JPH0126112B2 - - Google Patents

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JPH0126112B2
JPH0126112B2 JP59221381A JP22138184A JPH0126112B2 JP H0126112 B2 JPH0126112 B2 JP H0126112B2 JP 59221381 A JP59221381 A JP 59221381A JP 22138184 A JP22138184 A JP 22138184A JP H0126112 B2 JPH0126112 B2 JP H0126112B2
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Kuranitsukii Uaruteru
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Dr Johannes Heidenhain GmbH
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Dr Johannes Heidenhain GmbH
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    • G05B2219/36Nc in input of data, input key till input tape
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description

【発明の詳細な説明】 使用分野 本発明は可変の三次元構造物、特に工具のよう
な物体によつて加工される加工物を工作機械制御
部の受像面上に透視表示する方法に関する。
いわゆるCADシステムで今日常用されている
任意の形の物体の受像面への透視的表示は今日ま
で数値制御工作機械又はプログラム部において低
コストでは実現してない。一般にここでは加工物
の種々の方向からみた形の二次元的表示に限られ
る。
技術レベル 最新の開示情報としてここでは例えばヨーロツ
パ特許A2−0089561とヨーロツパ特許A2−
0089562を挙げる。
例えば山崎商会の制御装置マザトールF1のよ
うな「透明な」ワイヤモデルとしての加工物の三
次元結像は非常に早期に消える、そのわけは加工
工程が工具点軌跡の表示によつてのみ表われるか
らである。
技術レベルに相応する表示方法は特に数値制御
のプログラムで図形表示によつて、入力プログラ
ムが検査され、そして場合によつては修正される
べきである場合に不充分である。
解決されるべき課題 本発明は受像面での図形表示を改良し、従来必
要だつた計算及び装置コストなしに受像面で平行
投影において三次元構造物を立体的に表示するこ
とを可能にし、その際前面の像(前景)部分によ
つて被われた稜部分及び面部分が不可視状態にな
るようにすることを課題の基礎とする。
課題の解決手段 本発明によれば、この課題は構造物は多数の断
面に分解され、その座標は構造物断面のための断
面メモリに貯えられ、構造物上に作用する物体は
同様に断面に分解され、その座標は対象物断面の
ための断面メモリに貯えられ、続いて像点メモリ
に構造物の断面と物体の断面が構造物と物体との
相対運動を決定するデータに相応して合成され、
それから生じた内輪郭はその都度合成された断面
から変化した構造物の新しい断面として検出され
かつ構造物断面のための断面メモリに貯えられ、
続いて新しい断面が順次その都度二、三の像点だ
けX方向及び又はZ方向に相互にずらされて像点
メモリで合成され、そして各新たな合成の後に合
成された外輪郭が検出されかつ表示されることに
よつて解決される。
発明の作用及び効果 特別の利点は本発明による方法では任意の複雑
な加工物の結像はその製造に必要な工具運動の付
与によつて生ずることにある。それによつて加工
物上への各加工ステツプの作用が直接受像面でト
レースされることができる。
方法に必要な計算は全ての市販のマイクロプロ
セツサによつて実施される。
必要なメモリは加工物の大きさと形に依存す
る。しかし3D表示のための方法の実施のために
1Kバイトしかメモリ個所に必要とされず、その
結果方法の使用は小型マイクロプロセツサにおい
ても問題となる。3D表示のために必要な費用の
ドラスチツクな削減は簡単なワンビツト作用によ
る複雑化された三次元計算の同時変換によつて可
