JPH01294738A - 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 - Google Patents
鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法Info
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- JPH01294738A JPH01294738A JP12384188A JP12384188A JPH01294738A JP H01294738 A JPH01294738 A JP H01294738A JP 12384188 A JP12384188 A JP 12384188A JP 12384188 A JP12384188 A JP 12384188A JP H01294738 A JPH01294738 A JP H01294738A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 claims description 13
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 abstract 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- -1 siloxane chain Chemical group 0.000 description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 42
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 36
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 19
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 12
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical class [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKBSBJNZRLHZNP-UHFFFAOYSA-N [Li].[Li].C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 Chemical class [Li].[Li].C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 UKBSBJNZRLHZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBNBOGKRCOCJHH-UHFFFAOYSA-N hydroxy-[4-[hydroxy(dimethyl)silyl]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)C1=CC=C([Si](C)(C)O)C=C1 YBNBOGKRCOCJHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- ONQBOTKLCMXPOF-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrrolidine Chemical compound CCN1CCCC1 ONQBOTKLCMXPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMPBCFZCRNKXSA-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound CC[Si]1(CC)O[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)O1 KMPBCFZCRNKXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100489867 Mus musculus Got2 gene Proteins 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012653 anionic ring-opening polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N chloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]C=C DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N chloro(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(OCC)OCC JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N chloro(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(OC)OC CBVJWBYNOWIOFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)OC GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- VZSUUFCWNGDTIE-UHFFFAOYSA-N hydroxy-[4-[4-[hydroxy(dimethyl)silyl]phenoxy]phenyl]-dimethylsilane Chemical compound C1=CC([Si](C)(O)C)=CC=C1OC1=CC=C([Si](C)(C)O)C=C1 VZSUUFCWNGDTIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010551 living anionic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001766 physiological effect Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は分子量のそろった鎖状ポリオルガノシロキサン
の製造方法に関し、さらに詳しくは、特定のリチウム含
有有機ケイ素反応開始剤と脂環式第3級アミンとの共存
下に環状ポリジオルガノシロキサンのリビングアニオン
開環重合を行うことを特徴とする2官能性鎖状ポリオル
ガノシロキナンの製造方法に関する。
の製造方法に関し、さらに詳しくは、特定のリチウム含
有有機ケイ素反応開始剤と脂環式第3級アミンとの共存
