JPH01294010A

JPH01294010A - 材料の放射処理装置および方法

Info

Publication number: JPH01294010A
Application number: JP63122976A
Authority: JP
Inventors: William B Neuberg; ウィリアム　ビー　ニューバーグ; Runiuski Robert; ロバート　ルニウスキ
Original assignee: Shamrock Chemicals Corp
Current assignee: Shamrock Chemicals Corp
Priority date: 1988-05-19
Filing date: 1988-05-19
Publication date: 1989-11-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は材料の分解（崩壊）のための放射処理に関し、
特にポリテトラフルオロエチレン（Ｆ’　ＴＦＥ）の放
射分解に間する。

デイロンの米国特許第３，７６６．０３１号明細書はポ
リテトラフルオロエチレンの放射処理方法を開示してお
り、この方法ではポリテトラフルオロエチレンが放射に
露呈され、その後微粉砕を受けてポリテトラフルオロエ
チレンを微小な粒子粉末にする。この粉末は、例えばペ
イントおよびインク中の乾燥滑剤として有効である。こ
の技術を実施するこの方法および他の方法はポリテトラ
フルオロエチレンを照射するための電子ビームまたはコ
バルト源を一般に利用していた。照射中の材料はトレー
に配列され、１通過当たり約２ないし１５ＭＨの多量の
放射線量に露呈され、材料の温度は過度には上昇せず、
したがって材料の変色および有害ガスの起こりうる発生
を回避している。

トレー照射技術は約３５％だけの放射利用効率しか有し
ていない、放射の非効率性は３つのファクタ、すなわち
（１）トレーの過走査、（２）トレー間のギャップおよ
び（３）電子ビームの深さ一放射線量特性から生じる。

トレーの完全に均一な放射を保証する要件は放射による
ある程度の過走査およびうないし１５％の効率の損失と
なる。同様に、材料のトレー間に通常存在する空間がさ
らに１０ないし１５％の効率の損失を生じさせる。

最大の効率の損失は、材料が受ける放射線量が材料の深
さによって変化する事実から生じる。この変化は第６図
のグラフに示されている０代表的にはＲで示す表面にお
ける放射線量は材料に対して公称放射線量として描かれ
ている。ビームエネルギーおよび（または）材料の深さ
は、等しい放射線量が材料の反対表面にあるように（深
さＤ）調節されている。製品（領域Ｃ）を通過する放射
は利用されない、公称放射線量Ｒの過度である領域Ｂの
放射も同様に利用されない、このことはさらに非効率性
を生じさせ、ある場合には望ましくない特性の製品が得
られる結果となる。結局、この深さ一放射線源特性は処
理の非効率性を５０％以上にさせる。

露呈間に材料の攪拌を場合によって伴う放射線源に対す
る露呈が後に続く材料の遅い照射の先行技術は、放射分
解ボリテ゛ドラフルオロエチレン粉末の製造を高価で、
非効率的で、時間を浪費する作業とさせていた。

本発明の［］的は放射分解ポリテトラフルオロエチレン
を効率的に製造する装置および方法を提供するものであ
る。

本発明によると、高分子量を有するチップの流動性固体
材料を放射処理して材料を低分子量に分解し粉末に粉砕
可能にする装置が提供される。装置は材料を保持する処
理容器、処理容器に放射を供給する放射源、処理中材料
を攪拌する手段、および容器材料を選択した温度以下に
維持する冷却手段を有する。

好ましい実施例において、装置は、容器の上のダストカ
バー、ダストカバーに集積する空気中の材料粒子を収集
するダスト収集手段を有する。処理に関して、空気また
は水が、材料を流動化し、空気の流れまたは冷却水の添
加によって材料を付加的に冷却するために、材料に供給
されてもよい。

処理容器は、好ましくは容器と、容器の内容物を攪拌す
るモータ駆動攪拌器を含むリボンブレンダーである。好
ましい放射源は高エネルギー電子源である。処理容器は
容器を囲む水の流れのチャンネルによって冷却される。