能にされる。切断点の数値計算の代りに像点メモ
リにある情報が直接評価される。
実施例 図示の実施例に基いて本発明による方法を詳し
く説明する。
三次元座標系は第1図によれば次のように規定
されている。
加工物Wの前下隅は右方又は上方へ向う像平面
内にある座標X軸及び座標Z軸を形成する。各加
工物WはY軸線に対して垂直に配設された断面
Yo〜Ynの隅座標の形にメモリされる。個々の断
面の間の距離は一定である。断面Yo〜Ynの数は
加工物Wの大きさと使用される図形物分の最大解
像力に依存する。
断面Yiの表示は原点のX座標及びZ座標及び
前記点に対する別の隅点のXベエクトル及びZベ
エクトルによつて行われる。同一座標系において
第2図によれば工具Fの断面Fo〜Fnまでの座標
が計算される。工具例えばエンドミルFは同様に
断面Fo〜Fnによつて表示される。その座標の検
出のためにフライスの曲率半径をパラメータとし
て断面Fi毎に正弦函数が計算される。勿論エンド
ミルに限定されない。総形フライスの断面もメモ
リされる。
加工物Yo〜Ynの座標値はRAMとして実施さ
れうる断面メモリMに記憶される。
工具Fの断面Fo〜Fnの座標は同時に断面メモ
リM′として使用されているRAMにメモリされる
ことができる。
第3図においてエンドミルFの断面F1〜Fo-1
加工物Wの断面Y1〜Yo-1の合成が種々の状態に
おいて簡単化して示されている。合成は像点メモ
リE1において行われ、この像点メモリは像要素
いわゆる、像点の形の全像情報を有し、しかしそ
の内容は直接受像面には示されない。
フライスFの断面Fiと加工物Wの断面Yiの合
成はそのプログラムによる工具軌道又は加工物軌
道を決定する数値制御の入門によつて行われる。
これらのデータに対応して断面YiとFiの合成が
予め与えられた方法で変えられる。
工具Fの中心点(X、Y)と高さ(Z)のため
のスタート点の値が知られていれば、それによつ
て工具Fによつて変わる加工物W(Y1)の最前の
断面を図示しない像点メモリE1に書込むことが
始められる。その後Y値Y1に相応する工具Fの
断面F1を同様に像点メモリE1に伝送し、像の
内輪郭を検出しかつ加工物Wの古い断面座標は変
化した内輪郭Y1′の断面座標によつて置換される。
この過程は断面Yi′の全てが変わる限り繰り返さ
れる。
図示の例では加工ステツプでフライス中心点の
側方運動なしの垂直のブランジカツトのみを対象
としているので、下記のように加工物Wが表示さ
れることができる。しかし一般に、工具F又は加
工物Wは任意の軌道上で空間を動かされる。この
場合に各工具位置のための断面座標の変更は改め
て実施されなければならない。合理的な方法で加
工物Wの各断面Y=YnはNC−セツト当り一度だ
け加工され、この間に値Y=YnのためのNC−セ
ツトによつて特定された全ての工具断面は順次像
点メモリE1に伝送され、そして該当する断面
Yiのための全ての加工過程が終つた時にはじめ
て内輪郭が検出される。
変化した加工物断面Yo′〜Yn′の断面座標は新
しい断面座標として断面メモリMに貯えられる。
加工された加工物W′の透視図の形成のために
変化した断面Yo′〜Yn′は像点メモリE1に書込
まれる。これらの方法ステツプは第4a図〜第4
c図及び第5a図〜第5c図に示されている。
第4a図によれば、まず最前の加工物断面
Yo′が像点メモリE1に書込まれ、そして合成さ
れた外輪郭Arが求められる選択された例におい
てフライスFは最前部の断面Yoを加工しないの
で、「加工された」断面Yo′の輪郭は元の輪郭と
同一である。第5a図によれば合成された外輪郭
Arは受像面に示される。
第二断面平面Y1′においては材料除去が行われ、
そして新たな輪郭は断面メモリMから像点メモリ
E1に書込まれる。
その際断面Y1′の新しい輪郭はX方向及びZ方
向において二、三の像面だけ最前の断面Yo′に対
してずらされ、このことは第4b図に示されてい
る。
像点メモリE1において書込まれた像情報に基
いて合成された外輪郭Arが求められ、そして第
5b図によれば追加的に受像面に表わされる。
次に別の断面Y2′〜Yn′が順次前記の方法で像
点メモリE1に書込まれ、そこでは像情報に基い
て各断面の記憶を行つた後その都度合成された外
輪郭Arが求められ、それから表示される。
第4c図には最後のステツプが示されており、
そこには既に全ての断面Yo′〜Yn′が像点メモリ
E1に貯えられている。この像情報に基いて求め
