JPH01279846A - 芳香族化合物のアシル化方法 - Google Patents
芳香族化合物のアシル化方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は芳香族化合物の新規なアシル化方法に関する。
〈従来の技術〉
芳香族化合物のアシル化方法はフリーデル・クラフト反
応として著名であり、従来より下記の方法が知られてい
る。
応として著名であり、従来より下記の方法が知られてい
る。
1)酸クロリドとルイス酸(塩化アルミニウムまたは塩
化亜鉛ンを使用する方法。
化亜鉛ンを使用する方法。
2)カルボン酸無水物とルイス酸を使用する方法。
3)カルボン酸とポリリン酸を使用する方法。
4)カルボン酸とトリフルオロ酢酸無水物を使用する方
法(米国特許第4.254.043号)しかしながら、
1)の方法においては、カルボン酸を塩化チオニル等で
酸クロリドとする必要があり、さらにアルミニウムまた
は亜鉛等の金属の処理が問題となる。
法(米国特許第4.254.043号)しかしながら、
1)の方法においては、カルボン酸を塩化チオニル等で
酸クロリドとする必要があり、さらにアルミニウムまた
は亜鉛等の金属の処理が問題となる。
2)の方法では、カルボン酸からカルボン酸無水物を製
造する必要があり、さらにすべてのカルボン酸から相当
するカルボン酸無水物が製造できるとは限らないのでア
シル化剤が限定される。
造する必要があり、さらにすべてのカルボン酸から相当
するカルボン酸無水物が製造できるとは限らないのでア
シル化剤が限定される。
3)、4)においては、カルボン酸を直接利用できるの
で工業的に有利な方法であるが、大量のポリリン酸を使
用する為に廃水処理の問題があったり、あるいは非常に
高価なトリフルオロ酢酸無水物を使用する等の問題があ
る。
で工業的に有利な方法であるが、大量のポリリン酸を使
用する為に廃水処理の問題があったり、あるいは非常に
高価なトリフルオロ酢酸無水物を使用する等の問題があ
る。
以上のように、従来の技術は、芳香化合物の工業的なア
シル化方法としては、必ずしも満足できるものではない
。
シル化方法としては、必ずしも満足できるものではない
。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明者らは、芳香族化合物のカルボン酸によるアシル
化に際して、特定の酸無水物と三フッ化ホウ素または三
フフ化ホウ素コンプレックスの新規な組合せを採用する
ことにより、工業的にきわめて有利に芳香族化合物をア
シル化しうることを見出し、本発明を完成するに至った
。
化に際して、特定の酸無水物と三フッ化ホウ素または三
フフ化ホウ素コンプレックスの新規な組合せを採用する
ことにより、工業的にきわめて有利に芳香族化合物をア
シル化しうることを見出し、本発明を完成するに至った
。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、アシル化剤として脂肪族もしくは芳香族カル
ボン酸を用いて芳香族化合物をアシル化する方法であっ
て、一般式(1) %式%(1) (式中、R7およびR3は水素原子、塩素原子または臭
素原子を表わす。但し、R7およびR5が同時に水素原
子であることはない) で示される酸無水物の存在下に、三フフ化ホウ素または
三フッ化ホウ素コンプレックスを触媒として用いること
を特徴とする芳香族化合物のアシル化方法である。
ボン酸を用いて芳香族化合物をアシル化する方法であっ
て、一般式(1) %式%(1) (式中、R7およびR3は水素原子、塩素原子または臭
素原子を表わす。但し、R7およびR5が同時に水素原
子であることはない) で示される酸無水物の存在下に、三フフ化ホウ素または
三フッ化ホウ素コンプレックスを触媒として用いること
を特徴とする芳香族化合物のアシル化方法である。
本発明において使用される一般式(1)で示される酸無
水物としては、具体的には、無水クロロ酢酸、無水ブロ
モ酢酸または無水ジクロロ酢酸等が挙げられる。
水物としては、具体的には、無水クロロ酢酸、無水ブロ
モ酢酸または無水ジクロロ酢酸等が挙げられる。
またアシル化剤としては、脂肪族もしくは芳香族カルボ
ン酸が用いられるが、好ましくは一般式%式%() (式中、Roはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、環状の飽和もしくは不飽和脂肪族基、フェニル基、
チエニル基、チエニルアルキル基マタはアラルキル基を
表わし、これらの基は、さらにハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシル基、アルカノイル基、アルカノイルオ
キシル基、アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシル
基またはメチレンジオキシ基で置換されていてもよい)
で示されるカルボン酸が用いられる。
ン酸が用いられるが、好ましくは一般式%式%() (式中、Roはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、環状の飽和もしくは不飽和脂肪族基、フェニル基、
チエニル基、チエニルアルキル基マタはアラルキル基を