冷却は、処理容器へ水を供給することによっても部分的
に達成される。

本発明によると、流動性固体ポリテトラフルオロエチレ
ン材料を放射分解によって処理し、材料の分子量を減ら
し粉末に粉砕可能にする方法が提供される。この方法は
材料を放射に露呈し、露呈生材料を攪拌し、露呈中５０
０°Ｆ以下の温度に材料を維持することを含んでいる。

好ましい実施例において、材料は露呈中空気の流れによ
って流動化され、または水が露呈生材料に添加され、混
合物が適当な温度範囲に維持される。

次に、図面を参照して、本発明を説明する。

第１図は、本発明にしたがって材料を処理する装置１０
の端面図である。装置１０は、分子量を減じることによ
り材料を分解して材料を粉末に粉砕可能にするなめに、
ポリテトラフルオロエチレンの放射（放射線）分解を行
うのに特に有効である。

装置１０は、第４図および第５図に詳細に示すようにリ
ボンブレンダーの容器から成る処理容器１２を有してい
る。容器１２はリボンブレンディングパドル（リボン状
混合パドル）１６が取付けられた長手方向シャフト１４
を有している。処理容器１２およびそれに関連する設備
は組積造または他の放射線減衰材料から作られた放射室
１１内に囲まれている。室１１はローラ１７に取付けら
れたドア１５によって閉じられる接近用開口１３を有し
ている。ドア１５は設備に対する接近のために設けられ
たものであり、ジグザグ通路のような他の開口が人の接
近のなめに設けられてもよい。

第４図および第５図を参照すると、容易に理解できるよ
うに、パドルは、リボンブレンダー内の材料が、シャフ
トが矢印５９の方向に連続的に回転されるとき、シャフ
ト１４の長手方向に前後に軸線方向に移動するように、
配列されている。したがって、材料は容器内で平均的な
軸線方向の変位を受けない。

シャフト１４はモータ２４によって駆動される減速ギヤ
１８によって駆動される０代表的な実施例においては、
シャフトは１分当たり４０回転（４０ｒｐｍ）の速度で
回転し、容器１２の内部に置かれた材料６０を攪拌する
。

１つの実施例においては、容器１２は、１８インチ（約
４６ｃｍ）の直径を持つパドルを有し、７２インチ（約
１８３ｃｍ）の長さである。容器には、処理後材料を放
出するのに使用するために、底部に遠隔制御出口開口３
８が設けられている。

開口３８は材料受入れ室１９の上方に配列されており、
開かれると、容器１２内の処理した材料は受入れ室１９
に流入する。材料は、材料をノズル２５中に引込み導管
２１中を吸引、する真空装置２７によって受入れ室から
取出される。エア流入導管２３がノズル２５と同心的に
配列されて真空装置による材料の取出しのために空気源
を与える。

他の方法としては、スクリューコンベヤが使用されても
よい。

さらに、容器は、容器およびその内容物を約５００°Ｆ
以下、好ましくは２５０°Ｆ以下の温度に維持するため
の冷却水の流れのための冷却ジャケット２８が設けられ
ている。水が入口導管３０および出口導管３２を介して
与えられ、導管６１を介してジャケット２８の別個の部
分の間を流れる。

冷却水は、′ａｍを避けるために周囲空気の露点より上
方の温度で好ましくは供給される。ＰＴＦＥの放射処理
は水と結合して弗化水素酸を形成する弗素ガスと開放す
るので、凝縮は酸形成を生じさせ、設備の急速な腐食を
生じさせる。供給水の温度と上昇させる１つの方法は、
最初に電子ビーム装置の電源を冷却し、その後昇温した
同一の水を使用して容器の冷却するのに使用するように
冷却水分使用することである。同一の水を使用する代わ
りに、水対水熱交換器が使用されてもよい。

