JPH01285939A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPH01285939A JPH01285939A JP11623888A JP11623888A JPH01285939A JP H01285939 A JPH01285939 A JP H01285939A JP 11623888 A JP11623888 A JP 11623888A JP 11623888 A JP11623888 A JP 11623888A JP H01285939 A JPH01285939 A JP H01285939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- layer
- vinylidene chloride
- silver halide
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 38
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 76
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 41
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 41
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 41
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 41
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 41
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 20
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 20
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 19
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 19
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 19
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 19
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 14
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 7
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 5
- HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N N-{[3-(2-benzamido-4-methyl-1,3-thiazol-5-yl)-pyrazol-5-yl]carbonyl}-G-dR-G-dD-dD-dD-NH2 Chemical compound S1C(C=2NN=C(C=2)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CCCN=C(N)N)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(N)=O)=C(C)N=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 229940126086 compound 21 Drugs 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- SAVMNSHHXUMFRQ-UHFFFAOYSA-N 1-[bis(ethenylsulfonyl)methoxy-ethenylsulfonylmethyl]sulfonylethene Chemical compound C=CS(=O)(=O)C(S(=O)(=O)C=C)OC(S(=O)(=O)C=C)S(=O)(=O)C=C SAVMNSHHXUMFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methoxyethane Chemical compound COCCOC=C GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWWYEELVMRNKHZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=C(C)C(N)=O CWWYEELVMRNKHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJUCCGSXGKTYBT-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CC(C)(C)C QJUCCGSXGKTYBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C=C HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHUGZIJOVAVBOQ-UHFFFAOYSA-N 2-(propylazaniumyl)acetate Chemical compound CCCNCC(O)=O BHUGZIJOVAVBOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFIOPCXETLAGLR-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(=O)OCCOC(=O)C=C UFIOPCXETLAGLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLLCROMVONRRO-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethenylbenzene Chemical compound CCCCOC=CC1=CC=CC=C1 HXLLCROMVONRRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-2-enamide Chemical compound CC=C(C)C(N)=O KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanamide Chemical compound CCC(=C)C(N)=O LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGTISPYIJZXZSE-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-enamide Chemical compound CCC=C(C)C(N)=O PGTISPYIJZXZSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)CS(O)(=O)=O AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 2-propanol Substances CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-methyl-5-pyridin-4-yl-1,2,4-triazol-3-yl)methylamino]-n-[[2-(trifluoromethyl)phenyl]methyl]benzamide Chemical compound N=1N=C(C=2C=CN=CC=2)N(C)C=1CNC(C=1)=CC=CC=1C(=O)NCC1=CC=CC=C1C(F)(F)F WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPQWSOMACYCRG-UHFFFAOYSA-N 3-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical class CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 HRPQWSOMACYCRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-2-methylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=C(C)C(N)=O SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAKVQXCLGZIMCI-UHFFFAOYSA-N 4-oxohex-5-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCC(=O)C=C RAKVQXCLGZIMCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-methyl-4h-1,4-benzoxazin-3-one Chemical compound C1=C(Br)C=C2NC(=O)C(C)OC2=C1 NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical group C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001207171 Goja Species 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N Hexyl crotonate Chemical compound CCCCCCOC(=O)\C=C\C MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N N-[3-[4-(3-methyl-5-propan-2-yl-1,2,4-triazol-4-yl)piperidin-1-yl]-1-thiophen-2-ylpropyl]acetamide Chemical compound C(C)(C)C1=NN=C(N1C1CCN(CC1)CCC(C=1SC=CC=1)NC(C)=O)C LFZAGIJXANFPFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHKTYQTZCNNFAE-UHFFFAOYSA-N N-ethenylsulfonylpropanamide Chemical compound C(=C)S(=O)(=O)NC(=O)CC IHKTYQTZCNNFAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010009736 Protein Hydrolysates Proteins 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 229940023476 agar Drugs 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003090 carboxymethyl hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N chloral hydrate Chemical compound OC(O)C(Cl)(Cl)Cl RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002327 chloral hydrate Drugs 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N dibutyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N diethyl 3,5-dimethyl-1h-pyrrole-2,4-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C=1NC(C)=C(C(=O)OCC)C=1C XSBSXJAYEPDGSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N dimethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 229960004419 dimethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- PZLGBVIKYPHZTH-UHFFFAOYSA-N ethene;2-nonylphenol Chemical compound C=C.CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O PZLGBVIKYPHZTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methoxyacetate Chemical compound COCC(=O)OC=C AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBVLUTAXWVILBT-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-eneperoxoate Chemical compound CCOOC(=O)C=C RBVLUTAXWVILBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000416 hydrocolloid Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- MPHUYCIKFIKENX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethenylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C=C MPHUYCIKFIKENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N n-butylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C=C YRVUCYWJQFRCOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- UGZVCHWAXABBHR-UHFFFAOYSA-O pyridin-1-ium-1-carboxamide Chemical class NC(=O)[N+]1=CC=CC=C1 UGZVCHWAXABBHR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- IZWPGJFSBABFGL-GMFCBQQYSA-M sodium;2-[methyl-[(z)-octadec-9-enoyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)N(C)CCS([O-])(=O)=O IZWPGJFSBABFGL-GMFCBQQYSA-M 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003441 thioacyl group Chemical group 0.000 description 1
- WEQHQGJDZLDFID-UHFFFAOYSA-J thorium(iv) chloride Chemical compound Cl[Th](Cl)(Cl)Cl WEQHQGJDZLDFID-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
- G03C1/053—Polymers obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は寸度安定性に優れたハロゲン化銀写真感光材料
に関し、かつ膜物理性、特にバインダーとの接着性が改
良されたハロゲン化銀写真感光材料に関するものである
。
に関し、かつ膜物理性、特にバインダーとの接着性が改
良されたハロゲン化銀写真感光材料に関するものである
。
(従来技術とその問題点)
ハロゲン化銀写真材料は、一般に、支持体の少なくとも
一方の側にゼラチン等の親水性コロイド′をバインダー
とする層を有して成る。かかる親水性コロイド層は、湿
度変化、温度変化に対して伸縮し易い欠点を有している
。
一方の側にゼラチン等の親水性コロイド′をバインダー
とする層を有して成る。かかる親水性コロイド層は、湿
度変化、温度変化に対して伸縮し易い欠点を有している
。
親水性コロイド層の伸縮に起因する写真感光材料の寸度
変化は、多色印刷のための網点画像や精密な線画の再現
が要求される印刷用写真感光材料等に於ては極めて重大
な欠点となる。
変化は、多色印刷のための網点画像や精密な線画の再現
が要求される印刷用写真感光材料等に於ては極めて重大
な欠点となる。
寸度変化の少ない即ち寸度安定性(Dimension
alStability)の優れた写真感光材料を得る
ために親水性コロイド層と支持体の厚み比を規定する技
術が米国特許3201250号明細書に親水性コロイド
層中にポリマーラテックスを含有ゼしめる技術が特公昭
39−4272号、同39−17702、同43−13
482、同45−533+、米国特許第237600号
、同2763625号、同2772166号、同285
2386号、同2853457号、同3397988号
、同3411911号、同3411912号明細書に記
載されている。また上記技術の理論的裏付は4才、ゼ−
キューアムバーガー(J、Q、Umberger)によ
りフォトグラフィックサイエンス アンド エンジニエ
リング(Phot、Sci、and Eng、) (1
957年)69−73頁に述べられている。
alStability)の優れた写真感光材料を得る
ために親水性コロイド層と支持体の厚み比を規定する技
術が米国特許3201250号明細書に親水性コロイド
層中にポリマーラテックスを含有ゼしめる技術が特公昭
39−4272号、同39−17702、同43−13
482、同45−533+、米国特許第237600号
、同2763625号、同2772166号、同285
2386号、同2853457号、同3397988号
、同3411911号、同3411912号明細書に記
載されている。また上記技術の理論的裏付は4才、ゼ−
キューアムバーガー(J、Q、Umberger)によ
りフォトグラフィックサイエンス アンド エンジニエ
リング(Phot、Sci、and Eng、) (1
957年)69−73頁に述べられている。
しかしながら、親水性コロイド層中にこれらのポリマー
ラテックスを含有せしめることにより、しばしば、現像
処理液中での膜強度、耐摩耗性及び支持体に対するこれ
らの層の接着性などに悪影響を与える。
ラテックスを含有せしめることにより、しばしば、現像
処理液中での膜強度、耐摩耗性及び支持体に対するこれ
らの層の接着性などに悪影響を与える。
米国特許3,459,790号、同3.488゜708
号、同3,554,987号、同3,700.456号
、同3,939,130号、英国特許1,491,70
1号、等には、従来のゼラチン硬膜剤と反応する活性メ
チレン基を有するポリマーを用いることにより、上記の
ポリマーラテックスによる悪影響を改良する技術が記載
されている。これらの技術によって、現像処理液中での
