JPH01295753A - フレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法 - Google Patents
フレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法Info
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- JPH01295753A JPH01295753A JP12469588A JP12469588A JPH01295753A JP H01295753 A JPH01295753 A JP H01295753A JP 12469588 A JP12469588 A JP 12469588A JP 12469588 A JP12469588 A JP 12469588A JP H01295753 A JPH01295753 A JP H01295753A
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- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[分野の概要]
本発明は、フレキシブル磁気ディスクの磁気記録媒体を
塗布した面の表面研磨方法に関する。
塗布した面の表面研磨方法に関する。
通常、非磁性支持体上に磁性粉と結合剤等からなる磁性
層を設けることによって形成される可どう性磁気ディス
クにおいては、その表面性をより一層向上させるべく磁
性層形成後に円周方向に磁性層塗布面の表面研磨がなさ
れる。
層を設けることによって形成される可どう性磁気ディス
クにおいては、その表面性をより一層向上させるべく磁
性層形成後に円周方向に磁性層塗布面の表面研磨がなさ
れる。
このような表面研磨処理をすることによって、磁気ヘッ
ドと磁気ディスク間のスペーシング損失を大幅に減少さ
せることが出来、その結果として、電磁変換特性の向上
と安定化がはかられるようになる。磁気ディスクの表面
研磨を行う研磨装置としては、可どう性支持体上に研磨
剤粒子と結合剤等からなる研磨層がもうけられたいわゆ
るラッピングテープ、あるいは円筒形に加工されたセラ
ミックスを、高速回転する磁気ディスクにスリット状の
細穴から高圧エアを吹き付けるエアナイフ、あるいは、
弾性変形の大きいウレタンゴムで作った弾性ロールによ
りフレキシブルディスク面をおさえバックアップとして
接触させる構造のものが一般的である。
ドと磁気ディスク間のスペーシング損失を大幅に減少さ
せることが出来、その結果として、電磁変換特性の向上
と安定化がはかられるようになる。磁気ディスクの表面
研磨を行う研磨装置としては、可どう性支持体上に研磨
剤粒子と結合剤等からなる研磨層がもうけられたいわゆ
るラッピングテープ、あるいは円筒形に加工されたセラ
ミックスを、高速回転する磁気ディスクにスリット状の
細穴から高圧エアを吹き付けるエアナイフ、あるいは、
弾性変形の大きいウレタンゴムで作った弾性ロールによ
りフレキシブルディスク面をおさえバックアップとして
接触させる構造のものが一般的である。
磁気ディスク研磨装置においては、表面研磨性能が優れ
ていることは熱論のこと、いわゆるミッシングエラー(
記録再生時の誤り)の原因となる円周方向スクラッチの
発生しないこと、さらには、研磨により発生する塵埃を
磁気ディスク表面に残さないことが望まれる。
ていることは熱論のこと、いわゆるミッシングエラー(
記録再生時の誤り)の原因となる円周方向スクラッチの
発生しないこと、さらには、研磨により発生する塵埃を
磁気ディスク表面に残さないことが望まれる。
しかしながら、従来の研磨装置を用いる研磨方法では、
磁気ディスクの内外周部に発生するスクラッチの抑制が
困難であると共に、研磨屑の除去も必ずしも十分ではな
かった。
磁気ディスクの内外周部に発生するスクラッチの抑制が
困難であると共に、研磨屑の除去も必ずしも十分ではな
かった。
本発明は、円周方向のスクラッチ、及び研磨屑の付着、
ひいてはミッシングエラーの発生しにくいフレキシブル
磁気ディスクの表面研磨方法を提供することを目的とす
る。
ひいてはミッシングエラーの発生しにくいフレキシブル
磁気ディスクの表面研磨方法を提供することを目的とす
る。
本発明によるフレキシブル磁気ディスクの磁気記録媒体
塗布表面の研磨方法は、 1、研磨面曲率を有する太鼓型で、モース硬度が6以上
のセラミックスからなる研磨シリンダーを、磁気ディス
ク回転方向と逆方向に回転し、磁気ディスクを回転しな
がら該ディスク面に接触させ表面を研磨することを特徴
とするフレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法。
塗布表面の研磨方法は、 1、研磨面曲率を有する太鼓型で、モース硬度が6以上
のセラミックスからなる研磨シリンダーを、磁気ディス
ク回転方向と逆方向に回転し、磁気ディスクを回転しな
がら該ディスク面に接触させ表面を研磨することを特徴
とするフレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法。
2、所定の時間研磨を行った後、該研磨シリンダーを磁
気ディスクとの接触を保ったまま該ノズルと共に磁気デ