下に環状ポリジオルガノシロキサンのリビングアニオン
開環重合を行うことを特徴とする2官能性鎖状ポリオル
ガノシロキナンの製造方法に関する。
さらに、本発明は、こうして得られた2官能性鎖状ポリ
オルガノシロキサンにハロシラン化合物を反応させるこ
とを特徴とする各種末端基を有する鎖状ポリオルガノシ
ロキサンの製造方法に関する。
オルガノシロキサンにハロシラン化合物を反応させるこ
とを特徴とする各種末端基を有する鎖状ポリオルガノシ
ロキサンの製造方法に関する。
末端に反応性をもち、かつ分子量のそろった鎖状ポリジ
オルガノシロキサンは、有機上ツマ−またはポリマーと
反応させることにより、シロキサン鎖長のそろったブロ
ック共重合体ないしグラフト共重合体を得ることができ
る。そして、その結果、ミクロドメイン構造を制御した
高分子材料が得られ、その特異な性質、たとえば血液適
合性、選択された範囲の細胞に対する親和性のような生
理的性質、および粘着性物質への剥離性のような表面物
性などを各種用途に活用することができる。
オルガノシロキサンは、有機上ツマ−またはポリマーと
反応させることにより、シロキサン鎖長のそろったブロ
ック共重合体ないしグラフト共重合体を得ることができ
る。そして、その結果、ミクロドメイン構造を制御した
高分子材料が得られ、その特異な性質、たとえば血液適
合性、選択された範囲の細胞に対する親和性のような生
理的性質、および粘着性物質への剥離性のような表面物
性などを各種用途に活用することができる。
このような分子量のそろった鎖状ポリシロキサンを得る
方法として、ブチルリチウムのようなモノリチウム化合
物を反応開始剤とするヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンのリビングアニオン重合が知られている( H,Ka
za+*a、 Y、 Tezuka、 K。
方法として、ブチルリチウムのようなモノリチウム化合
物を反応開始剤とするヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンのリビングアニオン重合が知られている( H,Ka
za+*a、 Y、 Tezuka、 K。
Imai; Polymer Journal、 第
19巻第9号第1091−1100頁((1987))
。
19巻第9号第1091−1100頁((1987))
。
しかし、このようなモノリチウム化合物を用いる場合、
ポリシロキサン鎖の一方の末端はブチル基のような官能
性のない炭化水素基で閉塞されるので、生成するポリオ
ルガノシロキサンはl官能性のものに限定される。
ポリシロキサン鎖の一方の末端はブチル基のような官能
性のない炭化水素基で閉塞されるので、生成するポリオ
ルガノシロキサンはl官能性のものに限定される。
両末端に官能性をもつ鎖状ポリオルガノシロキサンを得
る反応開始剤として、ジフェニルシランジオール・ジリ
チウム塩が知られている(E、 E。
る反応開始剤として、ジフェニルシランジオール・ジリ
チウム塩が知られている(E、 E。
Bostick; ACS Polymer Prep
rint、第10巻第2号第877頁((19811)
) 、 Lかし、この反応開始剤は、テトラヒドロフラ
ン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アミン類のような
溶剤を用いても、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの
ようなヘキサアルキルシクロトリシロキサンに対する溶
解性が乏しい、そのため、迅速な反応開始が困難で、得
られた鎖状ポリオルガノシロキサンの分子量分布は、満
足できるほどにそろってはいない。
rint、第10巻第2号第877頁((19811)
) 、 Lかし、この反応開始剤は、テトラヒドロフラ
ン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アミン類のような
溶剤を用いても、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの
ようなヘキサアルキルシクロトリシロキサンに対する溶
解性が乏しい、そのため、迅速な反応開始が困難で、得
られた鎖状ポリオルガノシロキサンの分子量分布は、満
足できるほどにそろってはいない。
分子量のそろった両末端官能性ポリシロキサンを得る別
の方法として、木を反応開始剤とし、ケイ素原子に結合
した有機基中に第4級アンモニウム構造をもつビスカテ
コールオルガノシリコネートまたはリチウム化合物の存
在下に、ヘキサメチ′ ルシクロトリシロキサンを開環
重合する方法が知られている(C,L、Leeほか;
Journal of PolymerScience
、 Polymer Chemistr7.第14巻第
3号第7213−742頁(1976)、同第743−
758頁(1117B)) −しかじ、このような方法
では、両末端にシラノール基をもつポリシロキサンが得
られるので、この重合体末端に5i−H結合を導入する
ためにジメチルクロロシランと反応させた場合、塩化水
素を副生じ、その触媒作用によって5i−H結合が加水
分解して、目的とする両末端に5i−H結合をもつポリ
シロキサンが得られない。
の方法として、木を反応開始剤とし、ケイ素原子に結合
した有機基中に第4級アンモニウム構造をもつビスカテ
コールオルガノシリコネートまたはリチウム化合物の存
在下に、ヘキサメチ′ ルシクロトリシロキサンを開環
重合する方法が知られている(C,L、Leeほか;
Journal of PolymerScience
、 Polymer Chemistr7.第14巻第
3号第7213−742頁(1976)、同第743−
758頁(1117B)) −しかじ、このような方法
では、両末端にシラノール基をもつポリシロキサンが得
られるので、この重合体末端に5i−H結合を導入する
ためにジメチルクロロシランと反応させた場合、塩化水
素を副生じ、その触媒作用によって5i−H結合が加水
分解して、目的とする両末端に5i−H結合をもつポリ
シロキサンが得られない。
また、アセタール型リチウム化合物を反応開始剤として
ヘキサメチルシクロトリシロキサンを開環重合すること
により、分子量のそろった片末端にリチウムオキシ基、
他端に官能性基をもつポリシロキサンを得、次いで、こ
れをジメチルジクロロシランによってカップリングする
ことによって、両末端に官能性基をもつ分子量のそろっ
たポリシロキサンを得る方法も知られている(P、M。
ヘキサメチルシクロトリシロキサンを開環重合すること
により、分子量のそろった片末端にリチウムオキシ基、
他端に官能性基をもつポリシロキサンを得、次いで、こ
れをジメチルジクロロシランによってカップリングする
ことによって、両末端に官能性基をもつ分子量のそろっ
たポリシロキサンを得る方法も知られている(P、M。