他の技術は従来の水加熱器を用いて水の温度を露点より
上に維持することである。

本発明の装置は、また流動性固体材料を処理容器１２に
供給する機構を含んでいる。この装置は、処理容器内に
導かれて、その上端で水平スクリューコンベヤ３１に連
通ずるほぼ垂直なシュート２９を含み、水平スクリュー
コンベヤは放射室１１内に配置されている。垂直シュー
ト３３が放射室１１の頂部を貫通し、内部のスクリュー
コンベヤ３１を外部のスクリューコンベヤ３うに連結す
る。垂直シュート３３を囲む領域には、レンガ等で製造
されてもよい付加的な放射遮断（シールド）！ｒ４造物
８４が設けられている。外部スクリューコンベヤ３５は
ホッパー３７の底部から処理すべき粒状材料を受入れ、
ホッパー３７には遠隔制御弁３つ、および導管４３を通
って供給される圧縮空気によって作動されるバイブレー
タ４１が設けられている。粒状材料は導管４７によって
ホッパー３７に供給され、導管４７を通して材料が真空
装置４５によって吸引される。

処理容器１２にはカバー４０およびガス抜き導管４２が
設けられており、ガス抜き導管を通して、空気が空気中
の材料粒子および弗素ガスを処理室から除去するために
大気圧以下の圧力で排気され、その結果粒子は集積され
ず、また弗素ガスが電子ビーム源の窓を腐食することも
ない、下端８２がノズル８４を持ち、電子ビーム源の出
口近くに配置した付加的なガス抜き導管４９が設けられ
てもよい。

導管４２および４９は、空気中の材料粒子を排気ガスか
ら分離し導管５３を通して排気するサイクロンセパレー
タ５１に連結されている。セパレータ５１中に集積する
粒子は、処理の初期段階中は、導管５５を通って処理容
器に戻ってもよい。

処理の後の段階においては、セパレータ５１によって集
積された材料は、導管５７を通って出口真空装置２７に
与えられるように充分分解される。

第１図の装置に対する放射源を与えるために使用される
電子ビーム加速器は真空出力通路４４を含み、真空出力
通路はビーム操作セクション４６によって扇形ホーン５
０に連結されており、ビーム操作セクションには、第５
図に示すように、電磁石４８が設けられている。使用さ
れる電子ビーム源は１００万ボルトの電子加速を有し１
００ミリアンペアまでのビーム電流を与えることができ
る。ビーム操作セクション４６は、第５図に示すように
ビーム通路５２．５４および５６をとるように扇形ホー
ン５０内でビームを前後に振動させ、容器１２の長さに
沿って放射を拡げる。電子ビームは扇形ホーン５０から
出て、第３図に詳細に示す一次窓および任意の二次窓６
６をそれぞれ通過する。一次窓および二次窓の間のスペ
ースには導管７０および７２を通る冷却空気の流れが設
けられている。さらに、導管７４および７６がフランジ
６２、可能ならばフランジ６４に設けられており、窓の
水冷却を与える。冷却水は導管７８および８０を通して
供給され、好ましくは、凝縮および前述のような弗化水
素酸の起こりうる形成を避けるために周囲空気の露点よ
り上の温度を有する。

窓５８および６６は、０．０００７５インチ（０，００
１９ｃｍ）および０．００２インチ（０，００５ｃ＋ｓ
）の間の長さを持つ薄いシート状チタンから成る。一次
窓５８は真空圧を支持するために０．００１５インチ（
０、００３８ｃ履）の好ましい厚さを有する。二次窓６
６は同一の機械的な強度を必要としないが、かなりの厚
さが食腐抵抗を与えるなめに好ましい。

本発明のＰＴＦＥのような材料の処理に関連して、空気
流を処理装置中の材料に供給することが望ましい、空気
流は以下の３つの機能を働かせる。

すなわち（１）空気の供給は、攪拌パドル１６によって
攪拌されるとき材料が容易に流れるように流動性固体材
料の流動化を与える傾向にあり、（２１空気の供給は酸
素を必要とする分解反応を促進する傾向にあり、（３）
反応容器に入り導管４２を通って出る空気の供給は水ジ
ャケット２８によって与えられる冷却の補助として材料
の冷却を促進する傾向にある。