膜強度や耐摩耗性を損うことなくある程度の寸度安定性
の良化が得られた。しかしながら、多色印刷や精密な線
画の再現が要求される印刷分野においでは、更に寸度安
定性の向」二が強く望まれている。
号、同3,554,987号、同3,700.456号
、同3,939,130号、英国特許1,491,70
1号、等には、従来のゼラチン硬膜剤と反応する活性メ
チレン基を有するポリマーを用いることにより、上記の
ポリマーラテックスによる悪影響を改良する技術が記載
されている。これらの技術によって、現像処理液中での
膜強度や耐摩耗性を損うことなくある程度の寸度安定性
の良化が得られた。しかしながら、多色印刷や精密な線
画の再現が要求される印刷分野においでは、更に寸度安
定性の向」二が強く望まれている。
又、特開昭60−3627号にはポリエステルフィルム
の両面をポリオレフィンで被覆した支持体による寸度安
定性改良技術が開示されているが実用的には、まだ不充
分なものであった。
の両面をポリオレフィンで被覆した支持体による寸度安
定性改良技術が開示されているが実用的には、まだ不充
分なものであった。
また、高コントラストの写真特性を得る方法として、米
国特許筒4,224,401号、同第4゜168.97
7号、同第4.166.742号、同第4,311.7
81号、同第4.272.606号、同第4,211,
857号、同第4.243.739号等に記載されてい
るヒドラジン誘導体を用いる方法がある。
国特許筒4,224,401号、同第4゜168.97
7号、同第4.166.742号、同第4,311.7
81号、同第4.272.606号、同第4,211,
857号、同第4.243.739号等に記載されてい
るヒドラジン誘導体を用いる方法がある。
この方法によれば超硬調で感度の高い写真特性が得られ
るが、寸度安定性を向上させる目的で、ポリマーラテッ
クスを多量に使用することににって、ヒドラジン誘導体
による硬調化作用が阻害され、高コントラストの写真特
性が得られないなどの悪影響を与えるため、ポリマーラ
テックスの使用量が制限され、十分な寸度安定性を得る
ことができないという不都合があった。
るが、寸度安定性を向上させる目的で、ポリマーラテッ
クスを多量に使用することににって、ヒドラジン誘導体
による硬調化作用が阻害され、高コントラストの写真特
性が得られないなどの悪影響を与えるため、ポリマーラ
テックスの使用量が制限され、十分な寸度安定性を得る
ことができないという不都合があった。
親水性コロイド層と支持体の厚み比を規定する技術は、
未処理フィルム、処理済フィルムの湿度変化に対する伸
縮量は少なくすることができる。
未処理フィルム、処理済フィルムの湿度変化に対する伸
縮量は少なくすることができる。
しかし、通常写真フィルムが必ず経験する処理工程(現
像、定着、水洗、乾燥)前後での寸度安定性を改善する
ことはできない。これは、処理工程中、吸水により支持
体が伸びるが、その後の乾燥工程を経てもベースの伸び
は超時間たたないと元に戻らず実用上伸びが残る結果と
なる。従って未処理状態でのフィルムと処理後のフィル
ムの寸法を比較すると後者が伸びた状態にあることが多
い。
像、定着、水洗、乾燥)前後での寸度安定性を改善する
ことはできない。これは、処理工程中、吸水により支持
体が伸びるが、その後の乾燥工程を経てもベースの伸び
は超時間たたないと元に戻らず実用上伸びが残る結果と
なる。従って未処理状態でのフィルムと処理後のフィル
ムの寸法を比較すると後者が伸びた状態にあることが多
い。
当業界ではこの現象を処理に伴なう寸度安定性が悪いと
表現し、これは印刷用写真感光材料に於て特に重大な欠
点となる。
表現し、これは印刷用写真感光材料に於て特に重大な欠
点となる。
親水性コロイド層にポリマーラテックスを含有せしめる
技術も湿度変化に対する伸縮量を減らすことができるが
、処理工程に対しては処理液が支持体に浸透するため上
述の欠点は回避し得ない。
技術も湿度変化に対する伸縮量を減らすことができるが
、処理工程に対しては処理液が支持体に浸透するため上
述の欠点は回避し得ない。
(発明の目的)
本発明の第1の目的は、環境変化に伴なう寸度安定性お
よび処理に伴なう寸度安定性が優れたハロゲン化銀写真
感光材料を提供することにある。
よび処理に伴なう寸度安定性が優れたハロゲン化銀写真
感光材料を提供することにある。
本発明の第2の目的はヒドラジン誘導体を用いた超硬調
化感材において環境変化や処理に伴う寸度安定性が優れ
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
化感材において環境変化や処理に伴う寸度安定性が優れ
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
本発明の第3の目的は現像処理液中での膜強度、耐摩耗
性及び支持体及びバインダーに対する接着性が良化し、
更に環境変化や処理に伴う寸度安定性が優れたハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
性及び支持体及びバインダーに対する接着性が良化し、
更に環境変化や処理に伴う寸度安定性が優れたハロゲン
化銀写真感光材料を提供することにある。
第4に、ポリエステルフィルム支持体と親水性コロイド
層が強固に接着しているハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
層が強固に接着しているハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
(発明の構成)
本発明の目的はポリエステル支持体の少なくとも一方の
側の、少なくとも一層に、70.0〜99.5重量%の
塩化ビニリデンを含有する共重合体を有し、かつこの共
重合体中に0.01〜15.0重世%のバインダーと直
接あるいは硬化剤を介して結合する基を有する繰返し単
位を少なくとも一種含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料によって達成された。
側の、少なくとも一層に、70.0〜99.5重量%の
塩化ビニリデンを含有する共重合体を有し、かつこの共
重合体中に0.01〜15.0重世%のバインダーと直
接あるいは硬化剤を介して結合する基を有する繰返し単
位を少なくとも一種含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料によって達成された。
(発明の具体的構成)
本発明における塩化ビニリデン共重合体とは、塩化ビニ
リデンに対しバインダーと直接あるいは硬化剤を介して
結合する基を有するモノマーを少なくとも1種と、必要
に応しその他の任意のモノマーを0〜数種組合せて作る
ことができる。この共重合体において塩化ビニリデンは
70.0〜99.5重量%、好ましくは85〜97重量
%、特に好ましくは88〜94重量%であり、バインダ
ーと直接あるいは硬化剤を介して結合する基を有するモ
ノマーは0.01〜15.0重量%、好ましくは0.0
5〜IO30重量%、特に好ましくは0.1〜5.0重
量%である。
リデンに対しバインダーと直接あるいは硬化剤を介して
結合する基を有するモノマーを少なくとも1種と、必要
に応しその他の任意のモノマーを0〜数種組合せて作る
ことができる。この共重合体において塩化ビニリデンは
70.0〜99.5重量%、好ましくは85〜97重量
%、特に好ましくは88〜94重量%であり、バインダ
ーと直接あるいは硬化剤を介して結合する基を有するモ
ノマーは0.01〜15.0重量%、好ましくは0.0
5〜IO30重量%、特に好ましくは0.1〜5.0重
量%である。
バインダーと直接あるいは硬化剤を介して結合する基を
有する繰返し単位の好ましい例は一般式(T)によって
表わされる。
有する繰返し単位の好ましい例は一般式(T)によって
表わされる。
+CHz C→−(1)
[W−8
式中AIは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または
ハロゲン原子を表わし、Wは連結基を表わし、Bはバイ
ンダーと直接あるいは硬化剤を介して結合する基を表わ
す。
ハロゲン原子を表わし、Wは連結基を表わし、Bはバイ
ンダーと直接あるいは硬化剤を介して結合する基を表わ
す。
AI は特に好ましくは水素原子及びメチル基を表わす
。Wは具体的には(II)式で表わされる。
。Wは具体的には(II)式で表わされる。
+H+→−−+−+X”fJ’ X”→−X2−
(−J”−X’→−Xff+J3→−□う−、、
(II)式中W1は−CON−(A2は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜6の置換ア
ルキル基を表わす) 、−coo−1−N HCO−=
、八” (R’ 、R’はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキ
シル基、ハロゲン原子または置換もしくは無置換の、ア
ルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ蟇もしくはアリ
ールオキシ基を表わす)、八9 A4は上記に同じ)を表わし、 J+ 、JZ 、Jsは同しでも異なっていてもよく、
−CO−1SO2−1−CON−(A’ は水素原子、
アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数
1〜6) 、−so、N−(A5義、A6は炭素数1〜
約4のアルキレン基)、A、水素原子、アルキル基(炭
素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜6)を表わ
す。)、A S A ff 一〇−1−S−1−N−CO−N−(A5、A7は上記
と同義)、−COO−1−OCO−1(A 5は上記と
同義)等を挙げることができる。
(−J”−X’→−Xff+J3→−□う−、、
(II)式中W1は−CON−(A2は水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜6の置換ア
ルキル基を表わす) 、−coo−1−N HCO−=
、八” (R’ 、R’はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキ
シル基、ハロゲン原子または置換もしくは無置換の、ア
ルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ蟇もしくはアリ
ールオキシ基を表わす)、八9 A4は上記に同じ)を表わし、 J+ 、JZ 、Jsは同しでも異なっていてもよく、
−CO−1SO2−1−CON−(A’ は水素原子、
アルキル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数
1〜6) 、−so、N−(A5義、A6は炭素数1〜
約4のアルキレン基)、A、水素原子、アルキル基(炭
素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜6)を表わ
す。)、A S A ff 一〇−1−S−1−N−CO−N−(A5、A7は上記
と同義)、−COO−1−OCO−1(A 5は上記と
同義)等を挙げることができる。
xl、)(!、χ3は同じでも異なっていてもよく、ア
ルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換ア
リーレン基、アラルキレン基、置換アラルキレン基を表
わす。
ルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換ア
リーレン基、アラルキレン基、置換アラルキレン基を表
わす。
X’ 、X”% X’、X’およびX′″は0または1
を表わす。
を表わす。
上記一般式(II)においてXI 、X2、χコは互い
に同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜10個の無
置換もしくは置換のアルキレン基、アラルキレン基、ま
たはフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖でも分
岐でもよい。アルキレン基としては例えばメチレン、メ
チルメチレン、ジメチルメチレン、ジメチレン、トリメ
チレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチ
レン、デシルメチレン、アラルキレン基としては例えば
ベンジリデン、フェニレン基としては例えばp−フェニ
レン、m−フェニレン、メチルフェニレンなどがある。
に同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜10個の無
置換もしくは置換のアルキレン基、アラルキレン基、ま
たはフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖でも分
岐でもよい。アルキレン基としては例えばメチレン、メ
チルメチレン、ジメチルメチレン、ジメチレン、トリメ
チレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチ
レン、デシルメチレン、アラルキレン基としては例えば
ベンジリデン、フェニレン基としては例えばp−フェニ
レン、m−フェニレン、メチルフェニレンなどがある。
また)(+ 、x* 、x3で表わされるアルキレン基
、アラルキレン基またはフェニレン基の置換基としては
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、置換
アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−N
HCOA aで表わされる基(AIlはアルキル基、置
換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキ
ル基、置換アラルキル基を表わす) 、−NH3O,八
〇 (A8は上記と同義) 、−3OA” (A”は
上記と同義)、−3o、A” (A日は上記と同義)
、−COA”される基(A9 、AlOは互いに同じ
でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル
基、置換アラルキル基を表わす)、 アミノ基(アルキル基で置換されていてもよい)、水酸
基や加水分解して水酸基を形成する基が挙げられる。こ
の置換基が2つ以上あるときは互いに同じでも異なって
もよい。
、アラルキレン基またはフェニレン基の置換基としては
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、置換
アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−N
HCOA aで表わされる基(AIlはアルキル基、置
換アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキ
ル基、置換アラルキル基を表わす) 、−NH3O,八
〇 (A8は上記と同義) 、−3OA” (A”は
上記と同義)、−3o、A” (A日は上記と同義)
、−COA”される基(A9 、AlOは互いに同じ
でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル
基、置換アラルキル基を表わす)、 アミノ基(アルキル基で置換されていてもよい)、水酸
基や加水分解して水酸基を形成する基が挙げられる。こ
の置換基が2つ以上あるときは互いに同じでも異なって
もよい。
また、上記置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換フ
ェニル基、置換アラルキル基の置換基の例としては、水
酸基、ニトロ基、炭素数1〜約4のアルコキシ基、 N
H30z A’ (A’は上記と同義)、−NHCO
A”で表わされる茫(A 11は(A9 、A10は上
記と同義)、−3o、AII (A’は上記と同義)
、−COAs (A’は上記と同義)、ハロゲン原子、
シアノ基、アミノ基(アルキル基で置換されていてもよ
い)等が挙げられる。
ェニル基、置換アラルキル基の置換基の例としては、水
酸基、ニトロ基、炭素数1〜約4のアルコキシ基、 N
H30z A’ (A’は上記と同義)、−NHCO
A”で表わされる茫(A 11は(A9 、A10は上
記と同義)、−3o、AII (A’は上記と同義)
、−COAs (A’は上記と同義)、ハロゲン原子、
シアノ基、アミノ基(アルキル基で置換されていてもよ
い)等が挙げられる。
一般式〔■〕で表わされる化合物のうち特に好ましい化
合物について以下に示す。
合物について以下に示す。
w’は−CONH−2−COO−1−OCO−1は同じ
でも異なっていてもよく、−CO−1SOz−1−CO
NH−1−3O2NH−1−NHCO−1−NHsot
−1−〇−1−NHCONH−1−S−1−COO−1
−OCO−1−NHCOO−1−0CON H−を表わ
し、X11Xi、)(3は同じでも異なっていてもよく
、アルキレン基(炭素数1〜4)、了り−レン基、置換
アリーレン基を表わし、X’ 、X” % X’ 、X
’およびx5は0または1を表わす。
でも異なっていてもよく、−CO−1SOz−1−CO
NH−1−3O2NH−1−NHCO−1−NHsot
−1−〇−1−NHCONH−1−S−1−COO−1
−OCO−1−NHCOO−1−0CON H−を表わ
し、X11Xi、)(3は同じでも異なっていてもよく
、アルキレン基(炭素数1〜4)、了り−レン基、置換
アリーレン基を表わし、X’ 、X” % X’ 、X
’およびx5は0または1を表わす。
Bで表わされるバインダーと直接あるいは硬化剤を介し
て結合する基の特に好ましい例は活性メチレン基、(ポ
リ)ヒドロキシフェニル基、スルフィン酸基、アミン基
(アルキル基又はフェニル基で置換されていてもよい)
、活性エステル基、活性ハロゲン、活性ビニル基及びそ
の前駆体、エポキシ基、エチレンイミン基等があげられ
るが、本発明は勿論これに限定されるものではない。
て結合する基の特に好ましい例は活性メチレン基、(ポ
リ)ヒドロキシフェニル基、スルフィン酸基、アミン基
(アルキル基又はフェニル基で置換されていてもよい)
、活性エステル基、活性ハロゲン、活性ビニル基及びそ
の前駆体、エポキシ基、エチレンイミン基等があげられ
るが、本発明は勿論これに限定されるものではない。
本発明におけるバインダーとはハロゲン化銀乳剤層、そ
の他の親水性コロイド層に用いられる親水性コロイドで
あり、例えばゼラチン、ポリアクリルアミド、デキスト
ラン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等
であるが、最も好ましいのはゼラチンである。
の他の親水性コロイド層に用いられる親水性コロイドで
あり、例えばゼラチン、ポリアクリルアミド、デキスト
ラン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等
であるが、最も好ましいのはゼラチンである。
次に、一般式(1)の具体例をあげるが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
1−1 co、=cu
1 2 CHs
■
CI+、=C
1−3CH!=C11
1−4CI。
■
CH,=C
1−5cnz=c。
1 6 (Jls
■
CI(!=C
■
02K
1−8 CHj
CH2=C
■
1−9 CH,=CH
C00C)12CHC8!
N1
1−10 CIl□−CH
■
C0N11CLNIICOCil□C1I□SO□CI
l□CI1.CN1 1 1 CIh=CI
I■ CO□CLCII□0COC112CII。SO□CR
,CIIfCj21−1 4 C1+。
l□CI1.CN1 1 1 CIh=CI
I■ CO□CLCII□0COC112CII。SO□CR
,CIIfCj21−1 4 C1+。
■−15
〇
1−16 Cl11
し!
1−18 CH。
1−19 CIl□−C8
畷
C00CII□CN
122 CL
1−23 cut=c。
N)!
