリン−２−スルホン酸塩、ジ
メチルアニリン−２−スルホン酸塩、メタニル酸塩、ア
ニリン−２，４−ジスルホン酸塩、２−アミノトルエン
・３，５−ジスルホン酸塩、３−アミノトルエン−４−
スル；ｊζン酸塩、４−アミノトルエン−２，６−ジス
ルホン酸塩、１１１−フェニレンジアミン−４−スルホ
ン酸塩、１１１−フェニレンジアミン−４，６−スルホ
ン酸塩、２，６−ジアミツトルエンー４−スルホン酸塩
等。

（６）オキシアミノ基またはヒドラジノ基の置換基を有
するベンゼンスルホン酸塩： フェニルヒドロキシルアミン−３−スルホン酸塩、４−
オキシアミノＩ・ルエンー２−スルホン酸塩、フェニル
ヒドラジン−３−スルホン酸塩、フェニルヒドラジン−
４−スルホン酸塩等。

（７）ハロゲン基の置換基を有するベンゼンスルホン酸
塩： ＩＪ−フルオロベンゼンスルホン酸塩、０−クロルベン
ゼンスルホン酸塩、１１１−クロルベンゼンスルホン酸
塩、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸塩、２，４−ジクロ
ルベンゼンスルホン酸塩、０−ブロムベンゼンスルホン
酸塩、１１１−ブロムベンゼンスルホン酸塩、ｐ−ブロ
ムベンゼンスルホン酸塩、２，５−ブロムベンゼンスル
ホン酸塩、０−ヨードベンゼンスルホン酸塩、６−クロ
ルトルエン−３−スルホン酸塩、４−クロルＩ・ルエン
ー２−スルホン酸塩等。

（８）アルデヒド基の置換基を有するベンゼンスルホン
酸塩： ベンズアルデヒドスルホン酸塩、ベンズアルデヒド−２
，４−ジスルホン酸塩等。

（９）ケトン基の置換基を有するベンゼンスルホン酸塩
： アセトフェノン−（）−スルホン酸塩、アセトフェノン
−２、４−ジスルホン酸塩、ヘンシフエノン−３，３−
ジスルホン酸塩等。

（１０）カルボキシル基の置換基を有するベンセンス１
１月犬ン酸Ｊ怠： ０−スルホ安息香酸塩、■１−スノ聞−安息香酸塩、ｐ
−スルボ安息香酸塩、２，４−ジスルホ安息香酸塩等。

（１１）二種以上の異なった置換基を有するベンゼンス
ルホン酸塩： ２−二トロフェノール−４−スルホン酸塩、２−アミノ
−〔１−二ｌ−ロフェノールー４−スルホン酸塩、５−
スルホサリチル酸塩、２−二トロアニリン−４−スルホ
ン酸塩、４−二トロジフェニルアミン−２−スルホン酸
塩、２−二トロー４−スルホ安息香酸塩、２−クロルア
ニリン−４−スルホン酸塩、２，６−ジプロムアニリン
ー４−スルホン酸塩等。

（１２）アルカンスルホン酸基の置換基を有するアルキ
ルベンゼン： フェニルメタンスルホン酸塩、ｐ−フェニルエタンスル
ホン酸塩等。

（１３）ナフタリンスルホン酸塩： α−ナフタリンスルホン酸塩、β−ナフタリンスルホン
酸塩、ｌ、６−ナフタリンジスルホン酸塩、１゜３、（
ｉ−１−リナフタリンスルポン酸塩等。

（１４）炭素数８以下の炭化水素基の置換基を有するナ
フタリンスルホン酸塩： アルキル基またはアルケニル基を有するナフタリンスル
ホンＫＪ＝たとえば１−メチルナフタリン−４−スルホ
ン酸塩、ｌ−エチルナフタリン−６−スルホン酸塩、２
−イソプロペニル−６−スルホン酸塩等。

