JPH01265514A - 焦点合せ装置 - Google Patents

焦点合せ装置

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Publication number
JPH01265514A
JPH01265514A JP63093043A JP9304388A JPH01265514A JP H01265514 A JPH01265514 A JP H01265514A JP 63093043 A JP63093043 A JP 63093043A JP 9304388 A JP9304388 A JP 9304388A JP H01265514 A JPH01265514 A JP H01265514A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
imaging lens
mirror
vibrating mirror
lens
Prior art date
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Pending
Application number
JP63093043A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryoji Tanaka
良治 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP63093043A priority Critical patent/JPH01265514A/ja
Publication of JPH01265514A publication Critical patent/JPH01265514A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7026Focusing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は焦点合せ装置、特に、半導体の縮少投影露光装
置の縮少投影レンズの焦点合せに適用しうる焦点合せ装
置に関する。
〔従来の技術〕
従来の技術としては、例えば、特開昭61−30034
に示されているように焦点合せ装置がある。
従来の焦点合せ装置は結像レンズの結像位置に配置され
る縞状パターンと、前記縞状パターンを結像レンズを通
して被観察物上に投影する手段と、被観察物上の縞状パ
ターン像を検出する受光素子と、前記受光素子の出力よ
り結像レンズの合焦点位置を検出して焦点合せする手段
とを含んで構成される。
次に従来の焦点合せ装置について図面を参照して詳細に
説明する。
第4図は従来の焦点合せの一例を示す模式図である。
第4図において、ガラス14の両面に不透明ライン15
aとスペース15bを両面交互に配して成る2重縞パタ
ーン15を結像レンズ16の結像位置に配置する。また
、結像光路の途中にハーフミラ−17を挿入して光路を
分岐し、その結像位置にCCD18を配置する。
照明系19により2重縞パターン15を結像レンズ16
を通して被観察物であるウェハ20上に投影し、その反
射光を再び結像レンズ16を通してハーフミラ−17を
介しCCD 18により検出し、2重縞パターン15像
のコントラストを測定する。
2重縞パターン15の両面のラインアンドスペースのコ
ントラストが相等しくなったときが合焦点位置にあると
きである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の焦点合せ装置はウェハに投影された像の
コントラストを検出する構成になっているので、プロセ
スによるウェハの反射率の変化の影響をうけやすい欠点
があった。特に、反射率が低くなるとコントラストが低
下し、検出感度が悪くなる欠点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の焦点合せ装置は結像レンズの焦点面に配置され
た振動ミラーと、前記振動ミラー面で焦点を結び前記振
動ミラーで反射され結像ルンズを通り被観察物に投影さ
れるビームを放射する光源と、結像レンズの結像面に配
置されかつ前記光源から放射され被観察物で反射された
ビームが結像する点から微小距離だけずれた位置に開口
部の中心を持つ空間フィルターと、前記空間フィルター
を通る前記被観察物からの反射ビームを検出する検出器
と、前記検出器の出力より結像レンズの合焦点位置を検
出し焦点合せを行う機構を含んで構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す模式図である。
第1図に示す焦点合せ装置は、結像レンズ1の結像面に
配置された振動ミラー2と、振動ミラー2によって反射
され結像レンズ1を通ってウェハ3に照射されるビーム
の光源4と、光源4がら放射されるビームを振動ミラー
2上で焦点を結ばせる集光レンズ5と、ウェハ3で反射
され再び結像レンズ1を通ったビームを入射光路から分
岐せしめるハーフミラ−6と、結像レンズ1の結像面に
配置されかつハーフミラ−6により分岐されたウェハ3
からの反射ビームが結像する点がら微小距離だけずれた
位置に開口部の中心を持つ空間フィルター7と、空間フ
ィルター7を通るウェハ3がらの反射ビームを検出する
検出器8と、ウェハ3を結像レンズ1の光軸方向に移動
させるウェハステージ9と、検出器8の出力を増幅する
増幅器10と、振動ミラー2を一定の周波数で振動させ
るための駆動信号を発生する発振器11と、発振器11
が発生する振動ミラー2の駆動信号を参照信号として増
幅器10の出力信号を同期検波するロックインアンプ1