O
喝
1−25C11゜
曜
1−26 CI+3CIh=C
1−27co。
■
C112=C
1−29C112=C11
C00CI(zcIl = Clh
本発明に用いられるその他の任意の千ツマ−とは、例え
ば、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、
メタクリル酸エステル類、クロトン酸、クロトン酸エス
テル類、ビニルエステル、マレイン酸、マレイン酸ジエ
ステル、フマル酸、フマル酸ジエステル、イタコン酸、
イタコン酸ジエステル、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエーテル類、スチレン類等が挙げられ
る。これらの酸はアルカリ金属(例えばNa、に等)ま
たはアンモニウムイオンの塩であってもよい。
ば、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、
メタクリル酸エステル類、クロトン酸、クロトン酸エス
テル類、ビニルエステル、マレイン酸、マレイン酸ジエ
ステル、フマル酸、フマル酸ジエステル、イタコン酸、
イタコン酸ジエステル、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエーテル類、スチレン類等が挙げられ
る。これらの酸はアルカリ金属(例えばNa、に等)ま
たはアンモニウムイオンの塩であってもよい。
これらの単量体について更に具体例を示すと、アクリル
酸エステルとしてはメチルアクリレート、エチルアクリ
レート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアク
リレート、n−ブチルアクリレート、3−アクリロイル
プロパンスルホン酸、アセトキシエチルアクリレート、
フェニルアクリレート、2−メトキシアクリレート、2
−エトキシアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ
)エチルアクリレート、2−メタンスルホンアミドニー
21= チルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸エステ
ルとしてはメチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリ
レート、ter t−ブチルメタクリレート、シクロへ
キシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメククリ
レート、2−エトキシエチルメタクリレート等が挙げら
れる。クロトン酸エステルとしてはクロトン酸ブチル、
クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。ビニルエステル
としてはビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビ
ニルブチレート、ビニルメトキシアセテ−1・、安息香
酸ビニル等が挙げられる。マレイン酸ジエステルとして
はマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン
酸ジブチル等が挙げられる。
酸エステルとしてはメチルアクリレート、エチルアクリ
レート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアク
リレート、n−ブチルアクリレート、3−アクリロイル
プロパンスルホン酸、アセトキシエチルアクリレート、
フェニルアクリレート、2−メトキシアクリレート、2
−エトキシアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ
)エチルアクリレート、2−メタンスルホンアミドニー
21= チルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸エステ
ルとしてはメチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリ
レート、ter t−ブチルメタクリレート、シクロへ
キシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメククリ
レート、2−エトキシエチルメタクリレート等が挙げら
れる。クロトン酸エステルとしてはクロトン酸ブチル、
クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。ビニルエステル
としてはビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビ
ニルブチレート、ビニルメトキシアセテ−1・、安息香
酸ビニル等が挙げられる。マレイン酸ジエステルとして
はマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン
酸ジブチル等が挙げられる。
フマル酸ジエステルとしてはフマル酸ジエチル、フマル
酸ジメチル、フマル酸ジブチル等が挙げられる。イタコ
ン酸ジエステルとしてはイタコン酸ジエチル、イタコン
酸ジメチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。アク
リルアミド類としてはアクリルアミド、メチルアクリル
アミド、エチルアクリルアミド、イソプロピルアクリル
アミド、n−ブチルアクリルアミド、ヒドロキシメチル
アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロ
イルモルホリン、アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸等が挙げられる。メタクリルアミド類として
はメチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、
n−ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタク
リルアミド、2−メトキシメタクリルアミド、ジメチル
メタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド等が挙げ
られる。
酸ジメチル、フマル酸ジブチル等が挙げられる。イタコ
ン酸ジエステルとしてはイタコン酸ジエチル、イタコン
酸ジメチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。アク
リルアミド類としてはアクリルアミド、メチルアクリル
アミド、エチルアクリルアミド、イソプロピルアクリル
アミド、n−ブチルアクリルアミド、ヒドロキシメチル
アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロ
イルモルホリン、アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸等が挙げられる。メタクリルアミド類として
はメチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、
n−ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタク
リルアミド、2−メトキシメタクリルアミド、ジメチル
メタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド等が挙げ
られる。
ビニルエーテル類としてはメチルビニルエーテル、ブチ
ルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシ
エチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルヒニルエ
ーテル等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン
、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチ
レン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチル
スチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、
ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香
酸メチルエステル、2−メチルスチレン、スチレンスル
ホン酸、ビニル安息香酸等が挙げられる。
ルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシ
エチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルヒニルエ
ーテル等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン
、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチ
レン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチル
スチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、
ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香
酸メチルエステル、2−メチルスチレン、スチレンスル
ホン酸、ビニル安息香酸等が挙げられる。
その他の単量体の例としてはアリル化合物(例えば酢酸
アリル等)、ビニルケトン類(例えばメチルビニルケト
ン等)、ビニル複素環化合物(例えばビニルピリジン)
、不飽和ニトリル類(例えばアクリロニトリル、メタク
リルニトリル等)があげられる。
アリル等)、ビニルケトン類(例えばメチルビニルケト
ン等)、ビニル複素環化合物(例えばビニルピリジン)
、不飽和ニトリル類(例えばアクリロニトリル、メタク
リルニトリル等)があげられる。
次に本発明の化合物の合成例を示す。
〔合成例1〕本発明の化合物1の合成
水200−、ラウリル硫酸ソーダ4.8g及び過硫酸カ
リウム0.75gを窒素置換した後、攪拌しながら密閉
系で窒素置換した塩化ビニリデン270g、メチルメタ
クリレート21g1アクリロニトリル7.5g及びl−
21,5gのモノマー混合物及び亜硫酸水素ナトリウム
水溶液(0,65g / ] 00 muを45℃、6
時間で滴下した。滴下後45°C2時間攪拌した後、窒
素バブリングにより未反応のモノマーを除去し、目的物
のラテックスを得た。
リウム0.75gを窒素置換した後、攪拌しながら密閉
系で窒素置換した塩化ビニリデン270g、メチルメタ
クリレート21g1アクリロニトリル7.5g及びl−
21,5gのモノマー混合物及び亜硫酸水素ナトリウム
水溶液(0,65g / ] 00 muを45℃、6
時間で滴下した。滴下後45°C2時間攪拌した後、窒
素バブリングにより未反応のモノマーを除去し、目的物
のラテックスを得た。
固型分濃度51.4%、平均粒径122nmであった。
元素分析及びNMRより本発明の化合物1は次の構造を
示すことが分かった。
示すことが分かった。
ClCH3CII*
〔合成例2〕本発明の化合物2の合成
水200d、ラウリル硫酸ソーダ2.8g及び過硫酸カ
リウム0.75 gを窒素置換した後、攪拌しながら密
閉系で窒素i1F換した塩化ビニリデン270 g、メ
チルメタクリレート21g、アクリロニトリル7.5g
及びl−515gのモノマー混合物及び亜硫酸水素ナト
リウム水溶液(0,65g / 100 i)を43℃
、8時間で滴下した。滴下後45℃で2時間攪拌した後
、窒素バブリングにより未反応のモノマーを除去し、さ
らにカラリル硫酸ソーダ2.0gを添加して、目的物の
ラテックスを得た。
リウム0.75 gを窒素置換した後、攪拌しながら密
閉系で窒素i1F換した塩化ビニリデン270 g、メ
チルメタクリレート21g、アクリロニトリル7.5g
及びl−515gのモノマー混合物及び亜硫酸水素ナト
リウム水溶液(0,65g / 100 i)を43℃
、8時間で滴下した。滴下後45℃で2時間攪拌した後
、窒素バブリングにより未反応のモノマーを除去し、さ
らにカラリル硫酸ソーダ2.0gを添加して、目的物の
ラテックスを得た。
固型分濃度50.8%、平均粒径85nmであった。
元素分析及びNMRより本発明の化合物2は次の構造を
示すことが分かった。
示すことが分かった。
〔合成例3〕合成例1.2に準じて本発明の化合物3〜
20を合成した。
20を合成した。
Cj!
+ CHzC+ −+ E+ + b + [!x→−
+Es+aCl 3 MMA AN
l−74MMA MAN
+−85MMA MAA l
−96MMA l−
17MMA −1−8 8MA MAA l−8
9MA イタコン酸 1−1−8l0
AN l−1511MA
AA l−2612MA
11913 MA
l−214EA AN
l−815EA MAA l−7
16BA AN l−5178A
MAA I−890,5/ 7.
0/ 2.0/ 0.5 50.3
8590.3/ 6.2/ 2.3/ 1.2
45.1 8289.9/ 8.1/
1.0/ 1.0 30.0 78
92.0/ 7.1/ −/ 0.9 40.
5 10291.5/ 7.2/ −−/
1.3 41.2 11090.1/
8.8/ 0.8/ 0.3 45.5
11588.978.1/ 2.0/ 1.0
50.1 10889.1/ 6.9/
2.0/ 2.0 48.2 6590
.3/ 8.1/ 1.0/ 0.6 40.
6 8890.2/ 6.8/−/ 3.0
38.8 10789.4/ /
−/ 0.5 44.2 9390.
7/ / / 0.3 43.3
12091.6/ / / 1.0
4B、8 9890.4/ /
/ 2.5 51.0 10290.
0/ / /1.0 50.7
108ヨ 18 C0NHC21140CI+3 −
1−9H3 MMA ;メチルメタクリレ−1・ MA ニブチルアクリレート EA :エチルアクリレート BA ニブチルアクリレート AN ;アクリロニトリル MAN;メタクリロニトリル MAA ;メタクリル酸 AA ;アクリル酸 90.2/ / −−/ 1.1
25.5 8889.7/ / −/
1.5 30.6 6889.8/
/ −/ 1.8 50.2 1
.05(合成例4〕本発明の化合物21の合成水200
−1亜硫酸水素ナトリウム0.40g及υアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム(アルキル基は炭素数12を
主成分とする混合物) fl、8gを窒素置換した後
、攪拌しながら密閉系で窒素置換した塩化ビニリデン2
16g、メチルメタクリレート21g及び過硫酸カリウ
ム水溶液(0,8g/801R1)を55℃、12時間
で滴下した。滴下後55℃で3時間撹拌した後、さらに
塩化ビニリデン54g、アクリルニトリル3g1グリシ
ジルメタクリレート1.5g、メタクリル酸1.5g及
び過硫酸カリウム水溶液(0,2g / 20 m1l
lを55℃4時間で滴下した。滴下後55°Cで3時間
攪拌した後窒素バブリングにより未反応のモノマーを除
去し目的物のラテックスを得た。
+Es+aCl 3 MMA AN
l−74MMA MAN
+−85MMA MAA l
−96MMA l−
17MMA −1−8 8MA MAA l−8
9MA イタコン酸 1−1−8l0
AN l−1511MA
AA l−2612MA
11913 MA
l−214EA AN
l−815EA MAA l−7
16BA AN l−5178A
MAA I−890,5/ 7.
0/ 2.0/ 0.5 50.3
8590.3/ 6.2/ 2.3/ 1.2
45.1 8289.9/ 8.1/
1.0/ 1.0 30.0 78
92.0/ 7.1/ −/ 0.9 40.
5 10291.5/ 7.2/ −−/
1.3 41.2 11090.1/
8.8/ 0.8/ 0.3 45.5
11588.978.1/ 2.0/ 1.0
50.1 10889.1/ 6.9/
2.0/ 2.0 48.2 6590
.3/ 8.1/ 1.0/ 0.6 40.
6 8890.2/ 6.8/−/ 3.0
38.8 10789.4/ /
−/ 0.5 44.2 9390.
7/ / / 0.3 43.3
12091.6/ / / 1.0
4B、8 9890.4/ /
/ 2.5 51.0 10290.
0/ / /1.0 50.7
108ヨ 18 C0NHC21140CI+3 −
1−9H3 MMA ;メチルメタクリレ−1・ MA ニブチルアクリレート EA :エチルアクリレート BA ニブチルアクリレート AN ;アクリロニトリル MAN;メタクリロニトリル MAA ;メタクリル酸 AA ;アクリル酸 90.2/ / −−/ 1.1
25.5 8889.7/ / −/
1.5 30.6 6889.8/
/ −/ 1.8 50.2 1
.05(合成例4〕本発明の化合物21の合成水200
−1亜硫酸水素ナトリウム0.40g及υアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム(アルキル基は炭素数12を
主成分とする混合物) fl、8gを窒素置換した後
、攪拌しながら密閉系で窒素置換した塩化ビニリデン2
16g、メチルメタクリレート21g及び過硫酸カリウ
ム水溶液(0,8g/801R1)を55℃、12時間
で滴下した。滴下後55℃で3時間撹拌した後、さらに
塩化ビニリデン54g、アクリルニトリル3g1グリシ
ジルメタクリレート1.5g、メタクリル酸1.5g及
び過硫酸カリウム水溶液(0,2g / 20 m1l
lを55℃4時間で滴下した。滴下後55°Cで3時間
攪拌した後窒素バブリングにより未反応のモノマーを除
去し目的物のラテックスを得た。
固型分濃度49.8%、平均粒径78nmであった。
元素分析及びNMRより本発明の化合物21は次の構造
を示すことが分かった。
を示すことが分かった。
Cn CH3C1l、 CIl。
〔合成例5〕合成例J、2に準じ比較化合物]01〜1
03を合成した。
03を合成した。
比較化合物101
−(−C)1.Cう〜、。、+ + M M A→−7
,。+AN→=2.9E 固型分濃度48.9%、平均粒径89nm比較化合物1
02 −<−c++、c→−7゜、 2 (M A + e
、。イーMAA→−1,。
,。+AN→=2.9E 固型分濃度48.9%、平均粒径89nm比較化合物1
02 −<−c++、c→−7゜、 2 (M A + e
、。イーMAA→−1,。
CI!