表わし、これらの基は、さらにハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシル基、アルカノイル基、アルカノイルオ
キシル基、アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシル
基またはメチレンジオキシ基で置換されていてもよい)
で示されるカルボン酸が用いられる。
これらのカルボン酸は、更に具体的には次のような化合
物が例示される。
物が例示される。
酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉
草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ラウリル
酸、デカン酸、ステアリン酸、β−ア ハロlロビオン酸、β−ハロヒバリン酸、T−ハロ吉草
酸、2−メチル−プロピオン酸、2−メチルヘキサン酸
、2−メチルオクタン酸、2−ハロー3−メチルペンタ
ン酸、S (+) −2−メチルブタン酸、アクリル酸
、クロトン酸、トランス−2−ペンテン酸、4−ペンテ
ン酸、トランス−2−ヘキセン酸、トランス−3−ヘキ
セン酸、シス−3−ヘキセン酸、トランス−2−メチル
−2−ペンテン酸、4−ペンチン酸、2−オクテン酸、
2−オクチン酸、ω−ハロー5−シス−ヘプテン酸、ウ
ンデシレン酸、オレイン酸、ファネシル酢酸(上記例示
中、ハロとはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す)等のアルキル基、アルケニル基もしく
はアルキニル基(以上の基はハロゲン原子で更に置換さ
れていてもよい)を存するカルボン酸(これらのカルボ
ン酸は光学活性体であってもよい)、シクロプロパンカ
ルボンM、(+)−2,2−ジメルシクロプロパンカル
ボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカ
ルボン酸、メチルシクロペンタンカルボン酸、2−シク
ロヘキセン−1−カルボン酸、シクロヘキシル酢酸、/
クロヘキンル酪酸、安息香酸、4−メチル安息香酸、2
.4−ジメチル安息香酸、4−メトキシ安息香酸、4−
オクチルオキン安息香酸、2.4−ジクロル安息香酸、
4−ブロモ安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、3
゜4−メチレンジオキシ安息香酸、3,4−ジベンジル
オキ7安息香酸、2,4−ジクロル安息香酸、3.4.
5−)IJメトキン安息香酸、4−アセチルオキシ安息
香酸、3,4−ジアセチルオキシ安息香酸、4−アセチ
ル安息香酸、4−プロピオニル安息香酸、4−メトキシ
カルボニル安息香酸、3−エトキシカルボニル安息香酸
、チオフェンカルボン酸、フェニル酢酸、3−フェニル
プロピオンM、2−メチル−2−フェニル酢酸、4−ク
ロルフェニル酢酸、α−タロルフェニル酢R14−クロ
ル−α−クロルフェニル酢酸、4−クロル−α−イソプ
ロピルフェニル酢酸、4−メチルフェニル酢酸、4−メ
トキシフェニル酢酸、α−フェニルプロピオンH12−
fエニル[2,4−(2−チエニル)酪酸、3−メトキ
シプロピオン酸、5−エトキシペンタン酸、ブトキシペ
ンクン酸、6−メドキシヘキサン酸、コハク酸モノエチ
ル、グルタル酸モノメチル、スペリン酸モノメチル、レ
ブリン酸、β−アセチルオキシプロピオン酸、10−オ
キソウンデカン酸。
草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ラウリル
酸、デカン酸、ステアリン酸、β−ア ハロlロビオン酸、β−ハロヒバリン酸、T−ハロ吉草
酸、2−メチル−プロピオン酸、2−メチルヘキサン酸
、2−メチルオクタン酸、2−ハロー3−メチルペンタ
ン酸、S (+) −2−メチルブタン酸、アクリル酸
、クロトン酸、トランス−2−ペンテン酸、4−ペンテ
ン酸、トランス−2−ヘキセン酸、トランス−3−ヘキ
セン酸、シス−3−ヘキセン酸、トランス−2−メチル
−2−ペンテン酸、4−ペンチン酸、2−オクテン酸、
2−オクチン酸、ω−ハロー5−シス−ヘプテン酸、ウ
ンデシレン酸、オレイン酸、ファネシル酢酸(上記例示
中、ハロとはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す)等のアルキル基、アルケニル基もしく
はアルキニル基(以上の基はハロゲン原子で更に置換さ
れていてもよい)を存するカルボン酸(これらのカルボ
ン酸は光学活性体であってもよい)、シクロプロパンカ
ルボンM、(+)−2,2−ジメルシクロプロパンカル
ボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカ
ルボン酸、メチルシクロペンタンカルボン酸、2−シク
ロヘキセン−1−カルボン酸、シクロヘキシル酢酸、/
クロヘキンル酪酸、安息香酸、4−メチル安息香酸、2
.4−ジメチル安息香酸、4−メトキシ安息香酸、4−
オクチルオキン安息香酸、2.4−ジクロル安息香酸、
4−ブロモ安息香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、3
゜4−メチレンジオキシ安息香酸、3,4−ジベンジル
オキ7安息香酸、2,4−ジクロル安息香酸、3.4.