Lefebvreほか; Macromolecule
x、第10巻第4号第871−872頁(+977))
。
x、第10巻第4号第871−872頁(+977))
。
しかし、この方法は1反応工程が煩雑であり、また、末
端の官能基がヒドロキシ炭化水素基かそれより誘導され
る基に限定されるという難点がある。
端の官能基がヒドロキシ炭化水素基かそれより誘導され
る基に限定されるという難点がある。
本発明者らは、先に、反応開始剤としてビス(ヒドロキ
シジアルキルシリルフェニル)エーテルのジリチウム塩
を用いて、ヘキサアルキルシクロトリシロキサンを開環
重合することにより、両末端に官能性をもち、かつ分子
鎖中にビス(シルフェニレン)エーテル結合をもつ、シ
ロキサン鎖長のそろった鎖状ポリオルガノシロキサンが
得られることを見出した(特願昭63−63100号)
。
シジアルキルシリルフェニル)エーテルのジリチウム塩
を用いて、ヘキサアルキルシクロトリシロキサンを開環
重合することにより、両末端に官能性をもち、かつ分子
鎖中にビス(シルフェニレン)エーテル結合をもつ、シ
ロキサン鎖長のそろった鎖状ポリオルガノシロキサンが
得られることを見出した(特願昭63−63100号)
。
しかし、この反応系では、得られた鎖状ポリオルガノシ
ロキサンのゲルパーミェーションクロマトグラフィー(
GPC)による分子量分布を観察すると、高度に均一な
分子量をもつポリマーを再現性よく得る点では、未だ不
充分であった。その理由は、反応系における前記反応開
始剤の分散性が充分ではないことによるものと推定され
る。そこで、鎖状ポリオルガノシロキサンを高度に厳密
なミクロドメイン構造を必要とするような共重合体の原
料として使用する場合など、分子量の均一性を高度に要
求される場合には、反応開始時に前記反応開始剤を反応
系中に速やかに分散させるための細心の注意が必要であ
った。
ロキサンのゲルパーミェーションクロマトグラフィー(
GPC)による分子量分布を観察すると、高度に均一な
分子量をもつポリマーを再現性よく得る点では、未だ不
充分であった。その理由は、反応系における前記反応開
始剤の分散性が充分ではないことによるものと推定され
る。そこで、鎖状ポリオルガノシロキサンを高度に厳密
なミクロドメイン構造を必要とするような共重合体の原
料として使用する場合など、分子量の均一性を高度に要
求される場合には、反応開始時に前記反応開始剤を反応
系中に速やかに分散させるための細心の注意が必要であ
った。
(以下余白〕
〔発明の目的〕
本発明の目的は、両末端に官能性をもち、かつ分子量が
高度に均一である2官詣性の鎖状ポリオルガノシロキサ
ンを再現性よく得ることにある。
高度に均一である2官詣性の鎖状ポリオルガノシロキサ
ンを再現性よく得ることにある。
本発明の他の目的は、このようにして得られた鎖状ポリ
オルガノシロキサンをハロシラン類と反応させることに
より、両末端に任意の数および種類の官能基をもつか、
全く官能基をもたない1分子量が高度に均一な鎖状ポリ
オルガノシロキサンを得ることにある。
オルガノシロキサンをハロシラン類と反応させることに
より、両末端に任意の数および種類の官能基をもつか、
全く官能基をもたない1分子量が高度に均一な鎖状ポリ
オルガノシロキサンを得ることにある。
本発明者らは、上記の目的に適した反応開始剤系を見出
すべく研究を重ねた結果、2個のケイ素a子の間にビス
フェニレンエーテル鎖ヲモつビスシラノール化合物のリ
チウム塩を反応開始剤として用い、かつ1重合の際に脂
環式第3級アミンを共存させることによって1本発明の
目的を達しうることを見出し、その知見に基づいて本発
明を完成するに至った。
すべく研究を重ねた結果、2個のケイ素a子の間にビス
フェニレンエーテル鎖ヲモつビスシラノール化合物のリ
チウム塩を反応開始剤として用い、かつ1重合の際に脂
環式第3級アミンを共存させることによって1本発明の
目的を達しうることを見出し、その知見に基づいて本発
明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は、次のとおりである。
(1)一般式:
%式%)
(式中、R1は互いに同一でも相異なっていてもよく、
アルキル基を示す)で表わされるリチウム含有有機ケイ
素化合物および脂環式第3級アミンの存在下に、 一般式: ((R)2 S i 0)3(式中、R2
は互いに同一でも相異なっていてもよく、アルキル基を
示す)で表わされるヘキサアルキルシクロトリシロキサ
ンを開環重合させることを特徴とする、ビスフェニレン
エーテル構造をもつ鎖状ポリオルガノシロキサンの製造
方法。
アルキル基を示す)で表わされるリチウム含有有機ケイ
素化合物および脂環式第3級アミンの存在下に、 一般式: ((R)2 S i 0)3(式中、R2
は互いに同一でも相異なっていてもよく、アルキル基を
示す)で表わされるヘキサアルキルシクロトリシロキサ
ンを開環重合させることを特徴とする、ビスフェニレン
エーテル構造をもつ鎖状ポリオルガノシロキサンの製造
方法。
(2)一般式:
%式%
(式中、R1は互いに同一でも相異なっていてもよく、
アルキル基を示す)で表わされるリチウム含有有機ケイ
素化合物および脂環式第3級アミンの存在下に。
アルキル基を示す)で表わされるリチウム含有有機ケイ
素化合物および脂環式第3級アミンの存在下に。
一般式: 〔(R)2SiO〕3
(式中、R2は互いに同一でも相異なっていてもよく、
アルキル基を示す)で表わされるヘキサアルキルシクロ
トリシロキサンを開環重合させたのち、一般式(R3)
3S I X l:、中、 R3t*互イニ同一でも相
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、1価の
M!14または非置換の炭化水素基、アルコキシ基、ア
シロキシ基、またはケトキシマド基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示す)で表わされるハロシラン化合物を反応さ
せることを特徴とする、ビスフェニレンエーテル構造を
もつ鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法。
アルキル基を示す)で表わされるヘキサアルキルシクロ
トリシロキサンを開環重合させたのち、一般式(R3)
3S I X l:、中、 R3t*互イニ同一でも相
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、1価の
M!14または非置換の炭化水素基、アルコキシ基、ア
シロキシ基、またはケトキシマド基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示す)で表わされるハロシラン化合物を反応さ
せることを特徴とする、ビスフェニレンエーテル構造を
もつ鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法。
