JPH012785A - 電子ビ−ム溶接方法 - Google Patents
電子ビ−ム溶接方法Info
- Publication number
- JPH012785A JPH012785A JP62-157008A JP15700887A JPH012785A JP H012785 A JPH012785 A JP H012785A JP 15700887 A JP15700887 A JP 15700887A JP H012785 A JPH012785 A JP H012785A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- welding
- present
- penetration
- oscillation
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、巾広の溶込みを得る電子ビーム溶接方法番で
関する。
関する。
従来、電子ビーム溶接において巾広の溶込みを得るため
Ｋは、電子ビームの焦点位置をずらしてぼけビームとす
るか、溶接進行方向と直交する方向に電子ビームをオシ
レートさせている。
Ｋは、電子ビームの焦点位置をずらしてぼけビームとす
るか、溶接進行方向と直交する方向に電子ビームをオシ
レートさせている。
しかしながら、このような方法では、エネルギー分布が
端部に薄くなったシ、冷却作用によって表面付近だけが
広い椀型又は溶込み先端部へいく程細いニンジン型溶込
みしか得ることができず、従って先端部で目外れによる
融合不良を招いたり、コールドシャット。
端部に薄くなったシ、冷却作用によって表面付近だけが
広い椀型又は溶込み先端部へいく程細いニンジン型溶込
みしか得ることができず、従って先端部で目外れによる
融合不良を招いたり、コールドシャット。
ルートポロシティ等の欠陥が生ずる不都合ンウ：ある。
本発明は、このような事情に鑑みて提案されたもので、
溶液中の端部のエネルギー分布を高め、ビード底部まで
巾の広い溶込みを得ることができる電子ビーム溶廣方法
を提供することを目的とする。
溶液中の端部のエネルギー分布を高め、ビード底部まで
巾の広い溶込みを得ることができる電子ビーム溶廣方法
を提供することを目的とする。
そのために本発明は、電子ビームを溶接進行方向にオシ
レートさせながら同時て溶接進行方向と直交する方向に
オシレートさせ、かつ溶接進行方向と直交する側のオシ
レートの両端部で一時オンレートを停止することを特徴
とする。
レートさせながら同時て溶接進行方向と直交する方向に
オシレートさせ、かつ溶接進行方向と直交する側のオシ
レートの両端部で一時オンレートを停止することを特徴
とする。
上述の構成により、溶接巾の端部のエネルギー分布を高
め、ピード底部まで巾の広い溶込みを得ることができる
電子ビーム溶接方法会得ることができる。
め、ピード底部まで巾の広い溶込みを得ることができる
電子ビーム溶接方法会得ることができる。
本発明電子ビーム溶接方法の一実施例を図面について説
明すると、第１図は本発明方法Ｏ実施態様を示す斜視図
、第２図は本発明方法と従来方法との溶込み形状の比較
説明図、第３図は本発明方法と従来方法との突合わせ面
の比較説明図、第４図は本発明方法と従来方法とのイン
サート材溶接部の比較説明図である。
明すると、第１図は本発明方法Ｏ実施態様を示す斜視図
、第２図は本発明方法と従来方法との溶込み形状の比較
説明図、第３図は本発明方法と従来方法との突合わせ面
の比較説明図、第４図は本発明方法と従来方法とのイン
サート材溶接部の比較説明図である。
第１図において、１ａ、Ｉｂは突合わされた溶接部材で
、矢印２の方向に溶接される。
、矢印２の方向に溶接される。
６はこ子ビームで、電磁偏向コ゛イル４によって溶接進
行方向５と溶接進行方向と直交する方向６の方向へそれ
ぞれオシレートさせる。
行方向５と溶接進行方向と直交する方向６の方向へそれ
ぞれオシレートさせる。
その際、５の方向へは数百Ｈｚ〜数ＫＨｚの三角波又は
サイン波によってオシレートを与えつつ、乙の方向へは
数十Ｈｚ〜数百Ｈｚの矩形波又は台形波によってオシレ
ートヲ与エル。
サイン波によってオシレートを与えつつ、乙の方向へは
数十Ｈｚ〜数百Ｈｚの矩形波又は台形波によってオシレ
ートヲ与エル。
７はビームオシレートのパターンを示す。
このような本発明方法による溶込み形状を従来の焦点を
ずらした方法と比較して第２図に示すと、同図（Ａ）は
本発明方法による溶込み形状を示すもので、８はビーム
横断面又は部材の上へ弱く照射した場合の焼付はパター
ンであり、９はそれのエネルギー分布で端部の方がエネ
ルギーが高くなっており、このビームで溶接したビード
横断面１０の溶込み形状は底部まで巾広な溶込みとなっ
ている。
ずらした方法と比較して第２図に示すと、同図（Ａ）は
本発明方法による溶込み形状を示すもので、８はビーム
横断面又は部材の上へ弱く照射した場合の焼付はパター
ンであり、９はそれのエネルギー分布で端部の方がエネ
ルギーが高くなっており、このビームで溶接したビード
横断面１０の溶込み形状は底部まで巾広な溶込みとなっ
ている。
一方、同図ＣＢ）に示す従来方法の焦点をずらしたやジ
方の場合では、ビーム横断面８′のエネルギー分布９は
中央部が高いガラス分布となり、ビード横断面１０の溶
込み形状は部材表面付近を広くしても底部の方で狭くな
る。
方の場合では、ビーム横断面８′のエネルギー分布９は
中央部が高いガラス分布となり、ビード横断面１０の溶
込み形状は部材表面付近を広くしても底部の方で狭くな
る。
次に第３図は、突合わせ面の断面形状について本発明方
法と従来方法とを比較したもので、同図（Ａ）の本発明
方法においては、溶接部材１ａ、ｌｂの突合わせ面１１
はピード横断面１０の溶込みによってカバーされている
が、同図ＣＢ）の従来方法の場合は、照射位置がずれた
ために溶着の減少をきたし突合わせ面１１はカバーされ
ない。
法と従来方法とを比較したもので、同図（Ａ）の本発明
方法においては、溶接部材１ａ、ｌｂの突合わせ面１１
はピード横断面１０の溶込みによってカバーされている
が、同図ＣＢ）の従来方法の場合は、照射位置がずれた
ために溶着の減少をきたし突合わせ面１１はカバーされ
ない。
更に第４図は、インサート材を溶接した場合について本
発明方法と従来方法とを比較したもので、同図（Ａ）の
本発明方法においては、インサート材１２は完全Ｑて溶
込んでいるが、同図ＣＢ）の従来方法の場合は、インサ
ート材１２の溶残しが生じている。
発明方法と従来方法とを比較したもので、同図（Ａ）の
本発明方法においては、インサート材１２は完全Ｑて溶
込んでいるが、同図ＣＢ）の従来方法の場合は、インサ
ート材１２の溶残しが生じている。
要するに本発明によれば、電子ビームを溶接進行方向に
オシレートさせながら同時に溶接進行方向と直交する方
向にオシレートさせ、かつ溶接進行方向と直交する側の
オシレートの両端部で一時オシレートを停止することて
より、溶接巾の端部のエネルギー分布を高め、ビード底
部まで巾Ｏ広い溶込みを得ることができる電子ビーム溶
接方法を得るから、本発明は産業上極めて有益なもので
ある。
オシレートさせながら同時に溶接進行方向と直交する方
向にオシレートさせ、かつ溶接進行方向と直交する側の
オシレートの両端部で一時オシレートを停止することて
より、溶接巾の端部のエネルギー分布を高め、ビード底
部まで巾Ｏ広い溶込みを得ることができる電子ビーム溶
接方法を得るから、本発明は産業上極めて有益なもので
ある。
第１図は本発明電子ビーム溶接方法の一実施例を示す斜
視図、第２図は本発明方法と従来方法との溶込み形状の
比較説明図、第３図は本発明方法と従来方法との突合わ
せ面の比較説明図、第４図は本発明方法と従来方法との
インサート材溶接部の比較説明図である。 Ｉａ、Ｉｂ・・・溶接部材、２・・・溶接方向、３・・
・電子ビーム、４・・・電磁偏向コイル、５，６・・・
オシレート方向、７・・・ビームオシレートパターン、
８，８・・・ビーム横′ｆｆｒ面、９，９・・・エネル
ギー分布、１０．１０・・・ピード横断面、１１．１１
・・・突合わせ面、１２ｊ１２・・・インサート材。 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第１図 第２図 （Ａ） （Ｂ） 第３図 （Ａ） （８） 第４図 （Ａ） （Ｂ）
視図、第２図は本発明方法と従来方法との溶込み形状の
比較説明図、第３図は本発明方法と従来方法との突合わ
せ面の比較説明図、第４図は本発明方法と従来方法との
インサート材溶接部の比較説明図である。 Ｉａ、Ｉｂ・・・溶接部材、２・・・溶接方向、３・・
・電子ビーム、４・・・電磁偏向コイル、５，６・・・
オシレート方向、７・・・ビームオシレートパターン、
８，８・・・ビーム横′ｆｆｒ面、９，９・・・エネル
ギー分布、１０．１０・・・ピード横断面、１１．１１
・・・突合わせ面、１２ｊ１２・・・インサート材。 代理人 弁理士 塚 本 正 文 第１図 第２図 （Ａ） （Ｂ） 第３図 （Ａ） （８） 第４図 （Ａ） （Ｂ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子ビームを溶接進行方向にオシレートさ せながら同時に溶接進行方向と直交する方向にオシレー
トさせ、かつ溶接進行方向と直交−をる側のオシレート
の両端部で一時オシレートを停止することを特徴とする
電子ビーム溶接方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-157008A JPH012785A (ja) | 1987-06-24 | 電子ビ−ム溶接方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-157008A JPH012785A (ja) | 1987-06-24 | 電子ビ−ム溶接方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS642785A JPS642785A (en) | 1989-01-06 |
| JPH012785A true JPH012785A (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=
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