5−)IJメトキン安息香酸、4−アセチルオキシ安息
香酸、3,4−ジアセチルオキシ安息香酸、4−アセチ
ル安息香酸、4−プロピオニル安息香酸、4−メトキシ
カルボニル安息香酸、3−エトキシカルボニル安息香酸
、チオフェンカルボン酸、フェニル酢酸、3−フェニル
プロピオンM、2−メチル−2−フェニル酢酸、4−ク
ロルフェニル酢酸、α−タロルフェニル酢R14−クロ
ル−α−クロルフェニル酢酸、4−クロル−α−イソプ
ロピルフェニル酢酸、4−メチルフェニル酢酸、4−メ
トキシフェニル酢酸、α−フェニルプロピオンH12−
fエニル[2,4−(2−チエニル)酪酸、3−メトキ
シプロピオン酸、5−エトキシペンタン酸、ブトキシペ
ンクン酸、6−メドキシヘキサン酸、コハク酸モノエチ
ル、グルタル酸モノメチル、スペリン酸モノメチル、レ
ブリン酸、β−アセチルオキシプロピオン酸、10−オ
キソウンデカン酸。
本発明に触媒として用いられる三弗化ホウ素または三弗
化ホウ素コンプレックスは、好ましくは三弗化ホウ素コ
ンプレックスが用いられ、その具体例としては三弗化ホ
ウ素のエーテル錯体、メタノール錯体、フェノール錯体
、酢酸錯体などが挙げられる。
化ホウ素コンプレックスは、好ましくは三弗化ホウ素コ
ンプレックスが用いられ、その具体例としては三弗化ホ
ウ素のエーテル錯体、メタノール錯体、フェノール錯体
、酢酸錯体などが挙げられる。
本発明による新規なアシル化方法に適用される一芳香族
化合物は、具体的には通常フリーデル・クラフト反応に
用いられる芳香族化合物が挙げられ、更に具体的には、
ベンゼン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導
体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フラン誘導体
、ビフェニル誘導体またはターフェニル誘導体が例示さ
れる。
化合物は、具体的には通常フリーデル・クラフト反応に
用いられる芳香族化合物が挙げられ、更に具体的には、
ベンゼン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導
体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フラン誘導体
、ビフェニル誘導体またはターフェニル誘導体が例示さ
れる。
かかる芳香族化合物の使用量は、一般式(n)で示され
るカルボン酸に対して1当景以上必要であり、好ましく
は1.2〜1.5当量である。この使用量において、カ
ルボン酸に対する収率が好ましいものとなるが、芳香族
化合物が高価な場合には、逆にカルボン酸の使用量を増
やすことによって、芳香族化合物に対する収率を上げる
ことができる。
るカルボン酸に対して1当景以上必要であり、好ましく
は1.2〜1.5当量である。この使用量において、カ
ルボン酸に対する収率が好ましいものとなるが、芳香族
化合物が高価な場合には、逆にカルボン酸の使用量を増
やすことによって、芳香族化合物に対する収率を上げる
ことができる。
一般式(I)で示される酸無水物の使用量は、−11式
(II)で示されるカルボン酸に対して1当景以上必要
であり、好ましくは1.1〜1.3当景である。
(II)で示されるカルボン酸に対して1当景以上必要
であり、好ましくは1.1〜1.3当景である。
また、触媒としての三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コ
ンプレックスの使用量は、例えば一般式(II)で示さ
れるカルボン酸に対して通常0.02〜0.2 当量で
あるが、この使用量は何ら限定的なものではなく、それ
以上に使用しても差し支えない。
ンプレックスの使用量は、例えば一般式(II)で示さ
れるカルボン酸に対して通常0.02〜0.2 当量で
あるが、この使用量は何ら限定的なものではなく、それ
以上に使用しても差し支えない。
本反応は通常溶媒中で行われ、その溶媒としては例えば
、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テト
ラクロロエチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素等が好ましく使用され、これらは単独であって
も2種以上の混合物として使用してもよい。かかる溶媒
の使用量については特に制限されない。
、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テト
ラクロロエチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素等が好ましく使用され、これらは単独であって
も2種以上の混合物として使用してもよい。かかる溶媒
の使用量については特に制限されない。
反応温度は好ましくは一5〜150℃の範囲で行なわれ
るが更に好ましくは15〜130℃の範囲である。
るが更に好ましくは15〜130℃の範囲である。
反応時間はそれぞれの反応条件によって適宜変わり、何
ら限定的でないが、通常0.5〜20時間である。
ら限定的でないが、通常0.5〜20時間である。
このような反応によって得られた反応混合物は、通常の
後処理の後、必要に応じて蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等の方法によって精製することにより、目的とする
アシル化物を高収率で得ることができる。