以下、本発明の構成要素について詳述する。
(リチウム含有有機ケイ素化合物)
本発明で反応開始剤として用いられるリチウム含有有機
ケイ素化合物は、一般式: %式% Li0(R)2SiC,H4QC8H4Si(R)20
L+ C式中、Rは前述のとおり)で表わされる。R1
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基などが例示され、互いに同一で
も相異なっていてもよいが、原料が容易に得やすく、合
成が容易で、しかもヘキサアルキルシクロトリシロキサ
ンへの溶解性に優れ、分子量分布のそろった鎖状ポリオ
ルガノシロキサンを与えることから、メチル基が好まし
い、また、2つの7エニレン基のケイ素原子ならびに酸
素原子の結合の相対位置は任意に選ぶことができるが、
合成が容易なことからパラ位置が好ましい。
ケイ素化合物は、一般式: %式% Li0(R)2SiC,H4QC8H4Si(R)20
L+ C式中、Rは前述のとおり)で表わされる。R1
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基などが例示され、互いに同一で
も相異なっていてもよいが、原料が容易に得やすく、合
成が容易で、しかもヘキサアルキルシクロトリシロキサ
ンへの溶解性に優れ、分子量分布のそろった鎖状ポリオ
ルガノシロキサンを与えることから、メチル基が好まし
い、また、2つの7エニレン基のケイ素原子ならびに酸
素原子の結合の相対位置は任意に選ぶことができるが、
合成が容易なことからパラ位置が好ましい。
このようなリチウム含有有機ケイ素化合物としては、ビ
ス〔P−(ヒドロキシジメチルシリル)フェニル〕エー
テル拳ジリチウム塩、ビス(p−(ヒドロキシジメチル
シリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩、ビス(p
−(ヒドロキシジプロピルシリル)フェニルフェーテル
・ジリチウム塩、ビス〔p−(ヒドロキシメチルブチル
シリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩、ビス〔m
−(ヒドロキシジメチルシリル〕フェニル〕エーテル・
ジリチウム塩などが例示される。
ス〔P−(ヒドロキシジメチルシリル)フェニル〕エー
テル拳ジリチウム塩、ビス(p−(ヒドロキシジメチル
シリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩、ビス(p
−(ヒドロキシジプロピルシリル)フェニルフェーテル
・ジリチウム塩、ビス〔p−(ヒドロキシメチルブチル
シリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩、ビス〔m
−(ヒドロキシジメチルシリル〕フェニル〕エーテル・
ジリチウム塩などが例示される。
このようなリチウム含有有機ケイ素化合物は。
たとえばビス〔P−(ヒドロキシジメチルシリル)フェ
ニルフェーテルのような対応するジシラノール化合物を
、テトラヒドロフランのような有機溶媒に溶解し、水分
の存在しない状態で、氷冷しつつn−ブチルリチウムの
ような炭化水素リチウム化合物と反応させることによっ
て合成することができる。炭化水素リチウム化合物の量
は、ジシラノール化合物と等モル以上がよく、反応を進
行させるうえで、10〜20モル%過剰であることが好
ましい0反応終了後、有機溶媒を減圧蒸留によって除去
すれば、白色固体のリチウム含有有機ケイ素化合物が得
られる。
ニルフェーテルのような対応するジシラノール化合物を
、テトラヒドロフランのような有機溶媒に溶解し、水分
の存在しない状態で、氷冷しつつn−ブチルリチウムの
ような炭化水素リチウム化合物と反応させることによっ
て合成することができる。炭化水素リチウム化合物の量
は、ジシラノール化合物と等モル以上がよく、反応を進
行させるうえで、10〜20モル%過剰であることが好
ましい0反応終了後、有機溶媒を減圧蒸留によって除去
すれば、白色固体のリチウム含有有機ケイ素化合物が得
られる。
前述の式で示される以外のジリチウム塩1例えば、ジフ
ェニルシランジオール拳ジリチウム塩や1.4−ビス(
ヒドロキシメチルシリル)ベンゼンΦジリチウム塩は1
反応開始剤として脂環式第3級アミンと併用しても、分
子量の均一な重合体を与えない。
ェニルシランジオール拳ジリチウム塩や1.4−ビス(
ヒドロキシメチルシリル)ベンゼンΦジリチウム塩は1
反応開始剤として脂環式第3級アミンと併用しても、分
子量の均一な重合体を与えない。
(脂環式第3級アミン)
本発明で用いられる脂環式第3級アミンは、前記リチウ
ム含有有機ケイ素化合物からなる反応開始剤と協同して
1分子量が高度に均一な重合体を再現性よく得るのに有
効な働きを示す、その理由の詳細は必ずしも明確ではな
いが、脂環式第3級アミンが反応開始剤の反応系中への
分散速度を高めて、開環重合反応の制御を容易にするた
めであると推定される。
ム含有有機ケイ素化合物からなる反応開始剤と協同して
1分子量が高度に均一な重合体を再現性よく得るのに有
効な働きを示す、その理由の詳細は必ずしも明確ではな
いが、脂環式第3級アミンが反応開始剤の反応系中への
分散速度を高めて、開環重合反応の制御を容易にするた
めであると推定される。
このような脂環式第3級アミンとしては、N−メチルピ
ロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジ
ンなどが挙げられる。
ロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルピペリジ
ンなどが挙げられる。
脂環式第3級アミンの使用量は1反応開始剤であるリチ
ウム含有有機ケイ素化合物に対して10倍モルを越える
ことが好ましく、15〜40倍モルの間がさらに好まし
い、10倍モル以下では、高度に均一な分子量を示す重
合体を得るには再現性がやや不充分である。脂環式第3
級アミンの使用量の上限はないが、得られた重合体の単
離、精製や経済性の面からみて40倍モル程度までが適
当である。
ウム含有有機ケイ素化合物に対して10倍モルを越える
ことが好ましく、15〜40倍モルの間がさらに好まし
い、10倍モル以下では、高度に均一な分子量を示す重
合体を得るには再現性がやや不充分である。脂環式第3
級アミンの使用量の上限はないが、得られた重合体の単
離、精製や経済性の面からみて40倍モル程度までが適
当である。
(以下余白)
(ヘキサアルキルシクロトリシロキサン)本発明で重合
原料として用いられるヘキサアルキルシクロトリシロキ
サンは、 一般式: ((R)2S 1O)3 (式中、Rは前
述のとおり)で表わされる u2としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などが例示さ
れ、互いに同一でも相異なっていてもよいが、合成およ