（１５）ヒドロキシル基の置換基を有するナフタリンス
ルホン酸塩： ｌ−ナフトール−４−スルホン酸塩、２−ナフト−ル−
６−スルホン酸塩、２−ナフト−ル−８−スルホン酸塩
、訃ナフト−ルー３，６−ジスルホン酸塩、２−ナフト
−ル−６，８−スルホン酸塩等。

（１６）アミノ基の置換基を有するナフタリンスルホン
酸塩： ナフチオン酸塩、２−アミノナフタリン−１−スルホン
酸塩等。

（１７）二１・口基の置換基を有するナフタリンスルホ
ン酸塩： ■−二トロナフタリンー２−スルホン酸塩、■−二トロ
ナフタリンー３−スルホン酸塩、ｌ−二トロナフタリン
−７１−スルホン酸塩、６−メチル−１−二１・１コナ
フタリンスルホン酸塩、１．３−ジニＩ・ロチフタリン
−５−スルホン酸塩等、ｌ−二トロナフタリン−３，６
−ジスルホン酸塩、！、５−ジニトロナフタリンー３，
７−ジスルホン酸塩等。

（１８）ハロゲン基の置換基を有するナフタリンスルホ
ン酸塩： ４−クロルナフタリンスルホン酸塩、■−クロル−２−
ナフタリンスルホン酸塩、６−クロルナフタリンスルホ
ン酸塩、４−ブロムナフタリン−１−スルホン酸塩、５
−ブロムナフタリン−２−スルホン酸塩、１，２−ジク
ロルナフタリン−８−スルホン酸塩等。

（１９）アルカンスルホン酸の置換基を有するす゛フタ
リンスルホン酸塩： ナフチルメタンスルホン酸塩、β−ナフチルエタンスル
ホン酸塩等。

（２０）二種以上の異なった置換Ｊｌ！：を有するナフ
タリンスルホン酸塩： Ｉ−クロル−５−二トロナフタリン−２−スルホン酸塩
、ｌ−二トロー２−クロルナフタリン−５−スルホン酸
塩、■−クロルー２−二トロナフタリン−５−スルホン
酸塩、ｌ−クロル−２−ナフト−ル−６−スルホン酸塩
、■−ニトロー８−クロルナフタリン−２−スルポン酸
塩、２−アミノ−８−ナフト−ル−６−スルホン酸塩、
２−アミノ−５−ナフト−ル−７−スルホン酸塩、ｌ−
アミノ−Σ卜す゛フト−ルー３，６−ジスルホン酸塩、
１−アミノ−８−ナフ！・−ルー４−スルホン酸塩等。

これらのうちで好ましいものは、ベンゼンスルホン酸Ｊ
Ｖｒｒ　　（Ｎａ、に、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｆ’ｅ、Ｃｏ、Ｎ
＋、（、ｕまたはＺｎ塩）、１」−トルエンスルホン酸
Ｎｉ塩、フェノールスルホン［Ｃｕ塩、クロルベンゼン
スルホン酸ＣＯ塩、ヒドロキノンスルホン酸に塩、アミ
ノフェノールスルホン酸Ｚｒ塩および２−アミノ−５−
ナフト−ル−７−スルホン酸Ｚｎ塩である。

脂肪族スルホン酸塩および脂肪族硫酸エステルとしては
、一般式 ％式％（２） （式中、Ｒ′は炭素数１２以下の炭化水素基、Ｚは一５
Ｏ３または−０８０３、Ｍ′はＩ族、１■族、ＩＶ族、
Ｖｌ族または■族の金属、アンモニウムまたはアミンカ
チオンである。Ｆｔｔ’ｑは１〜３の整数である。）で
示される化合物が挙げられる。

一般式（２）において、１又′の炭素数１２以下な炭化
水素基としては炭素数１−１２の直鎖または分岐を有す
るアルギル基またはアルケニル基たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘギシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、
イソプロピル、イソブチル、イソオクチル基等のアルキ
ル基、プロペニル、イソプロペニル、ドデセニル基等の
アルケニル基など）か挙げられる。