後処理の後、必要に応じて蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等の方法によって精製することにより、目的とする
アシル化物を高収率で得ることができる。
〈発明の効果〉
かくして、本発明の方法によれば、工業的有利にアンル
化を実施することができ、特に本発明において使用され
る酸無水物や三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレ
ックス等の試薬は工業的規模において安価に人手可能で
あるところから、本発明の工業的利用価値を一層有利な
ものとすることができる。
化を実施することができ、特に本発明において使用され
る酸無水物や三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレ
ックス等の試薬は工業的規模において安価に人手可能で
あるところから、本発明の工業的利用価値を一層有利な
ものとすることができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
9.41g (0,05モル)のスペリン酸モノメチル
エステルおよび9.83 g (0,0575モル)
の無水モノクロロ酢酸を50rnlのジクロルエタンに
溶解し、これに5.47 g (0,065モル)のチ
オフェンおよび0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエー
テルコンプレックスを加えたのち、60℃で5時間撹拌
する。反応終了後反応液を冷却し、水、5%炭酸す)
IJウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。乾燥した有機層を減圧下に濃縮
後、11.5gの2−(7−ノドキシカルボニル−1−
オキソヘブチル)−チオフェンを得た。
エステルおよび9.83 g (0,0575モル)
の無水モノクロロ酢酸を50rnlのジクロルエタンに
溶解し、これに5.47 g (0,065モル)のチ
オフェンおよび0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエー
テルコンプレックスを加えたのち、60℃で5時間撹拌
する。反応終了後反応液を冷却し、水、5%炭酸す)
IJウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。乾燥した有機層を減圧下に濃縮
後、11.5gの2−(7−ノドキシカルボニル−1−
オキソヘブチル)−チオフェンを得た。
収率91%
実施例2
チオフェンにかえて2−メチルチオフェン6.38g(
0,065モル)ヲ、スペリン酸モノメチルエステルに
かえてシクロクキサンカルボン酸6.4 g (0,0
5モル)を使用する以外は実施例1に従って反応および
後処理して目的の2−シクロへキシルカルボニル−5−
メチルチオフェン8.3g(収率80%)を得た。
0,065モル)ヲ、スペリン酸モノメチルエステルに
かえてシクロクキサンカルボン酸6.4 g (0,0
5モル)を使用する以外は実施例1に従って反応および
後処理して目的の2−シクロへキシルカルボニル−5−
メチルチオフェン8.3g(収率80%)を得た。
実施例3
チオフェンにかえて2−ブロムチオフェン10.6g
(0,065モル〉 を、スペリン酸モノメチルエステ
ルにかえて安息香酸6.1g (0,05モル)を使用
する以外は実施例1に従って反応および後処理して、目
的とする2−ベンゾイル−5−ブロムチオフェン6.9
5g(収率52%)を得た。
(0,065モル〉 を、スペリン酸モノメチルエステ
ルにかえて安息香酸6.1g (0,05モル)を使用
する以外は実施例1に従って反応および後処理して、目
的とする2−ベンゾイル−5−ブロムチオフェン6.9
5g(収率52%)を得た。
実施例4
ヘプタン酸6.51g (0,05モル)、無水モノク
ロロ酢酸10.26 g (0,06モル)およびジ
クロルエタン40m1を加え、これにアニソール7、5
7 g (0,07モル)および0.9grの三フッ化
ホウ素−酢酸コンプレックスを加え、還流下に8時間反
応させる。以下、実施例1に準じて後処理および精製し
て4−メトキン−1−ヘプタノイルベンゼン9.25g
(収率84%)を得た。
ロロ酢酸10.26 g (0,06モル)およびジ
クロルエタン40m1を加え、これにアニソール7、5
7 g (0,07モル)および0.9grの三フッ化
ホウ素−酢酸コンプレックスを加え、還流下に8時間反
応させる。以下、実施例1に準じて後処理および精製し
て4−メトキン−1−ヘプタノイルベンゼン9.25g
(収率84%)を得た。
実施例5
5、8 g (0,05モル)のレブリン酸および10
.26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0−のジクロルエタンに溶解し、これに8.98 g
(0,065モル)の1.2−ジメトキシベンゼンおよ
び0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレ
ックスを加えたのち、50℃で5.5時間撹拌する。反
応終了後反応液を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶
液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下にa縮機、9.