固型分濃度45.5%、平均粒径78nm比較化合物1
03 e +GHzC+ 89. 、+ M A÷、。、3盲 (J 固型分濃度50.1%、平均粒径95nm本発明におけ
る塩化ビニリデン共重合体をポリエステル支持体に被覆
させる方法としては、これらのポリマーを適当な有機溶
剤に熔解した溶液を、又は水性分散液を一般によく知ら
れた塗布方法、例えば、デイツプコート法、エアーナイ
フコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワ
イヤーバーコード法、グラビアコート法、或いは米国特
許第2,681,294号記載のホ、バ〜を使用するエ
クストルージョンコード法等により、塗布することが出
来る。また熔融したポリマーをフィルム状にして移動し
つつあるポリエステル上に流下させ、冷却と同時に圧力
により貼合わせるいわゆる押出しコーティング法がある
。
03 e +GHzC+ 89. 、+ M A÷、。、3盲 (J 固型分濃度50.1%、平均粒径95nm本発明におけ
る塩化ビニリデン共重合体をポリエステル支持体に被覆
させる方法としては、これらのポリマーを適当な有機溶
剤に熔解した溶液を、又は水性分散液を一般によく知ら
れた塗布方法、例えば、デイツプコート法、エアーナイ
フコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワ
イヤーバーコード法、グラビアコート法、或いは米国特
許第2,681,294号記載のホ、バ〜を使用するエ
クストルージョンコード法等により、塗布することが出
来る。また熔融したポリマーをフィルム状にして移動し
つつあるポリエステル上に流下させ、冷却と同時に圧力
により貼合わせるいわゆる押出しコーティング法がある
。
ポリエステル支持体と上記ポリマー層との接着力を更に
向上させるために、ポリエステル支持体=31− の表面を薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔
処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性
プラズマ処理、高圧水蒸気処理、脱着処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理などの処理をしても差し
支えない。
向上させるために、ポリエステル支持体=31− の表面を薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔
処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性
プラズマ処理、高圧水蒸気処理、脱着処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理などの処理をしても差し
支えない。
又、本発明に用いる上記ポリマー層をポリエステルベー
スに強固に接着させるためには米国特許第3.245.
937号、同3.143,421号、同3,501.3
01号、同3. 271. 178号に記載されている
ような、フェノール、レゾルシンをはじめ、0〜クレゾ
ール、m−クレゾール、トリクロル酢酸、ジクロル酢酸
、モノク「I/14L 抱水クロラール、ベンジルアル
コール等のポリエステルの膨潤剤を加えることが必要と
なる。これら膨潤剤としては、レゾルシンが好ましく用
いられるが、レゾルシンはしばしば製造工程においてス
ポット故障を誘発さ−Cるという欠点をもっている。
スに強固に接着させるためには米国特許第3.245.
937号、同3.143,421号、同3,501.3
01号、同3. 271. 178号に記載されている
ような、フェノール、レゾルシンをはじめ、0〜クレゾ
ール、m−クレゾール、トリクロル酢酸、ジクロル酢酸
、モノク「I/14L 抱水クロラール、ベンジルアル
コール等のポリエステルの膨潤剤を加えることが必要と
なる。これら膨潤剤としては、レゾルシンが好ましく用
いられるが、レゾルシンはしばしば製造工程においてス
ポット故障を誘発さ−Cるという欠点をもっている。
この様な欠点を回避するのに特に好ましく用いられる方
法としてはポリエステル支持体の表面をグロー放電処理
した後に本発明に用いるポリマー層を塗設することであ
る。
法としてはポリエステル支持体の表面をグロー放電処理
した後に本発明に用いるポリマー層を塗設することであ
る。
本発明におけるグロー放電処理とは、従来知られている
いずれの方法、例えば、特公昭35−7578号、同3
6−10336号、同45−22004号、同45−2
2005号、同45−24040号、同46−4348
0号、米国特許3゜057.792号、同3,057,
795号、同3.179.482号、同3,288,6
38号、同3,309,299号、同3,424,73
5号、同3,462,335号、同3. 475. 3
07号、同3,761,299号、英国特許997.0
93号、特開昭53−129262号等を用いることが
できる。
いずれの方法、例えば、特公昭35−7578号、同3
6−10336号、同45−22004号、同45−2
2005号、同45−24040号、同46−4348
0号、米国特許3゜057.792号、同3,057,
795号、同3.179.482号、同3,288,6
38号、同3,309,299号、同3,424,73
5号、同3,462,335号、同3. 475. 3
07号、同3,761,299号、英国特許997.0
93号、特開昭53−129262号等を用いることが
できる。
グロー放電時の圧力は0.005〜20 T o r
r、好ましくは0.02〜2Torrが適当である。圧
力が低すぎると表面処理効果が低下し、ま大圧力が高す
ぎると過大電流が流れ、スパークがおこりやすく、危険
でもあるし、被処理物を破壊する恐れもある。放電は、
真空タンク中で1対以上の空間圧を印加することにより
生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力により色
々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力範囲内で
は、500〜5000Vの間で安定な定着グロー放電が
起る。
r、好ましくは0.02〜2Torrが適当である。圧
力が低すぎると表面処理効果が低下し、ま大圧力が高す
ぎると過大電流が流れ、スパークがおこりやすく、危険
でもあるし、被処理物を破壊する恐れもある。放電は、
真空タンク中で1対以上の空間圧を印加することにより
生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力により色
々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力範囲内で
は、500〜5000Vの間で安定な定着グロー放電が
起る。
接着性を向上せしめるのに特に好適な電圧範囲は、20
00〜4000vである。
00〜4000vである。
又、放電周波数として、従来技術に見られるように、直
流から数100100O,好ましくは50 Hz〜20
MHzが適当である。放電処理強度に関しては、所望の
接着性能が得られることから0、OIK V ・A−分
/n(〜5KV・A−分/n(、好ましくは0.05K
V・A・分/イ〜IKV・八・分/nl力(適当である
。
流から数100100O,好ましくは50 Hz〜20
MHzが適当である。放電処理強度に関しては、所望の
接着性能が得られることから0、OIK V ・A−分
/n(〜5KV・A−分/n(、好ましくは0.05K
V・A・分/イ〜IKV・八・分/nl力(適当である
。
またポリエステル支持体と上記ポリマー層との接着力を
向上させるため、そのどちらに対しても接着性を持つ層
を下塗り層として設けてもよい。
向上させるため、そのどちらに対しても接着性を持つ層
を下塗り層として設けてもよい。
このような下塗り剤としては、水溶性ポリエステル、ウ
レタン化合物等が使用可能である。
レタン化合物等が使用可能である。
また市販のアンカーコート剤例えばバイロン(東洋紡社
製)、ジュリマ−(日本純薬社製)、ポリゾール(昭和
高分子社製)等を用いてもよい。
製)、ジュリマ−(日本純薬社製)、ポリゾール(昭和
高分子社製)等を用いてもよい。
本発明における塩化ビニリデン共重合体層の厚味は現像
処理工程中の吸水によるベースの伸びをおさえるために
も厚い方が好ましい。しかしあまり厚すぎるとハロゲン
化銀乳剤層との接着性に不都合が生しる。
処理工程中の吸水によるベースの伸びをおさえるために
も厚い方が好ましい。しかしあまり厚すぎるとハロゲン
化銀乳剤層との接着性に不都合が生しる。
従って厚味としては、0.3μ以上5μ以下であり、好
ましくは0.5μ以上2.0μ以下の範囲のものが用い
られる。
ましくは0.5μ以上2.0μ以下の範囲のものが用い
られる。
酸とグライコールを主要な構成成分とするポリエステル
で代表的な二塩基酸としてはテレフタル酸、イソフタル
酸、p−β−オキシエトキシ安息香酸、ジフェニルスル
ホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、
アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、5−ナトリウ
ムスルホイソフタル酸、ジフヱニレンジカルボン酸、2
.6−ナフタレンジカルボン酸等があり、グライコール
としてはエチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール、ネオペンチレンゲリコール、1゜4−
シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タツール、■、4−ビスオキシエトキシベンゼン、ビス
フェノールA1ジエチレングリコール、ポリエチレング
リコール等がある。
で代表的な二塩基酸としてはテレフタル酸、イソフタル
酸、p−β−オキシエトキシ安息香酸、ジフェニルスル
ホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、
アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、5−ナトリウ
ムスルホイソフタル酸、ジフヱニレンジカルボン酸、2
.6−ナフタレンジカルボン酸等があり、グライコール
としてはエチレングリコール、プロピレングリコール、
ブタンジオール、ネオペンチレンゲリコール、1゜4−
シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タツール、■、4−ビスオキシエトキシベンゼン、ビス
フェノールA1ジエチレングリコール、ポリエチレング
リコール等がある。
これらの成分からなるポリエステルの中でも入手しやす
さの点からはポリエチレンテレフタレートが最も好都合
である。
さの点からはポリエチレンテレフタレートが最も好都合
である。
ポリエステルの厚さとしては特に制限はないが約12μ
〜500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度のも
のが取り扱いやすさ、汎用性の点から存利である。特に
2軸延伸結晶化されたものが、安定性、強さなどの点か
ら好都合である。
〜500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度のも
のが取り扱いやすさ、汎用性の点から存利である。特に
2軸延伸結晶化されたものが、安定性、強さなどの点か
ら好都合である。
上記ポリマー層と乳剤層との接着力を向上させるために
、そのどちらに対しても接着性を持つ層を下塗り層とし
て設けることができる。また接着性を更に良化させるた
め、ポリマー層の表面をコロナ放電、紫外線照射、火焔
処理等の慣用的に行なわれている予備処理をしても良い
。
、そのどちらに対しても接着性を持つ層を下塗り層とし
て設けることができる。また接着性を更に良化させるた
め、ポリマー層の表面をコロナ放電、紫外線照射、火焔
処理等の慣用的に行なわれている予備処理をしても良い
。
本発明の写真感光材料の親水性コロイド層としてはハロ
ゲン化銀乳剤層、バック層、保護層、中36一 間層等があるがこれらの層には親水性コロイドが用いら
れる。親水性コロイドとしてはゼラチンが最も好ましく
ゼラチンとしては、云わゆる石灰処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、酵素処理ゼラチン、及びゼラチン誘導体、変
成ゼラチン等、当業界で一般に用いられているものはい
づれも用いることが出来るが、中でも石灰処理ゼラチン
、酸処理ゼラチンが好ましく用いられる。
ゲン化銀乳剤層、バック層、保護層、中36一 間層等があるがこれらの層には親水性コロイドが用いら
れる。親水性コロイドとしてはゼラチンが最も好ましく
ゼラチンとしては、云わゆる石灰処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、酵素処理ゼラチン、及びゼラチン誘導体、変
成ゼラチン等、当業界で一般に用いられているものはい
づれも用いることが出来るが、中でも石灰処理ゼラチン
、酸処理ゼラチンが好ましく用いられる。
又、ゼラチンの他にコロイド状アルブミン、カゼインな
どの蛋白質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース等のセルロース化合物;寒天、アルギ
ン酸ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導体:合成親水性
コロイド例えばポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドンポリアクリル酸共重合体、ポリアクリルア
ミドまたはこれらの誘導体および部分加水分解物等を用
いることが出来る。必要に応じてこれらのコロイドの二
つ以上の混合物を使用することが出来る6本発明の親水
コロイド中にはポリマーラテックスを用いることが好ま
しい。好ましく用いられるポリマーラテックスは平均粒
径が20mμ〜7゜Omμの水不溶性ポリマーの水分散
物で、好ましい使用量はバインダーとして用いられてい
るゼラチン1.0に対して乾燥重量比で0.01〜1.
0で特に好ましくは0.1〜0,8である。
どの蛋白質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース等のセルロース化合物;寒天、アルギ
ン酸ソーダ、でんぷん誘導体等の糖誘導体:合成親水性
コロイド例えばポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドンポリアクリル酸共重合体、ポリアクリルア
ミドまたはこれらの誘導体および部分加水分解物等を用
いることが出来る。必要に応じてこれらのコロイドの二
つ以上の混合物を使用することが出来る6本発明の親水
コロイド中にはポリマーラテックスを用いることが好ま
しい。好ましく用いられるポリマーラテックスは平均粒
径が20mμ〜7゜Omμの水不溶性ポリマーの水分散
物で、好ましい使用量はバインダーとして用いられてい
るゼラチン1.0に対して乾燥重量比で0.01〜1.