Ｍ′は一般式（１）のＭと同様である。

脂肪族硫酸エステル塩および脂肪族スルホン酸塩の具体
的な化合物を以下に挙げる。ただし、塩はＮａ、Ｃａ、
　Ｍｇ、　Ｚｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、ＣｏまたはＮｉの塩を示
す。

（１）アルコール硫酸エステル塩： メチルアルコール硫酸エステル塩、エチルアルコール硫
酸エステル塩、プロピルアルコール硫酸エステル塩、ブ
チルアルコール硫酸エステル塩、オクチルアルコール硫
酸エステル塩、５ｅＣ−ブチルアルコール硫酸エステル
塩、アリルアルコール硫酸エステル塩等。

（２）アルギルスルホン酸塩および他のスルホン酸塩ニ ブチルスルホン酸塩、オクチルスルホン酸塩、デシルス
ルホン酸塩等。

その他一般式（２）で示される分子内にエステル基、ア
ミド基を有するスルホン酸塩たとえばブチルオキシエタ
ンスルホン酸塩、ラウリン酸−Ｎ−メチルタウリン塩、
スルホコハク酸ジカプリルエステル塩等も使用できる。

これらのうちで好ましい化合物はブチルアルコール硫酸
エステル塩（Ｎａ、ＩＣ、Ｚｒ　、Ｃｒ　ｔ　Ｉ；’ｅ
　ｔ　ＣＯｔ　Ｎ　ｊ　、ＣｕまたはＺｎ塩）およびオ
クチルスルホン酸塩（Ｎａ、に、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、ＣｕまたはＺｎ塩）である。

芳香族スルホン酸塩は次のような方法で製造できる。た
とえば、ナフタリンスルホン酸のに塩またはＮｉ塩を製
造する場合、ＫＯＩ＋水溶液またはＮ　ｉ　（０１１）
２水溶液にナフタリンスルホン酸を徐々に冷却しながら
（中和塔ｊＱ５０”ｃ以内にする）滴下し中和し製造す
る。

脂肪族硫酸エステル塩は次のような方法で製造できる。

たとえば、ブチルアルコール硫酸エステルＮａ塩または
Ｚｎ塩を製造する場合、Ｎａ０１１水溶液またはＺｌｌ
（ＯＩ＋）２の水分散液にブチルアルコール硫酸エステ
ルを徐々に冷却しながら（中和塔を５０°Ｃ以内にする
）滴下し中和し製造する。

また脂肪族スルホン酸塩は次のような方法で製造できる
。たとえばブチルスルホン酸Ｎｉ塩またはＺＩＩ塩ＩＱ
ｒｔＡ造−Ｊ−ル場合、Ｎ　ｉ　（（Ｊｌｌ　）２　水
溶液＊：　タハＺ１１（０１１）２の水分散液にブチル
スルホン酸を除々に冷却しながら（中和塔を５０°Ｃ以
内にする）滴下し中和し製造する。

本発明におけるモノカルボン酸としては、芳香族モノカ
ルボン酸および脂肪族モノカルボン酸が挙げられる。

芳香族モノカルボン酸としては、一般式［式中Ｘは水素
、炭素数８以下の炭化水素基、ハロゲン原子（ＣＩ　、
１３ｒ、Ｆ、　ｌ）　、ニトロソ基、二１・口基、ヒド
ロキシル基、アミノ基、ケト基、またはアルデヒド基、
ｐは１〜３の整数である。］で示される化合物が挙げら
れる。

一般式（３）においてＸの炭素数８以下の炭化水素とし
では炭素数１−８の直鎖または分岐を有するアルキル基
またはアルケニル基たとえばメチル、エチル、プロピル
、ブチル基等のアルキル基、プロペニル、イソプロペニ
ル、２−ブテニル、１，３−ブタジェニル基等のアルケ
ニル基等が挙げられる。

