JPH0128669Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0128669Y2 JPH0128669Y2 JP5600683U JP5600683U JPH0128669Y2 JP H0128669 Y2 JPH0128669 Y2 JP H0128669Y2 JP 5600683 U JP5600683 U JP 5600683U JP 5600683 U JP5600683 U JP 5600683U JP H0128669 Y2 JPH0128669 Y2 JP H0128669Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- bellows
- spring
- cassette
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は被描画材を装填したカセツトの供給時
に発生する振動が描画室に伝達しないようにした
電子ビーム描画装置に関する。
に発生する振動が描画室に伝達しないようにした
電子ビーム描画装置に関する。
従来の一般的な電子ビーム描画装置を第１図に
より述べると、定盤１１はクツシヨン１２を介し
て架台１３上に載置されており、クツシヨン１２
は上下方向のクツシヨン作用を有するが水平方向
の拘束力は全く有していない。定盤１１上に固着
された描画室１４の内部に設けられた描画ステー
ジ１５にはカセツト１６が載置されており、カセ
ツト１６内の被描画材（図示せず）は電子光学系
１７により所望のパターンが描画される。描画ス
テージ１５に対しカセツト１６の供給および搬出
を行うための予備室１８が駒１９を介して架台１
３に固着されており、予備室１８内には複数のカ
セツト１６を収納しかつマガジン上下機構２０に
より上下動されるマガジン２１が置かれている。
描画ステージ１５とマガジン２１のカセツト１６
は描画室１４に対しカセツト搬送機構２２によ
り、必要に応じて選択されたカセツト１６を搬入
し或いは描画の終了したカセツト１６を搬出す
る。描画時に描画室１４は真空でなければならな
いので、描画室１４と予備室１８との間には仕切
弁２３を設けることにより予備室１８に対するカ
セツト１６の搬出入時にも描画室１４の真空を保
持し得るようになつている。
より述べると、定盤１１はクツシヨン１２を介し
て架台１３上に載置されており、クツシヨン１２
は上下方向のクツシヨン作用を有するが水平方向
の拘束力は全く有していない。定盤１１上に固着
された描画室１４の内部に設けられた描画ステー
ジ１５にはカセツト１６が載置されており、カセ
ツト１６内の被描画材（図示せず）は電子光学系
１７により所望のパターンが描画される。描画ス
テージ１５に対しカセツト１６の供給および搬出
を行うための予備室１８が駒１９を介して架台１
３に固着されており、予備室１８内には複数のカ
セツト１６を収納しかつマガジン上下機構２０に
より上下動されるマガジン２１が置かれている。
描画ステージ１５とマガジン２１のカセツト１６
は描画室１４に対しカセツト搬送機構２２によ
り、必要に応じて選択されたカセツト１６を搬入
し或いは描画の終了したカセツト１６を搬出す
る。描画時に描画室１４は真空でなければならな
いので、描画室１４と予備室１８との間には仕切
弁２３を設けることにより予備室１８に対するカ
セツト１６の搬出入時にも描画室１４の真空を保
持し得るようになつている。
このような電子ビーム描画装置でも被描画材へ
の描画は可可能であるが、カセツト搬入動作時に
おけるカセツト１６の選択動作と支切弁２３の開
閉動作そしてカセツト１６の搬送動作の際に、機
械的振動が発生し、この振動は予備室１８から仕
切弁２３と描画室１４を介して、描画ステージ１
５上のカセツト１６へ伝達されるので、この間の
描画は不可能になる。そしてこのロスタイムは生
産性向上の大きな妨げになつていた。
の描画は可可能であるが、カセツト搬入動作時に
おけるカセツト１６の選択動作と支切弁２３の開
閉動作そしてカセツト１６の搬送動作の際に、機
械的振動が発生し、この振動は予備室１８から仕
切弁２３と描画室１４を介して、描画ステージ１
５上のカセツト１６へ伝達されるので、この間の
描画は不可能になる。そしてこのロスタイムは生
産性向上の大きな妨げになつていた。
本考案はかかる欠点を除去したものでその目的
は、カセツト搬入動作中も描画を可能にすること
により生産性を向上させた電子ビーム描画装置を
提供することにある。
は、カセツト搬入動作中も描画を可能にすること
により生産性を向上させた電子ビーム描画装置を
提供することにある。
本考案はこのような目的を達成するため、描画
室および予備室とを備えた電子ビーム描画装置に
おいて、前記予備室に固着され前記描画室との間
にあつて前記両室の空気の流通および遮断をする
仕切弁と、同仕切弁および前記描画室を密封状態
で接続するベローズと、同ベローズの近傍にあつ
て前記描画室および前記仕切弁の両者を離す方向
に作用するスプリングと、同じく前記ベローズの
近傍にあつて該ベローズの伸長量を規制するバネ
受とから構成し、カセツト搬入動作時の振動が描
画室へ伝達されないようにした電子ビーム描画装
置にした。
室および予備室とを備えた電子ビーム描画装置に
おいて、前記予備室に固着され前記描画室との間
にあつて前記両室の空気の流通および遮断をする
仕切弁と、同仕切弁および前記描画室を密封状態
で接続するベローズと、同ベローズの近傍にあつ
て前記描画室および前記仕切弁の両者を離す方向
に作用するスプリングと、同じく前記ベローズの