0で特に好ましくは0.1〜0,8である。
このポリマーラテックスの好ましい例としては下記一般
式(PI)〜(P−)51)で示されるモノマーを繰返
し単位として有するものがあげられるが、勿論本発明は
これに限定されるものではない。
式(PI)〜(P−)51)で示されるモノマーを繰返
し単位として有するものがあげられるが、勿論本発明は
これに限定されるものではない。
CR8
−R9
OP−(−OR3)2
式中R1は水素原子、カルボキシル基又はその頃を表わ
し、 R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、−・ロ
ゲン原子、/アノ′基を表わし、R3は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリーレン基、置換アリーレ
ン基を表わしR4、R5は同じでもまた異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、カルボ
キシル基又はその塩、−COOR3基(R3上記と同義
)、ハロゲン原子、水酸基またはその塩、シアノ基、カ
ルバモイル基を表わし、 mは01/1.2を表わし nVin、/、Jを表わし R6N R7は同じでもまた異なっていてもよく、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基を表わし R8はアルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基を表わし、 R9はアルキル基又は置換アルキル基金表わしRI O
N R11、R12、R13は同じでも異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基を表わし、RI4 は水素原子、アル
キル基、ハロゲン原子を表わし、 R15はアルケニル基を表わし、 R16は水素原子、アルキル基、置換アルキル基を表わ
し、 R17はアルキル基又は置換アルキル基金表わし、 R18は水素原子、アルキル基、アルケニル基を表わし
、 RI9 、R2(l Vi同じでも異なっていてもよ
く水素原子、アルキル基tiわし、 R21nアルキレフ基、置換アルキレン基、+CH2+
xO−F−+−CH2+yO+r−+−CH2九 (X
、y、w、 vはそnぞno又け/i表わす)を表わ
しくR6は上記と同義)を表わし、 qはO又は/を表わし、 q=JのときR21−Nでピリジン環を形成してもよく
、 R22、R23、R24uそnぞf′L同じでもまた異
なっていてもよくアルキル基、置換アルキルθ 基を表わL%R25はアニオンを表わし、R261d水
素原子、アルキル基、置換アルキル基金表わし、 Ll、R2は同じでもまた異なっていてもよく−0−1
−S−1−ooc−1−co−、フェニレン基を表わし
、 rはO又はlを表わし、 同義)、−ooc−i表わし、 R27は水素原子、アルキル基、置換アルキル基金表わ
し tは3又は弘を表わし、 C28は炭素原子、−CH−1又はへテロ環を表わし
R6を表わし、 R5は−Co−R□7(R17は上記と同義)、(−C
OOR17(R17は上記と同義)、シアノ基、−3O
2−R17(R17は上記と同義)を表わし、R29は
水素原子、−Co−R17(R17は上記と同義)を表
わし、 oott、、。
し、 R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、−・ロ
ゲン原子、/アノ′基を表わし、R3は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリーレン基、置換アリーレ
ン基を表わしR4、R5は同じでもまた異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、カルボ
キシル基又はその塩、−COOR3基(R3上記と同義
)、ハロゲン原子、水酸基またはその塩、シアノ基、カ
ルバモイル基を表わし、 mは01/1.2を表わし nVin、/、Jを表わし R6N R7は同じでもまた異なっていてもよく、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基を表わし R8はアルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基を表わし、 R9はアルキル基又は置換アルキル基金表わしRI O
N R11、R12、R13は同じでも異なっていても
よく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基を表わし、RI4 は水素原子、アル
キル基、ハロゲン原子を表わし、 R15はアルケニル基を表わし、 R16は水素原子、アルキル基、置換アルキル基を表わ
し、 R17はアルキル基又は置換アルキル基金表わし、 R18は水素原子、アルキル基、アルケニル基を表わし
、 RI9 、R2(l Vi同じでも異なっていてもよ
く水素原子、アルキル基tiわし、 R21nアルキレフ基、置換アルキレン基、+CH2+
xO−F−+−CH2+yO+r−+−CH2九 (X
、y、w、 vはそnぞno又け/i表わす)を表わ
しくR6は上記と同義)を表わし、 qはO又は/を表わし、 q=JのときR21−Nでピリジン環を形成してもよく
、 R22、R23、R24uそnぞf′L同じでもまた異
なっていてもよくアルキル基、置換アルキルθ 基を表わL%R25はアニオンを表わし、R261d水
素原子、アルキル基、置換アルキル基金表わし、 Ll、R2は同じでもまた異なっていてもよく−0−1
−S−1−ooc−1−co−、フェニレン基を表わし
、 rはO又はlを表わし、 同義)、−ooc−i表わし、 R27は水素原子、アルキル基、置換アルキル基金表わ
し tは3又は弘を表わし、 C28は炭素原子、−CH−1又はへテロ環を表わし
R6を表わし、 R5は−Co−R□7(R17は上記と同義)、(−C
OOR17(R17は上記と同義)、シアノ基、−3O
2−R17(R17は上記と同義)を表わし、R29は
水素原子、−Co−R17(R17は上記と同義)を表
わし、 oott、、。
OO
上記と同義)を表わし、
R7は酸素原子又は窒素原子を表わし、R30はアルキ
レン基又はトリアノール環を表わし、 Aはハロゲン原子、アミノ基を表わすが、R3゜がトリ
アノ−ル環の場合は八は複数個のハロゲン原子を表わし
てもよい。
レン基又はトリアノール環を表わし、 Aはハロゲン原子、アミノ基を表わすが、R3゜がトリ
アノ−ル環の場合は八は複数個のハロゲン原子を表わし
てもよい。
R31X R32は同じでも異なっていてもよく水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、水酸基およびその塩
、アミン基、カルボキ7基およびその塩、/アノ基を表
わし ZはNと結合して炭素数3から73の複素環全形成構成
要素全表わす。
子、アルキル基、置換アルキル基、水酸基およびその塩
、アミン基、カルボキ7基およびその塩、/アノ基を表
わし ZはNと結合して炭素数3から73の複素環全形成構成
要素全表わす。
一般式(P−[1で示さ扛るモノツーの具体例としては
例えば下表のものがあけらnる。
例えば下表のものがあけらnる。
一般式(p−n)で示されるモノマーの具体例としては
下記のものがあけらnる モノマ一番号 R4R5 M−3/HH M−32P−COOHH M−33P−cl ’ HM−3弘
m−α P−0M−3r P
−8O2CH3H M−3t 0−3O3C2H5P−3O3C2H
5M−370−CH3H M−3r SO3Na HM−
32−5O2K HM−po
m−CH20CCH3HI3 〇 一般式(P−fillで表わさnるモノマーの具体例と
しては下記のものがあげらnる。
下記のものがあけらnる モノマ一番号 R4R5 M−3/HH M−32P−COOHH M−33P−cl ’ HM−3弘
m−α P−0M−3r P
−8O2CH3H M−3t 0−3O3C2H5P−3O3C2H
5M−370−CH3H M−3r SO3Na HM−
32−5O2K HM−po
m−CH20CCH3HI3 〇 一般式(P−fillで表わさnるモノマーの具体例と
しては下記のものがあげらnる。
一般式(P−IV)で表わさnるモノマーの具体例とし
ては下記のものがあけられる。
ては下記のものがあけられる。
一般式(p−v)の具体例としては次のものがあげらn
る。
る。
M−j 7 CH2CH2=CH−0CH3r
CH2=CH−0C4Hc+(n)一般式CP−Vl
)の具体例としては次のものがあげらnる。
CH2=CH−0C4Hc+(n)一般式CP−Vl
)の具体例としては次のものがあげらnる。
M−19CHCH2=CH−3−CH2CH2CH2S
CH3乙o CH2=CH−3−CH2SCH3一
般式(P−■)の具体例としては次のものがあけらnる
。
CH3乙o CH2=CH−3−CH2SCH3一
般式(P−■)の具体例としては次のものがあけらnる
。
M−A t CH2CHCN
M −A 3 ClCH2=CC12一般式(P−
■)の具体例としては次のものがあけらnる。
■)の具体例としては次のものがあけらnる。
M−A≠ CH2CH2H=CI(2H3
M −A 、r CH2=CHl−1cHcH=c
HcH=cH2(P−IX)の具体例としては次のもの
があげられる。
HcH=cH2(P−IX)の具体例としては次のもの
があげられる。
M−67CH2=CHC0CH3
I P−X )の具体例としては次のものがおばらnる
。
。
(P−>ff)の具体例としては次のものがあげらnる
。
。
CH3
しH3
(P−Xll )の具体例としては次のものがあけらn
る。
る。
ハ
M−7ざ Coo/\/
−だ
M−100CH2CH20
(P−X[[l)の具体例としては次のものがあけらn
る。
る。
し
くP−XIV) の具体例としては次のものがあけら
nる。
nる。
C4H9(t)
(P−XV) の具体例としては次のもの751あげ
られる。
られる。
M−タコ
CH2=CH
C00CH2CH2NHCNHCH2C)12C1(2
CA’(p−X■) の具体例としては次のものがあ
げらnる。
CA’(p−X■) の具体例としては次のものがあ
げらnる。
す
(P−X■)の具体例としては次のものがあげらnる。
(P−X■)の具体例としては次のものがちけら扛る。
M−10o CH2=CH
M−10/ CH2=CH
M−ior CH2=CH
さらに、ポリマーラテックスに関しては、米国特許第3
,91/l、177号、同!、r/l、130号、同3
.j、33,773号、’FL、D、/ltψり、同3
.A3j、7/3号、同3,327゜りrr号、同j、
A4t7,4tj′?号、同3.AO7、λり0号、向
J 、312.91’r号、同31よ36.l/、9/
号、同3.7AP、OJ、0号、同!、7t4L、31
7号、同2.37A、006号、同コ、7tr、010
号、同一、77.2./AA号、同λ、♂or、3t♂
号、同λ、13タ、jt2号、同一、ざ62.31A号
、同λ、ざj3゜グj7号、同、2.、M:j、753
号、英国特許第i、3re、rgj号、同/ 、III
、A22号、米国特許第J 、jj7u 、A36号
、同3.ul/。
,91/l、177号、同!、r/l、130号、同3
.j、33,773号、’FL、D、/ltψり、同3
.A3j、7/3号、同3,327゜りrr号、同j、
A4t7,4tj′?号、同3.AO7、λり0号、向
J 、312.91’r号、同31よ36.l/、9/
号、同3.7AP、OJ、0号、同!、7t4L、31
7号、同2.37A、006号、同コ、7tr、010
号、同一、77.2./AA号、同λ、♂or、3t♂
号、同λ、13タ、jt2号、同一、ざ62.31A号
、同λ、ざj3゜グj7号、同、2.、M:j、753
号、英国特許第i、3re、rgj号、同/ 、III
、A22号、米国特許第J 、jj7u 、A36号
、同3.ul/。
り71号、同3.4Llノ、り71号、同3.グj9.
790号、Pi 、art 、 7or号、同3゜7o
o、y−rt号、同3,939./30号、同3、jり
≠、りt7号、同3.タ07.tA1号、同J 、 s
ot 、り2j号、英国特許第1,3/l。
790号、Pi 、art 、 7or号、同3゜7o
o、y−rt号、同3,939./30号、同3、jり
≠、りt7号、同3.タ07.tA1号、同J 、 s
ot 、り2j号、英国特許第1,3/l。
jグツ号、同/、336,0lr1号、英国特許第1.
491,701号、英国特許第1,498゜697号、
RD14139、米国特許第3,620.751号、R
D15638、米国特許第3゜635.715号、英国
特許第1,401.768号、米国特許第3,967.
966号、同3゜142.568号、同3.252,8
01号、同3.625.689号、同3,632,34
2号、同2,887,380号、英国特許第1,623
゜522号、米国特許第2,721..801号、同2
.875,054号、同3,021,214号、RD1
1906、米国特許第3,793,029号、RD15
235、RD16250の記載等を参考にすることがで
きる。
491,701号、英国特許第1,498゜697号、
RD14139、米国特許第3,620.751号、R
D15638、米国特許第3゜635.715号、英国
特許第1,401.768号、米国特許第3,967.