び本発明による重合が容易なことと、得られた鎖状ポリ
オルガノシロキサンの耐熱性や界面特性から、メチル基
であることが好ましい。
原料として用いられるヘキサアルキルシクロトリシロキ
サンは、 一般式: ((R)2S 1O)3 (式中、Rは前
述のとおり)で表わされる u2としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などが例示さ
れ、互いに同一でも相異なっていてもよいが、合成およ
び本発明による重合が容易なことと、得られた鎖状ポリ
オルガノシロキサンの耐熱性や界面特性から、メチル基
であることが好ましい。
このようなヘキサアルキルシクロトリシロキサンとして
は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチル
シクロトリシロキサン、■。
は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチル
シクロトリシロキサン、■。
3.5−トリメチル−1,3,5−1リプロビルシクロ
トリシロキサンなどが例示される。
トリシロキサンなどが例示される。
(開環重合)
開環重合反応は、たとえば湿気を遮断した不活性ガス気
流中で、無水の有機溶媒に懸濁させた反応開始剤に脂環
式第3級アミンおよび重合原料を加えて均一に溶解せし
め、室温ないし有機溶媒の沸点近くの温度で行うことが
できる。
流中で、無水の有機溶媒に懸濁させた反応開始剤に脂環
式第3級アミンおよび重合原料を加えて均一に溶解せし
め、室温ないし有機溶媒の沸点近くの温度で行うことが
できる。
重合後、減圧下に有機溶媒を除去すれば、両末端のケイ
素原子にリチウムオキシ基が結合した2官能性の鎖状ポ
リオルガノシロキサンが得られる。有機溶媒としては、
テトラヒドロフランなどを用いることができる。n−ヘ
キサンのような炭化水素系溶媒は、反応開始剤を十分に
分散させることができないので、好ましくない。
素原子にリチウムオキシ基が結合した2官能性の鎖状ポ
リオルガノシロキサンが得られる。有機溶媒としては、
テトラヒドロフランなどを用いることができる。n−ヘ
キサンのような炭化水素系溶媒は、反応開始剤を十分に
分散させることができないので、好ましくない。
(ハロシラン化合物)
ざらに、重合反応が終了してから、一般式(R)SiX
(式中、R、X ハ前述(7) 、!: 第す)で表わ
されるノ\ロシラン化合物と反応させることにより、末
端の官能基を任意の他の基に置き換えることができる0
反応は、重合反応終了後の有機溶媒溶液にハロシランを
滴下することによって行うことができる0反応は室温で
行ってもよく、若干の加熱または冷却下に行ってもよい
。
(式中、R、X ハ前述(7) 、!: 第す)で表わ
されるノ\ロシラン化合物と反応させることにより、末
端の官能基を任意の他の基に置き換えることができる0
反応は、重合反応終了後の有機溶媒溶液にハロシランを
滴下することによって行うことができる0反応は室温で
行ってもよく、若干の加熱または冷却下に行ってもよい
。
ハロシラン化合物のXとしては、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が例示されるが、取扱の容易なことから塩素
原子が好ましい、またR3は上記のXのほか;水素原子
;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基のようなアルキル基:ビニル基のよう
なアルケニル基;β−フェニルエチル基、β−フェニル
プロピル基のようなアラルキル基;フェニル基のような
アリール基;クロロメチル基、クロロプロピル基、トリ
フルオロプロピル基、シアノエチル基のような置換炭化
水素基;メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基
;アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などの7シロキシ
基;およびアセトンオキシマド基、ブタノンオキシマド
基のようなケトキシマド基が例示され、互いに同一でも
相異なっていてもよい。
ヨウ素原子が例示されるが、取扱の容易なことから塩素
原子が好ましい、またR3は上記のXのほか;水素原子
;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基のようなアルキル基:ビニル基のよう
なアルケニル基;β−フェニルエチル基、β−フェニル
プロピル基のようなアラルキル基;フェニル基のような
アリール基;クロロメチル基、クロロプロピル基、トリ
フルオロプロピル基、シアノエチル基のような置換炭化
水素基;メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基
;アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などの7シロキシ
基;およびアセトンオキシマド基、ブタノンオキシマド
基のようなケトキシマド基が例示され、互いに同一でも
相異なっていてもよい。
このようなハロシラン化合物として、四塩化ケイ素、ク
ロロトリメトキシシラン、クロロトリエトキシシランの
ような4官能性シランを用いると、#I状ポリシロキサ
ンの両末端にそれぞれ3個の官能性を与える。
ロロトリメトキシシラン、クロロトリエトキシシランの
ような4官能性シランを用いると、#I状ポリシロキサ
ンの両末端にそれぞれ3個の官能性を与える。
メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、
メチルクロロジメトキシシラン、メチルクロロジェトキ
シシランのような3官能性シランを用いると、ポリシロ
キサン鎖の両末端にそれぞれ2個の官能性を与える。
メチルクロロジメトキシシラン、メチルクロロジェトキ
シシランのような3官能性シランを用いると、ポリシロ
キサン鎖の両末端にそれぞれ2個の官能性を与える。
ジメチルジクロロシランのような2官能性シランを用い
ると、ポリシロキサン鎖の両末端の官能性基は塩素原子
となり、2官能性鎖状ポリシロキサンが得られる。また
、ジメチルクロロシランを用いると水素原子、ジメチル
ビニルクロロシランを用いるとビニル基が、鎖状ポリシ
ロキサンの末端の官能性基になる。
ると、ポリシロキサン鎖の両末端の官能性基は塩素原子
となり、2官能性鎖状ポリシロキサンが得られる。また
、ジメチルクロロシランを用いると水素原子、ジメチル
ビニルクロロシランを用いるとビニル基が、鎖状ポリシ
ロキサンの末端の官能性基になる。
一方、トリメチルクロロシランやジメチルフェニルクロ
ロシランのように脂肪族不飽和結合を含まぬ1価の炭化
水素基がケイ素原子に3個結合した1官能性シランを用
いると、官能基をもたない安定な、分子量のそろった鎖
状ポリオルガノシロキサンが得られる。