第２図に詳細に示す実施例において、空気がマニホルド
３４を通して反応容器に与えられ、マニホルドはその空
気出口通路３５が容器に含まれる材料に向けられる。圧
縮空気が導管３６に供給される。

代表的なプロセスにおいて、荒い粉末またはチップ状の
例えば未使用のまたはスクラップのポリテトラフルオロ
エチレンのような流動性固体材料は容器１２内に置かれ
、電子源４４から供給される電子ビームによって照射を
受けながら攪拌器１６の回転によって攪拌を受ける。電
子源４４がらの電子ビームは電磁石４８に加えられる電
流を変更することによって真空通路４６中で操作され、
電子ビームは扇形ホーン５０内で多数の通路に発散し、
通路はビーム５２．５４および５６によって示すように
、容器１２の長さに沿った１つの角度方向に拡げられる
。方向５つに回転する攪拌器１６の作用は均一照射のた
めに材料を循環する。

電子ビームは窓５８および６６を通して扉形ホーンを出
る。リボンブレンダーの攪拌器１６の攪拌作用と組合わ
さった電子ビームの照射は材料の分解を生じさせ、約５
，０００，０００ないし１０，０００．０００の分子量
を１，０００，０００以下たぶん１００，０００以下に
下げる。材料の分子量がこのように下げられると、材料
は粉末に粉砕可能になる。酸素の供給によって反応を促
進し、材料が反応を受けている間、照射プロセス中材料
をさらに冷却し、材料を一層流体化し攪拌し易くするた
めに、空気が導管３６によって、出口３５が容器の長さ
に沿って分布しているマニホルド３４に供給されてもよ
い。

マニホルド３４に供給される空気に加えて攪拌器１６の
攪拌作用のために、このプロセスはかなりの量の空気中
に含まれる粒子を発生する。これらの粒子は出口導管４
２が設けられたダストカバー４０内に拘束され、出口導
管はダストコレクタ５１を通して積極的に放出され、そ
れによって回収した材料は処理容器に再循環されるか、
または導管５５および５７を通して分解した低分子量の
製品として収集されることができる。

第４図の断面図に示すように、矢印５９の方向に回転す
る攪拌器１６の作用は処理材料６０を反応容器１２の１
つの側に、例えば右側に積上げる。

最も効果的な放射処理を与えるために、扇形ホーン５０
は反応容器のこの側の選択した照射領域に向けられてお
り、その結果電子ビームは処理すべき材料の最大量をと
らえる。放射を材料の大きな深さを有する容器の部分に
向けられることによって、入射放射のほぼすべてが反応
なしに単に通過することなく材料によってとらえられる
のでプロセスの効果が高められる。

さらに、放射が入射する表面に接近した材料に対して通
常は生じうる過放射がパドル１６による材料の攪拌のた
めに避けられる。

ポリテトラフルオロエチレンの装置を用いる本発明の方
法によるポリテトラフルオロエチレンの処理を提供する
ために、焼結したまたは未焼結のいずれかの荒い粉末ま
たはチップのような流動性固体形状のスクラップまたは
未使用ポリテトラフルオロエチレンがシュート２つを通
して容器に供給される。代表的には、処理中、反応容器
に与えられる材料の装荷の量は、材料の比重量が処理中
増加するにつれて、減少させられる。材料のバッチ（約
３２００Ｉｂｓ）の処理は６または７時間の間２０ない
し１００ミリアンペアの電流で１００万ボルトで加速し
た電子ビームを使用する。を子ビーム加速器の使用に代
えて、コバルト６０のような放射性物質が放射を与える
ことができる６代表的には、材料の全装荷量の一部だけ
が、例えば３分の１ないし半分が最初に容器１２に供給
される。チップ形状のＰＴＦＨの比重量が一般に低いの
で、この一部が容器を充填する。初期照射に続いて、次
の材料が比重量の増加したがってその結果による照射中
の材料体積の減少のために加えられる。材料の全装荷が
与えられた後、放射、攪拌および冷却は、材料が１ボン
ド当たり１２５ないし１５０のＭｒａｄ　（メガラッド
）の放射線量を受けるまで、続けられる。この処理中、
材料の温度がワイヤ８９によって遠隔の計器９０に接続
した熱センサ８８によって監視される。材料の温度が選
択した値を越えると、放射ビーム電流が減少される。！
＆大温度は５００’　Ｆ以下でなければならず、好まし
くは２５０’　Ｆ以下である。