近傍にあつて該ベローズの伸長量を規制するバネ
受とから構成し、カセツト搬入動作時の振動が描
画室へ伝達されないようにした電子ビーム描画装
置にした。
以下本考案の一実施例を示した第２図および第
３図について説明する。なお第２図において従来
例である第１図と同等部材は同一符号を付して詳
しい説明を省略し異なる部分についてのみ説明す
る。描画室１４と予備室１８に固着した仕切弁２
３との間は接続機構３１により接続されている。
この接続機構３１の詳細を第３図により説明す
る。なお図は描画室１４および予備室１８の両者
が真空状態か或いは描画室１４のみ真空状態で描
画可能なときを示している。描画室１４の一側と
仕切弁２３の弁本体２３Ａにはベローズ３２が気
密的に取付けられており、ベローズ３２の外周に
は空気スプリング３３が描画室１４と弁本体２３
Ａに取付けられている。なおスプリングとして空
気スプリング３３を示したがコイルスプリングで
もよいしゴムクツシヨンでもよく、防振の点から
は空気スプリングが最も好ましい。ベローズ３２
の内側には一側を描画室１４に固着した筒状のバ
ネ受３４があり、バネ受３４の他側はつば状に形
成されて弁本体２３Ａに当接し、ベローズ３２の
伸びを規制するようになつているが、描画時は弁
部材２３Ｂから僅かに離れている。
３図について説明する。なお第２図において従来
例である第１図と同等部材は同一符号を付して詳
しい説明を省略し異なる部分についてのみ説明す
る。描画室１４と予備室１８に固着した仕切弁２
３との間は接続機構３１により接続されている。
この接続機構３１の詳細を第３図により説明す
る。なお図は描画室１４および予備室１８の両者
が真空状態か或いは描画室１４のみ真空状態で描
画可能なときを示している。描画室１４の一側と
仕切弁２３の弁本体２３Ａにはベローズ３２が気
密的に取付けられており、ベローズ３２の外周に
は空気スプリング３３が描画室１４と弁本体２３
Ａに取付けられている。なおスプリングとして空
気スプリング３３を示したがコイルスプリングで
もよいしゴムクツシヨンでもよく、防振の点から
は空気スプリングが最も好ましい。ベローズ３２
の内側には一側を描画室１４に固着した筒状のバ
ネ受３４があり、バネ受３４の他側はつば状に形
成されて弁本体２３Ａに当接し、ベローズ３２の
伸びを規制するようになつているが、描画時は弁
部材２３Ｂから僅かに離れている。
次に前述した電子ビーム描画装置の動作につい
て説明する。被描画材を描画するときは描画室１
４内は高真空になるのでベローズ３２は負の圧力
を受ける。このときベローズ３２の一側の弁本体
２３Ａは予備室１８と駒１９を介して架台１３へ
固着されているので不動であるが、ベローズ３２
の他側を取付けた描画室１４は水平方向に拘束力
のないクツシヨン１２を介して定盤１１上に載置
されているので、弁本体２３Ａ側に近づこうとす
るがスプリング３３があるので位置はほとんど不
動である。このようにスプリング３３の強さはベ
ローズ３２の内径により決められる。また描画室
１４内が大気圧に解放されたときは、ベローズ３
２の内外の圧力差はなくなり真空時に比較してベ
ローズ３２は伸びる、従つて描画室１４は弁本体
２３Ａから遠ざかろうとするがバネ受３４の右端
つば状部が弁本体２３Ａに係合して移動をわずか
に押える。
て説明する。被描画材を描画するときは描画室１
４内は高真空になるのでベローズ３２は負の圧力
を受ける。このときベローズ３２の一側の弁本体
２３Ａは予備室１８と駒１９を介して架台１３へ
固着されているので不動であるが、ベローズ３２
の他側を取付けた描画室１４は水平方向に拘束力
のないクツシヨン１２を介して定盤１１上に載置
されているので、弁本体２３Ａ側に近づこうとす
るがスプリング３３があるので位置はほとんど不
動である。このようにスプリング３３の強さはベ
ローズ３２の内径により決められる。また描画室
１４内が大気圧に解放されたときは、ベローズ３
２の内外の圧力差はなくなり真空時に比較してベ
ローズ３２は伸びる、従つて描画室１４は弁本体
２３Ａから遠ざかろうとするがバネ受３４の右端
つば状部が弁本体２３Ａに係合して移動をわずか
に押える。
このように描画室１４と仕切弁２３はベローズ
３２とスプリング３３で接続されており、かつベ
ローズ３２とスプリング３３の両者は共に弾性体
で振動を遮断する性質をもつているので、描画室
１４での描画時にカセツト１６の搬入動作を行つ
て予備室１８に振動が発生しても、振動はベロー
ズ３２とスプリング３３により遮断されて描画室
１４へは伝達されない。
３２とスプリング３３で接続されており、かつベ
ローズ３２とスプリング３３の両者は共に弾性体
で振動を遮断する性質をもつているので、描画室
１４での描画時にカセツト１６の搬入動作を行つ
て予備室１８に振動が発生しても、振動はベロー
ズ３２とスプリング３３により遮断されて描画室
１４へは伝達されない。
以上説明したように本考案の電子ビーム描画装
置は、従来の方式にベローズとスプリングを付加
したのみの簡単な構成でありながら、カセツト搬
入動作時に発生する予備室の機械的振動が描画室
に伝達することを遮断したので、この時点でも被
描画材への描画は可能になつて生産性は大巾に向
上した。
置は、従来の方式にベローズとスプリングを付加
したのみの簡単な構成でありながら、カセツト搬
入動作時に発生する予備室の機械的振動が描画室
に伝達することを遮断したので、この時点でも被
描画材への描画は可能になつて生産性は大巾に向
上した。
第１図は従来例の側面図、第２図および第３図