ロシランのように脂肪族不飽和結合を含まぬ1価の炭化
水素基がケイ素原子に3個結合した1官能性シランを用
いると、官能基をもたない安定な、分子量のそろった鎖
状ポリオルガノシロキサンが得られる。
(以下余白)
(鎖状ポリオルガノシロキサン)
これまでに説明したように、本発明で用いられるリチウ
ム化合物を反応開始剤として、脂環式第3級アミンの存
在下にヘキサアルキルシクロトリシロキサンを開環重合
させるか、さらにハロシラン化合物と反応させることに
よって、次のような特徴をもつ鎖状ポリオルガノシロキ
サンヲ容易に、かつ、再現性よく得ることができる。
ム化合物を反応開始剤として、脂環式第3級アミンの存
在下にヘキサアルキルシクロトリシロキサンを開環重合
させるか、さらにハロシラン化合物と反応させることに
よって、次のような特徴をもつ鎖状ポリオルガノシロキ
サンヲ容易に、かつ、再現性よく得ることができる。
(+)分子量分布が極めて狭く、分子量がそろっている
。
。
(2)両末端にそれぞれ1個または複数個の官能基が存
在する。または、官能基がなく化学的に安定なものも合
成が可能である。
在する。または、官能基がなく化学的に安定なものも合
成が可能である。
(3) 分子中、 1個のビス(シルフェニレン〕エ
ーテル結合が存在する。
ーテル結合が存在する。
(以下余白)
〔発明の効果〕
本発明により、シロキサン鎖の両端に官能基をもつ、分
子量のそろった鎖状ポリオルガノシロキサンを容易に、
かつ、再現性よく得ることができる。この両末端の官能
基は、ハロシラン化合物と反応させることによって、官
能基の数や種類を任意に変えたり、あるいは官能基を全
くなくすこともできる。
子量のそろった鎖状ポリオルガノシロキサンを容易に、
かつ、再現性よく得ることができる。この両末端の官能
基は、ハロシラン化合物と反応させることによって、官
能基の数や種類を任意に変えたり、あるいは官能基を全
くなくすこともできる。
本発明によって得られる鎖状ポリオルガノシロキサンは
、シロキサン鎖長がそろっていることと1両末端に官能
基が存在することを生かして、シロキサンセグメントの
長さのそろった共重合体を合成するための原料として有
用である。
、シロキサン鎖長がそろっていることと1両末端に官能
基が存在することを生かして、シロキサンセグメントの
長さのそろった共重合体を合成するための原料として有
用である。
また、同じく本発明によって得られる両末端の官能性を
なくした鎖状ポリオルガノシロキサンは、分子量がそろ
っていて低沸点物が混在せず、化学的に安定である。し
かも、ビス(シルフェニレン)エーテル結合の存在は、
重合体の耐熱性や物理特性の向上をもたらす、したがっ
て、低沸点物の存在が好ましくない用途や、耐熱性など
を必要とする用途の絶縁材料などに適している。
なくした鎖状ポリオルガノシロキサンは、分子量がそろ
っていて低沸点物が混在せず、化学的に安定である。し
かも、ビス(シルフェニレン)エーテル結合の存在は、
重合体の耐熱性や物理特性の向上をもたらす、したがっ
て、低沸点物の存在が好ましくない用途や、耐熱性など
を必要とする用途の絶縁材料などに適している。
以下、本発明を参考例、実施例および比較例によって説
明するが1本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない、なお、これらの例において、特に断わりのな
い限り部はいずれも重量部を示す。
明するが1本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない、なお、これらの例において、特に断わりのな
い限り部はいずれも重量部を示す。
参考例1
水冷ジャケット、攪拌機、三方コックおよび滴下口を設
けた反応容器に20部のビス(p−(ヒドロキシジメチ
ルシリル)フェニルフェーテルを仕込み、脱気して乾燥
窒素を導入してから、乾燥テトラヒドロフラン710部
を加えて均一に溶解した。
けた反応容器に20部のビス(p−(ヒドロキシジメチ
ルシリル)フェニルフェーテルを仕込み、脱気して乾燥
窒素を導入してから、乾燥テトラヒドロフラン710部
を加えて均一に溶解した。
反応容器を水冷しつつ、n−ブチルリチウム8.9部を
含むn−へ午サン溶液68部をゆっくり滴下して反応を
2時間行った0反応終了後、減圧でテトラヒドロフラン
を留去し、生成した塩を窒素気流中で乾燥n−ヘキサン
により繰返しデカンテーシ璽ンを行ってから溶媒を揮散
せしめ。
含むn−へ午サン溶液68部をゆっくり滴下して反応を
2時間行った0反応終了後、減圧でテトラヒドロフラン
を留去し、生成した塩を窒素気流中で乾燥n−ヘキサン
により繰返しデカンテーシ璽ンを行ってから溶媒を揮散
せしめ。
白色固体のビス〔p−(ヒドロキシジメチルシリル)フ
ェニルフェーテル・ジリチウム塩を17.6部得た。収
率は理論量に対して85%であった。
ェニルフェーテル・ジリチウム塩を17.6部得た。収
率は理論量に対して85%であった。
参考例2
反応容器に20部のジフェニルシランジオールを仕込み
、乾燥した窒素ガスを導入してから、乾燥テトラヒドロ
フラン44.4部を加えて均一に溶解した。
、乾燥した窒素ガスを導入してから、乾燥テトラヒドロ
フラン44.4部を加えて均一に溶解した。
水冷しつつ、n−ブチルリチウム13.1部を含むn−
へキサン溶液93部をゆっくり滴下した。2時間後、テ
トラヒドロフランを減圧で留去し、以下、参考例1と同
様にして、白色固体のジフェニルシランジオール・ジリ
チウム塩を得た。
へキサン溶液93部をゆっくり滴下した。2時間後、テ
トラヒドロフランを減圧で留去し、以下、参考例1と同
様にして、白色固体のジフェニルシランジオール・ジリ
チウム塩を得た。
参考例3
反応容器に17.5部のp−ビス(ヒドロキシジメチル
シリル)ベンゼンを仕込み、533部の乾燥テトラヒド
ロフランとn−プチルリウム10.9部を含むn−ヘキ
サン溶液83部を用いるほかは参考例2と同様にして、
白色固体のp−ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベン
ゼン・ジリチウム塩を得た。
シリル)ベンゼンを仕込み、533部の乾燥テトラヒド
ロフランとn−プチルリウム10.9部を含むn−ヘキ
サン溶液83部を用いるほかは参考例2と同様にして、
白色固体のp−ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベン
ゼン・ジリチウム塩を得た。
実施例1
反応容器を脱気、窒素ガス置換したのち、622部の乾
燥テトラヒドロフラン、76.2部のN−メチルピロリ
ジン、および第1表に示す量のへキサメチルシクロトリ
シロキサンを仕込んで撹拌し、均一に溶解せしめた。
燥テトラヒドロフラン、76.2部のN−メチルピロリ
ジン、および第1表に示す量のへキサメチルシクロトリ
シロキサンを仕込んで撹拌し、均一に溶解せしめた。
次いで、参考例1で合成されたビス(p −(ヒドロキ
シジメチルシリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩
の第1表に示す量を予め第1表に示す量の乾燥テトラヒ
ドロフラン中に超音波をかけて分散させて得られた分散
液を加え、温度を21℃に保ちながら攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった0重合を3時間行なったのち第1表に示す量の
ジメチルクロロシランを添加して攪拌し、重合を停止せ
しめた。残存分をメタノールで繰返し洗浄を行ない、さ
らにベンゼンに溶解したのち、凍結乾燥を行なって、そ
れぞれ無色透明で粘稠な重合体を得た。
シジメチルシリル)フェニルフェーテル・ジリチウム塩
の第1表に示す量を予め第1表に示す量の乾燥テトラヒ
ドロフラン中に超音波をかけて分散させて得られた分散
液を加え、温度を21℃に保ちながら攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった0重合を3時間行なったのち第1表に示す量の
ジメチルクロロシランを添加して攪拌し、重合を停止せ
しめた。残存分をメタノールで繰返し洗浄を行ない、さ
らにベンゼンに溶解したのち、凍結乾燥を行なって、そ
れぞれ無色透明で粘稠な重合体を得た。
得られた重合体の収率および収量は、第1表のとおりで
あった。
あった。
これらの重合体について、テトラヒドロフランをキャリ
ヤーとして用い、示差屈折計および紫外線分光光度計で
モニターして、RIおよびUVをパラメーターとするゲ
ルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)を測
定した。GPCより得られた数平均分子量を、原料配合
比より得られた計算値とともに第1表に示す。
ヤーとして用い、示差屈折計および紫外線分光光度計で
モニターして、RIおよびUVをパラメーターとするゲ
ルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)を測
定した。GPCより得られた数平均分子量を、原料配合
比より得られた計算値とともに第1表に示す。
また、得られた重合体のIRおよび ’)I−NMRを
測定した。その特性スペクトルの帰属は、第2表に示す
とおりである。
測定した。その特性スペクトルの帰属は、第2表に示す
とおりである。
実施例1で得られた重合体のIRチャートを第1図に、
実施例2で得られた重合体のRIおよびUVによるGP
Cチャートを第2図と第3図に、’H−NMRのチャー
トを第4図に示す、GPCチャートから明らかなように
、得られた重合体の分子量分布は極めて狭く、分子量が
揃っている。
実施例2で得られた重合体のRIおよびUVによるGP
Cチャートを第2図と第3図に、’H−NMRのチャー
トを第4図に示す、GPCチャートから明らかなように
、得られた重合体の分子量分布は極めて狭く、分子量が
揃っている。
第1表
(月)反応開始剤を予め分散させるのに用いた量を示す
、(以下、同じ〕 (震2)標準ポリジメチルシロキサンを用いて補正(以
下、同じ) 第 2 表 実施例4〜6 ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ビス(p−(ヒド
ロキシジメチルシリル)フェニル〕エーテル・ジリチウ
ム塩および分散剤のテトラヒドロフランの量を第3表の
とおりとし、ジメチルクロロシランの代わりに第3表に
示す量のジメチルビニルクロロシランを用い1反応源度
を20℃とした以外は実施例1〜3と同様の方法により
、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合と末端
ビニル化を行ない、それぞれ粘稠な重合体を得た。
、(以下、同じ〕 (震2)標準ポリジメチルシロキサンを用いて補正(以
下、同じ) 第 2 表 実施例4〜6 ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ビス(p−(ヒド
ロキシジメチルシリル)フェニル〕エーテル・ジリチウ
ム塩および分散剤のテトラヒドロフランの量を第3表の
とおりとし、ジメチルクロロシランの代わりに第3表に
示す量のジメチルビニルクロロシランを用い1反応源度
を20℃とした以外は実施例1〜3と同様の方法により
、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合と末端
ビニル化を行ない、それぞれ粘稠な重合体を得た。
得られた重合体の収量および収率は、第3表に示すとお
りであった。
りであった。
これらの重合体について、テトラヒドロフランをキャリ
ヤーとして用い、示差屈折計および紫外線分光光度計で
モニターして、RIおよびUVをパラメーターとするG
PCを測定した。GPCより得られた数平均分子量を、
原料配合比より得られた計算値とともに第3表に示す。
ヤーとして用い、示差屈折計および紫外線分光光度計で
モニターして、RIおよびUVをパラメーターとするG
PCを測定した。GPCより得られた数平均分子量を、
原料配合比より得られた計算値とともに第3表に示す。
また、得られた重合体のIRおよび ’H−NMRを測
定した。その特性スペクトルの帰属は、第4表に示すと
おりである。
定した。その特性スペクトルの帰属は、第4表に示すと
おりである。
実施例4で得られた重合体のR1およびUVによるGP
Cチャートを第5図と第6図に示す。
Cチャートを第5図と第6図に示す。
実施例4で得られた重合体のIRおよびIH−NMRの
チャートを第7図と第8図に示す。
チャートを第7図と第8図に示す。
第3表
(以下余白)
第4表
比較g41
実施例1〜3で用いたのと同様の反応容器を脱気、窒素
ガス置換したのち、444部のテトラヒドロフラン、3
8.4部のN−メチルピロリジンおよび50部のへキサ
メチルシクロトリシロキサンを仕込んで攪拌し、均一に
溶解せしめた。 次いで、参考例2で合成されたジフェ
ニルシランジオール・ジリチウム#X2.6部を予め超
音波をかけながらテトラヒドロフラン19.5部に分散
させた分散液を加え、21℃で3時間攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった。
ガス置換したのち、444部のテトラヒドロフラン、3
8.4部のN−メチルピロリジンおよび50部のへキサ
メチルシクロトリシロキサンを仕込んで攪拌し、均一に
溶解せしめた。 次いで、参考例2で合成されたジフェ
ニルシランジオール・ジリチウム#X2.6部を予め超
音波をかけながらテトラヒドロフラン19.5部に分散
させた分散液を加え、21℃で3時間攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった。
重合後、10.7部のジメチルクロロシランを添加し、
実施例1と同様にして、無色透明で粘稠な重合体41.