66gの4−(β−アセチルプロピオニル)−1,2−
ジメトキシベンゼンを得た。収$76%実施例6〜10 スペリン酸モノメチルエステルに代えて表−1に示すカ
ルボン酸(0,05モル)を使用し、表−1に示す反応
条件とする以外は実施例1と同様に反応、後処理し、表
−1に示す結果を得た。
.26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0−のジクロルエタンに溶解し、これに8.98 g
(0,065モル)の1.2−ジメトキシベンゼンおよ
び0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレ
ックスを加えたのち、50℃で5.5時間撹拌する。反
応終了後反応液を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶
液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下にa縮機、9.
66gの4−(β−アセチルプロピオニル)−1,2−
ジメトキシベンゼンを得た。収$76%実施例6〜10 スペリン酸モノメチルエステルに代えて表−1に示すカ
ルボン酸(0,05モル)を使用し、表−1に示す反応
条件とする以外は実施例1と同様に反応、後処理し、表
−1に示す結果を得た。
実施例11
3.7 g (0,05モル)のプロピオン酸および1
0゜26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を
50m!!のジクロルエタンに溶解し、これに5.36
g (0,065モル)のオクチルオキシベンゼン
および0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコン
プレックスを加えたのち、70℃で5時間撹拌する。反
応終了後反応液を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、’7,2
gの4−オクチルオキシプロピオフェノンを得た。
0゜26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を
50m!!のジクロルエタンに溶解し、これに5.36
g (0,065モル)のオクチルオキシベンゼン
および0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコン
プレックスを加えたのち、70℃で5時間撹拌する。反
応終了後反応液を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、’7,2
gの4−オクチルオキシプロピオフェノンを得た。
収率5り%
実施例12
6.51g (0,05モル)のへブタン酸右よび10
.26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0ml1のジクロルエタンに溶解し、これに4.36
g (0,065モル)のピロールおよび0.71gの
三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えた
のち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、水で順次洗
浄する。有機層を減圧下に濃縮後、5.74gの2−ヘ
プタノイル−ピロールを得た。収率64% 実施例13 5、1 g (0,05モル)の23−メチル酪酸、1
0.92g (0,065モル)の1.2.3−)リメ
トキシベンゼン右よび14.39g (0,06モル)
の無水ジクロロ酢酸を50dのテトラクロルエタンに溶
解する。これに0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエー
テルコンプレックスを加え、50℃で3時間撹拌する。
.26g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0ml1のジクロルエタンに溶解し、これに4.36
g (0,065モル)のピロールおよび0.71gの
三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えた
のち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、水で順次洗
浄する。有機層を減圧下に濃縮後、5.74gの2−ヘ
プタノイル−ピロールを得た。収率64% 実施例13 5、1 g (0,05モル)の23−メチル酪酸、1
0.92g (0,065モル)の1.2.3−)リメ
トキシベンゼン右よび14.39g (0,06モル)
の無水ジクロロ酢酸を50dのテトラクロルエタンに溶
解する。これに0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエー
テルコンプレックスを加え、50℃で3時間撹拌する。
反応終了後反応液を冷却し、5%炭酸す) IJウム水
溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、1
0、1 gの1.2.3−)リメトキシフェニル−4−
(1−メチルプロピル)ケトンを得た。
溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、1
0、1 gの1.2.3−)リメトキシフェニル−4−
(1−メチルプロピル)ケトンを得た。
収率80%
実施例14
8.51g (0,05モル)の4−(2−チエニル)
醋酸、4.43 g (0,065モル)のフランおよ
び14.39 g(0,06モル) の無水ジクロロ酢
酸を50m1!のジクロルエタンに溶解する。これに0
.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレック
スを加え、50℃で3時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。
醋酸、4.43 g (0,065モル)のフランおよ
び14.39 g(0,06モル) の無水ジクロロ酢
酸を50m1!のジクロルエタンに溶解する。これに0
.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレック
スを加え、50℃で3時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。
有機層を減圧下に濃縮後、9.91gの2− (1(2
−チエニル)ブチリル)フランを得た。
−チエニル)ブチリル)フランを得た。
収率91%
実施例15
7、51 g (0,05モル)のβ−フェニルプロピ
オン酸および9.83g (0,0575モル)の無水
モノクロロ酢酸を50−のジクロルエタンに溶解し、こ
れに8.17g (0,06モル)のフェニルアセテー
トおよび1.Ogの三弗化ホウ素酢酸コンプレックスを
加え、90℃で8時間撹拌する。反応終了後反応液を冷
却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、水で順次洗浄す
る。有機層を減圧下に濃縮後、10.7gの4−アセチ
ルオキン−1−(β−フェニル)プロピオニルベンゼン
を得た。収率80% 実施例16 7.31g (0,05モル)の6−メドキシヘキサン
酸、7、93 g (0,065モル)のメチレンジオ
キシベンゼンおよび14.39g (0,06モル)の
無水ジクロロ酢酸を50艷のジクロルエタンに溶解する