966号、同3゜142.568号、同3.252,8
01号、同3.625.689号、同3,632,34
2号、同2,887,380号、英国特許第1,623
゜522号、米国特許第2,721..801号、同2
.875,054号、同3,021,214号、RD1
1906、米国特許第3,793,029号、RD15
235、RD16250の記載等を参考にすることがで
きる。
本発明の親水性コロイド層に用いるポリマーラテックス
はハロゲン化銀乳剤層、バック層、保護層、中間層等の
親水性コロイド層のうちの少なくとも一層に含有させる
ことができる。
はハロゲン化銀乳剤層、バック層、保護層、中間層等の
親水性コロイド層のうちの少なくとも一層に含有させる
ことができる。
本発明は、ヒドラジン誘導体を含有する超硬調感材にお
いて特にその効果を奏することができる。
いて特にその効果を奏することができる。
かかるヒドラジン誘導体含有超硬調感材及びそれを用い
る画像形成方法に関しては、米国特許第4.224,4
01号、同第4,168,977号、同4,166.7
42号、同4,241,164号、同第4,272,6
06号、特開昭60−83028号、同60−2186
42号、同60−258537号、同61−22373
8号等に記載されている。
る画像形成方法に関しては、米国特許第4.224,4
01号、同第4,168,977号、同4,166.7
42号、同4,241,164号、同第4,272,6
06号、特開昭60−83028号、同60−2186
42号、同60−258537号、同61−22373
8号等に記載されている。
本発明でヒドラジン誘導体を用いる場合このヒドラジン
誘導体としては下記の一般式([[)で示されるものが
好ましい。
誘導体としては下記の一般式([[)で示されるものが
好ましい。
一般式(III)
式中、A″は脂肪族基、または芳香族基を表わし、B′
はホルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールス
ルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基
、カルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシ
カルボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホ
ニル基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルファ
ニイル基又はヘテロ環基を表わし、X、Yはともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシ
ル基を表わす。
はホルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールス
ルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基
、カルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシ
カルボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホ
ニル基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルファ
ニイル基又はヘテロ環基を表わし、X、Yはともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシ
ル基を表わす。
一般式(III)で表わされる化合物の内で代表的な化
合物を以下に示す。
合物を以下に示す。
■−1)
■−2)
■−3)
OCN
■−5)
■−8)
さらに、本発明は、テトラゾリウム化合物を含有する感
光材料を比較的高濃度の亜硫酸塩を含むPQ型あるいは
MQ型の現像液による処理により高いコントラストを得
る方法においてもその効果を奏することができる。テト
ラゾリウム化合物を用いる画像形成方法に関しては、特
開昭52−18317号、同53−17719号及び同
53−17720号等に記載されている。
光材料を比較的高濃度の亜硫酸塩を含むPQ型あるいは
MQ型の現像液による処理により高いコントラストを得
る方法においてもその効果を奏することができる。テト
ラゾリウム化合物を用いる画像形成方法に関しては、特
開昭52−18317号、同53−17719号及び同
53−17720号等に記載されている。
本発明に用いられる写真感光材料のハロゲン化銀乳剤は
通常、水溶性根塩(例えば硝酸銀)溶液と水溶性ハロゲ
ン塩(例えば臭化カリウム)溶液とをゼラチンの如き水
溶性高分子溶液の存在rで混合してつくられる。
通常、水溶性根塩(例えば硝酸銀)溶液と水溶性ハロゲ
ン塩(例えば臭化カリウム)溶液とをゼラチンの如き水
溶性高分子溶液の存在rで混合してつくられる。
ハロゲン化銀としては塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭
化銀及び塩沃臭化銀いづれも用いることが出来、その粒
子形態、サイズ分布に特に限定はない。
化銀及び塩沃臭化銀いづれも用いることが出来、その粒
子形態、サイズ分布に特に限定はない。
ハロゲン化銀乳剤層は、感光性ハロゲン化銀、化学増感
剤、分光増感剤、カブリ防止剤、親水性コロイド(特に
ゼラチン)、ゼラチン硬化剤、界=67− 面活性剤など膜物理性改良剤、増粘剤、等を含有するこ
とが出来る。これらについては、リシーチ・ディスクロ
ージャー誌、176巻17643項(1978年12月
)の記載、及び特開昭52−108130号、同52−
114328号、同52−121321号、同53−3
217号、同5344025号明細書の記載等を参考に
することが出来る。
剤、分光増感剤、カブリ防止剤、親水性コロイド(特に
ゼラチン)、ゼラチン硬化剤、界=67− 面活性剤など膜物理性改良剤、増粘剤、等を含有するこ
とが出来る。これらについては、リシーチ・ディスクロ
ージャー誌、176巻17643項(1978年12月
)の記載、及び特開昭52−108130号、同52−
114328号、同52−121321号、同53−3
217号、同5344025号明細書の記載等を参考に
することが出来る。
表面保護層はゼラチンの如き親水性コロイドをバインダ
ーとする厚さ0.3〜3μ、特に0.5〜1.5μの層
であり、その中に、ポリメチルメタアクリレートの微粒
子の如きマント剤、コロイド状シリカ、及び必要により
ポリスチレンスルホン酸カリウムの如き増粘剤、ゼラチ
ン硬化剤、界面活性剤、すべり剤、UV吸収剤などを含
有して成る。
ーとする厚さ0.3〜3μ、特に0.5〜1.5μの層
であり、その中に、ポリメチルメタアクリレートの微粒
子の如きマント剤、コロイド状シリカ、及び必要により
ポリスチレンスルホン酸カリウムの如き増粘剤、ゼラチ
ン硬化剤、界面活性剤、すべり剤、UV吸収剤などを含
有して成る。
ゼラチン硬化剤としては、例えばクロム塩、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、グリタールアルデヒドなど)、
N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、など)、活
性ビニル化合物(1,3゜5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ〜5−1−リアジン、ビス(ビニルスルボニル
)メチルエーテル、JpJ゛−メチレンビス−〔β−(
ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活性ハ
ロゲン化合111(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ
−5−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロ
ル酸、など)、N−カルバモイルピリジニウム塩類((
1−モルホリノカルボニル−3−ピリジニオ)メタンス
ルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(1−(1−
クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−
ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合せて用
いることができる。なかでも、特開昭5141220、
同53−57257、同59−162546、同60−
80846に記載の活性ビニル化合物および米国特許3
,325.287号に記載の活性ハロゲン化物が好まし
い。
類(ホルムアルデヒド、グリタールアルデヒドなど)、
N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、など)、活
性ビニル化合物(1,3゜5−トリアクリロイル−へキ
サヒドロ〜5−1−リアジン、ビス(ビニルスルボニル
)メチルエーテル、JpJ゛−メチレンビス−〔β−(
ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕など)、活性ハ
ロゲン化合111(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ
−5−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロ
ル酸、など)、N−カルバモイルピリジニウム塩類((
1−モルホリノカルボニル−3−ピリジニオ)メタンス
ルホナートなど)、ハロアミジニウム塩類(1−(1−
クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリジニウム、2−
ナフタレンスルホナートなど)を単独または組合せて用
いることができる。なかでも、特開昭5141220、
同53−57257、同59−162546、同60−
80846に記載の活性ビニル化合物および米国特許3
,325.287号に記載の活性ハロゲン化物が好まし
い。
バック層はゼラチンの如き親水性コロイドをバインダー
とした層で、非感光性であって、1層構造かもしくは中
間層、保護層などを有する多層構造であっても良い。
とした層で、非感光性であって、1層構造かもしくは中
間層、保護層などを有する多層構造であっても良い。
バンク層の厚味は0.1μ〜10μであり、その中に必
要によりハロゲン化銀乳剤層及び表面保護層と同様にゼ
ラチン硬化剤、界面活性剤、マット剤、コロイド状シリ
カ、すべり剤、UV吸収剤、染料、増粘剤などを含有す
ることができる。
要によりハロゲン化銀乳剤層及び表面保護層と同様にゼ
ラチン硬化剤、界面活性剤、マット剤、コロイド状シリ
カ、すべり剤、UV吸収剤、染料、増粘剤などを含有す
ることができる。
本発明の方法は親水性コロイド層を存する各種写真材料
に適用することができるが、代表的には感光性成分とし
てハロゲン銀を用いる型の写真材料例えば印刷用感光材
料、X−レイ用感光材料、一般ネガ感光材料、−酸リバ
ーサル感光材料、−般用ボン感光材料、直接ポジ感光材
料等に用いることができる。本発明の効果は印刷用感光
材料において特に著しい。
に適用することができるが、代表的には感光性成分とし
てハロゲン銀を用いる型の写真材料例えば印刷用感光材
料、X−レイ用感光材料、一般ネガ感光材料、−酸リバ
ーサル感光材料、−般用ボン感光材料、直接ポジ感光材
料等に用いることができる。本発明の効果は印刷用感光
材料において特に著しい。
本発明の感光材料の露光方法、現像処理方法などについ
ては特に制限はなく、例えば特開昭52−108130
号、同52−114328号、同52−12132]号
等の明細書及び上記リサーチ・ディスクロージャー誌の
記載等を参考にすることが出来る。
ては特に制限はなく、例えば特開昭52−108130
号、同52−114328号、同52−12132]号
等の明細書及び上記リサーチ・ディスクロージャー誌の
記載等を参考にすることが出来る。
(発明の具体的効果)
本発明によれば、ポリエステル支持体の少なくとも一方
の側にポリマーラテックスを含有せしめた親水性コロイ
ドを有し該支持体が両面を厚味が0.3μ以上の塩化ビ
ニリデン共重合体層で被覆することによって、環境変化
に伴う寸度安定性及び処理に伴う寸度安定性が優れたハ
ロゲン化銀写真感光材料が得られる。
の側にポリマーラテックスを含有せしめた親水性コロイ
ドを有し該支持体が両面を厚味が0.3μ以上の塩化ビ
ニリデン共重合体層で被覆することによって、環境変化
に伴う寸度安定性及び処理に伴う寸度安定性が優れたハ
ロゲン化銀写真感光材料が得られる。
また、塩化ビニリデン共重合体中にバインダーと直接あ
るいは硬膜剤を介して結合する基を有するモノマーの存
在により塩化ビニリデン共重合体層と支持体及び塩化ビ
ニリデン共重合体層と隣接バインダー層の接着性、特に
後者の接着性が優れたハロゲン化銀写真感光材料が得ら
れる。
るいは硬膜剤を介して結合する基を有するモノマーの存
在により塩化ビニリデン共重合体層と支持体及び塩化ビ
ニリデン共重合体層と隣接バインダー層の接着性、特に
後者の接着性が優れたハロゲン化銀写真感光材料が得ら
れる。
実施例−1
断面が直径3cI11の半円状の長さ40〔の棒電極を
10(11n間かくに4本絶縁板上に固定した。この電
極板を真空タンク中に固定し、この電極面から15cm
離れ、電極面に正対する棒に厚さ100μm130Gの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを20m
/分の速度で走行さ−Uた。ソイルムが電極上を通過す
る直前に、フィルムが直径50cmの温度コントローラ
ー付き加熱ロールを100℃に設定し3/4周接触する
様加熱ロールを配置した。グロー放電は、タンク内をO
,IT o r rに維持しつつ、上記電極に2000
Vの電圧を印加することにより行った。この時、電極電
流は0.5Aであった。このときPET支持体は、0.
125KVA分/Mの処理を受けたことになる。このよ
うにして、グロー放電処理されたポリエチレンテレツク
レートの上に表−1に示す塩化ビニリデン系共重合体の
水性分散液を両面に被覆し、120℃で乾燥した。
10(11n間かくに4本絶縁板上に固定した。この電
極板を真空タンク中に固定し、この電極面から15cm
離れ、電極面に正対する棒に厚さ100μm130Gの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを20m
/分の速度で走行さ−Uた。ソイルムが電極上を通過す
る直前に、フィルムが直径50cmの温度コントローラ
ー付き加熱ロールを100℃に設定し3/4周接触する
様加熱ロールを配置した。グロー放電は、タンク内をO
,IT o r rに維持しつつ、上記電極に2000
Vの電圧を印加することにより行った。この時、電極電
流は0.5Aであった。このときPET支持体は、0.
125KVA分/Mの処理を受けたことになる。このよ
うにして、グロー放電処理されたポリエチレンテレツク
レートの上に表−1に示す塩化ビニリデン系共重合体の
水性分散液を両面に被覆し、120℃で乾燥した。
さらに、この塩化ビニリデン系共重合体から成る下塗第
1層上に下塗第2層として、下記処方(1)の下塗液を
20m1/rdになるように両面に塗布し、170℃で
乾燥した。
1層上に下塗第2層として、下記処方(1)の下塗液を
20m1/rdになるように両面に塗布し、170℃で
乾燥した。
次に該支持体の一方の側に下記処方(2)のハロゲン化
銀乳剤層を塗布し、さらにその上に下記処方(3)の乳
剤保護層を塗布した。その反対側には支持体側から順に
、下記処方(4)のバック層、下記処方(5)のバンク
保護層を塗布し試料1〜7とした。at(料8はグロー
放電処理されたポリエチレンテレフタレートの上に直接
下塗第2層を塗布した。
銀乳剤層を塗布し、さらにその上に下記処方(3)の乳
剤保護層を塗布した。その反対側には支持体側から順に
、下記処方(4)のバック層、下記処方(5)のバンク
保護層を塗布し試料1〜7とした。at(料8はグロー
放電処理されたポリエチレンテレフタレートの上に直接
下塗第2層を塗布した。
+11 下塗第2N処方
ゼラチン 1.0重量部ジエチレン
トリアミン とアジピン酸よりな るポリアミドのエピ クロルヒドリンの反 応物 0.07重量部サポニン
0.01重量部水を加えて
100重景重量2) ハロゲン化銀乳剤層処方 50℃に保ったゼラチン水溶液中に銀1モルあたQ2X
10−’モルの塩化ロジウムの存在下で硝酸銀水溶液と
塩化すトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時
に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.2
μの塩臭化銀単分散孔側を調製した。((J組成95モ
ル%) この乳剤をフロキュレーション法により脱塩を行ない、
銀1モルあたり1■のチオ尿素ジオキサイドおよび0.