は本考案の一実施例を示し第２図は側面図、第３
図は要部拡大断面図である。 １４……描画室、１６……カセツト、１８……
予備室、２３……仕切弁、３２……ベローズ、３
３……スプリング。
は本考案の一実施例を示し第２図は側面図、第３
図は要部拡大断面図である。 １４……描画室、１６……カセツト、１８……
予備室、２３……仕切弁、３２……ベローズ、３
３……スプリング。
Claims (1)
- 描画室および予備室とを備えた電子ビーム描画
装置において、前記予備室に固着され前記描画室
との間にあつて前記両室の空気の流通および遮断
をする仕切弁と、同仕切弁および前記描画室を密
封状態で接続するベローズと、同ベローズの近傍
にあつて前記描画室および前記仕切弁の両者を離
す方向に作用するスプリングと、同じく前記ベロ
ーズの近傍にあつて該ベローズの伸長量を規制す
るバネ受とを有する電子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5600683U JPS59161637U (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子ビ−ム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5600683U JPS59161637U (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子ビ−ム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59161637U JPS59161637U (ja) | 1984-10-29 |
| JPH0128669Y2 true JPH0128669Y2 (ja) | 1989-08-31 |
Family
ID=30186331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5600683U Granted JPS59161637U (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子ビ−ム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59161637U (ja) |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP5600683U patent/JPS59161637U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59161637U (ja) | 1984-10-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100575549B1 (ko) | 포오트 도어의 유지 및 배출 시스템 | |
| US5508518A (en) | Lithography tool with vibration isolation | |
| US5691806A (en) | Projection exposure apparatus containing an enclosed hollow structure | |
| JPH0312948A (ja) | 基板ホルダ | |
| JPH0128669Y2 (ja) | ||
| JP2001210576A (ja) | 荷重キャンセル機構、真空チャンバ結合体、露光装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| US11961758B2 (en) | Apparatus for processing substrate and method of transferring substrate | |
| JP4692238B2 (ja) | マスク収納容器開装置、露光装置 | |
| JP2627096B2 (ja) | トーションばね引き出し方法および装置 | |
| JPS6170545A (ja) | フイルム吸引ルダーおよび複写カメラ | |
| JPH08293455A (ja) | 半導体露光装置 | |
| JPH10144766A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2939932B2 (ja) | ベローズ装置 | |
| JPH0293139A (ja) | 減圧装置 | |
| JPH0973872A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH0385720A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置 | |
| JPH06176729A (ja) | 走査型電子顕微鏡およびその類似装置 | |
| JPH11260891A (ja) | ロボット非連結取付技術 | |
| JPH0124926Y2 (ja) | ||
| JPH01159947A (ja) | 精密処理装置 | |
| JPH01232721A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JP2004063547A (ja) | 真空雰囲気下露光装置 | |
| JP2666953B2 (ja) | 荷電ピーム描画装置 | |
| JPS6156612B2 (ja) | ||
| JPH0628776Y2 (ja) | 試料ステージ |