ィスクの放射方向に沿って内周側より外周側に移動させ
磁気ディスクより離脱させることを特徴とするものであ
る。
気ディスクとの接触を保ったまま該ノズルと共に磁気デ
ィスクの放射方向に沿って内周側より外周側に移動させ
磁気ディスクより離脱させることを特徴とするものであ
る。
本発明は、研磨シリンダーが太鼓形状であるために、従
来形状の円筒形シリンダーを使用した場合と異なりシリ
ンダーエツジ部によるスクラッチの発生が極めて少ない
。第2に、研磨処理終了後、研磨シリンダーが磁気ディ
スクとの接触を保ったまま磁気ディスクの放射方向に沿
って内周側より外周側に移動しながら磁気ディスクより
離脱するので、研磨屑を磁気ディスク上に残さな%1)
。
来形状の円筒形シリンダーを使用した場合と異なりシリ
ンダーエツジ部によるスクラッチの発生が極めて少ない
。第2に、研磨処理終了後、研磨シリンダーが磁気ディ
スクとの接触を保ったまま磁気ディスクの放射方向に沿
って内周側より外周側に移動しながら磁気ディスクより
離脱するので、研磨屑を磁気ディスク上に残さな%1)
。
これらの結果により良好な平滑性を有し、力)つ清浄度
の高いフレキシブル磁気ディスクの表面を得るものであ
る。
の高いフレキシブル磁気ディスクの表面を得るものであ
る。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
実施例1
第1図は、本発明において使用するフレキシブル磁気デ
ィスク表面研磨装置の一例である。
ィスク表面研磨装置の一例である。
′ 本装置は、セラミックからなる太鼓形研磨シリンダ
ー(a)と、該研磨シリンダーより幅狭のエア吹き出し
スリットを有するノズル(エアナイフ)(b)からなる
研磨ヘッドと、フレキシブル磁気ディスクを保持、回転
させるディスク駆動部(C)とで構成される。ここで、
ノズル(エアナイフ)(b)&よ、フレキシブル磁気デ
ィスク(d)と接触しなI/Nよう配置されると共に、
研磨シリンダー(a)、及びノズル(エアナイフ)(b
)は、図面上のx+ y両方同番こ動くことが出来る
。磁気ディスクの表面研磨は、研磨シリンダー(a)が
回転する磁気ディスク(d)に接触すると共に、ノズル
(エアナイフ)(b)から吹き出す高圧のエアにバック
アップされることにより達成される。本発明において用
いられる研磨シリンダーの形状は、研磨面が70ないし
900mm Rの曲率を有する太鼓型の形状を用いる。
ー(a)と、該研磨シリンダーより幅狭のエア吹き出し
スリットを有するノズル(エアナイフ)(b)からなる
研磨ヘッドと、フレキシブル磁気ディスクを保持、回転
させるディスク駆動部(C)とで構成される。ここで、
ノズル(エアナイフ)(b)&よ、フレキシブル磁気デ
ィスク(d)と接触しなI/Nよう配置されると共に、
研磨シリンダー(a)、及びノズル(エアナイフ)(b
)は、図面上のx+ y両方同番こ動くことが出来る
。磁気ディスクの表面研磨は、研磨シリンダー(a)が
回転する磁気ディスク(d)に接触すると共に、ノズル
(エアナイフ)(b)から吹き出す高圧のエアにバック
アップされることにより達成される。本発明において用
いられる研磨シリンダーの形状は、研磨面が70ないし
900mm Rの曲率を有する太鼓型の形状を用いる。
該研磨シリンダーの研磨面の曲率が70mmRより小さ
いと、磁気ディスクの放射方向での研磨面の均一性に問
題が生じ好ましくない。また、該研磨シリンダーの研磨
面の曲率が90ORよりも大きい場合には、後述のよう
に本発明による研磨スクラッチの発生抑止効果が十分に
発揮されないので好ましくない。
いと、磁気ディスクの放射方向での研磨面の均一性に問
題が生じ好ましくない。また、該研磨シリンダーの研磨
面の曲率が90ORよりも大きい場合には、後述のよう
に本発明による研磨スクラッチの発生抑止効果が十分に
発揮されないので好ましくない。
本発明において用いられる研磨シリンダーを構成するセ
ラミックスは、モース硬度が6以上のものであればよく
、被研磨物即ち磁気ディスクを構成している磁性体及び
各種添加材の材料特性を考慮し選定することが望ましい
。セラミックス材料の例としてはアルミナ、ジルコニア
、炭化ケイ素、窒化ケイ素等をあげることができる。該
研磨シリングーの表面粗さは、中心線平均粗さで1.0
μmないLノ0.05μmの範囲にあることが望ましく
、1.0μm以上では研磨によるスペーシング損失低減
の効果を十分に得ることが困難となり、0.05μm以
下では研磨性が不足し、その結果研磨効率の低丁及び磁
気ディスクの不必要な温度上昇を招くので好ましくない
。
ラミックスは、モース硬度が6以上のものであればよく
、被研磨物即ち磁気ディスクを構成している磁性体及び
各種添加材の材料特性を考慮し選定することが望ましい
。セラミックス材料の例としてはアルミナ、ジルコニア
、炭化ケイ素、窒化ケイ素等をあげることができる。該
研磨シリングーの表面粗さは、中心線平均粗さで1.0
μmないLノ0.05μmの範囲にあることが望ましく
、1.0μm以上では研磨によるスペーシング損失低減
の効果を十分に得ることが困難となり、0.05μm以
下では研磨性が不足し、その結果研磨効率の低丁及び磁
気ディスクの不必要な温度上昇を招くので好ましくない
。
ノズル(b)のエア吹き出し口(スリット)は、幅0.