6■の塩化金酸を加え、65℃で最高性能が得られるま
で熟成しかぶりを生ぜしめた。
トリアミン とアジピン酸よりな るポリアミドのエピ クロルヒドリンの反 応物 0.07重量部サポニン
0.01重量部水を加えて
100重景重量2) ハロゲン化銀乳剤層処方 50℃に保ったゼラチン水溶液中に銀1モルあたQ2X
10−’モルの塩化ロジウムの存在下で硝酸銀水溶液と
塩化すトリウムおよび臭化カリウムの混合水溶液を同時
に一定の速度で30分間添加して平均粒子サイズ0.2
μの塩臭化銀単分散孔側を調製した。((J組成95モ
ル%) この乳剤をフロキュレーション法により脱塩を行ない、
銀1モルあたり1■のチオ尿素ジオキサイドおよび0.
6■の塩化金酸を加え、65℃で最高性能が得られるま
で熟成しかぶりを生ぜしめた。
こうして得られた乳剤に更に下記化合物を添加した。
n−C+zllzs
2X10−’モル/Ag1モル
lXl0−3モル/AgIモル
4)10−’モル/へg1モル
KBr
20trg/gポリスチレンスルフォン酸ナ トリウム塩 40■/d2.6−ジ
クロロ−6−ヒド ロキシーL3.5−1−リ アジンナトリウム塩 30呵/dこの塗布液を
塗布銀量3.5 g / n(となる様塗布した。
20trg/gポリスチレンスルフォン酸ナ トリウム塩 40■/d2.6−ジ
クロロ−6−ヒド ロキシーL3.5−1−リ アジンナトリウム塩 30呵/dこの塗布液を
塗布銀量3.5 g / n(となる様塗布した。
(3)乳剤保護層処方
ゼラチン 1.5g/n’+5if
t微粒子(平均粒径 4μ) 50喀/dドデシルベン
ゼンスルホン酸 ナトリウム塩 50■/r+(5−ニト
ロインダゾール 15■/m1.3−ジビニルス
ルホニル −2−プロパツール 50■/ MN−パーフ
ルオロオフタンス ルホニルーN−プロビルグ リジンボタジウム塩 2■/dエチルアクリ
レ−トラチック7 ス(平均粒径0.1μ) 300■/イ(4)バ
ック層処方 ゼラチン 2.5g/n(76一 40■/aζ 80■/m1 1.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール 150■/r=rエチルア
クリレートラテツク ス(平均粒径0.1μ) 900■/dジヘキシル
ーα−スルホサク ナートナトリウJ、塩 35++g/mドデシ
ルベンゼンスルホン酸 す]・リウム塩 35mg/ポ(5)バ
ンク保護層処方 ゼラチン 0.8g/mポリメチル
メタクリレー1・微 粒子(平均粒径3μ) 20mg/rdジヘキ
シルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 10■7.(ドデシルベ
ンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 10■/rrl酢酸ナ
トリウム 40■/rd試料を25 ’
C50%RHの雰囲気下で2週間放置した後以下の方法
で現像処理に伴なう寸度変化を測定した。
t微粒子(平均粒径 4μ) 50喀/dドデシルベン
ゼンスルホン酸 ナトリウム塩 50■/r+(5−ニト
ロインダゾール 15■/m1.3−ジビニルス
ルホニル −2−プロパツール 50■/ MN−パーフ
ルオロオフタンス ルホニルーN−プロビルグ リジンボタジウム塩 2■/dエチルアクリ
レ−トラチック7 ス(平均粒径0.1μ) 300■/イ(4)バ
ック層処方 ゼラチン 2.5g/n(76一 40■/aζ 80■/m1 1.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール 150■/r=rエチルア
クリレートラテツク ス(平均粒径0.1μ) 900■/dジヘキシル
ーα−スルホサク ナートナトリウJ、塩 35++g/mドデシ
ルベンゼンスルホン酸 す]・リウム塩 35mg/ポ(5)バ
ンク保護層処方 ゼラチン 0.8g/mポリメチル
メタクリレー1・微 粒子(平均粒径3μ) 20mg/rdジヘキ
シルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 10■7.(ドデシルベ
ンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 10■/rrl酢酸ナ
トリウム 40■/rd試料を25 ’
C50%RHの雰囲気下で2週間放置した後以下の方法
で現像処理に伴なう寸度変化を測定した。
(6) 現像処理に伴なう寸度変化の評価法試料に2
00龍の間隔を置いて直径81の孔を2個あけ、25℃
30%RHの部屋に2時間放置した後、I / 100
0 mm精度のピンゲージを用いて2個の孔の間隔を正
確に測定した。このときの長さをXl真とする。次いで
、自動現像機で、現像、定着、水洗、乾燥処理した後、
5分後の11法をY龍とする。処理に伴う寸度変化率(
%)を当業界では寸度変化率10.01%以下ならば、
実用上問題ないとされている。
00龍の間隔を置いて直径81の孔を2個あけ、25℃
30%RHの部屋に2時間放置した後、I / 100
0 mm精度のピンゲージを用いて2個の孔の間隔を正
確に測定した。このときの長さをXl真とする。次いで
、自動現像機で、現像、定着、水洗、乾燥処理した後、
5分後の11法をY龍とする。処理に伴う寸度変化率(
%)を当業界では寸度変化率10.01%以下ならば、
実用上問題ないとされている。
現像処理は、富士写真フィルム社製のFC−660自動
現像機を、現像液・定着液は同社製G RD−1,GR
F−]を用いて、38℃20秒の処理条件でおこなった
。そのときの乾燥温度は45℃であった。
現像機を、現像液・定着液は同社製G RD−1,GR
F−]を用いて、38℃20秒の処理条件でおこなった
。そのときの乾燥温度は45℃であった。
試料1〜8に対しては接着性試験を行った。ここでいう
接着性とは支持体と乳剤層及び7179層との接着性の
ことで、テスト方法は下記の通りである。
接着性とは支持体と乳剤層及び7179層との接着性の
ことで、テスト方法は下記の通りである。
1、乾燥フィルムの接着性試験法
試験すべき乳剤面に、たてよこ5mm間隅間隔本ずつ切
り目を入れて36ケのまず目を作り、この上に粘着テー
プ(例えば日東電気工業■製、二・ノド−テープ)をは
りつけ、1806方向に素早く引き剥す。この方法にお
いて未剥離部分が90%以上の場合をA級、60%以上
の場合をB級、60%未満を0級とする。写真材料とし
て十分実用に耐える接着強度とは上記3段階評価のうち
A級に分類されるものである。
り目を入れて36ケのまず目を作り、この上に粘着テー
プ(例えば日東電気工業■製、二・ノド−テープ)をは
りつけ、1806方向に素早く引き剥す。この方法にお
いて未剥離部分が90%以上の場合をA級、60%以上
の場合をB級、60%未満を0級とする。写真材料とし
て十分実用に耐える接着強度とは上記3段階評価のうち
A級に分類されるものである。
2、湿潤フィルムの接着性試験法
現像定着、水洗の各段階において処理液中でフィルムの
乳剤面に鉄筆を用いて引掻傷をX印につけ、これを指頭
で強く5回こすり×の線にそって剥れた最大の剥離11
により接着力を評価する。
乳剤面に鉄筆を用いて引掻傷をX印につけ、これを指頭
で強く5回こすり×の線にそって剥れた最大の剥離11
により接着力を評価する。
乳剤層が傷取上に剥離しない場合をA級、最大剥離中が
51m以内のときをB級、他を0級とする。
51m以内のときをB級、他を0級とする。
写真材料として十分実用に耐える接着強度とは上記3段
階評価のうちB以上、好ましくはA級に分類されるもの
である。
階評価のうちB以上、好ましくはA級に分類されるもの
である。
−〜の寸0■トω 御Q
実施例−2
実施例−1と同様のグロー放電処理されるポリエチレン
テレフタレートの上に、表−2に示す塩化ビニリデン系
共重合体の水性分散物を両面に被覆し、120℃で乾燥
した。
テレフタレートの上に、表−2に示す塩化ビニリデン系
共重合体の水性分散物を両面に被覆し、120℃で乾燥
した。
さらにこの上に実施例−1と同様の下塗筒2を両面に塗
布し、150 ’Cで乾燥した。
布し、150 ’Cで乾燥した。
次に該支持体の一方の側に下記処方の、(1)ハロゲン
化銀乳剤層、(2)乳剤保護層を塗布し、その反対側に
は支持体側から順に下記処方の(3)バンク層、(4)
バック保護層を塗布し、試料1〜5とした。
化銀乳剤層、(2)乳剤保護層を塗布し、その反対側に
は支持体側から順に下記処方の(3)バンク層、(4)
バック保護層を塗布し、試料1〜5とした。
(11ハロゲン化銀乳剤層処方
下記■、■、■液を用いて以下の方法により乳剤へを調
製した。
製した。
I液;水300mf、ゼラチ79g
■液HAgN03100g、水400 ml■液:Na
Cl31g、<NHa)3RhC1bO,66I11r
、水400m1 40℃に保った■液中に■液と■液を同時に一定の速度
で添加した。この乳剤を当業界でよく知−82= られた常法で可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え
、安定剤として6−メチル−4−ヒドロ;)−シー1.
3.3a、7−テI・ラアヂインデン及び4−ヒドロキ
シ−5,6−)リメチレン−1,3゜33.7−チトラ
アザインデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイズは
0.15μの忙分散乳剤であり、乳剤の収量1kg当り
に含有するゼラチンjl +:t60gであった・ こうして得られた乳剤に下記化合物を添加した。
Cl31g、<NHa)3RhC1bO,66I11r
、水400m1 40℃に保った■液中に■液と■液を同時に一定の速度
で添加した。この乳剤を当業界でよく知−82= られた常法で可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え
、安定剤として6−メチル−4−ヒドロ;)−シー1.