。これに0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコ
ンプレックスを加え、70℃で6時間撹拌する。反応終
了後反応液を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、
水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、11.2
gの4−(6−メドキシヘキサノイル)−1,2−メチ
レンジオキシベンゼンを得た。
オン酸および9.83g (0,0575モル)の無水
モノクロロ酢酸を50−のジクロルエタンに溶解し、こ
れに8.17g (0,06モル)のフェニルアセテー
トおよび1.Ogの三弗化ホウ素酢酸コンプレックスを
加え、90℃で8時間撹拌する。反応終了後反応液を冷
却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、水で順次洗浄す
る。有機層を減圧下に濃縮後、10.7gの4−アセチ
ルオキン−1−(β−フェニル)プロピオニルベンゼン
を得た。収率80% 実施例16 7.31g (0,05モル)の6−メドキシヘキサン
酸、7、93 g (0,065モル)のメチレンジオ
キシベンゼンおよび14.39g (0,06モル)の
無水ジクロロ酢酸を50艷のジクロルエタンに溶解する
。これに0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコ
ンプレックスを加え、70℃で6時間撹拌する。反応終
了後反応液を冷却し、5%炭酸す) IJウム水溶液、
水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、11.2
gの4−(6−メドキシヘキサノイル)−1,2−メチ
レンジオキシベンゼンを得た。
実施例17
4、31 g (0,05モル)のクロトン酸、5.4
7 g (0,065モル)のチオフェンおよび10.
26 g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0m1のトルエンに溶解する。
7 g (0,065モル)のチオフェンおよび10.
26 g (0,06モル)の無水モノクロロ酢酸を5
0m1のトルエンに溶解する。
これに0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコン
プレックスを加え、50℃で6.5時間撹拌する。
プレックスを加え、50℃で6.5時間撹拌する。
反応終了後反応液を冷却し、水、5%炭酸ナトリウム水
溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、4
.26gの2−クロトニルチオフェンを得た。収率56
% 実施例18 ピロールにかえて1−メチルピロール5.27 g(0
,065モル〉、ヘプタン酸にかえてイソラフ酸4.4
g (0,05モル)を使用する以外は実施例12に準
じて反応、後処理し、l−メチル−2−イソブチリルピ
ロール6g(収率80%)を得た。
溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃縮後、4
.26gの2−クロトニルチオフェンを得た。収率56
% 実施例18 ピロールにかえて1−メチルピロール5.27 g(0
,065モル〉、ヘプタン酸にかえてイソラフ酸4.4
g (0,05モル)を使用する以外は実施例12に準
じて反応、後処理し、l−メチル−2−イソブチリルピ
ロール6g(収率80%)を得た。
実施例19〜22
スペリン酸モノメチルエステルにかえて以下に示す芳香
族カルボン酸もしくは環状脂肪族カルボン酸を使用する
以外は実施例1に準じて反応および後処理して表2に示
す結果を得た。
族カルボン酸もしくは環状脂肪族カルボン酸を使用する
以外は実施例1に準じて反応および後処理して表2に示
す結果を得た。
実施例23
11.51g (0,05モル)のlローアセチルオキ
シデカン酸、4.43 g (0,065モル)のフラ
ンおよび14.39g (0,06モル)の無水ジクロ
ロ酢酸を50−のジクロルエタンに溶解する。これに0
.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレック
スを加え、50℃で3時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。
シデカン酸、4.43 g (0,065モル)のフラ
ンおよび14.39g (0,06モル)の無水ジクロ
ロ酢酸を50−のジクロルエタンに溶解する。これに0
.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレック
スを加え、50℃で3時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、5%炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。
有機層を減圧下に濃縮して12.61gの2−(10−
アセチルオキシデカノイル)フランを得た。
アセチルオキシデカノイル)フランを得た。
収率90%
実施例24
β−フェニルプロピオン酸にかえて(+)−2゜2−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸5.71g(0,05
モル)を使用する以外は実施例15に準じて反応シ、ア
セチルオキシ−フェニル−2,2−ジメチルシクロプロ
ピルケトン8.83g(収率76%)を得た。
メチルシクロプロパンカルボン酸5.71g(0,05
モル)を使用する以外は実施例15に準じて反応シ、ア
セチルオキシ−フェニル−2,2−ジメチルシクロプロ
ピルケトン8.83g(収率76%)を得た。
実施例25〜26
スペリン酸モノメチルエステルにかえて、以下に示す脂
肪族カルボン酸を使用する以外は、実施例1に準じて反
応し、表3に示す結果を得た。
肪族カルボン酸を使用する以外は、実施例1に準じて反
応し、表3に示す結果を得た。
実施例27
4−アセトキ/ビフェニル12.74 g (0,06
モル)、n−へブタン酸6.51g (0,05モル
)、無水クロル酢酸9.83g (0,0575モル
)、テトラクロルエタン50−および三弗化ホウ素のエ
ーテルコンプレックス0.8gの混合物を100℃で1
0時間加熱する。
モル)、n−へブタン酸6.51g (0,05モル
)、無水クロル酢酸9.83g (0,0575モル
)、テトラクロルエタン50−および三弗化ホウ素のエ
ーテルコンプレックス0.8gの混合物を100℃で1
0時間加熱する。
以下実施例1に準じて後処理して4−アセトキ/=4′
−へブタノイルピフェニル12.0g (収率74%)
を得た。
−へブタノイルピフェニル12.0g (収率74%)
を得た。
実施例28
フランにかえて3.4−ジメトキントルエン9、89
g (0,065モル)を使用し、反応温度を70〜8
0℃で5時間に変える以外は実施例22と同様に反応お
よび後処理し、3.4−ジメトキノ−6−(10−アセ
チルオキンデカメイル)トルエン15.3 g (収率
84%)を得た。
g (0,065モル)を使用し、反応温度を70〜8
0℃で5時間に変える以外は実施例22と同様に反応お
よび後処理し、3.4−ジメトキノ−6−(10−アセ
チルオキンデカメイル)トルエン15.3 g (収率
84%)を得た。
実施例29
ナフタレン7、69 g (0,06モル)、醋酸4.
41 g (0,05モル)、無水クロル酢酸9.83
g (0,0575モル)、テトラクロルエタン50
m1!および三弗化ホウ素のエーテルコンプレックス0
.9gの混合物を115℃で8時間加熱する。以下実施
例1111じて後処理してブチリルナフタレン4.26
g(収率43%)を得た。
41 g (0,05モル)、無水クロル酢酸9.83
g (0,0575モル)、テトラクロルエタン50
m1!および三弗化ホウ素のエーテルコンプレックス0
.9gの混合物を115℃で8時間加熱する。以下実施
例1111じて後処理してブチリルナフタレン4.26
g(収率43%)を得た。
実施例30
スペリン酸モノメチルエステルにかえて3.4゜5−ト
リトキシ安息香酸10.6 g (0,05モル)を使
用し、60〜70℃で6時間加熱する以外は実施例1と
同様に反応および後処理し、2−(:1..4.5−ト
リメトキンベンゾイル)チオフェン5.77 g (収
率41.5%)を得た。
リトキシ安息香酸10.6 g (0,05モル)を使
用し、60〜70℃で6時間加熱する以外は実施例1と
同様に反応および後処理し、2−(:1..4.5−ト
リメトキンベンゾイル)チオフェン5.77 g (収
率41.5%)を得た。
実施例3ル
レブリン酸にかえて11−/アノウンデカン酸1015
g (0,05モル)を使用し、70〜80℃で6時間
加熱する以外は実施例5と同様に反応および後処理し、
4−(11−シアノウンデカノイル)−1,2−ジメト
キンベンゼン14.2 g (収率86%)を得た。
g (0,05モル)を使用し、70〜80℃で6時間
加熱する以外は実施例5と同様に反応および後処理し、
4−(11−シアノウンデカノイル)−1,2−ジメト
キンベンゼン14.2 g (収率86%)を得た。
実施例32
レブリン酸にかえて1−/クロヘキセンー1−カルボン
酸6.31gを使用し、70〜80℃で6時間加熱する
以外は実施例5と同様に反応および後処理し、4−(1
−シクロヘキセノイル)−1,2−ジメトキシベンゼン
7.27g(収率59%)を得た。
酸6.31gを使用し、70〜80℃で6時間加熱する
以外は実施例5と同様に反応および後処理し、4−(1
−シクロヘキセノイル)−1,2−ジメトキシベンゼン
7.27g(収率59%)を得た。
実施例33
ベンジルフェニルエーテル11.1 g (0,06モ
ル)、4−オクチルオキシ安息香酸12.5 g (0
,05モル)、無水ジクロル酢酸14.39 g (0
,06モル)、テトラクロルエタン50mA’および三
弗化ホウ素のエーテルコンプレックス0.7gの混合物
を105℃で7時間加熱する。以下実施例1に準じて後
処理して4−(4−オクチルオキシベンゾイル)フェニ
ルベンジルエーテル13.74 g (収率66%)を
得た。
ル)、4−オクチルオキシ安息香酸12.5 g (0
,05モル)、無水ジクロル酢酸14.39 g (0
,06モル)、テトラクロルエタン50mA’および三
弗化ホウ素のエーテルコンプレックス0.7gの混合物
を105℃で7時間加熱する。以下実施例1に準じて後
処理して4−(4−オクチルオキシベンゾイル)フェニ
ルベンジルエーテル13.74 g (収率66%)を
得た。
実施例34
ブロムベンゼン9.42 g (0,06モル)、吉草
酸5、11 g (0,05モル)、無水クロル酢酸9
.83 g (0,0575モル)、テトラクロルエタ
ン50m1および三弗化ホウ素のエーテルコンプレック
ス0.8gの混合物を115℃で10時間加熱する。以
下実施例1に準じて後処理してバレリルブロムベンゼン
6、75 g (収率56%)を得た。
酸5、11 g (0,05モル)、無水クロル酢酸9
.83 g (0,0575モル)、テトラクロルエタ
ン50m1および三弗化ホウ素のエーテルコンプレック
ス0.8gの混合物を115℃で10時間加熱する。以
下実施例1に準じて後処理してバレリルブロムベンゼン
6、75 g (収率56%)を得た。
実施例35
スペリン酸モノメチルにかえて4−アセトキシフェニル
酢酸9.71 g (0,05モル)を使用する以外は
実施例1と同様に反応および後処理し、2− (4−ア
セトキンフェニルアセチル)チオフェン10.0 g(
収率77%)を得た。
酢酸9.71 g (0,05モル)を使用する以外は
実施例1と同様に反応および後処理し、2− (4−ア
セトキンフェニルアセチル)チオフェン10.0 g(
収率77%)を得た。
(以下余白ン
Claims (4)
- (1)アシル化剤として脂肪族もしくは芳香族カルボン
酸を用いて芳香族化合物をアシル化する方法であって、
一般式 (R_2R_3CHCO)_2O (式中、R_2およびR_3は水素原子、塩素原子また
は臭素原子を表わす。但し、R_2およびR_3が同時
に水素原子であることはない) で示される酸無水物の存在下に、三フッ化ホウ素又は三
フッ化ホウ素コンプレックスを触媒として用いることを
特徴とする芳香族化合物のアシル化方法。 - (2)脂肪族もしくは芳香族カルボン酸が一般式R_1
−COOH (式中、R_1はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、環状の飽和もしくは不飽和脂肪族基、フェニル基
、チエニル基、チエニルアルキル基またはアラルキル基
を表わし、これらの基は、さらにハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシル基、アルカノイル基、アルカノイル
オキシル基、アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシ
ル基またはメチレンジオキシ基で置換されていてもよい
。)である請求項1に記載の方法。 - (3)芳香族化合物がフリーデル・クラフト反応に適用
される芳香族化合物である請求項1に記載の方法。 - (4)フリーデル・クラフト反応に適用される芳香族化
合物がベンゼン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセ
ン誘導体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フラン
誘導体、ビフェニル誘導体またはターフェニル誘導体で
ある請求項3に記載の方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63107252A JPH0830014B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 芳香族化合物のアシル化方法 |
EP19890107541 EP0339599B1 (en) | 1988-04-28 | 1989-04-26 | Process for producing acylaromatic compounds |
DE1989626975 DE68926975T2 (de) | 1988-04-28 | 1989-04-26 | Verfahren zur Herstellung von acylaromatischen Verbindungen |
US07/915,747 US5235068A (en) | 1988-04-28 | 1992-07-21 | Process for producing acylaromatic compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63107252A JPH0830014B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 芳香族化合物のアシル化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01279846A true JPH01279846A (ja) | 1989-11-10 |
JPH0830014B2 JPH0830014B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=14454338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63107252A Expired - Fee Related JPH0830014B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 芳香族化合物のアシル化方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0339599B1 (ja) |
JP (1) | JPH0830014B2 (ja) |
DE (1) | DE68926975T2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5929178A (ja) * | 1982-08-11 | 1984-02-16 | Pola Chem Ind Inc | レザ−光線を利用した印字装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2492630A (en) * | 1946-01-12 | 1949-12-27 | Socony Vacuum Oil Co Inc | Acylation of thiophene with boron trifluoride catalyst |
US3752826A (en) * | 1970-01-26 | 1973-08-14 | Mcneilab Inc | Aroyl substituted pyrroles |
US4812585A (en) * | 1986-10-28 | 1989-03-14 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing 2-aceylfuran derivatives |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63107252A patent/JPH0830014B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-04-26 DE DE1989626975 patent/DE68926975T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-26 EP EP19890107541 patent/EP0339599B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5929178A (ja) * | 1982-08-11 | 1984-02-16 | Pola Chem Ind Inc | レザ−光線を利用した印字装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0339599A3 (en) | 1991-03-06 |
EP0339599B1 (en) | 1996-08-21 |
DE68926975D1 (de) | 1996-09-26 |
DE68926975T2 (de) | 1997-01-30 |
EP0339599A2 (en) | 1989-11-02 |
JPH0830014B2 (ja) | 1996-03-27 |
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