2部を得た。
実施例1と同様にして、無色透明で粘稠な重合体41.
2部を得た。
得られた重合体について、示差屈折計でモニターしてG
PCを測定した。そのGPCチャートを第9図に示す、
第9図より明らかなように、重合体の分子量は極めて不
揃であった。
PCを測定した。そのGPCチャートを第9図に示す、
第9図より明らかなように、重合体の分子量は極めて不
揃であった。
比較例2
実施例1〜3で用いたのと同様の反応容器を脱気、窒素
ガス置換したのち、311部のテトラヒドロフラン、3
8.4部のN−メチルピロリジンおよび50部のへキサ
メチルシクロトリシロキサンを仕込んで攪拌し、均一に
溶解せしめた。 次いで、参考例3で合成されたp−ビ
ス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼン・ジリチリム
塩2゜6部を64.8部のテトラヒドロフランに分散さ
せた分散液を加え、21”Oで3時間攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった。
ガス置換したのち、311部のテトラヒドロフラン、3
8.4部のN−メチルピロリジンおよび50部のへキサ
メチルシクロトリシロキサンを仕込んで攪拌し、均一に
溶解せしめた。 次いで、参考例3で合成されたp−ビ
ス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼン・ジリチリム
塩2゜6部を64.8部のテトラヒドロフランに分散さ
せた分散液を加え、21”Oで3時間攪拌することによ
って、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの開環重合を
行なった。
重合後、42.7部のジメチルクロロシランを添加し、
実施例1と同様にして、無色透明で粘稠な重合体39.
8部を得た。
実施例1と同様にして、無色透明で粘稠な重合体39.
8部を得た。
得られた重合体について、示差屈折計でモニターしてG
PCを測定した。そのGPCチャートを第10図に示す
、第10図より明らかなように、重合体の分子量は極め
て不揃であった。
PCを測定した。そのGPCチャートを第10図に示す
、第10図より明らかなように、重合体の分子量は極め
て不揃であった。
第1図は、実施例1によって得られた重合体のIRチャ
ートを、第2図および第3図は、実施例2によって得ら
れた重合体のGPCチャートを示す。 第4図は、実施例2によって得られた重合体のNMRチ
ャートを示す。 第5図および第6図は、実施例4によって得られた重合
体のGPCチャートを、第7図は、IRチャートを、第
8図は、NMRチャートを示す。 第9図および第1O図は、それぞれ比較例1および比較
例2によって得られた重合体のGPCチャートを示す。 出願人 東芝シリコーン株式会社
ートを、第2図および第3図は、実施例2によって得ら
れた重合体のGPCチャートを示す。 第4図は、実施例2によって得られた重合体のNMRチ
ャートを示す。 第5図および第6図は、実施例4によって得られた重合
体のGPCチャートを、第7図は、IRチャートを、第
8図は、NMRチャートを示す。 第9図および第1O図は、それぞれ比較例1および比較
例2によって得られた重合体のGPCチャートを示す。 出願人 東芝シリコーン株式会社
Claims (2)
- (1)一般式: LiO(R^1)_2SiC_6H_4OC_6H_4
Si(R^1)_2OLi(式中、R^1は互いに同一
でも相異なっていてもよく、アルキル基を示す)で表わ
されるリチウム含有有機ケイ素化合物および脂環式第3
級アミンの存在下に、 一般式:〔(R^2)_2SiO〕_3 (式中、R^2は互いに同一でも相異なっていてもよく
、アルキル基を示す)で表わされるヘキサアルキルシク
ロトリシロキサンを開環重合させることを特徴とする、
ビスフェニレンエーテル構造をもつ鎖状ポリオルガノシ
ロキサンの製造方法。 - (2)一般式: LiO(R^1)_2SiC_6H_4OC_6H_4
Si(R^1)_2OLi(式中、R^1は互いに同一
でも相異なっていてもよく、アルキル基を示す)で表わ
されるリチウム含有有機ケイ素化合物および脂環式第3
級アミンの存在下に、 一般式:〔(R^2)_2SiO〕_3 (式中、R^2は互いに同一でも相異なっていてもよく
、アルキル基を示す)で表わされるヘキサアルキルシク
ロトリシロキサンを開環重合させたのち、一般式(R^
3)_3SiX(式中、R^3は互いに同一でも相異な
っていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、1価の置換
または非置換の炭化水素基、アルコキシ基、アシロキシ
基、またはケトキシマト基を示し、Xはハロゲン原子を
示す)で表わされるハロシラン化合物を反応させること
を特徴とする、ビスフェニレンエーテル構造をもつ鎖状
ポリオルガノシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12384188A JP2627769B2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12384188A JP2627769B2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01294738A true JPH01294738A (ja) | 1989-11-28 |
JP2627769B2 JP2627769B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=14870712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12384188A Expired - Lifetime JP2627769B2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2627769B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116082641A (zh) * | 2021-11-08 | 2023-05-09 | 中蓝晨光化工有限公司 | 一种t型对称结构的大分子烷氧基硅烷处理剂及其制备方法与应用 |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP12384188A patent/JP2627769B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116082641A (zh) * | 2021-11-08 | 2023-05-09 | 中蓝晨光化工有限公司 | 一种t型对称结构的大分子烷氧基硅烷处理剂及其制备方法与应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2627769B2 (ja) | 1997-07-09 |
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