芳香族モノカルボン酸としては、安息香酸；トルイル酸
、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、トリメチル安息
香酸、クミン安息香酸等のアルキル安息香酸；１１１−
フルオル安息香酸、０−クロル安息香酸、２，４−ジク
ロル安息香酸、０−ブロム安息香酸等のハロゲンカルボ
ン酸；０−二Ｉ・ロソ安息香酸、ｌ１１−二Ｉ・ロソ安
息香酸等のニトロソおよびニトロカルボン酸；（）−ア
ミノ安息香酸、ＩＩ＋−アミノ安息香酸等のアミノカル
ボン酸；サリチル酸、没食子酸等のオギシカルボン酸；
１１１−アセチル安息香酸等のケトカル；Ｊ′Ｘン酸；
１１１−ポルミル安息香酸等のアルデヒドカルボン酸が
挙げられる。

低級脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜８の直
鎖または分岐を有するアルギル基またはアルケニル基た
とえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソプロピル、イソブ
チル、イソオクチル基等のアルギル基、プロペニル、イ
ソプロペニル基等のアルケニル基、ハロゲン原子（ＣＩ
　、［３＋・、Ｆ’、ｌ）、ヒドロキシル基、アルデヒ
ド基等を有する脂肪族モノカルボン酸が挙げられる。

具体的に脂肪族モノカルボン酸どしては、ギ酸、酢酸、
プロピオン酸、醋酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸
、カプリル酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロＩ・ン
酸、イソクロトン酸、プロピオン酸等の飽和または不飽
和脂肪酸；モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、ブロム酢酸
、フルオル酢酸、α−クロルプロピオン酸、α−クロル
アクリル酸等のハロゲンカルボン酸；グリコール酸、乳
酸、α−オキシ−１１−酪酸、α゛−オキシイソ酪酸等
のオキシカルボン酸；グリオキシル酸、ホルミル酢酸等
のアルデヒドカルボン酸等が挙げられる。

これらのうちで好ましい化合物は安息香酸、サリチル酸
、没食子酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸である。

モノカルボン酸のＣｕ塩またはＮｉ塩の例としてはギ酸
Ｃｕ塩、酢酸Ｃｕ塩等が挙げられる。

モノカルボン酸Ｃｕ塩またはＮｉ塩は酸と金属酸化物、
金属水酸化物などを直接加熱反応さぜる融解性、水また
はアルコールを溶媒とし、アルカリセッケンと金属塩と
の複分解沈澱法で製造することができる。たとえば酢酸
Ｃｕ塩を製造する場合、希酢酸にＣｕ（Ｏｌｌ）２を溶
かした溶）戊を濃縮すれば、ＣＬＩ（ＣＩＩ３ＣＯＯ）
２　・１１２０ができる。一方酢酸Ｎｉ塩はＮ　ｉ　（
０１１）２水溶液に酢酸を溶解させ、濃縮すればＮ　１
（Ｃ１１３Ｃ（ＪＵ）２−４１１２０ができる。

有機スルホン酸塩や有機硫酸エステル塩（Ａ）はインク
ジェット記録紙用耐光性向上剤としてずぐれた効果を示
すが、これらに低級モノカルボン酸Ｃｕ塩またはＮｉ塩
（［３）を組み合わぜるとさらに効果は増大する。

有機スルホン酸塩や有機硫酸エステル塩（Ａ）と低級モ
ノカルボン酸塩（Ｂ）との重量比は通常ｉｏｏ　：　ｏ
〜２０　：　８０．好ましくは、９０：１０〜３０　：
　７０である。（Ｂ）が８０を越えると耐光性向上効果
が低下する。