ポリテトラフルオロエチレンが冷却されて、改良した製
品が処理中水を処理容器に供給することによって得られ
ることが見出された。処理容器１２を示す第７図および
第８図を参照するに、パイプ９１はチューブ９３が延び
ているマニホルド９２に冷却水を供給する。この配列は
容器１２で処理中の材料６０への水の添加を容易にする
。この好ましい実施例においては、第４図に示す冷却ジ
ャケット２８が取はずされ、入口および出口導管９５お
よび９６を通して冷却水が供給される冷却ジャケット９
４が容器１２の両端に加えられている。水は導管（図示
せず）を通してジャケット間を流れ、ジャケットを結ん
でいる、さらに、導管９７および９８がカバー４０の開
口を囲む縁に取付けられて、カバーの水冷却を与え、生
じろ恐れのある高温に起因するひずみを防止している。

前述したように、供給されるすべての冷却水は凝縮を避
は弗化水素酸の形成を避けるために周囲空気の露点内の
温度と有する。

水を容器に供給する導管９１およびマニホルド９２の使
用に代えて、マニホルドが容器１２の上方に配置され、
４つのチューブが処理中の材料に水を供給するためにカ
バー４０を下方に貫通することもできる。容器より上方
のマニホルドには適当な入口導管を通して冷却水が供給
される。

処理すべき材料に対する水の添加は蒸発によって冷却を
与えると予想された。しかしながら、予想に反してポリ
テトラフルオロエチレンに添加した初期の水の量は材料
の温度を上昇させた。この温度上昇の理由は充分には解
らないが、水がポリテトラフルオロエチレンとの反応を
受けると考えられる。また、この反応は水と容器中の自
由弗素とが結合して弗素酸素を形成することを含んでい
ると推察される。

材料と水との反応によって生じる温度の上昇は、処理中
の材料が未使用ポリテトラフルオロエチレンであるとき
、最大である。材料が処理中であるとき０、材料が約２
６０°Ｆの温度に達したとき水が容器に加えられるべき
であることが見出された。

容器中の約３０００ボンド（約１，３００ｋｇ）のポリ
テトラフルオロエチレンのバッチに対して、１分当なり
２分の１ないし２リツトルの水の流量が満足すべきもの
であることが見出された。処理した材料の温度が約２４
５°Ｆに下げられたとき、水が再び容器に供給されて温
度が再び約２６０゜Ｆにまで上昇するまで、水の流れが
中断される。

もし未使用ポリテトラフルオロエチレンが２６０”　Ｆ
まで上昇することが許容されるならば、水の添加は水と
容器中の材料との反応に起因して、温度をさらに上昇さ
せ、その結果、処理を中断して混合物を冷却し安定状慧
に維持し、それによって変色を防ぐことが必要であるこ
とを実験は示している。

処理されるポリテトラフルオロエチレンがいわゆる”ハ
ードストック′°、すなわち既に熱処理の歴史がある焼
結したスクラップのポリテトラフルオロエチレンである
とき、水の添加によって生じる温度の上昇は未使用ポリ
テトラフルオロエチレンよりも少ない、この材料の処理
中、その温度は約３９０″Ｆまでの上昇することが許容
され、その温度において、水が加えられて、水の供給が
中断される前に材料は約３７５°Ｆに冷却されることが
見出されている。