2と、ロックインアンプ12の出力をもとにウェハステ
ージ9を駆動しウェハ3を結像レンズ1の合焦点位置に
位置決めするドライバ13とを含んで構成される。
光源4から放射されたビームは集光レンズ5によって振
動ミラー2上で集光される。この集光されたビームは振
動ミラー2により偏向され、結像レンズ1を通ってウェ
ハ3上に照射される。振動ミラー2は結像レンズ1の結
像面上にあるので、ウェハ3が結像レンズ1の合焦点位
置にあると、ウェハ3に照射されたビームはウェハ3上
の1点に集光し、ウェハ3で反射されたビームは再び結
像レンズ1を通り、ハーフミラ−6を介して結像レンズ
1の結像面上にある空間フィルター7上の1点に集光す
る。
ウェハ3が結像レンズ1の合焦点位置からずれると、振
動ミーラー2で偏向をうけたビームは、振動ミラー2に
同期してウェハ3上を走査する。
したがって、ウェハ3で反射されたビームは振動ミラー
2に同期して空間フィルター7上を走査し、ビームが空
間フィルター7の開口部を通ったとき検出器8により検
出される。
第2図(a)〜(c)は本実施例における検出器8によ
って検出される信号の変化の様子を示す模式図である。
第2図(a)はウェハ3が結像レンズ1の合焦点位置に
ある場合のウェハ3により反射されたビームの様子を示
している。ビームは常に空間フィルター7上の1点に集
まるので、検出器の出力は一定で変化しない。
第2図(b)はウェハ3が結像レンズ1の合焦点位置よ
り遠くにある場合のビームの様子を示している。ビーム
は振動ミラー2に同期して空間フィルター7上を走査す
る。空間フィルターの開口部はビームの走査範囲の中心
からずれた位置にあるので、検出器8では振動ミラー2
の駆動周波数と同じ周波数成分をもつ信号が得られる。
第2図(c)はウェハ3が結像レンズ1の合焦点位置よ
り近くにある場合のビームの様子を示している。
第2図(b)に示した場合と同様に、ビームは振動ミラ
ー2に同期して空間フィルター7上を走査するので、検
出器8では振動ミラー2と同じ周波数成分をもつ信号が
得られるが、第2図(b)に示した場合とは位相が18
0°ずれる。
したがって、振動ミラー2の駆動信号を参照信号とし、
検出器8の出力をロックインアンプ12で同期検波する
ことにより、焦点からのずれ量として8字カーブの特性
を持つ焦点ずれ信号が得られる。
第3図は焦点ずれ量とロックインアンプ12の出力の関
係を示すグラフである。
焦点ずれ検出感度は、空間フィルター7の開口部の幅お
よび反射ビームの結像点からのずれ量によって変化する
が、空間フィルター7の開口部の幅は反射ビームの結像
スポット径と同程度にして、開口部の片側のエツジが反
射ビームの結像点に位置するように配置するのが望まし
い。
ロックインアンプ12の出力をもとにドライバ13によ
ってウェハステージ8が駆動され、ウェハ3は結像レン
ズ1の合焦点位置に自動的に位置決めされる。
〔発明の効果〕
本発明の焦点合せ装置は、ウェハに投影された像のコン
トラストを検出する代りに、振動ミラーにより偏向され
たビームをウェハに照射し、反射ビームの走査により得
られる信号の位相変化により焦点ずれを検出するので、
ウェハの反射率の変化に影響されずに高精度の焦点ずれ
検出ができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例を示す模式図、第2図(a)
、(b)、(c)は第1図に示す焦点合せ装置における
検出器により検出される信号の様子を示す模式図、第3
図は第1図に示す焦点合せ装置における焦点ずれ量とロ
ックインアンプ出力の関係を示″すグラフ、第4図は従
来の焦点合せ装置の一例を示す模式図である。 1.16・・・結像レンズ、2・・・振動ミラー、3゜
20・・・ウェハ、4・・・光源、5・・・集光レンズ
、6゜17・・・ハーフミラ−17・・・空間フィルタ
ー、8・・・検出器、9・・・ウェハステージ、10・
・・増゛幅器、11・・・発振器、12・・・ロックイ
ンアンプ、13・・・ドライバ、14・・・ガラス、1
5・・・2重縞パターン、18・・・COD。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)結像レンズの第1の結像面に配置された振動ミラ
    ーと、前記振動ミラー面で焦点を結び前記振動ミラーで
    反射され前記結像レンズを通り被観察物に投影されるビ
    ームを放射する光源と、前記結像レンズの第2の結像面
    に配置されかつ前記光源から放射され前記被観察物で反
    射されたビームが結像する点から微小距離だけずれた位
    置に開口部の中心を持つ空間フィルターと、前記空間フ
    ィルターを通る前記被観察物からの反射ビームを検出す
    る検出器と、前記検出器の出力より前記結像レンズの合
    焦点位置を検出し焦点合せを行う機構を含むことを特徴
    とする焦点合せ装置。
  2. (2)検出器が振動ミラーと結像レンズとの間に配置さ
    れた光路分岐手段によって分岐された光路を経て空間フ
    ィルターを通る被観察物からの反射ビームを検出する請
    求項1記載の焦点合せ装置。
  3. (3)検出器の出力を増幅する増幅器と、振動ミラーの
    駆動信号を参照信号として前記増幅器の出力を位相検波
    するロックインアンプを含む請求項1および2記載の焦
    点合せ装置。
JP63093043A 1988-04-15 1988-04-15 焦点合せ装置 Pending JPH01265514A (ja)

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