られた合成外輪郭Arは第5c図に示されている。
これらの表示は眼前で作業者の数値制御の受像面
に案内されるような加工された加工物W′の像に
対応する。
前面にある断面によつて被われた後方にある断
面の部分は自動的には表示部に伝送されない、そ
のわけはその部分はそれまでに検出された外輪郭
Arの内方にあるからである。
断面Yo′〜Yn′のずれの変化によつて観察角が
変えられることができる。種々の面からの斜視図
が可能である。一連の断面加工が反転されると、
加工物W′の裏面の像が生じる。各断面(例えば
X=Z:Z=−X)の内方のインクリメンタル座
標値の交換によつて加工物W′は±90゜だけ回動さ
れて、側方に位置し又は180゜回動されて上方へ向
つて下面によつて示されることができる。切断さ
れた加工物W′の像は3D表示が中央にある断面で
はじめて開始されることによつて可能にされる。
他の変形情報は色図形で与えられる。そのよう
にして被い面と側面は簡単な方法で種々の色に表
わされる。加工物W′の寸法は例えば各10番目の
断面Y10′の色を取り出すことによつて表わされる
ことができる。
結局ズーム機能が導入されることができ、加工
物Wの拡大された断面のはじめから上記の方法で
処理される。
受像面の代りに他の表示装置(ブロツター等)
も設けられることができ、かつ数値制御はプログ
ラム部等によつても置換されることができること
が理解される。
変化した断面Y′の内輪郭と合成された外輪郭
の前記の検出は簡単なアルゴリズムであつてその
フローチヤートが第6図に示されたものによつて
行われる。当業者のためのフローチヤートによつ
て記載されたこのアルゴリズムは工具運動による
断面座標の実現のために使用される。
アルゴリズムによつてワンビツト操作のみが実
施されねばならないことは方法の簡易性にとつて
特徴的なことである。
任意に彎曲した各線は段状線によつて近似され
ることができるので、円、直線、楕円等の断面も
この方法で求められる。
第6図によるアルゴリズムは任意の多くの水平
及び垂直の線から成る像の外輪郭又は内輪郭のポ
リゴン線を求めるために使用される。
第7図に示された外輪郭の検出のための例は同
一大きさの相互に斜めにずらされた二つの短形か
ら成る像である。この像は像点メモリの受像面に
示されてない平面内の図形部分のベクトル発生器
によつて記載されることができる。スタート・パ
ラメータとして検出されるべき輪郭Xo,Zo上の
任意の点の座標値及びスタート点に対する隣接し
た輪郭点の方向が必要となる。例えば像の左下隅
はスタート点Xo=3、Zo=3として定義され
る。隣接点は正のZ方向にある。第6図によるア
ルゴリズムによるテストルーチンによつてスター
ト点から左にある像点X=2、Z=3がセツトさ
れるが沫消されるかが求められる。求められた情
報から次にテストされる図点X=3、Z=4の座
標が得られかつ以下同様に進行する。第7図には
一連のテストステツプが鋸歯形線として表わされ
ている。輪郭の隅点は右上方へ向つて引いた後△
X=1、△Z=1テストされた像点が沫消され
(外隅)、又は左へ向つて△X=−1、△Z=0テ
ストされた像点がセツトされた後に(内隅)、達
成される。両ケースが生じると、隅点の座標は断
面メモリMに貯えられ、座標等の回動は90゜だけ
行われ、そしてテストルーチンは再びスタート点
に達する迄続けられる。第7図に示すように外輪
郭(3、3)、(3、11)、(10、11)、(10、16)、
(22、16)、(22、8)、(15、8)、(15、3)、(
3、
3)又はインクリメンタル形3、3、8、7、
5、12、−8、−7、−5、−12の隅点座標が得ら
れ、このことは方向矢印におけるインクリメント
の数によつて表わされる。
スタート点Xo=4、Zo=3及び隣接点として
Xの正方向X=5、Z=3が選択されると、同一
アルゴリズムによつて第8図に示すように内輪郭
の座標が得られる。
ここでも座標の表示がインクリメンタル形に選
ばれると(11、5、−5、3、−7、−8)、最大の
メモリスペース利用、最迅速な像構成及び観察基
準点の選択における柔軟性が保証される。
第9図に示されたブロツク図は本発明の実施の
ための装置を示す。制御計算器R及び図形計算器
RGから成るデジタル計算器Rはデータ導線Dを
介して、EPROMとして形成されている輪郭アル
ゴリズムのためのメモリMAと結合されている。
データ導線を介してデジタル計算器Rは加工物断
面Yo〜Yn及び工具断面Fo〜Fnの座標のための、