他の例としては、（１）粒状ポリテトラフルオロエチレ
ン（゛ホワイトティル”として知られる）、（２Ｉスク
ラツプのテフロンテープ、または（３）非未使用ポリテ
トラフルオロエチレンとして知られる材料、またはこれ
らの材料の組合わせを処理するとき、温度は、水が材料
に供給される前に、約２６５°Ｆにまで上昇することが
許容される。約２５０°Ｆまで冷却された後、温度が再
び約２６５’　Ｆまで上昇するまで水の供給は中断され
る。

処理材料への水の添加が得られる粉末の油吸収特性の改
良を生じさせる、すなわちその油吸収特性が下げられる
ことが予想外に見出された。低い油吸収特性を持つ粉末
は、油またはペイント用溶剤のようなキャリヤに混合さ
れると、低い増粘特性を持つハチミツのような流動性コ
ンシスチンシー（＠度〉を与える。このことは一般に望
ましい。

高油吸収性を持つ材料は、キャリヤと混合されると、ピ
ーナツツバターのようなコンシスチンシーを与え、すな
わち高い増粘特性を持ち、製品としては望ましくない。

処理中冷却水がポリテトラフルオロエチレンに添加され
たとき製品された材料は望ましい低油吸収特性を有し、
この材料は多数の用途に足して優秀な製品となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の材料処理装置の端面図である。第２図は、空気供給マニホルドを示す第１図の装置の部
分断面図である。第３図は、第１図装置の電子ビーム放射源の部分の断面
図である。第４図は、第１図装置の処理容器の断面図である。第５図は、第１図装置の処理容器の側面図である。第６図は、種々の深さにおいて処理すべき材料が受ける
放射線量を示すグラフである。第７図は、第１図に示すらのと類似であるがある変更が
なされた処理容器の第８図の線■−■に沿った断面図で
ある。第８図は、第７図に示す処理容器の側面図である。１０・・・材料処理装置、１２・・・処理容器、１４・・・シャフト、１６・・・パドル、２８・・冷却シャケ１．ト、２つ・・・シュート、４０・・・カバー、５０・・・扇形ホーン。ＦＩＧ、　ＩＦＩＧ、　２　　　　　　　　　　　　ＦＩＧ、　３Ｆ
ＩＧ、　４ヒ１θ　コ　　　　　　　　　ｏｙ放射線量ＦＩＧ、　６