6mmX長さ22.0mmである。ノズルに供給される
エア圧は、2゜Okg/cm”とした。研磨シリンダー
(a)には、第2図に示される太鼓形状の、中心径が2
5mm。
6mmX長さ22.0mmである。ノズルに供給される
エア圧は、2゜Okg/cm”とした。研磨シリンダー
(a)には、第2図に示される太鼓形状の、中心径が2
5mm。
幅が30mm+研磨面の曲率が250mmR,中心線平
均粗さ0.4μmのアルミナシリンダー(A12039
6%)を使用した。該研磨シリンダー(a)の回転方向
は、磁気ディスク回転方向と逆方向(リバース)であり
、回転数は12rpmとした。磁気ディスクの回転数は
、1500rpmとした。研磨時間(研磨シリンダーが
磁気ディスクと接触し始めてからその後移動を始める前
までの時間)は1.5 secとし、その後研磨シリ
ンダー(a)を磁気ディスクの放射方向に磁気ディスク
との接触を保ったままノズル(エアナイフ)(b)と共
に3.0cm/seeの速さで移動させながら磁気ディ
スクから離脱させた。なおこのときの磁気ディスク及び
研磨シリンダーの回転数、及びノズル(エアナイフ)に
供給されるエア圧は、研磨時と同様とした。以上の条件
下において直径3.5インチに打ち抜いたフレキシブル
磁気ディスクを100枚研磨処理し試料とした。
均粗さ0.4μmのアルミナシリンダー(A12039
6%)を使用した。該研磨シリンダー(a)の回転方向
は、磁気ディスク回転方向と逆方向(リバース)であり
、回転数は12rpmとした。磁気ディスクの回転数は
、1500rpmとした。研磨時間(研磨シリンダーが
磁気ディスクと接触し始めてからその後移動を始める前
までの時間)は1.5 secとし、その後研磨シリ
ンダー(a)を磁気ディスクの放射方向に磁気ディスク
との接触を保ったままノズル(エアナイフ)(b)と共
に3.0cm/seeの速さで移動させながら磁気ディ
スクから離脱させた。なおこのときの磁気ディスク及び
研磨シリンダーの回転数、及びノズル(エアナイフ)に
供給されるエア圧は、研磨時と同様とした。以上の条件
下において直径3.5インチに打ち抜いたフレキシブル
磁気ディスクを100枚研磨処理し試料とした。
以上の試料を表−1に示す仕様の信号品質試験を用いミ
ッシングエラーの発生頻度を測定し、またミッシング欠
陥部分を走査型電子顕微鏡を用いて分類を行った。ここ
でミッシングエラー検出の基準となる信号レベルは記録
トラックの平均信号振幅を10ozとしたときのスライ
スレベルである。結果は表−2の通りである。
ッシングエラーの発生頻度を測定し、またミッシング欠
陥部分を走査型電子顕微鏡を用いて分類を行った。ここ
でミッシングエラー検出の基準となる信号レベルは記録
トラックの平均信号振幅を10ozとしたときのスライ
スレベルである。結果は表−2の通りである。
実施例2
実施例1における研磨シリンダーの磁気ディスクからの
離脱を磁気ディスク面に垂直(即ち第1図におけるX方
向)に行った以外は、実施例1と同様にして試料を作成
し、試料の試験は、実施例1と同じ条件により行った。
離脱を磁気ディスク面に垂直(即ち第1図におけるX方
向)に行った以外は、実施例1と同様にして試料を作成
し、試料の試験は、実施例1と同じ条件により行った。
結果は表−2の通りである。
実施例3
実施例1における研磨シリンダーを第3図に示される従
来形状(材質及び表面粗さは同じ)のものに代えた以外
は、実施例1と同様にして試料を作成し、試料の試験は
、実施例1と同じ条件により行った。結果は表−2の通
りである。
来形状(材質及び表面粗さは同じ)のものに代えた以外
は、実施例1と同様にして試料を作成し、試料の試験は
、実施例1と同じ条件により行った。結果は表−2の通
りである。
実施例4
実施例1における研磨シリンダーを第3図に示される従
来形状(材質及び表面粗さは同じ)のものに代えると共
に、研磨シリンダーの磁気ディスクからの離脱を磁気デ
ィスク面に垂直(即ち第1図におけるX方向)に行った
以外は、実施例1と同様にして試料を作成し、試料の試
験は、実施例1と同じ条件により行った。結果は表−2
の通りである。
来形状(材質及び表面粗さは同じ)のものに代えると共
に、研磨シリンダーの磁気ディスクからの離脱を磁気デ
ィスク面に垂直(即ち第1図におけるX方向)に行った
以外は、実施例1と同様にして試料を作成し、試料の試
験は、実施例1と同じ条件により行った。結果は表−2
の通りである。
以下余白
表−1
以上の試料を各100枚取り、3.5インチフレキシブ
ルディスクシェルに組込み、表−1に示される仕様の信
号品質試験機(サーテイファイヤ−)にてミッシングエ
ラーの発生頻度を調べると共に、該ミッシング欠陥部分
を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、分類を行った。こ
こで、ミッシングエラー検出の基準となる信号レベルは