RAMとして形成された断面メモリM,M′とも結
合されている。他のデータ導線Dはいわゆるヴイ
デオコントローラVCをデジタル計算器Rと結ば
れる。
ヴイデオコントローラVCは他の導線D′を介し
て像点メモリE1と結合されるがその像点情報は
表示されない。
第二の像点メモリE2は表示のために設けられ
た像情報を含み、像情報はヴイデオコントローラ
VCからデータ導線D″を介して像点メモリE2か
ら受像面CRTに伝送され、そこに表示される。
【図面の簡単な説明】
第1図は断面を区切つて示された加工物、第2
図は断面を区切つて示された部分エンドミル、第
3a図〜第3e図は加工物とエンドミルの種々の
断面の合成、第4a図〜第4c図は像点メモリに
おける変化した加工物の種々の断面の合成、第5
a図〜第5c図は合成された外輪郭に基いて加工
された加工物の種々の状態の図、第6図は輪郭検
出のためのアルゴリズムのフローチヤート、第7
図は相互に斜めにずらされた二つの断面平面にお
ける外輪郭の検出のための原理図、第8図は相互
に斜めにずらされた二つの断面平面における内輪
郭の検出のための原理図、そして第9図はブロツ
ク図である。 図中符号、Ar……外輪郭、E1……像点メモ
リ、F……物体、Fo〜Fn……断面、M……断面
メモリ、M′……断面メモリ、Yo〜Yn……合成
された断面、Yo′〜Yn′……新しい断面、W……
構造物、W′……変化した構造物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 変形可能な三次元構造物、特に工具のような
    対象物によつて加工された加工物を工作機械制御
    部の受像面上に透視的に表示する方法において、 構造物Wは多数の断面Yo〜Ynに分解され、そ
    の座標は構造物断面のための断面メモリMに貯え
    られ、 構造物W上に作用する物体Fは同様に断面Fo
    〜Fnに分解され、その座標は対象物断面のため
    の断面メモリM′に貯えられ、続いて像点メモリ
    E1に構造物Wの断面Yo〜Ynと物体Fの断面Fo
    〜Fnが構造物Wと物体Fとの相対運動を決定す
    るデータに相応して合成され、それから生じた内
    輪郭はその都度合成された断面Yo,Fo〜Yn,
    Fnから変化した構造物W′の新しい断面Yo′〜
    Yn′として検出されかつ構造物断面のための断面
    メモリMに貯えられ、 続いて新しい断面Yo′〜Yn′が順次その都度二、
    三の像点だけX方向及び又はZ方向に相互にずら
    されて像点メモリE1で合成され、そして各新た
    な合成の後に合成された外輪郭Arが検出されか
    つ表示されることを特徴とする方法。 2 構造物W,W′と物体Fの断面座標はRAMと
    して形成された断面メモリM,M′内にインクリ
    メンタル形式で記憶される、特許請求の範囲第1
    項記載の方法。 3 構造物Wと物体Fの断面Yo,Fo〜Yn,Fn
    の合成はいわゆる像点の形の全像情報を有する像
    点メモリE1で行われる、特許請求の範囲第1項
    記載の方法。 4 構造物Wと物体Fの断面Yo,Fo〜Yn,Fn
    の合成に通じるデータがデジタル計算機から供給
    される、特許請求の範囲第1項から第3項までの
    うちのいずれか一つに記載の方法。 5 合成された内輪郭及び外輪郭Arが像点メモ
    リE1内にある像情報を直接評価する簡単なアル
    ゴリズムによつて検出される、特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 6 物体の斜めの輪郭も示されることができる、
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
JP59221381A 1983-10-26 1984-10-23 変形可能な構造物の透視的表示方法 Granted JPS60114973A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
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US (1) US4791579A (ja)
EP (1) EP0144585B1 (ja)
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