Claims

【特許請求の範囲】

（１）高分子量の流動性固体ポリテトラフルオロエチレ
ン材料を放射処理して前記材料を分解し、その分子量を
下げて粉末に粉砕可能にする装置であって、処理中前記
材料のバッチを保持する処理容器と、前記処理容器に放
射を供給する放射源と、を有する装置において、前記放
射が前記処理容器の選択した領域に与えられ、前記処理
容器には、前記処理中前記処理容器内の前記材料を攪拌
して前記材料を前記選択した領域の内外に反復して動か
して前記材料が均一に放射されるようにする機械的攪拌
手段が設けられており、前記処理中前記容器および前記
材料を選択した温度以下に維持するための冷却手段が設
けられていることを特徴とする装置。
（２）請求項１記載の装置において、前記容器上のダス
トカバーおよび前記ダストカバーに関連する収集手段を
有することを特徴とする装置。
（３）請求項１ないし２のいずれか１つに記載の装置に
おいて、空気を前記材料に供給して前記材料を冷却し、
前記材料を流動化した状態に維持して酸素を前記材料に
与える手段を有することを特徴とする装置。
（４）請求項１ないし３のいずれか１つに記載の装置に
おいて、前記処理容器および前記放射源を囲む放射シー
ルドと、前記材料を前記放射シールドを通して前記容器
に供給する手段と、を有することを特徴とする装置。
（５）請求項１ないし４のいずれか１つに記載の装置に
おいて、前記容器がモータ駆動攪拌器を有するリボンブ
レンダーを含み、前記容器および前記材料を冷却する水
ジャケットを含むことを特徴とする装置。
（６）請求項１ないし５のいずれか１つに記載の装置に
おいて、前記放射源が高エネルギー電子源を含み、前記
電子を前記選択した領域で分配する偏向手段を有するこ
とを特徴とする装置。
（７）請求項６記載の装置において、一次および二次窓
を有する開口を有し、前記窓の間に空気の流れが与えら
れることを特徴とする装置。
（８）請求項６記載の装置において、前記放射源は開口
窓と、周囲空気の露点より上の温度の冷却水で前記開口
窓を水冷却する手段と、をさらに有することを特徴とす
る装置。
（９）請求項１ないし８のいずれか１つに記載の装置に
おいて、前記冷却手段が水を前記材料に供給する手段を
有することを特徴とする装置。
（１０）流動性固体ポリテトラフルオロエチレン材料を
放射によって処理して前記材料を分解してその分子量を
下げる方法であって、前記材料が処理容器に供給され、
処理容器中で照射される方法において、前記放射が前記
処理容器の選択した領域に供給され、前記材料が前記放
射中処理容器中で攪拌されて前記材料を前記選択した領
域の内外に反復的に移動し、前記材料が均一に照射され
、前記材料が前記処理中５００°Ｆ以下の選択した温度
を維持するように冷却されることを特徴とする方法。
（１１）請求項１０記載の方法において、空気が前記材
料に与えられて前記材料を冷却し、前記材料を流動化し
、前記放射中前記材料に酸素を与えることを特徴とする
方法。
（１２）請求項１０または１１のいずれか１つに記載の
方法において、付加的材料が前記処理中前記容器に供給
されることを特徴とする方法。
（１３）請求項１０ないし１２のいずれか１つに記載の
方法において、空気が前記処理中前記材料に供給され、
前記容器が負圧で換気され空気中の粒子およびガスを取
除くことを特徴とする方法。
（１４）請求項１３記載の方法において、前記取除かれ
た材料が回収されることを特徴とする方法。
（１５）請求項１０ないし１４のいずれか１つに記載の
方法において、水が前記処理中前記材料に供給されるこ
とを特徴とする方法。
（１６）請求項１０ないし１５のいずれか１つに記載の
方法において、材料が未使用のポリテトラフルオロエチ
レンであり、選択した温度が約２６０°Ｆであることを
特徴とする方法。
（１７）請求項１６記載の方法において、前記冷却は、
材料の温度が約２４５°Ｆまで下げられると、中断され
ることを特徴とする方法。
（１８）請求項１０ないし１６のいずれか１つに記載の
方法において、処理される材料が加熱処理の歴史を持つ
焼結したスクラップのポリテトラフルオロエチレンであ
り、前記選択した温度が約３９０°Ｆ以下であることを
特徴とする方法。
（１９）請求項１８記載の方法において、温度が約３７
５°Ｆまで下げられたとき冷却が中断されることを特徴
とする方法。
（２０）請求項１０ないし１６のいずれか１つに記載の
方法において、処理される材料が非未使用ポリテトラフ
ルオロエチレンであり、前記選択した温度が約２６５°
Ｆであることを特徴とする方法。
（２１）請求項２０記載の方法において、材料の温度が
約２５０°Ｆまで下げられたとき、冷却が中断されるこ
とを特徴とする方法。
（２２）請求項１０ないし１６のいずれか１つに記載の
方法において、材料が粒状ポリテトラフルオロエチレン
チップであり、前記選択した温度が約２６５°Ｆである
ことを特徴とする方法。
（２３）請求項２２記載の方法において、材料の温度が
約２６５°Ｆまで下げられたとき冷却が中断されること
を特徴とする方法。
（２４）請求項１０ないし１６のいずれか１つに記載の
方法において、処理される材料がスクラップのポリテト
ラフルオロエチレンテープであり、前記選択した温度が
約２６５°Ｆであることを特徴とする方法。
（２５）請求項２４記載の方法において、温度が約２５
０°Ｆまでに下げられたとき、冷却が中断されることを
特徴とする方法。