本発明の薬剤が用いられるインクシェツト記録紙の基月
としては紙が代表的であるがイ１ｊ、樹脂、フィルム、
合成紙なども使用できる。

本発明の薬剤を含むインクジェット記録紙の製造法とし
ては（１）基材中に本発明の向上剤を含有させる方法た
とえば■本発明の向上剤を含む含浸液に基材を浸漬する
方法（後処理法）および■抄紙工程において本発明にお
ける向上剤の水溶）αまたは分散液を使用して製紙する
方法（内填法）ならびに（２）基材上の塗工層中に本発
明における向上剤を含有させる方法たとえば向上剤を含
有さぜた基材中に塗布し、乾燥させる方法があげられる
。

（１）の含浸液または水溶液中の向上剤の濃度は液の呈
する粘度および共重合体の溶解度により種々変えること
ができるが通常０．０５〜７重量２６、好ましくは０．
１〜５１％である。この場合、液比は通常ｌ：５〜２０
０、好ましくは１：１０〜ｉｏｏである。絞り率は通常
３０〜１５０％、好ましくは５０〜１００％である。

（２）の塗工液には一般に無機質顔ｉ隘１類（微粉ケイ
酸、クレー、タルク、ケイソウ土、炭酸カルシウム、硫
酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、チタン白、
ケイ酸アルミニウム、リトポンなど）、水溶性高分子（
酸化デンプン、カチオンデンプン、ゼラチン、カゼイン
、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセル
ロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルアミド、ポリエチレンオギサイド、ポリビニ
ルピロリドンなど）、合成樹脂ラテックス（スチレン・
ブタジェン共重合体ラテックス、メタクリル酸メチル・
ブタジェン共重合体ラテックス、エチレン・酢酸ビニル
共重合体ラテックスなど）、耐水化剤［尿素・ホルムア
ルデヒド樹脂、シアナミド・ホルムアルデヒド樹脂、ジ
シアンジアミド・ホルムアルデヒド樹脂、ジエチレント
リアミン・ジシアンジアミド・塩化アンモン縮合物、（
ジ）アルキルアミノアルキル（メタ）アクリレ−Ｉ・・
酸塩の重合物、（メタ）アクリロイルオキシアルキルト
リアルキルアンモニウムクロライドの重合物、（ジ）ア
ルキルアミノヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミ
ド・酸塩の重合物、（メタ）アクリルアミドアルギルト
リアルキルアンモニウムの重合物、（ジ）エチルアミノ
エチルビニルエーテル・ＨＩＷの重合物、ビニルオキシ
エチルジメチルメＩ・キシメチルアンモニウムクロライ
ドの重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド
の重合物、ビニルピリジン・酸塩の重合物、ビニルピロ
リドン重合物、ビニルイミダシリン・酸塩重合物、ビニ
ルピリジニウムブロマイド重合物、ビニルペンジルイミ
ダソ刀ニウムクロライド重合物、エチレンイミン重合物
、エチレンイミン・酸塩重合物、エチレン−イミン四級
アンモニウム塩の重合物、エピクロルヒドリン・ジメチ
ルアミン重合物、ポリエチレン−イミン・エピクロルヒ
ドリン反応物、ビニルベンジルトリメチルアンモニウム
重合物、スチレン・ビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウム共重合物、ステアリルトリメチルアンモニウムクロ
ライド等］、有機溶剤可溶性樹脂（ポリビニルブチラー
ルフェニルグアナミン樹脂など）、蛍光染料、ＩＪＩ（
調整剤、消泡剤、潤滑剤、防腐剤、界面活性剤などを含
有していてもよい。

塗工液の処方の−１５１を示せば向上剤は通常０．０１
〜５重員シロ、好ましくは０．０５〜３％、耐水化剤は
通常０．０１〜５％、水溶性高分子は通常１〜１５％、
無機分含有量は通常３〜１５％、水が残りである。

塗工量（乾燥塗工量）は通常１〜５０ｇ／１１１′、好
ましくは２〜４０ｇ／　ｍ’　でアル。

塗工液の適用方法としては公知の手法（ロールコータ−
法、ブレードコーター法、エアナイフコーター法など）
がある。

本発明において印写されるインクには通常、水溶性直接
染料伺、水溶性酸性染料および水溶性高分子１′二［が
用いられる。水溶性直接染料としてはＣ０１゜ダイレク
トブラック（２，４，１７，１９，２２，３２，３Ｂ、
５１．５Ｇ。

０２．７１，７４，７５，７７、１０５．１０８．１１
２．１５４等）、Ｃ０１，ダイレクトイエロー（８，１
１、１２，２４，２（３，２７，３３，３９，４４，５
０゜５８．８５，８Ｇ、８８．！Ｊ８．１００．１１０
．１４４等）　、Ｃ，１，ダイレクトレッド（１，２，
４，９，１１，１３，１７，２０，２３，２４，２８，
３１，３３，３７，３９，４４，０２，８１，８３，！
Ｊり、２２７，２４３等）　、Ｃ，１，ダイレフＩ・ブ
ルー（１，２，８，２２，２５，７Ｇ、７８，８６．８
？、　１０８，１２０，１９３．１９５，１！Ｊ９，２
００，２０１．２０７，２３Ｇ等）等が、また水溶性酸
性染料１６としてはＣ，１，アシッドブラック（１，２
，７，２４，３１，９４等）、Ｃ０１，アシッドイエロ
ー（７，１７，２３，２９，４２，９９等）、Ｃ０１，
アシッドレッド（１Ｂ、３５，５２，８７，９２．９４
，１４３，２５４等）、Ｃ０１，アシッドブルー（１，
７，！、１，４０２３４．２３０．２４９等）が、水溶
性反応染料としてはＣ０１゜リアクディブイエロー（３
７，５７など）、Ｃ０１，リアクティブレッド（２１、
１７０など）、Ｃ０１，リアクティブルー（２７，７７
など）が挙げられる。

インクの処方の一例としては染お１１〜８２６、グリコ
ールまたはポリエチレング刀コール５〜７０％、水残り
がある。

インクジェットプリンターは通常の方法たとえば「新・
情報産業用紙」（昭和５９年７月１０［１、紙業タイム
ス佳発行）に記載のドロップ・オン・デマンド方式、連
続方式などが使用できる。

「実施例コ 以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。実施例中の部は重重
部を示す。また、実施例中の試験法を下記に示す。

（試験法） （１）変退色 インクを塗布した被記録紙のり、ａ、Ｌ＋値を多光源分
光測色計ＭＳＣ−２型「スガ試験機（１町にて測色し、
ブランクとの色差（△Ｅ）を求めた。

（２）耐光性 インクを塗イＩｉＬ／た被記録紙をフェード・オ・メー
ターにて６３°Ｃ１６０時間照則し照射部を同測色計で
測定し級数゛Ｃ表示した。

（３）耐水性 インクを塗布した被記録紙を流水に５分間浸漬し、とり
だし乾燥後の試紙の色濃度（Ｃ゛）を同測色計な用いて
測定しこの値が元の色濃度に比べいくら低下しているか
を求めた。

（４）にじみ度 被記録紙に印字されたドツトの直径を顕微鏡（ＯＲＹＭ
ＰＵＳ　　８＋１−２）にて測定しインクドロップレッ
トの何倍になったか°Ｃ表示した。

実施例１〜１４、比較例１〜４ 本発明の薬剤および比較品を示す。

実施例１：ベンゼンスルホンＭＮａ塩 実施例２：ベンゼンスルホン酸Ｚｒ塩 実施例３：ベンゼンスルホン酸Ｃａ塩 実施例４：ベンゼンスルホン酸Ｎｉ塩 実施例５：ベンゼンスルホン酸Ｃｕ塩 実施例６：ベンゼンスルホン＃Ｚｎ塩 実施例７：α−ナフタリンスルホン酸塩実施例８：ハイ
ドロキノンスルホン酸塩実施例９：２−アミノ−５−ナ
フト−ル−７−スルホン酸塩 実施例１０ニブチルアルコ一ル硫酸エステルＣｕ塩実施
例１１：ベンゼンスルホン酸Ｎａ塩ギ酸Ｃｕ塩　　　　
　　　（５：５） 実施例１２：ベンゼンスルホン酸Ｎａ塩酢酸Ｎｉ塩　　
　　　　（７：３） 実施例１３：ベンゼンジスルホンＷＵＮａＪｑギ酸Ｃｕ
塩　　　　　　　（３ニア） 実施例１４：ベンゼンジスルホンｌＮａ塩酢酸Ｎｉ塩　
　　　　　（５：５） （）は全°Ｃ前者と後者の重量比 比較例１ニリンタングステン酸 比較例２ニリンモリブデン酸 比較例３：２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェ
ノン 比較例４：ｐ−ｔ−サリチル酸ブチルフェニル本発明の
向上剤（実施例１〜１４）および比較品（比較例１〜４
）を用い、下記の塗工液を作成し、これをサイズ度０秒
の一般紙（坪ｆｆ１７０ｇ／ｌｎ’）にエアーナイフコ
ーターにより塗工（乾燥塗工ｍ　　１５ｇ／ｍ２）し、
乾燥後カレンダーに通しインクジェット記録紙を得た。

このインクジェット記録紙に対して４色のインク（注１
）を用いてカラーインフジエラＩ・記録を行い、記録特
性の評価を行った。結果を表−１〜表−４に示す。

（塗工液） 向上剤（本発明品）　　　　　１．５（重量％）耐水化
剤（注２）　　　　　　２．０ ポリビニルアルコール　　５．０ Ｓ　ｉ　０２　（注３）　　　　　　１５．０バ　　　
　　　　　　　　　Ｉ″′ ′ン計　　　　　　　　　　１００．０（注１）インク イエローインク Ｃ０１，リアクティブイエロー３７２（重量部）ジエチ
レングリコール　　　　３０ 水　　　　　　　　　　　　　　６８ レツドインク Ｃ６１，アシッドレッド３５２ ジエチレングリコール　　　　３０ 水　　　　　　　　　　　　　　Ｇ８ ブルーインク Ｃ０１，アシッドブルー１２ ジエチレングリコール　　　　３０ 水　　　　　　　　　　　　　　〔５８ブラック−イン
ク Ｃ０１，ダイレクトブラック１９　　２シエチレング刀
コール　　　　３０ 水　　　　　　　　　　　　　　　６８（注２）スチレ
ン・ビニルベンジルトリメチルアンモニウム共重合物（
分子量　約１万） （注３）ニップシール曲−２［日本シリカニ業（１１製
］（１）イエローインク 表−１ 百つ・ （２）レッドインク 表−２ （３）ブルーインク 表−３ （４）ブラックインク 表−４ 表−１および表−２に示されるように本発明の向上剤は
Ｃ９１，リアクティブイエロー３７およびＣ０１゜アシ
ッドレッド３５の−ｒシンク対して、従来品（比較例１
〜４の薬剤）にくらべて耐光性が極めて良好である。

表−３および表−４に示されるように本発明の薬剤はＣ
０１，アシッドブルーｌおよびＣ０１，ダイレクトブラ
ック１９のインクに対しても従来品（比較例１〜４）に
比べて耐光性が極めて良好である。

［発明の効果］

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、有機スルホン酸塩および／または有機硫酸エステル
   塩（Ａ）の少なくとも一種を含有することを特徴とする
   インクジェット記録紙用耐光性向上剤２、有機スルホン
   酸塩が芳香族スルホン酸塩である特許請求項１記載の向
   上剤。 ３、有機スルホン酸塩および／または有機硫酸エステル
   塩（Ａ）の少なくとも一種とモノカルボン酸Ｃｕ塩およ
   び／またはモノカルボン酸Ｎｉ塩（Ｂ）を組み合わせて
   なることを特徴とするインクジェット記録紙用耐光性向
   上剤。 ４、有機スルホン酸塩が芳香族スルホン酸塩である請求
   項３記載の向上剤。