、記録トラックの平均信号振幅を100%としたときの
スライスレベルである。試験結果を表−2に示した。
ルディスクシェルに組込み、表−1に示される仕様の信
号品質試験機(サーテイファイヤ−)にてミッシングエ
ラーの発生頻度を調べると共に、該ミッシング欠陥部分
を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、分類を行った。こ
こで、ミッシングエラー検出の基準となる信号レベルは
、記録トラックの平均信号振幅を100%としたときの
スライスレベルである。試験結果を表−2に示した。
実施例1ないし実施例3により本発明によるフレキシブ
ル磁気ディスクの研磨方法により研磨したフレキシブル
磁気ディスクは、ミッシングエラーの発率を従来方法に
比べて1/2ないし1/3とすることができた。
ル磁気ディスクの研磨方法により研磨したフレキシブル
磁気ディスクは、ミッシングエラーの発率を従来方法に
比べて1/2ないし1/3とすることができた。
表−2
〔発明の効果〕
本発明によれば、ミッシングエラーの発生頻度即ち、ス
クラッチ及び、研磨屑発生頻度の少ない磁気ディスクの
表面研磨方法が提供できた。
クラッチ及び、研磨屑発生頻度の少ない磁気ディスクの
表面研磨方法が提供できた。
第1図は、本発明によるフレキシブル磁気ディスクの研
磨方法を説明する装置の一実施例を示す概略側面図。 第2図は、本発明によるフレキシブル磁気ディスク表面
研磨方法に使用する太鼓型研磨シリンダーの形状を示す
側面図。 第3図は、従来のフレキシブル磁気ディスク表面研磨方
法に使用する両端Rの小さい研磨シリンダーの形状を示
す側面図。 a・・・研磨シリンダー。 b・・・ノズル(エアナイフ)。 C・・・ディスク駆動部。 d・・・磁気ディスク。 特許出願人 東北金属工業株式会社 第2図 ((7) (b) 第3図
磨方法を説明する装置の一実施例を示す概略側面図。 第2図は、本発明によるフレキシブル磁気ディスク表面
研磨方法に使用する太鼓型研磨シリンダーの形状を示す
側面図。 第3図は、従来のフレキシブル磁気ディスク表面研磨方
法に使用する両端Rの小さい研磨シリンダーの形状を示
す側面図。 a・・・研磨シリンダー。 b・・・ノズル(エアナイフ)。 C・・・ディスク駆動部。 d・・・磁気ディスク。 特許出願人 東北金属工業株式会社 第2図 ((7) (b) 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、研磨面曲率を有する太鼓型で、モース硬度が6以上
のセラミックスからなる研磨シリンダーを、磁気ディス
ク回転方向と逆方向に回転し、磁気ディスクを回転しな
がら該ディスク面に接触させ表面を研磨することを特徴
とするフレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法。 2、所定の時間研磨を行った後、該研磨シリンダーを磁
気ディスクとの接触を保ったまま該ノズルと共に磁気デ
ィスクの放射方向に沿って内周側より外周側に移動させ
磁気ディスクより離脱させることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のフレキシブル磁気ディスクの表面研
磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12469588A JPH01295753A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | フレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12469588A JPH01295753A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | フレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01295753A true JPH01295753A (ja) | 1989-11-29 |
Family
ID=14891807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12469588A Pending JPH01295753A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | フレキシブル磁気ディスクの表面研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01295753A (ja) |
-
1988
- 1988-05-20 JP JP12469588A patent/JPH01295753A/ja active Pending
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