3.3a、7−テI・ラアヂインデン及び4−ヒドロキ
シ−5,6−)リメチレン−1,3゜33.7−チトラ
アザインデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイズは
0.15μの忙分散乳剤であり、乳剤の収量1kg当り
に含有するゼラチンjl +:t60gであった・ こうして得られた乳剤に下記化合物を添加した。
ポリスチレンスルホン酸ナト
リウム塩 10■/ n+1.2
−ビス(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 100■/ II(エチル
アクリレ−ドラチック ス(平均粒径0,1μ) 500■/d0、3■
/M こうして得られた塗布液を塗布銀量3 g/n(となる
様塗布した。
−ビス(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 100■/ II(エチル
アクリレ−ドラチック ス(平均粒径0,1μ) 500■/d0、3■
/M こうして得られた塗布液を塗布銀量3 g/n(となる
様塗布した。
(2)乳剤保護層処方
ゼラチン 1.5g/r+(ポリメ
チルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) 50■/gOJa ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 25■/m′ジヘキシル
ーα−スルホサク ナートナトリウム塩 10mg/+yfN−パ
ーフルオロオクタンス ルホニルーN−プロピルグ リジンボタジウム塩 2曙/Mポリスチレン
スルボン酸ナト リウム塩 3■、/n?エチル
アクリレートラテック ス(平均粒径0.1μ) 200■/m′コoイダ
ルシリカ 350*/n(リボ酸
8wr/m(3) バンク層処方 ゼラチン 2 g / m18
0■/d 50■/d ジヘキシルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 20mg/n?ドデシル
ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 30■/Mポリスチレン
スルホン酸ナト リウム塩 30■/d〜86− 1.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール 100■/dエチルアクリ
レ−lラテック ス(平均粒径0.1μ) 200■/d(4)バン
ク保護層処方 ゼラチン I g/rdポリメ
チルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) 40■/dジヘキシル
スルホサクナ−1− ナトリウム塩 10■/171ドデシ
ルベンゼンスルホン酸 すトリウム塩 30■/ I+(ポリス
チレンスルホン酸ナト リウム塩 25■/d酢酸ナトリ
ウム 30■/n(実施例−3 実施例−1と同様のグロー放電処理されたポリエチレン
テレフタレートの」二に、昭和高分子社製ポリゾールを
両面に乾燥膜厚が0.3μになるように塗布し、150
℃で乾燥した。その上に表−3に示す下塗第1層塩化ビ
ニリデン系共重合体の水性分散物を両面に被覆し120
℃で乾燥した。さらにこの上に実施例−1と同様の下塗
第2層を両面に塗布し、170℃で乾燥した。次に該支
持体の一方の側に支持体側から順に下記のハロゲン化銀
乳剤層1,2、保護層1、及び2を塗布し、乾燥した。
チルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) 50■/gOJa ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 25■/m′ジヘキシル
ーα−スルホサク ナートナトリウム塩 10mg/+yfN−パ
ーフルオロオクタンス ルホニルーN−プロピルグ リジンボタジウム塩 2曙/Mポリスチレン
スルボン酸ナト リウム塩 3■、/n?エチル
アクリレートラテック ス(平均粒径0.1μ) 200■/m′コoイダ
ルシリカ 350*/n(リボ酸
8wr/m(3) バンク層処方 ゼラチン 2 g / m18
0■/d 50■/d ジヘキシルーα−スルホサク ナートナトリウム塩 20mg/n?ドデシル
ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 30■/Mポリスチレン
スルホン酸ナト リウム塩 30■/d〜86− 1.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール 100■/dエチルアクリ
レ−lラテック ス(平均粒径0.1μ) 200■/d(4)バン
ク保護層処方 ゼラチン I g/rdポリメ
チルメタクリレート微 粒子(平均粒径3μ) 40■/dジヘキシル
スルホサクナ−1− ナトリウム塩 10■/171ドデシ
ルベンゼンスルホン酸 すトリウム塩 30■/ I+(ポリス
チレンスルホン酸ナト リウム塩 25■/d酢酸ナトリ
ウム 30■/n(実施例−3 実施例−1と同様のグロー放電処理されたポリエチレン
テレフタレートの」二に、昭和高分子社製ポリゾールを
両面に乾燥膜厚が0.3μになるように塗布し、150
℃で乾燥した。その上に表−3に示す下塗第1層塩化ビ
ニリデン系共重合体の水性分散物を両面に被覆し120
℃で乾燥した。さらにこの上に実施例−1と同様の下塗
第2層を両面に塗布し、170℃で乾燥した。次に該支
持体の一方の側に支持体側から順に下記のハロゲン化銀
乳剤層1,2、保護層1、及び2を塗布し、乾燥した。
ついでこの反対面にハック層、保護層3を塗布し、乾燥
し試料1〜3.7〜9を得た。またポリゾールを用いず
、グロー放電処理されたポリエチレンテレフタレート−
トに、上記と同様の下塗第1、第2層、ハロゲン化銀乳
剤1i!lI、2、保護層1.2、反対面にバック層、
保護層3を塗布し、試料4〜6を得た。
し試料1〜3.7〜9を得た。またポリゾールを用いず
、グロー放電処理されたポリエチレンテレフタレート−
トに、上記と同様の下塗第1、第2層、ハロゲン化銀乳
剤1i!lI、2、保護層1.2、反対面にバック層、
保護層3を塗布し、試料4〜6を得た。
fll ハロゲン化銀乳剤層l処方
I液;水30Qm!、ゼラチン9g
■液iAgNOz ]]OOg、水40〇−mA液HN
aCj!37g(NH4)+Rh(、!61.1■、水
40〇− 45℃に保った■液中に■液とmA液を同時に一定の速
度で添加した。この乳剤を当業界でよく知られた常法で
可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え、安定剤とし
て6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、?−テ
トラアザインデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイ
ズは0,20μの単分散乳剤であり、乳剤の収量1kg
当りに含存するゼラチン量は60gであった。
aCj!37g(NH4)+Rh(、!61.1■、水
40〇− 45℃に保った■液中に■液とmA液を同時に一定の速
度で添加した。この乳剤を当業界でよく知られた常法で
可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え、安定剤とし
て6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、?−テ
トラアザインデンを添加した。この乳剤の平均粒子サイ
ズは0,20μの単分散乳剤であり、乳剤の収量1kg
当りに含存するゼラチン量は60gであった。
こうして得られた乳剤に以下の化合物を添加した。
(化合物−イ)
(化合物−口)
(化合物−ハ)
100■/d
(化合物−二)
100nl/m
9■/d
ポリスチレンスルホン酸ナト
リウム塩 30■/ボN−オレオ
イル−N−メチル タウリンナトリウム塩 50■/d1.2−ビス
(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 70■/n(1−フェニ
ル−5−メルカプ トチトラゾール 3■/ボエチルアク
リレートラテツク ス(平均粒径0.1μ) 40■/イこうして得
られた塗布液を塗布銀量2 g/n(となる様塗布した
。
イル−N−メチル タウリンナトリウム塩 50■/d1.2−ビス
(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 70■/n(1−フェニ
ル−5−メルカプ トチトラゾール 3■/ボエチルアク
リレートラテツク ス(平均粒径0.1μ) 40■/イこうして得
られた塗布液を塗布銀量2 g/n(となる様塗布した
。
(2)ハロゲン化銀乳剤層2処方
■液;水300m1.ゼラチン9g
■液iAgNOs 100g、水40〇−11IB液;
NaCl31g、(Nl(+)RhC162,2■、水
400■ 乳剤Aと同様の方法で[[A液の代りにIIIB液を用
いて乳剤Bを調製した。この乳剤は平均粒子サイズ0.
20μの単分散乳剤であった。
NaCl31g、(Nl(+)RhC162,2■、水
400■ 乳剤Aと同様の方法で[[A液の代りにIIIB液を用
いて乳剤Bを調製した。この乳剤は平均粒子サイズ0.
20μの単分散乳剤であった。
こうして得られた乳剤Bに以下の化合物を添加した。
化合物−イ 5×10弓モル/Ag1モル〃 −口
120■/イ〃 −ハ
100mg/rd〃 −二 10
0曙/d〃 −ホ 9■/dポリ
スチレンスルボン酸ナト リウム塩 50■/n(N−オレ
オイル−N−メチル タウリンナトリウム塩 40■/M]、2−ビス
(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 85■/d1−フェニル
−5−メルカプ トチトラゾール 3曙/mエチルアクリ
レートラテンク ス(平均粒径0.1μ) 40曙/dこうして得
られた塗布液を塗布銀量2g/n(となる様塗布した。
120■/イ〃 −ハ
100mg/rd〃 −二 10
0曙/d〃 −ホ 9■/dポリ
スチレンスルボン酸ナト リウム塩 50■/n(N−オレ
オイル−N−メチル タウリンナトリウム塩 40■/M]、2−ビス
(ビニルスルホ ニルアセトアミド)エタン 85■/d1−フェニル
−5−メルカプ トチトラゾール 3曙/mエチルアクリ
レートラテンク ス(平均粒径0.1μ) 40曙/dこうして得
られた塗布液を塗布銀量2g/n(となる様塗布した。
(3)保護層1処方
ゼラチン 1.og/r+(リポ#
5tng/rdドデ
シルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 5曙/m化合物−八
20mg/rdポリ (重合度5
)オキシエチ レンノニルフェノールエー テルの硫酸エステルナトリ ラム塩 5 ag / rd
ポリスチレンスルホン酸ナト リウム塩 10■/n(置 20■/r「C エチルアクリレ−トラチック ス(平均粒径0.1μ) 200mg/n((
4) 保it層2処方 ゼラチン 1.0g/rI(ポリメ
チルメタクリレート倣 粒子(平均粒子サイズ3μ) 60■/耐ドデシルベ
ンゼンスルボン酸 ナトリウム塩 20呵/n(N−パーフ
ルオロオフタンス ルホニル=N−プロピルグ リシンポタジウム塩 3■/dポリ (重合
度5)オキンエチ レンノニルフェノールエー テルの硫酸エステルナトリ ラム塩 15曙/mポリスチレ
ンスルホン酸ナト リウム塩 2曙/m(5)バッ
ク層処方 ゼラチン 2.5g/m50■/n
( 50■/m ドデシルベンゼンスルポン酸 プ用・リウム 50*/n?ジヘキ
シル−α−スルホサク ナートナトリウム塩 20■/dポリスチレン
スルボン酸すト リウム塩 イOmg/ rrl1
.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール ] 5 (1+岨/ nj
エチルアクリレートラテック ス(平均粒径0.1μ) 5 (l Ow/ n
+(6)保護層3処方(ハック層相保護層)ゼラチン
1■/「dポリメチルメタクリ
レ−1・徹 粒子(平均粒径3μ) 40■/ n?ドデシ
ルヘンゼンスルホン酸 すトリウム塩 15++17niジヘ
キノルーα−スルホ勺り ナートナトリウム塩 IO曙/【夏rポリス
チレンスルボン酸すト リウム塩 20■/ nj酢酸す
I・リウム 4(lIv/m駅間、 一匁 本発明化合物を用いた試料4〜6は、比較化合物を用い
た試料7〜9に比べ、下塗第1層の11り厚が同しでも
接着性が良好である。しかし、本発明化合物を用いても
下塗第1層の膜厚が厚くなると、実用上は満足できるも
のの、接着性が劣る傾向が見られる(試料−6)。グロ
ー放電処理したポリエヂレンフタレートを下塗第1層の
間にポリゾールの層に設けたものは接着性が改良される
ことがわかる。(試料3) 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
森 昭和43年2月![−1
5tng/rdドデ
シルベンゼンスルホン酸 ナトリウム塩 5曙/m化合物−八
20mg/rdポリ (重合度5
)オキシエチ レンノニルフェノールエー テルの硫酸エステルナトリ ラム塩 5 ag / rd
ポリスチレンスルホン酸ナト リウム塩 10■/n(置 20■/r「C エチルアクリレ−トラチック ス(平均粒径0.1μ) 200mg/n((
4) 保it層2処方 ゼラチン 1.0g/rI(ポリメ
チルメタクリレート倣 粒子(平均粒子サイズ3μ) 60■/耐ドデシルベ
ンゼンスルボン酸 ナトリウム塩 20呵/n(N−パーフ
ルオロオフタンス ルホニル=N−プロピルグ リシンポタジウム塩 3■/dポリ (重合
度5)オキンエチ レンノニルフェノールエー テルの硫酸エステルナトリ ラム塩 15曙/mポリスチレ
ンスルホン酸ナト リウム塩 2曙/m(5)バッ
ク層処方 ゼラチン 2.5g/m50■/n
( 50■/m ドデシルベンゼンスルポン酸 プ用・リウム 50*/n?ジヘキ
シル−α−スルホサク ナートナトリウム塩 20■/dポリスチレン
スルボン酸すト リウム塩 イOmg/ rrl1
.3−ジビニルスルホニル −2−プロパツール ] 5 (1+岨/ nj
エチルアクリレートラテック ス(平均粒径0.1μ) 5 (l Ow/ n
+(6)保護層3処方(ハック層相保護層)ゼラチン
1■/「dポリメチルメタクリ
レ−1・徹 粒子(平均粒径3μ) 40■/ n?ドデシ
ルヘンゼンスルホン酸 すトリウム塩 15++17niジヘ
キノルーα−スルホ勺り ナートナトリウム塩 IO曙/【夏rポリス
チレンスルボン酸すト リウム塩 20■/ nj酢酸す
I・リウム 4(lIv/m駅間、 一匁 本発明化合物を用いた試料4〜6は、比較化合物を用い
た試料7〜9に比べ、下塗第1層の11り厚が同しでも
接着性が良好である。しかし、本発明化合物を用いても
下塗第1層の膜厚が厚くなると、実用上は満足できるも
のの、接着性が劣る傾向が見られる(試料−6)。グロ
ー放電処理したポリエヂレンフタレートを下塗第1層の
間にポリゾールの層に設けたものは接着性が改良される
ことがわかる。(試料3) 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
森 昭和43年2月![−1
Claims (1)
- ポリエステルフィルム支持体上に、少なくとも1層のハ
ロゲン化銀乳剤層及び少なくとも1層の塩化ビニリデン
共重合体を含有する層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において、該塩化ビニリデン共重合体が、70.0〜
99.5重量%の塩化ビニリデンと、バインダーと直接
あるいは硬化剤を介して結合する基を有するくり返し単
位を0.01〜15.0重量%有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11623888A JPH01285939A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11623888A JPH01285939A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01285939A true JPH01285939A (ja) | 1989-11-16 |
Family
ID=14682227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11623888A Pending JPH01285939A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01285939A (ja) |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP11623888A patent/JPH01285939A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4689359A (en) | Composition formed from gelatin and polymer of vinyl monomer having a primary amine addition salt group | |
JPH04501324A (ja) | 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料 | |
EP0343642A2 (en) | Silver halide photographic material | |
US5061611A (en) | Methods for producing and preserving a silver halide photographic light-sensitive material | |
JP2001183774A (ja) | 写真画像形成要素用のアニールされた付着促進層 | |
JPS5977439A (ja) | 写真用支持体 | |
JPH01285939A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2614122B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
EP0477670B1 (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
JPH02280141A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 | |
JPS6015935B2 (ja) | 写真要素 | |
US4994353A (en) | Silver halide photographic material having polyester support with subbing layer | |
JP3122794B2 (ja) | 巻ぐせカールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0224649A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH03109545A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0224648A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH04274233A (ja) | 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料 | |
JPH0364052B2 (ja) | ||
JPS5858660B2 (ja) | シヤシンヨウソ | |
JPH0116274B2 (ja) | ||
JP2001242591A (ja) | 改善画像支持要素の製造方法とそれにより形成された要素 | |
JPH02184844A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH06202259A (ja) | ポリマーラテックス含有ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0961967A (ja) | 写真感光材料 | |
JPH05241276A (ja) | 巻ぐせカールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |