JPH01275563A - スルホニル ハライドの製造方法 - Google Patents
スルホニル ハライドの製造方法Info
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- JPH01275563A JPH01275563A JP63103471A JP10347188A JPH01275563A JP H01275563 A JPH01275563 A JP H01275563A JP 63103471 A JP63103471 A JP 63103471A JP 10347188 A JP10347188 A JP 10347188A JP H01275563 A JPH01275563 A JP H01275563A
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Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、農薬、医薬、染料などの中間体として有用な
後記−形式(II)で表わされるスルホニル ハライド
の新規な製造方法に関し、詳しくは、後記−形式(+)
で表わされるチウロニウム塩を水の存在下に塩素又は臭
素と反応させることにより前記スルホニル ハライドを
製造する方法に関する。
後記−形式(II)で表わされるスルホニル ハライド
の新規な製造方法に関し、詳しくは、後記−形式(+)
で表わされるチウロニウム塩を水の存在下に塩素又は臭
素と反応させることにより前記スルホニル ハライドを
製造する方法に関する。
(発明の開示)
後記−形式(n)で表わされるスルホニル ハライドを
製造する方法としては、−a式中のR5がハロゲン原子
を持つハライド化合物とチオウレアとをアルコール中で
反応させ、アルカリで分解してチオール化合物を生成さ
せ、次いでこのチオール化合物を酢酸水溶液中で塩素と
反応させて目的のスルホニル クロライドを製造する方
法が挙げられる。しかしながら、その工業的実施には、
各反応収率を向上させるために、反応生成物のアルカリ
処理による中間体チウロニウム塩の分解並びに他の中間
体チオール化合物の分離を行なう必要があり、従って反
応工程が多く後処理操作が煩雑になる欠陥を有する。ま
た、この方法では反応操作中に悪臭が生じるため、その
対策にも苦慮するためにその改良が望まれている。
製造する方法としては、−a式中のR5がハロゲン原子
を持つハライド化合物とチオウレアとをアルコール中で
反応させ、アルカリで分解してチオール化合物を生成さ
せ、次いでこのチオール化合物を酢酸水溶液中で塩素と
反応させて目的のスルホニル クロライドを製造する方
法が挙げられる。しかしながら、その工業的実施には、
各反応収率を向上させるために、反応生成物のアルカリ
処理による中間体チウロニウム塩の分解並びに他の中間
体チオール化合物の分離を行なう必要があり、従って反
応工程が多く後処理操作が煩雑になる欠陥を有する。ま
た、この方法では反応操作中に悪臭が生じるため、その
対策にも苦慮するためにその改良が望まれている。
本発明者等は、水の存在下にチウロニウム塩と塩素又は
臭素とを反応させることにより、目的のスルホニル ハ
ライドを生成することを見出し、この方法によれば反応
工程、後処理操作が著しく改善されるだけでなく、悪臭
が生ずることもない。
臭素とを反応させることにより、目的のスルホニル ハ
ライドを生成することを見出し、この方法によれば反応
工程、後処理操作が著しく改善されるだけでなく、悪臭
が生ずることもない。
すなわち、本発明は、水の存在下−触式(I):の窒素
原子を有する置換または無置換の5〜6員の芳香族複素
環式基であり、Xはハロゲン原子である)で表わされる
チウロニウム塩と塩素又は臭素とを反応させて一般式(
n):R−so、Y(式中、Yは塩素原子又は臭素原子
であり、Rは前述の通りである)で表わされるスルホニ
ル ノ1ライドを製造することを特徴とするスルホニル
ハライドの製造方法である。
原子を有する置換または無置換の5〜6員の芳香族複素
環式基であり、Xはハロゲン原子である)で表わされる
チウロニウム塩と塩素又は臭素とを反応させて一般式(
n):R−so、Y(式中、Yは塩素原子又は臭素原子
であり、Rは前述の通りである)で表わされるスルホニ
ル ノ1ライドを製造することを特徴とするスルホニル
ハライドの製造方法である。
前記−形式(1)中、Rとして表わされる前記芳香族複
素環式基の置換基としてはAロゲン原子、ハロゲン原子
で置換されてもよいアルキル基、/’tロゲン原子で置
換されてもよいアルケニル基、フ″エニル基、カルボキ
シル基、カルバモイル基、N。
素環式基の置換基としてはAロゲン原子、ハロゲン原子
で置換されてもよいアルキル基、/’tロゲン原子で置
換されてもよいアルケニル基、フ″エニル基、カルボキ
シル基、カルバモイル基、N。
N−ジアルキルカルバモイル基、シアノ基、ニトロ基な
どが挙げられる。その置換基の数としては特に制限はな
く、前記芳香族複素環式基の全部或いは一部がこれらの
置換基によって置換されてもよいが通常1〜4であって
、置換基の数が2以上の場合それらは同−又は相異なる
ものでもよい。
どが挙げられる。その置換基の数としては特に制限はな
く、前記芳香族複素環式基の全部或いは一部がこれらの
置換基によって置換されてもよいが通常1〜4であって
、置換基の数が2以上の場合それらは同−又は相異なる
ものでもよい。
アルキル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、アルケニル基と
しては炭素数2〜6のものが好ましく、例えばエチニル
基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基などが挙げられ、ハロゲン原子としては例えば弗
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、アルケニル基と
しては炭素数2〜6のものが好ましく、例えばエチニル
基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基などが挙げられ、ハロゲン原子としては例えば弗
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
また、前記芳香族複素環式基としては窒素原子を1〜3
個含むものであり、例えばピラゾリル基、イミダゾリル
基、トリアゾリル基、ピリジニル基、ピリミジニル基、
ピリダジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基などが
挙げられ、なかでもピリジニル基がさらに好ましい。
個含むものであり、例えばピラゾリル基、イミダゾリル
基、トリアゾリル基、ピリジニル基、ピリミジニル基、
ピリダジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基などが
挙げられ、なかでもピリジニル基がさらに好ましい。
ここで、本発明方法を適用するに好ましいチウロニウム
塩としては下記−形式(■)で表わされるものである。
塩としては下記−形式(■)で表わされるものである。
一般式(■):
(式中、Xは前述の通りであり、Qはハロゲン原子、ハ
ロゲン原子で置換されてもよいアルキル基、ハロゲン原
子で置換されてもよいアルケニル基、フェニル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、シアノ基又はニトロ基であり、nは0又は
1〜4の整数である。) 本発明方法で使用されるチウロニウム塩としてはその塩
酸塩、臭化水素酸塩、弗化水素酸塩などが挙げられるが
、なかでもその塩酸塩及び臭化水素酸塩が好ましい、ま
たこのチウロニウム塩は、例えば、−形式([V) R
−Ha l (式中、Halはハロゲン原子である)
で表わされるハライド化合物とチオウレアとをアルコー
ル、脂肪酸或いはその酸無水物又は鉱酸の存在下、一般
に50〜120°C,0,1〜15時間で反応させれば
容易にチウロニウム塩を製造することができる。
ロゲン原子で置換されてもよいアルキル基、ハロゲン原
子で置換されてもよいアルケニル基、フェニル基、カル
ボキシル基、カルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、シアノ基又はニトロ基であり、nは0又は
1〜4の整数である。) 本発明方法で使用されるチウロニウム塩としてはその塩
酸塩、臭化水素酸塩、弗化水素酸塩などが挙げられるが
、なかでもその塩酸塩及び臭化水素酸塩が好ましい、ま
たこのチウロニウム塩は、例えば、−形式([V) R
−Ha l (式中、Halはハロゲン原子である)
で表わされるハライド化合物とチオウレアとをアルコー
ル、脂肪酸或いはその酸無水物又は鉱酸の存在下、一般
に50〜120°C,0,1〜15時間で反応させれば
容易にチウロニウム塩を製造することができる。
また本発明方法においては、通常、チウロニウム塩を水
に溶解するか若しくは鉱酸水溶液に溶解するが、必要な
らばそこに脂肪酸或いはその酸無水物も溶媒として追加
、使用し、それらに塩素ガス又は臭素を導入することに
より目的のスルホニル ハライドを製造する。塩素又は
臭素の使用量は、普通、チウロニウム塩1モルに対して
3モル以上であり、好ましくは3〜5モルである。この
範囲を大きく逸脱すると所期の効果が得られ難いので望
ましくない、また水の使用量は、普通、チウロニウム塩
に対して100〜300重量%であり、望ましくは15
0〜200重量%である。このチウロニウム塩及び塩素
の反応は、普通、反応温度が5°C以下望ましくは0°
C〜−5°Cで、反応時間0.1〜15時間望ましくは
0.5〜4時間で行なわれる0反応温度及び反応時間が
前記範囲を大きく逸脱すると所期の効果が得られ難い。
に溶解するか若しくは鉱酸水溶液に溶解するが、必要な
らばそこに脂肪酸或いはその酸無水物も溶媒として追加
、使用し、それらに塩素ガス又は臭素を導入することに
より目的のスルホニル ハライドを製造する。塩素又は
臭素の使用量は、普通、チウロニウム塩1モルに対して
3モル以上であり、好ましくは3〜5モルである。この
範囲を大きく逸脱すると所期の効果が得られ難いので望
ましくない、また水の使用量は、普通、チウロニウム塩
に対して100〜300重量%であり、望ましくは15
0〜200重量%である。このチウロニウム塩及び塩素
の反応は、普通、反応温度が5°C以下望ましくは0°
C〜−5°Cで、反応時間0.1〜15時間望ましくは
0.5〜4時間で行なわれる0反応温度及び反応時間が
前記範囲を大きく逸脱すると所期の効果が得られ難い。
目的のスルホニル ハライドは不安定なものが多いため
にそれ自体は分離せず、例えば、反応生成物に対し必要
ならば塩化メチレン抽出のような後処理を加えた後、ア
ンモニアを反応させて安定なスルホンアミド化合物に変
換させてから分離してもよい、スルホニル ハライドと
アンモニアとの反応は常法に従って実施されればよく、
そこでは容易にスルホンアミド化合物に変換できる。
にそれ自体は分離せず、例えば、反応生成物に対し必要
ならば塩化メチレン抽出のような後処理を加えた後、ア
ンモニアを反応させて安定なスルホンアミド化合物に変
換させてから分離してもよい、スルホニル ハライドと
アンモニアとの反応は常法に従って実施されればよく、
そこでは容易にスルホンアミド化合物に変換できる。
(実施例)
実施例1
500ml四ツロフラスコに25%酢酸水溶液50g及
びチオウレア25.2gを投入し、90°Cに加温した
後、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン50
gを滴下し、90〜95°Cで2時間反応させ、3−ト
リフルオロメチル−2−ピリジンチウロニウム塩酸塩を
生成させた。
びチオウレア25.2gを投入し、90°Cに加温した
後、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン50
gを滴下し、90〜95°Cで2時間反応させ、3−ト
リフルオロメチル−2−ピリジンチウロニウム塩酸塩を
生成させた。
反応終了後生成物を冷却し、水128g及び濃塩酸21
.5gを投入した後、フラスコの内温を0〜5°Cで塩
素ガスを60m1/分の流量で、5時間吹き込み反応を
完結させて3−トリフルオロメチル−2−とリジンスル
ホニル クロライドを生成させた0反応生成物に塩化メ
チレンを210g投入し、前記スルホニル クロライド
を抽出し分液して塩化メチレン層に28%のアンモニア
水50gを投入し、20°Cで30分間反応させて3−
トリフルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミドを生
成させた0反応液中の過剰のアンモニア分を塩酸で中和
した後、濾過し水洗し乾燥して前記スルホンアミド41
.1gを得た。(収率59゜7%:原料のハライド化合
物基準)なお、この反応操作においては悪臭は発生しな
かった。
.5gを投入した後、フラスコの内温を0〜5°Cで塩
素ガスを60m1/分の流量で、5時間吹き込み反応を
完結させて3−トリフルオロメチル−2−とリジンスル
ホニル クロライドを生成させた0反応生成物に塩化メ
チレンを210g投入し、前記スルホニル クロライド
を抽出し分液して塩化メチレン層に28%のアンモニア
水50gを投入し、20°Cで30分間反応させて3−
トリフルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミドを生
成させた0反応液中の過剰のアンモニア分を塩酸で中和
した後、濾過し水洗し乾燥して前記スルホンアミド41
.1gを得た。(収率59゜7%:原料のハライド化合
物基準)なお、この反応操作においては悪臭は発生しな
かった。
実施例2
前記実施例1において、水128g及び濃塩酸21.5
gに代えて水75gを使用すること並びにスルホニル
クロライドを塩化メチレンで処理しないことを除いては
、前記実施例1の場合と同様にして反応させ、3−トリ
フルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミド38.1
g(収率46゜2%:原料のハライド化合物基準)を得
た。なおこの反応操作においても悪臭は発生しなかった
。
gに代えて水75gを使用すること並びにスルホニル
クロライドを塩化メチレンで処理しないことを除いては
、前記実施例1の場合と同様にして反応させ、3−トリ
フルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミド38.1
g(収率46゜2%:原料のハライド化合物基準)を得
た。なおこの反応操作においても悪臭は発生しなかった
。
実施例3
500ml四ツロフラスコに5%塩酸水溶?vL50g
及びチオウレア25.2gを投入し、90℃に加温した
後、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン50
gを滴下し、90〜95℃で2時間反応させ、3−トリ
フルオロメチル−2−ピリジンチウロニウム塩酸塩を生
成させた。
及びチオウレア25.2gを投入し、90℃に加温した
後、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン50
gを滴下し、90〜95℃で2時間反応させ、3−トリ
フルオロメチル−2−ピリジンチウロニウム塩酸塩を生
成させた。
反応終了後生成物の冷却下、水53gを投入した後、フ
ラスコの内温を0〜5℃で塩素ガスを60m1/分の流
量で5時間吹き込み反応を完結させて3−トリフルオロ
メチル−2−ピリジンスルホニル クロライドを生成さ
せた0反応生成物に塩化メチレン210gを投入し、前
記スルホニルクロライドを抽出し分液して塩化メチレン
層に28%のアンモニア水50gを投入し、20“Cで
30分間反応させて3−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジンスルホンアミドを生成させた0反応液中の過剰のア
ンモニア分を塩酸で中和した後’11過し水洗し乾燥し
て前記スルホンアミド37.4g得た(収率57.0%
:原料のハライド化合物基準)、なお、この反応操作に
おいても悪臭は発生しなかった。
ラスコの内温を0〜5℃で塩素ガスを60m1/分の流
量で5時間吹き込み反応を完結させて3−トリフルオロ
メチル−2−ピリジンスルホニル クロライドを生成さ
せた0反応生成物に塩化メチレン210gを投入し、前
記スルホニルクロライドを抽出し分液して塩化メチレン
層に28%のアンモニア水50gを投入し、20“Cで
30分間反応させて3−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジンスルホンアミドを生成させた0反応液中の過剰のア
ンモニア分を塩酸で中和した後’11過し水洗し乾燥し
て前記スルホンアミド37.4g得た(収率57.0%
:原料のハライド化合物基準)、なお、この反応操作に
おいても悪臭は発生しなかった。
前記以外のハライド化合物、例えば2−クロロ−5−ト
リフルオロメチルピリジン、2.3−ジクロロ−5−ト
リフルオロメチルピリジン、2゜3.5−トリクロロピ
リジン及び2−ブロモピリジンを用い、前記実施例1〜
3に準じて反応させれば、各チウロニウム塩酸塩及びス
ルホニル クロライドを経由して、5−トリフロオワメ
チル−2−ピリジンスルホンアミド、3−クロロ−5−
トリフルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミド、3
.5−ジクロロ−2−ピリジンスルボンアミド及び2−
ピリジンスルホンアミドをそれぞれ得ることができる。
リフルオロメチルピリジン、2.3−ジクロロ−5−ト
リフルオロメチルピリジン、2゜3.5−トリクロロピ
リジン及び2−ブロモピリジンを用い、前記実施例1〜
3に準じて反応させれば、各チウロニウム塩酸塩及びス
ルホニル クロライドを経由して、5−トリフロオワメ
チル−2−ピリジンスルホンアミド、3−クロロ−5−
トリフルオロメチル−2−ピリジンスルホンアミド、3
.5−ジクロロ−2−ピリジンスルボンアミド及び2−
ピリジンスルホンアミドをそれぞれ得ることができる。
(発明の効果)
特定のチウロニウム鉱酸塩と、塩素又は臭素とを水の存
在下に反応させることにより、特定のスルホニル ハラ
イドが容易に得られる。この方法によれば、反応源作中
に悪臭が生じないだけでなく、チウロニウム塩から直接
スルホニル ハライドが製造できるために反応工程、後
処理が簡便になる。
在下に反応させることにより、特定のスルホニル ハラ
イドが容易に得られる。この方法によれば、反応源作中
に悪臭が生じないだけでなく、チウロニウム塩から直接
スルホニル ハライドが製造できるために反応工程、後
処理が簡便になる。
特許出願人 石原産業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水の存在下、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1〜3ケの窒素原子を有する置換又は無置
換の5〜6員の芳香族複素環式基であり、Xはハロゲン
原子である)で表わされるチウロニウム塩と塩素又は臭
素とを反応させて一般式(II)R−SO_2Y (式中、Yは塩素原子又は臭素原子であり、Rは前述の
通りである)で表わされるスルホニルハライドを製造す
ることを特徴とするスルホニルハライドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63103471A JPH01275563A (ja) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | スルホニル ハライドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63103471A JPH01275563A (ja) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | スルホニル ハライドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01275563A true JPH01275563A (ja) | 1989-11-06 |
Family
ID=14354923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63103471A Pending JPH01275563A (ja) | 1988-04-26 | 1988-04-26 | スルホニル ハライドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01275563A (ja) |
-
1988
- 1988-04-26 JP JP63103471A patent/JPH01275563A/ja active Pending
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